JP2016128366A - 複層ガラスおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】シール構造を配置することによる透光領域の狭小化が抑制された複層ガラスを提供する。【解決手段】第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０との間の間隙部１３０は、シール部材１５０によって密閉される複層ガラスであって、前記シール部材１３０は、金属部材１５５と、第１の接合層１６０と、第２の接合層１６５とを有し、前記金属部材１５５は、前記第１の接合層１６０と接触する第１の接触領域１７５と、前記第２の接合層１６５と接触する第２の接触領域１７７とを有し、前記第１、第２の接合層１６０、１６５はそれぞれ前記第１、第２のガラス基板１１０、１２０の接触領域１７５、１７７の周囲に形成され、前記金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７には、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されている複層ガラス。【選択図】図２

Description

本発明は、複層ガラスおよびその製造方法に関する。

一対のガラス基板を間隙部を介して積層し、該間隙部を低圧または真空状態に保持して構成される、いわゆる「真空複層ガラス」は、優れた断熱効果を有するため、例えばビルおよび住宅等の建築物用の窓ガラス用途に広く利用されている。

真空複層ガラスにおいては、間隙部を真空状態に保持するために該間隙部の周囲に設置されるシール部材のシール性能が、真空複層ガラス全体の断熱性に大きな影響を及ぼす。シール部材のシール性が劣る場合、シール部材を介して、大気中の空気および／または水蒸気等の成分が間隙部に容易に侵入し、これにより間隙部の真空度が低下してしまうからである。このため、よりシール性に優れたシール部材の検討が進められている。

特に、最近では、金属部材と接合層とで構成されたシール部材が開発されている。例えば、特許文献１には、真空複層ガラスにおいて、金属部材とガラスフリットとを組み合わせてシール部材を形成することが開示されている。

欧州特許第２０９９９９７号明細書

前述のように、特許文献１には、金属部材とガラスフリットとを組み合わせたシール部材が開示されている。

例えば、特許文献１には、図１に示すように、第１のガラス基板２と、第２のガラス基板３と、両ガラス基板の間にスペーサ５を介して構成された間隙部６と、該間隙部６の周囲に構成されたシール部材７０とを備える真空複層ガラス１が示されている。シール部材７０は、第１のガラスフリット２５、Ｕ字型金属部材７１、および第２のガラスフリット２６を、この順に積層することにより構成される。

なお、図１に示すような真空複層ガラス１を製造する際には、まず、第１のガラス基板２と第２のガラス基板３の間に、シール部材７０を構成する各部材を配置した組立体が構成される。次に、この組立体が加熱処理される。加熱処理によって、ガラスフリット２５、２６が溶融（軟化）、固化し、シール部材７０が構成される。また、このシール部材７０を介して、両ガラス基板２、３が接合され、真空複層ガラス１が構成される。

ここで、組立体の加熱処理の際に、溶融（軟化）したガラスフリット２５、２６は、初期の位置から、図の水平方向（Ｘ方向）に広がる可能性がある。このため、従来のシール部材７０では、シール幅（図の符号Ｗ）を短くすることが難しいという問題がある。換言すれば、従来の真空複層ガラス１では、加熱処理の際のガラスフリット２５、２６の水平方向の広がりを考慮して、シール部材７０のシール幅Ｗを設計する必要がある。

しかしながら、そのようなシール幅Ｗの広いシール部材を適用した場合、製造される真空複層ガラスの中央の透明な部分、すなわち透光領域Ｔが狭小化されてしまうという問題が生じる。

このため、シール部材による透光領域Ｔの狭小化が抑制され、広い透光領域Ｔを確保することの可能な複層ガラスが要望されている。

本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、シール部材による透光領域の狭小化を有意に抑制することが可能な複層ガラスおよびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明では、相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を備える複層ガラスであって、
前記間隙部は、当該複層ガラスの周囲でシール部材によって密閉され、
前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、当該複層ガラスの周囲に沿った環状を有する金属部材と、第１の接合層と、第２の接合層とを有し、
前記金属部材は、前記第１の接合層と接触する第１の接触領域と、前記第２の接合層と接触する第２の接触領域とを有し、
前記第１の接合層は、前記第１のガラス基板の周囲に形成され、前記第１の接触領域に結合され、
前記第２の接合層は、前記第２のガラス基板の周囲に形成され、前記第２の接触領域に結合され、
前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域には、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されていることを特徴とする複層ガラスが提供される。

ここで、本発明による複層ガラスにおいて、前記複数の島部は、少なくとも異なる２つの方向に配列されても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記複数の島部は、３００μｍ以上２４０００μｍ以下のピッチで配列されても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記島状パターンは、前記複数の島部が、周期構造を有しても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記複数の島部は、１０μｍ以上２１０００μｍ以下の最大長さＬ_ｍａｘを有しても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記複数の島部は、１０μｍ以上３００μｍ以下の最大凹凸差Ｈ_ｍａｘを有しても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の端面よりも内側に配置されても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、
前記第１の接触領域と前記第２の接触領域とは、いずれも前記第３の表面側に配置されても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、
前記第１の接触領域と第２の接触領域とは、それぞれ、前記第３の表面と前記第４の表面側とに配置されても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、金属板または金属箔であり、アルミニウムおよび／または銅を含んでも良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記第１の接合層および／または前記第２の接合層は、ガラス固化層であっても良い。

また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、接合部のない一体品で構成されても良い。

さらに、本発明では、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を備える複層ガラスの製造方法であって、
前記第１のガラス基板の周囲に第１の接合層を、前記第２のガラス基板の周囲に第２の接合層を形成するステップと、
前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状を有する環状の金属部材を準備するステップと、
前記第１の接合層および前記第２の接合層が、それぞれ、前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域と接するよう金属部材を組み合わせて、第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層し、組立体を構成するステップと
前記組立体の少なくとも前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱して、前記第１の接合層および前記第２の接合層と前記金属部材とを結合させるステップと、
を有し、
前記金属部材を準備するステップは、前記第１の接触領域および前記第２の接触領域に凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成された前記金属部材を準備するステップであることを特徴とする複層ガラスの製造方法が提供される。

ここで、本発明による複層ガラスの製造方法において、前記結合させるステップは、前記組立体を厚さ方向に圧力を加えながら前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱するステップを有しても良い。

また、本発明による複層ガラスの製造方法において、前記第１の接合層および／または前記第２の接合層は、ガラス固化層を有しても良い。

本発明では、シール部材による透光領域の狭小化を有意に抑制することが可能な複層ガラスを提供することができる。

従来の真空複層ガラスを模式的に示した断面図である。 本発明の第１実施形態による真空複層ガラス（第１の真空複層ガラス）を模式的に示した断面図である。 金属部材の接触領域に形成される島状パターンの模式的な拡大上面図である。 図３に示した島状パターンの模式的な拡大断面図である。 金属部材の接触領域に形成される第２の島状パターンの模式的な拡大上面図である。 図５に示した第２の島状パターンの模式的な拡大断面図である。 第２の島状パターンとは異なる周期構造を有する第３の島状パターンの模式的な拡大上面図である。 本発明の第２実施形態による真空複層ガラス（第２の真空複層ガラス）を模式的に示した断面図である。 本発明の第３実施形態による真空複層ガラス（第３の真空複層ガラス）を模式的に示した断面図である。 本発明の第４実施形態による真空複層ガラス（第４の真空複層ガラス）を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法を概略的に示したフロー図である。 実施例１で使用した金属部材の表面の島状パターンの形態を示した図である。 実施例２で使用した金属部材の表面の島状パターンの形態を示した図である。 実施例３で使用した金属部材の表面の島状パターンの形態を示した図である。 実施例４で使用した金属部材の表面の島状パターンの形態を示した図である。 実施例５で使用した金属部材の表面の島状パターンの形態を示した図である。 実施例６で使用した金属部材の表面の島状パターンの形態を示した図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。

（第１の真空複層ガラス）
以下、図２を参照して、本発明の第１実施形態による複層ガラスについて説明する。なお、以下の説明では、複層ガラスの一例として、「真空複層ガラス」を例に、その構成および特徴について説明する。ただし、本発明は、「真空複層ガラス」に限られるものではなく、「非真空」の複層ガラスにも同様に提供することができることは当業者には明らかである。

図２には、真空複層ガラス（第１の真空複層ガラス）の構成の一例を概略的に示す。図２に示すように、本発明の第１実施形態による第１の真空複層ガラス１００は、第１のガラス基板１１０と、第２のガラス基板１２０と、両ガラス基板１１０、１２０の間に構成された間隙部１３０と、該間隙部１３０を保持するための複数のスペーサ１９０と、間隙部１３０を密閉状態に保持するシール部材１５０とを有する。シール部材１５０は、第１の接合層１６０、金属部材１５５、および第２の接合層１６５を、この順に積層することにより構成される。

第１のガラス基板１１０は、第１の内表面１１２および第１の外表面１１４を有する。真空複層ガラス１００において、第１のガラス基板１１０は、第１の外表面１１４の側が外側となるようにして配置される。同様に、第２のガラス基板１２０は、第２の内表面１２２および第２の外表面１２４を有する。真空複層ガラス１００において、第２のガラス基板１２０は、第２の外表面１２４の側が外側となるようにして配置される。従って、間隙部１３０は、第１のガラス基板１１０の第１の内表面１１２と、第２のガラス基板１２０の第２の内表面１２２との間に形成される。

通常の場合、間隙部１３０内は、真空状態に維持される。ここで、間隙部１３０の真空度は、特に限られず、大気圧よりも低いいかなる圧力であっても良い。一般に、間隙部１３０の圧力は、０．２Ｐａ〜０．００１Ｐａ程度である。

なお、間隙部１３０内には、アルゴンなどの不活性ガスが、大気圧未満の圧力で充填されても良い。すなわち、本願において、「真空複層ガラス」は、間隙部内の圧力が必ずしも真空状態になっているものに限られず、「真空複層ガラス」という用語は、間隙部内の圧力が大気圧未満となっている全ての複層ガラスを意味するものとする。

必要な場合、真空複層ガラス１００は、間隙部１３０内に、１または２以上のスペーサ１９０を有しても良い。スペーサ１９０は、間隙部１３０を所望の形状に保持する役割を有する。ただし、スペーサ１９０がなくても、間隙部１３０を所望の形状に維持することができる場合、例えば、間隙部１３０の真空度が低い場合、または間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、スペーサ１９０は、省略しても良い。

シール部材１５０は、間隙部１３０を密閉状態に保持するための部材であり、シール部材１５０は、間隙部１３０の周囲全体にわたって、すなわち真空複層ガラス１００の周囲に構成されている。シール部材１５０の第１の接合層１６０は、第１のガラス基板１１０の第１の内表面１１２側に、第１のガラス基板１１０の周囲にわたって、環状に形成されている。同様に、第２の接合層１６５は、第２のガラス基板１２０の第２の内表面１２２側に、第２のガラス基板１２０の周囲にわたって、環状に形成されている。

また、金属部材１５５は、第３の表面１７０および第４の表面１７２を有し、真空複層ガラス１００の周囲に沿った環状を有する。第１実施形態において、環状を有する金属部材は、真空複層ガラスを厚さ方向（図２のＺ方向）から見たとき、すなわち平面視において、平板形状の内部が取り除かれ、外側輪郭および内側輪郭を有する「枠」で構成された額縁状である。ただし、金属部材の外側輪郭および／または内側輪郭は、必ずしも額のような略直方体の形状に限られず、例えば、略台形、略円形、または略楕円形の形状であっても良い。また、金属部材の外側輪郭と内側輪郭は、必ずしも相似形である必要はなく、両者は、例えば、異なる形状であっても良い。

金属部材１５５の第３の表面１７０は、一部が第１の接合層１６０と結合されており、金属部材１５５の第４の表面１７２は、一部が第２の接合層１６５と結合されている。換言すれば、第１の接合層１６０は、金属部材１５５の第３の表面１７０に結合されており、第２の接合層１６５は、金属部材１５５の第４の表面１７２に結合されている。以降、金属部材１５５の第１の接合層１６０と接触している領域を、第１の接触領域１７５と称し、金属部材１５５の第２の接合層１６５と接触している領域を、第２の接触領域１７７と称する。

このようなシール部材１５０を間隙部１３０の周囲に配置することにより、間隙部１３０を密閉することができる。なお、図２の例では、真空複層ガラス１００を上部（厚さ方向：図２のＺ方向）から見たとき、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５とは、重なり合っておらず、設置位置がずれている。すなわち、図２の例では、第１の接合層１６０は、第２の接合層１６５よりも内側に設置されている。しかしながら、これは必ずしも必要ではなく、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５は、上部から見たとき、一部または全部が重なり合っていても良い。

またシール部材１５０は、真空複層ガラス１００を厚さ方向から見たとき、第１のガラス基板または第２のガラス基板の端面よりも内側に配置されている。このようなシール部材は、真空複層ガラスの透光領域が狭小化させがちな構成であるので、本発明による効果が大きい構成である。

また、図２の例では、真空複層ガラス１００のシール部材１５０は、「段差」を有する金属部材１５５を備える。より具体的には、金属部材１５５を断面で見たとき、金属部材１５５の第３の表面１７０は、第１のガラス基板１１０の第１の内表面１１２とほぼ同レベルの高さから、第１の接合層１６０との接触領域１７５まで変化する輪郭を有する。同様に、金属部材１５５の第４の表面１７２は、第２の接合層１６５との接触領域１７７から、第２のガラス基板１２０の第２の内表面１２２とほぼ同レベルの高さまで変化する輪郭を有する。

なお、図２の例では、金属部材１５５の両表面１７０、１７２は、直線的に折れ曲がった輪郭で示されているが、金属部材１５５の形状は、これに限られるものではない。すなわち、金属部材１５５の両表面１７０、１７２は、平坦な形状、曲線的に湾曲した形状、または直線と曲線の組み合わせで構成された輪郭を有しても良い。

このような構成を有する第１の真空複層ガラス１００を製造する際には、例えば、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０の間に、シール部材１５０を構成する各部材を配置した組立体が構成される。次に、この組立体が加熱処理される。加熱処理によって、第１および第２の接合層１６０、１６５が溶融（軟化）、固化し、シール部材１５０が構成される。また、このシール部材１５０を介して、両ガラス基板１１０、１２０が接合され、真空複層ガラス１００が製造される。

ここで、本発明による第１の真空複層ガラス１００において、金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７には、凹状または凸状の複数の島部を有する島状パターン（以下、単に「島状パターン」と称する）の凹凸表面が形成されているという特徴を有する。このような凹凸表面は、第１および第２の接合層１６０、１６５が軟化したときに流動して広がることを抑制することができる。

第１および第２の接合層１６０、１６５を形成するにあたり、加熱処理の際にシール部材１５０を部分的に、または組立体全体を加熱する必要がある。確実な封止となるような接合層とするためには、加熱処理の際に真空複層ガラスの厚さ方向（図２のＺ方向）に圧力を加えることが望ましい。しかしながら、軟化時に加圧された第１および第２の接合層は、金属部材１５５の長手方向（真空複層ガラスの周囲に沿う方向。図２の紙面に向かう方向）ではなく幅方向（真空複層ガラスの周囲に沿う方向に直交する方向。図２のＸ方向）に広がりやすい。金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７に、このような島状パターンの凹凸表面を設けることにより、シール部材の加熱処理によって第１および第２の接合層１６０、１６５が溶融（軟化）した際に、第１および第２の接合層１６０、１６５が金属部材１５５の幅方向（図２のＸ方向）に所定の範囲を超えて広がることを、有意に抑制することができる。

これにより、第１の真空複層ガラス１００では、シール部材１５０のシール幅（図２の符号Ｗ）を有意に短くすることが可能となる。またこれにより、第１の真空複層ガラス１００では、シール部材１５０による、第１の真空複層ガラス１００の透光領域の狭小化を有意に抑制することが可能となる。

島状パターンの凹凸表面は、少なくとも金属部材の第１および第２の接触領域に必要であり、第１および第２の接触領域から離れた領域には必ずしも島状パターンが形成されている必要はない。

なお、金属部材１５５の第１の接触領域１７５に、このような島状パターンの凹凸表面を構成することにより、溶融（軟化）した接合層（１６０、１６５）の広がりを抑制することができるのは、以下の理由によるものと考えられる。

金属部材１５５の熱膨張が他部材に比べて著しく大きいため、島状パターンの凹凸表面がない場合、シール部材を加熱処理した際に金属部材１５５に皺が発生する。この皺は、主に金属部材１５５の長手方向に波打つような皺を形成する。すわなち、金属部材１５５の幅方向に複数の溝を形成するような皺となる。溶融（軟化）した第１および第２の接合層（１６０、１６５）は、このような波打った皺と接触するため、接触面の接触圧の強弱に従って、溶融（軟化）した接合層が皺によって形成された金属部材１５５の幅方向の溝へ押し出されるように広がることになる。島状パターンの凹凸表面を構成することにより、波打つような皺が形成されないため溶融（軟化）した接合層（１６０、１６５）の広がりを抑制することができると考えられる。

以下に説明する島状パターンは、金属部材と接合層との結合前の状態である。すなわち、接合層を加熱して金属部材と結合する前の島状パターンの状態である。よって、本発明では、接合層との結合後の島状パターンは、結合前の形状から変形していることを許容する。

（第１の島状パターンについて）
図３および図４を参照して、前述のような効果を発揮する島状パターンの態様について、詳しく説明する。

図３には、金属部材１５５の第１の接触領域１７５（または第２の接触領域１７７。以下同じ）に形成された第１の島状パターン２００の模式的な拡大上面図を示す。また、図４には、金属部材１５５の第１の接触領域１７５に形成された第１の島状パターン２００の模式的な拡大断面図を示す。

第１の島状パターン２００は、凹状または凸状の複数の「島」部で構成される。より具体的には、図３および図４に示すように、第１の島状パターン２００は、複数の島部２１０（２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃ）と、各島部同士を離間する隔離部２２０とを有する。

なお、隔離部２２０は、図３のような連続的な形態で存在しても良いが、複数の小区画に分離された状態で、存在しても良い（すなわち、隣接する島部２１０の一部は、実質的に接触していても良い）。

また、図３および図４において、各島部２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃは、凸状の形態を有し、従って、それぞれの島部２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃと隣接する隔離部２２０に比べて突出している（すなわち、島部２１０が「山」となり、離間部２２０が「谷」となる形態）。しかしながら、これとは逆に、各島部２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃは、凹状の形態を有し、従って、それぞれの島部２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃと隣接する隔離部２２０に比べて窪んでいても良い（すなわち、島部２１０が「谷」となり、離間部２２０が「山」となる形態）。

なお、図３に示すように、各島部２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃの寸法および形状は、異なっていても良い。また、各島部２１０は、図３のように不規則に配置されても、規則的に配置されても良い。すなわち、第１の島状パターン２００は、複数の不揃いの島部２１０が不規則に配置されて構成される。しかしながら、島状パターンの態様は、これに限られるものではない。例えば、複数の島部が、少なくとも異なる２つの方向それぞれに沿って規則的に配列されても良いし、図３のように、規則的ではないが、異なる２方向以上の様々な方向に不規則に配列されても良い。

また、規則的または不規則に関わらず、各島部を、３００μｍ以上２４０００μｍ以下のピッチで配置することが好ましい。２４０００μｍ以下のピッチとすることで接合層の広がりを抑制することができる。３００μｍ以上のピッチとすることで製造が容易になる。各島部を、３００μｍ以上１５０００μｍ以下のピッチ、好ましくは、３００μｍ以上１００００μｍ以下のピッチ、より好ましくは３００μｍ以上５０００μｍ以下のピッチで配置するとよい。第１の島状パターン２００においては、各島部２１０を、例えば、３００μｍ以上１００００μｍ以下のピッチであり、４００μｍ以上４０００μｍ以下のピッチであることが好ましい。

また、本願において、各島部２１０の中で最も大きな寸法を有する島部２１０（例えば島部２１０ｂ）を最大島部２１０_ｍａｘと称し、この島部２１０_ｍａｘの輪郭線上の任意の２点を結びかつ島部２１０_ｍａｘ内に配置可能な直線のうち長さが最大となる直線の長さを「最大長さＬ_ｍａｘ」と称する。

このような複数の島部の最大長さＬ_ｍａｘは、１０μｍ以上２１０００μｍ以下であることが好ましい。２１０００μｍ以下のピッチとすることで接合層の広がりを抑制することができる。最大長さＬ_ｍａｘは、１００μｍ以上１００００μｍ以下、さらには、３００μｍ以上５０００μｍ以下であることが好ましい。第１の島状パターン２００においては、最大長さＬ_ｍａｘは、例えば、７００μｍ以上２１０００μｍ以下の範囲であり、７００μｍ以上４０００μｍ以下の範囲であることが好ましい。

さらに、図４に示すように、第１の島状パターン２００において、金属部材１５５の第１の接触領域１７５を断面から見たとき、離間部２２０の高さレベルは、各場所で異なっていても良い。同様に、各島部２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃの高さレベルは、異なっていても良い。従って、島部２１０と離間部２２０の凹凸差Ｈは、各場所で異なっていても良い。

なお、本願において、「凹凸差Ｈ」とは、図４に示すように、島部２１０と該島部２１０に隣接する離間部２２０との高さの差Ｈを意味する。特に、島状パターンにおいて、最も大きな凹凸差Ｈを、「最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ」と称する。

このような複数の島部の最大凹凸差Ｈ_ｍａｘは、１０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。１０μｍ以上の最大凹凸差Ｈ_ｍａｘとすることで接合層の広がりを好適に抑制することができる。また、３００μｍ以下の最大凹凸差Ｈ_ｍａｘとすることで金属部材の加工が容易になり、さらに接合層の密着性も高くなる。最大凹凸差Ｈ_ｍａｘは、３０μｍ以上２７０μｍ以下、さらには、４０μｍ以上２５０μｍ以下であることが好ましい。第１の島状パターン２００においては、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘは、例えば、５０μｍ以上２７０μｍ以下の範囲であり、９０μｍ以上２３０μｍ以下の範囲であることが好ましい。

また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘと各島部の配置の平均ピッチ（最大ピッチと最小ピッチの平均値）との比である最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチは、例えば、０．０２以上であることが好ましい。最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比が０．０２以上の場合、加熱処理の際に、金属部材１５５と接合層１６０、１６５の間の熱膨張差によって、金属部材１５５の第１の接触領域１７５と第１の接合層１６０の間、および第２の接触領域１７７と第２の接合層１６５の間に、金属部材１５５の長手方向に波打つように発生する皺が生じ難くなると考えられる。すなわち、熱膨張差を緩和しやすい形状である。このため、溶融（軟化）した接合層（１６０、１６５）の水平方向の広がりを抑制する効果が大きくなる。さらには、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比が０．０５以上であることが好ましい。

（第２の島状パターンについて）
島状パターンは、略同一形状の複数の島部が２次元的に規則的に配置されて構成されても良い。以下、図５および図６を参照して、そのような島部の周期構造を有する島状パターンの一例について説明する。

図５には、第２の島状パターンの模式的な拡大上面図を示す。また、図６には、この第２の島状パターンの模式的な拡大断面図を示す。

図５および図６に示すように、第２の島状パターン２５０は、平面視略円形状の複数の島部２６０（２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄ）と、隣接する島部２６０同士の間に配置された隔離部２７０とを有する。

第２の島状パターン２５０は、各島部２６０を、異なる２つの方向である直交する２方向、すなわち図５のＸ方向およびＹ方向に規則的に配列することにより構成される。なお、図６（ａ）に示すように、各島部２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄは、凸状の形態を有し、従って、隔離部２７０に比べて突出している（すなわち、島部２６０が「山」となり、離間部２７０が「谷」となる）。しかしながら、これとは逆に、各島部２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄは、凹状の形態を有し、従って、隔離部２７０に比べて窪んでいても良い（すなわち、島部２６０が「谷」となり、離間部２７０が「山」となる）。

各島部２６０は、異なる２つの方向が第１の方向（図５のＸ方向）および第２の方向（図５のＹ方向）であり、第１の方向および第２の方向それぞれに沿って、規則的に配列されている。島部２６０の第１の方向における配置ピッチは、Ｐｘで一定である。また、島部２６０の第２の方向における配置ピッチは、Ｐｙで一定である。Ｐｘおよび／またはＰｙは、例えば、３００μｍ以上２００００μｍ以下の範囲であり、４００μｍ以上４０００μｍ以下の範囲であることが好ましい。なお、第１の方向における配置ピッチＰｘと第２の方向における配置ピッチＰｙは、異なっていても良い。

各島部２６０は、いずれも寸法および形状が実質的に等しく、島部２６０の直径は、いずれも最大長さＬ_ｍａｘとなる。また、いずれの場所でも凹凸差Ｈは等しく、凹凸差Ｈは、いずれも最大凹凸差Ｈ_ｍａｘとなる。

また、第２の島状パターンの島部の断面形状はこれに限られるものではない。図６（ｂ）および図６（ｃ）に示すような形態であってもよい。図６（ｂ）および図６（ｃ）の島部は山状に形成されて、その稜線が曲線を有している。図６（ｂ）は、島部の頂部が弧状になっている。図６（ｃ）は、島部の頂部が平面に近い弧状になっており、図６（ｂ）の形態を少し押しつぶした形状を有している。

第２の島状パターン２５０において、島部２６０の最大長さＬ_ｍａｘは、例えば、１０μｍ以上４０００μｍ以下の範囲であり、３０μｍ以上１０００μｍ以下の範囲であることが好ましい。島部２６０の最大凹凸差Ｈ_ｍａｘは、例えば、１０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲であり、９０μｍ以上２３０μｍ以下の範囲であることが好ましい。

また、第２の島状パターン２５０において、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘと平均ピッチ（ＰｘとＰｙの平均値）との比である最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチは、例えば、０．０５以上であることが好ましい。

なお、図５および図６の例では、各島部２６０は、平面視略円形の形状を有する。しかしながら、これは単なる一例に過ぎず、各島部２６０は、平面視が例えば、楕円、三角形、四角形、または五角形以上の多角形等の形状を有しても良い。同様に、各島部２６０の断面は、台形の他、三角形、正方形、または長方形等の形状を有しても良い。

また、島状パターンは、図５および図６とは異なる島部２６０の配列パターンで構成されても良い。例えば、島状パターンは、図７に示すような島部２６０の配列パターンを有しても良い。

この図７においても、島状パターン（第３の島状パターン）２５１は、第１の方向（図７のＸ方向）および第２の方向（図７のＹ方向）に沿って規則的に配列された島部２６０を有する。

ただし、この第３の島状パターン２５１では、図７に示すように、第１の方向（Ｘ方向）に沿って、同一Ｘ座標にある島部２６０の列Ｘ１〜Ｘ５を定めたとき、列Ｘ１、Ｘ３およびＸ５と、列Ｘ２、Ｘ４およびＸ６とでは、島部２６０の第２の方向の位置（すなわちＹ座標）は、１／２Ｐｙだけずれている。同様に、第２の方向（Ｙ方向）に沿って、同一Ｙ座標にある島部２６０の行Ｙ１〜Ｙ５を定めたとき、行Ｙ１、Ｙ３およびＹ５と、行Ｙ２、Ｙ４およびＹ６とでは、島部２６０の第１の方向の位置（すなわちＸ座標）は、１／２Ｐｘだけずれている。

このように、島状パターンは、島部２６０のいかなる配列パターンで構成されても良く、図５〜図７に示した配列の他にも、島状パターンの構成として様々な態様が想定され得ることは、当業者には明らかであろう。

（第２の真空複層ガラス）
次に、図８を参照して、本発明の第２実施形態による真空複層ガラスについて説明する。図８には、本発明の第２実施形態による真空複層ガラス（第２の真空複層ガラス）の構成の一例を概略的に示す。

図８に示すように、第２の真空複層ガラス３００は、基本的に、前述の図２に示した第１の真空複層ガラス１００と同様の構成を有する。従って、図８において、図２と同様の部材には、図２の参照符号に２００を加えた参照符号が使用されている。ただし、図８に示す第２の真空複層ガラス３００は、図２に示した第１の真空複層ガラス１００とは、シール部材が異なっている。

すなわち、第２の真空複層ガラス３００は、間隙部３３０の周囲全体にわたって配置されたシール部材３５０を有し、該シール部材３５０は、断面が略「Ｚ字」状に構成される。より具体的には、シール部材３５０は、断面がＺ字状の金属部材３５５を、第１の接合層３６０を介して第１のガラス基板３１０の第１の外表面３１４に接合するとともに、第２の接合層３６５を介して第２のガラス基板３２０の第２の内表面３２２に接合することにより構成される。

この第２の真空複層ガラス３００では、金属部材３５５の第１の接合層３６０と接触している領域、すなわち第１の接触領域３７５、および第２の接合層３６５と接触している領域、すなわち第２の接触領域３７７は、いずれも金属部材３５５の第３の表面３７０側に存在することに留意する必要がある。

この第２の真空複層ガラス３００においても、金属部材３５５の第１の接触領域３７５および第２の接触領域３７７には、島状パターンが形成されている。

このため、第２の真空複層ガラス３００においても、第１の真空複層ガラス１００と同様の効果が得られ、すなわち加熱処理によって第１および第２の接合層３６０、３６５が溶融（軟化）した際に、第１および第２の接合層３６０、３６５が金属部材３５５の幅方向（図８のＸ方向）に広がることを、有意に抑制することができる。従って、第２の真空複層ガラス３００においても、中央部分の透光領域の狭小化を有意に抑制することが可能となる。

（第３の真空複層ガラス）
次に、図９を参照して、本発明の第３実施形態による真空複層ガラスについて説明する。図９には、本発明の第３実施形態による真空複層ガラス（第３の真空複層ガラス）の構成の一例を概略的に示す。

図９に示すように、第３の真空複層ガラス４００は、基本的に、前述の図２に示した第１の真空複層ガラス１００と同様の構成を有する。従って、図９において、図２と同様の部材には、図２の参照符号に３００を加えた参照符号が使用されている。ただし、図９に示す第３の真空複層ガラス４００は、図２に示した第１の真空複層ガラス１００とは、シール部材が異なっている。

すなわち、第３の真空複層ガラス４００は、間隙部４３０の周囲全体にわたって配置されたシール部材４５０を有し、該シール部材４５０は、断面が略「角括弧（ｂｒａｃｋｅｔ）」状に構成される。より具体的には、シール部材４５０は、断面が角括弧状の金属部材４５５を、第１の接合層４６０を介して第１のガラス基板４１０の第１の外表面４１４に接合するとともに、第２の接合層４６５を介して第２のガラス基板４２０の第２の外表面４２４に接合することにより構成される。

この第３の真空複層ガラス４００では、金属部材４５５の第１の接合層４６０と接触している領域、すなわち第１の接触領域４７５、および第２の接合層４６５と接触している領域、すなわち第２の接触領域４７７は、いずれも金属部材４５５の第３の表面４７０側に存在することに留意する必要がある。

この第３の真空複層ガラス４００においても、金属部材４５５の第１の接触領域４７５および第２の接触領域４７７には、島状パターンが形成されている。

このため、第３の真空複層ガラス４００においても、第１の真空複層ガラス１００と同様の効果が得られ、すなわち加熱処理によって第１および第２の接合層４６０、４６５が溶融（軟化）した際に、第１および第２の接合層４６０、４６５が金属部材４５５の幅方向（図９のＸ方向）に広がることを、有意に抑制することができる。従って、第３の真空複層ガラス４００においても、中央部分の透光領域の狭小化を有意に抑制することが可能となる。

（第４の真空複層ガラス）
次に、図１０を参照して、本発明の第４実施形態による真空複層ガラスについて説明する。図１０には、本発明の第４実施形態による真空複層ガラス（第４の真空複層ガラス）の構成の一例を概略的に示す。

図１０に示すように、第４の真空複層ガラス５００は、基本的に、前述の図２に示した第１の真空複層ガラス１００と同様の構成を有する。従って、図１０において、図２と同様の部材には、図２の参照符号に４００を加えた参照符号が使用されている。ただし、図１０に示す第４の真空複層ガラス５００は、図２に示した第１の真空複層ガラス１００とは、シール部材が異なっている。

すなわち、第４の真空複層ガラス５００は、間隙部５３０の周囲全体にわたって配置されたシール部材５５０を有し、該シール部材５５０は、断面が略「Ｉ」状に構成される。より具体的には、シール部材５５０は、断面がＩ状の金属部材５５５を、第１の接合層５６０を介して第１のガラス基板５１０の端面５１６に接合するとともに、第２の接合層５６５を介して第２のガラス基板５２０の端面５２６に接合することにより構成される。

この第４の真空複層ガラス５００では、金属部材５５５の第１の接合層５６０と接触している領域、すなわち第１の接触領域５７５、および第２の接合層５６５と接触している領域、すなわち第２の接触領域５７７は、いずれも金属部材５５５の第３の表面５７０側に存在することに留意する必要がある。

この第４の真空複層ガラス５００においても、金属部材５５５の第１の接触領域５７５および第２の接触領域５７７には、島状パターンが形成されている。

このため、第４の真空複層ガラス５００においても、第１の真空複層ガラス１００と同様の効果が得られ、すなわち加熱処理によって第１および第２の接合層５６０、５６５が溶融（軟化）した際に、第１および第２の接合層５６０、５６５が金属部材５５５の幅方向（図１０のＺ方向）に広がることを、有意に抑制することができる。

従って、第４の真空複層ガラス５００の場合、第１および第２のガラス基板５１０、５２０の端面から接合層がはみ出すことなく、第１および第２の接合層５６０、５６５を、それぞれ、第１および第２のガラス基板５１０、５２０の端面の幅の範囲に設置することが可能となる。

（真空複層ガラスの構成部材について）
次に、以上説明した本発明の一実施形態による真空複層ガラスを構成する、各構成部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、前述の第１の真空複層ガラス１００を例に、その構成部材について説明する。従って、各部材の参照符号は、図２に使用した参照符号に対応する。

（ガラス基板１１０、１２０）
ガラス基板１１０、１２０を構成するガラスの組成は、特に限られない。ガラス基板１１０、１２０のガラスは、例えば、ソーダライムガラスおよび／または無アルカリガラス等であっても良い。また、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０の組成は、同一であっても異なっていても良い。

（スペーサ１９０）
スペーサ１９０は、従来の真空複層ガラスにおいて使用されるスペーサと同様の材料、形状、および／または寸法を有しても良い。

スペーサ１９０の高さ、すなわち間隙部１３０の厚さは、該間隙部１３０が大気圧未満の圧力状態である場合には、０．０１５ｍｍ〜１ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲であることがより好ましい。また、間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、間隙部１３０の厚さは、０．０１５ｍｍ〜１５．７ｍｍの範囲であることが好ましく、３ｍｍ〜１３ｍｍの範囲であることがより好ましい。

（シール部材１５０）
前述のように、シール部材１５０は、第１および第２の接合層１６０、１６５、および金属部材１５５により構成される。シール部材１５０のシール幅Ｗは、特に限られない。ただし、本発明の一実施例では、前述のように、シール部材１５０のシール幅Ｗを有意に短くすることができることに留意する必要がある。シール部材１５０のシール幅Ｗは、例えば、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲である。

（接合層１６０、１６５）
シール部材１５０を構成する接合層１６０、１６５は、ガラス基板１１０、１２０および金属部材１５５に対して結合性を有する限り、いかなる材料で構成されても良い。また、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５は、同じものであっても、異なるもので構成されても良い。

例えば、接合層１６０、１６５は、ガラス固化層であっても良い。ガラス固化層は、ガラスフリットを含むペーストを焼成することにより形成される。ガラス固化層は、ガラス成分を含むが、さらにセラミック粒子を含んでも良い。

ガラス固化層に含まれるガラス成分の組成は、特に限られない。ガラス固化層に含まれるガラス成分は、例えば、ＺｎＯ−Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３系またはＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系のガラスであっても良い。

表１には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ−Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３系のガラスの組成の一例を示す。また、表２には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系のガラスの組成の一例を示す。

あるいは、接合層１６０または１６５の少なくとも一方は、表面に金属溶射膜を含んでも良い。例えば、第１の接合層１６０が金属溶射膜を有する場合、第１のガラス基板の表面に金属溶射膜を形成させ、金属溶射膜上に、例えばろう付けまたははんだ付け等により、第１の接合層１６０を形成させても良い。

金属溶射膜は、例えば、アーク溶射方法またはプラズマ溶射方法等により、ガラス基板の一方の表面に、環状に形成されても良い。金属溶射膜の材料は、これに限られるものではないが、例えば、銅（および銅合金）、アルミニウム（およびアルミニウム合金）、ならびに亜鉛（および亜鉛合金）等であっても良い。

このように、接合層１６０、１６５は、金属部材１５５と結合することができる限り、セラミックス、ガラス、金属など、いかなる材料を含んでも良い。また、接合層１６０、１６５は、必ずしも単一の層で構成される必要はなく、複数の層で構成されても良い。

接合層の厚さは、これに限られるものではないが、例えば、間隙部１３０が大気圧未満の圧力状態である場合には、１０μｍ〜１０００μｍの範囲、間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、１０μｍ〜１５０００μｍの範囲であっても良い。

また、第１の接合層１６０および／または第２の接合層１６５の最大幅（Ｘ方向の長さ）は、これに限られるものではないが、例えば、０．１ｍｍ〜１５ｍｍの範囲である。この幅は、１ｍｍ〜７ｍｍの範囲であっても良い。

さらに、図２の例では、第１の接合層１６０および第２の接合層１６５の断面は、いずれも、コーナー部が丸みを帯びた略矩形状の形状で示されている。しかしながら、これは、単なる一例に過ぎず、第１の接合層１６０および第２の接合層１６５の断面は、例えば、略楕円形、略台形など、その他の形状を有しても良い。また、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５の形状は、異なっていても良い。

（金属部材１５５）
金属部材１５５を構成する金属材料の種類は、特に限られない。金属部材１５５は、例えば、アルミニウムおよびアルミニウム合金、銅および銅合金、チタンおよびチタン合金、ならびにステンレス鋼等から選定されても良い。

ただし、金属部材１５５の少なくとも第１および第２の接触領域１７５、１７７には、島状パターンの凹凸表面が形成される必要がある。従って、金属部材１５５は、比較的軟性の材料で構成されることが好ましい。これにより、島状パターンを形成することが容易となる。

第１および第２の接触領域１７５、１７７の幅（図２のＸ方向の長さ）は、それぞれ、実質的に、第１および第２の接合層１６０、１６５の幅と等しい。すなわち、第１および第２の接触領域１７５、１７７の幅は、例えば、０．１ｍｍ以上１５ｍｍ以下の範囲であっても良い。

金属部材１５５は、箔または板状であり、間隙部１３０が大気圧未満の圧力状態である場合には、５μｍ以上５００μｍ以下の範囲の厚さ、間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、５μｍ以上７００μｍ以下の範囲の厚さを有しても良い。

また、金属部材１５５は、最終提供形状が真空複層ガラスの周囲に沿った環状になっていれば、途中の準備段階での形状は、特に限られない。従って、例えば、細長い板状の複数の部材を接合して、環状の金属部材１５５を構成しても良い。あるいは、板状の部材から環状に切断し、または板状の部材を環状に打ち抜いて、一体品（シームレス部材）として、環状の金属部材１５５を提供しても良い。さらに、金属部材１５５は、真空複層ガラスの厚さ方向に、複数の金属部材を積層、接合して構成しても良い。

（本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法）
次に、本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法の一例について説明する。

図１１には、本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法の一例のフロー図を示す。図１１に示すように、本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法は、
第１のガラス基板の周囲に第１の接合層を形成し、第２のガラス基板の周囲に第２の接合層を形成するステップ（Ｓ１１０）と、
第１および第２の接触領域に島状パターンの凹凸表面を有する、第１または第２のガラス基板の周囲に沿った環状を有する金属部材を準備するステップ（Ｓ１２０）と、
第１のガラス基板の第１の接合層および第２のガラス基板の第２の接合層が、それぞれ、金属部材の第１および第２の接触領域と接するよう金属部材を組み合わせて第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層し、組立体を構成するステップと（Ｓ１３０）と、
前記組立体の少なくとも第１および第２の接合層を加熱して、第１および第２の接合層と金属部材とを結合させるステップ（Ｓ１４０）と、
を有する。

以下、各ステップについて詳しく説明する。なお、以下の記載では、一例として、図２に示したような第１の真空複層ガラス１００を例に、真空複層ガラスの製造方法について説明する。従って、各部材を説明する際には、図２に示した参照符号を使用する。

ただし、以下に記載される真空複層ガラスの製造方法は、簡単な変更により、図１、図８〜図１０のような構成を有する真空複層ガラスを製造する際にも利用できることは、当業者には明らかである。

（ステップＳ１１０）
まず、第１および第２のガラス基板１１０、１２０が準備される。

また、第１のガラス基板１１０の第１の内表面１１２に、第１の接合層１６０が形成され、第２のガラス基板１２０の第２の内表面１２２に、第２の接合層１６５が形成される。

以下、第１の接合層１６０がガラス固化層である場合を例に、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２の周囲に、第１のガラス固化層を形成する場合について説明する。

第１のガラス基板１１０上の周囲に、第１のガラス固化層を形成する場合、まず、第１のガラス固化層用のペーストが調製される。通常、ペーストは、ガラスフリット、セラミック粒子、ポリマー、および有機バインダ等を含む。ただし、セラミック粒子は、省略しても良い。ガラスフリットは、最終的に、第１のガラス固化層を構成するガラス成分となる。

調製されたペーストは、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２の周囲に塗布される。

次に、ペーストを含む第１のガラス基板１１０が乾燥処理される。乾燥処理の条件は、ペースト中の溶剤が除去される条件である限り、特に限られない。乾燥処理は、例えば、第１のガラス基板１１０を、１００℃〜２００℃の温度に、３０分〜１時間程度保持することにより実施されても良い。

次に、ペーストを仮焼成するため、第１のガラス基板１１０が高温で熱処理される。熱処理の条件は、ペースト中に含まれる有機バインダ等が除去される条件である限り、特に限られない。熱処理は、例えば大気中で３００℃〜４７０℃の温度範囲に、第１のガラス基板１１０を３０分〜１時間程度保持することにより実施しても良い。これにより、ペーストが焼成され、第１のガラス固化層が形成される。このときの固化層の厚さは１０μｍ〜１０００μｍとなる。

同様に、第２のガラス基板１２０の第３の表面１２２の周囲に、第２のガラス固化層が形成される。

（ステップＳ１２０）
次に、真空複層ガラスの周囲に沿った環状の金属部材１５５が準備される。

前述のように、環状の金属部材１５５は、接合部のない一体品（シームレス部材）であっても、複数の部材を組み合わせて構成しても良い。

一体品（シームレス部材）の環状の金属部材１５５は、例えば、板状金属部材を準備し、この板状金属部材の内側を切り取るようにプレス裁断すれば、容易に製造することができる。

なお、この段階では、金属部材１５５は、図２に示したような「段差」を有さない、略平坦な形状を有しても良い。

次に、金属部材１５５の第１および第２の接触領域１７５、１７７に、島状パターンの凹凸表面が形成される。ここで、第１の接触領域１７５は、以降の工程において、金属部材１５５が第１の接合層１６０と接触する領域に相当し、第２の接触領域１７７は、金属部材１５５が第２の接合層１６５と接触する領域に相当する。

なお、島状パターンの凹凸表面は、必ずしも、第１および第２の接触領域１７５、１７７にのみ、形成する必要はない。例えば、島状パターンの凹凸表面は、金属部材１５５の第１の表面１７０および第２の表面１７２の全体に形成されても良い。また、環状の金属部材が作成される前の板状金属部材に島状パターンの凹凸表面を形成させておいても良い。

島状パターンの形成方法は、特に限られない。

島状パターンは、例えば、金属部材１５５の第１および第２の接触領域１７５、１７７にエンボス加工を実施することにより、形成されても良い。あるいは、島状パターンは、金属部材１５５の所定の領域にディンプル加工またはプレス加工を適用することにより、形成されても良い。さらに、島状パターンは、金属部材１５５の所定の領域に、スタンプ加工、ローレット加工、コルゲート加工、またはグルーブ加工を実施することにより形成されても良い。その他にも、様々な方法で、金属部材１５５の所定の領域に島状パターンを形成することができる。

（ステップＳ１３０）
次に、第１および第２のガラス基板１１０、１２０と、環状の金属部材１５５とを組み合わせることにより、組立体が構成される。

この際には、金属部材１５５は、第３の表面１７０が第１のガラス基板１１０の側となり、第４の表面１７２が第２のガラス基板１２０の側となるように配置される。また、金属部材１５５は、第１の接触領域１７５が第１の接合層１６０と接触し、第２の接触領域１７７が第２の接合層１６５と接触するようにして配置される。

また、この際には、必要に応じて、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０の間に、１または２以上のスペーサ１９０を配置しても良い。

組立体には、必要に応じて、第１のガラス基板１１０および／または第２のガラス基板１２０の側から、押し圧を加えても良い。これにより、金属部材１５５には、図２に示したような「段差」が形成されても良い。

（ステップＳ１４０）
次に、組立体が加熱される。加熱温度および加熱時間は、ガラス固化層の軟化点等によっても変化する。例えば、約３５０℃〜約６００℃、好ましくは４７０℃〜５６０℃（例えば４９０℃）の温度のチャンバー内に、組立体を５秒〜１８０分間ほど、好ましくは１５秒〜３０分間ほど（例えば２０分）保持した後、チャンバーより取り出して室温まで冷却を実施しても良い。なお、加熱処理は、組立体全体に対してではなく、例えば、第１および第２のガラス固化層１６０、１６５を局部的に加熱することにより、実施しても良い。その場合、レーザー等が利用できる。

また、組立体の熱処理中に、金属部材１５５の第３の表面１７０および第４の表面１７２を加圧することで、第１および第２のガラス固化層１６０、１６５を加圧しても良い。このようにガラス固化層１６０、１６５を加圧した場合、金属部材１５５との接合強度が高くなる。また、これにより、金属部材１５５に、図２に示したような「段差」が形成され得る。なお、金属部材１５５に島状パターンの凹凸表面を構成されているため、加圧により溶融（軟化）したガラス固化層１６０、１６５が広がることを抑制することができると考えられる。

組立体の加熱によって、第１および第２のガラス固化層１６０、１６５が溶融（軟化）する。このため、金属部材１５５は、第１の接触領域１７５において、第１のガラス固化層１６０と結合され、第２の接触領域１７７において、第２のガラス固化層１６５と結合される。従って、組立体の加熱処理後には、第１および第２のガラス基板１１０、１２０の間に、シール部材１５０で囲まれた間隙部１３０が形成される。

その後、第１および／または第２のガラス基板１１０、１２０に予め設けられていた開口を利用して、間隙部１３０内が減圧処理される。また、例えば、間隙部１３０内のガスが不活性ガスで置換されても良い。さらに、減圧処理に利用された開口が封止される。これにより、真空複層ガラス１００が製造される。

ここで、前述のように、金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７には、島状パターンが形成されている。このため、加熱によって溶融（軟化）した第１および第２のガラス固化層１６０、１６５は、水平方向（図２のＸ方向）に広がり難くなり、第１および第２の接触領域１７５、１７７に留まるようになる。

このため、最終的に製造されるシール部材１５０は、有意に短いシール幅Ｗを有する。また、これにより、シール部材１５０を設けることによる透光領域の狭小化が抑制され、有意に広い透光領域を有する真空複層ガラス１００を製造することが可能となる。

次に、本発明の実施例について説明する。

（実施例１）
前述の図１１に示したような方法で、複層ガラスを作製し、シール部材における接合層の広がり状態を評価した。なお、ここでは、複層ガラスとして、図２に示したシール部材を有するものを採用した。

まず、第１のガラス基板および第２のガラス基板を準備した。各ガラス基板の寸法は、縦６００ｍｍ×横６００ｍｍ×厚さ６ｍｍである。

第１のガラス基板の一方の表面（第１の表面）に、第１のガラス基板の周囲に沿って環状にペーストを塗布した。ペーストは、ガラスフリットと有機バインダとを混合して調製した。ガラスフリットには、前述の表１に示した組成のものを使用した。

ペースト乾燥後、第１のガラス基板を、大気中 ４９０℃で３０分間熱処理して、環状の第１のガラス固化層を形成した。第１のガラス固化層の外形寸法は、縦５９８ｍｍ×横５９８ｍｍとした。各辺において、第１のガラス固化層の幅（すなわち、外形と内形の差）は、約１．８ｍｍとした。

同様の方法により、第２のガラス基板の一方の表面（第３の表面）に、第２のガラス基板の周囲に沿って環状の第２の接合層を形成した。第２の接合層の外形寸法は、縦５７２ｍｍ×横５７２ｍｍとした。第２の接合層の幅は、約１．８ｍｍとした。

次に、環状に形成された金属部材を準備した。金属部材の外形寸法は、縦６００ｍｍ×横６００ｍｍ×厚さ５０μｍである。また、環状の金属部材は額縁状を有し、額縁の各辺の幅は、１５ｍｍである。

環状の金属部材として、両面に、島状の凸状パターンがエンボス加工されているアルミ箔を使用した。図１２には、島状パターンの態様を示す。

図１２に示すように、この島状パターンでは、島部は、縦方向および横方向に２次元的に規則的に配列されている。各島部は、凸部で構成され、平面視略正方形の形状を有し、最大長さＬ_ｍａｘは、５５０μｍである。

島部の最小ピッチは５００μｍであり、最大ピッチは７２０μｍであり、平均ピッチは６１０μｍである。また、凹凸差Ｈは、いずれの島部においても約９２μｍである（従って、Ｈ_ｍａｘ＝９２μｍ）。また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比は、０．１５１である。なお、最小ピッチとは、島状パターンの凹凸周期が最小になる方向で周期を測定した場合の周期の測定値、例えば、ある島部の頂部（頂部が平面である場合はその中心）から、最近接の島部の頂部までの距離の最小値を意味し、最大ピッチとは、凹凸周期が最大になる方向で周期を測定した場合の周期の測定値を意味し、平均ピッチとは、両者の平均を意味する。

次に、第１のガラス基板と第２のガラス基板を、前述の金属部材を介して積層し、組立体を構成した。この際には、第１のガラス基板の第１のガラス固化層と、第２のガラス基板の第２のガラス固化層とが金属部材と接するようにして、各部材を積層した。

次に、組立体を大気中、４９０℃で３０分間加熱処理し、複層ガラスを作製した。

得られた複層ガラスにおいて、第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、最大でも３．３ｍｍ程度であり、第１および第２の接ガラス固化層は、水平方向にあまり広がっていないことが確認された。

（実施例２）
実施例１と同様の方法により、複層ガラスを作製し、シール部材における接合層の広がり状態を評価した。

ただし、この実施例２では、金属部材として、両表面に、図１３に示す形態の島状パターンを有するアルミ箔（厚さ５０μｍ）を使用した。

図１３に示すように、この金属部材の島状パターンでは、島部は、２次元的に規則的に配列されている。各島部は、凸部で構成され、平面視略正方形の形状を有し、最大長さＬ_ｍａｘは、７１０μｍである。島部の最小ピッチは６２０μｍであり、最大ピッチは８７０μｍであり、平均ピッチは７５０μｍである。また、凹凸差Ｈは、いずれの島部においても約１５０μｍである（従って、Ｈ_ｍａｘ＝１５０μｍ）。また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比は、０．２０２である。その他の条件は、実施例１と同様である。

作製後の複層ガラスの第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、最大でも３．０ｍｍ程度であった。熱処理前の第１および第２のガラス固化層の幅は、１．８ｍｍ程度であったことから、第１および第２のガラス固化層は、熱処理後にも、水平方向にあまり広がっていないことが確認された。

（実施例３）
実施例１と同様の方法により、複層ガラスを作製し、シール部材におけるガラス固化層の広がり状態を評価した。

ただし、この実施例３では、金属部材として、両表面に、図１４に示す形態の島状パターンを有するアルミ箔（厚さ５０μｍ）を使用した。

図１４に示すように、この金属部材の島状パターンでは、島部は、不規則に配列されており、各島部は、凸状に構成される。島部の最大長さＬ_ｍａｘは、２０００μｍである。島部の最小ピッチは４００μｍであり、最大ピッチは２４００μｍであり、平均ピッチは１４００μｍである。また、凹凸差Ｈは、いずれの島部においても約１４３μｍである（従って、Ｈ_ｍａｘ＝１４３μｍ）。また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比は、０．１０２である。その他の条件は、実施例１と同様である。

作製後の複層ガラスの第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、最大でも３．９ｍｍ程度であった。熱処理前の第１および第２のガラス固化層の幅は、１．８ｍｍ程度であったことから、第１および第２のガラス固化層は、熱処理後にも、水平方向にあまり広がっていないことが確認された。

（実施例４）
実施例１と同様の方法により、複層ガラスを作製し、シール部材におけるガラス固化層の広がり状態を評価した。

ただし、この実施例４では、金属部材として、両表面に、図１５に示す形態の島状パターンを有するアルミ箔（厚さ８０μｍ）を使用した。

図１５に示すように、この金属部材の島状パターンでは、島部は、不規則に配列されており、各島部は、凸状に構成される。島部の最大長さＬ_ｍａｘは、１８００μｍである。島部の最小ピッチは４００μｍであり、最大ピッチは３６００μｍであり、平均ピッチは２０００μｍである。また、凹凸差Ｈは、いずれの島部においても約１０２μｍである（従って、Ｈ_ｍａｘ＝１０２μｍ）。また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比は、０．０５１である。その他の条件は、実施例１と同様である。

作製後の複層ガラスの第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、最大でも３．３ｍｍ程度であった。熱処理前の第１および第２のガラス固化層の幅は、１．８ｍｍ程度であったことから、第１および第２のガラス固化層は、熱処理後にも、水平方向にあまり広がっていないことが確認された。

（実施例５）
実施例１と同様の方法により、複層ガラスを作製し、シール部材におけるガラス固化層の広がり状態を評価した。

ただし、この実施例５では、金属部材として、両表面に、図１６に示す形態の島状パターンを有するアルミ箔（厚さ５０μｍ）を使用した。

図１６に示すように、この金属部材の島状パターンでは、島部は、２次元的に規則的に配列されており、各島部は、凸部で構成され、平面視略菱形の形状を有し、最大長さＬ_ｍａｘは、２０００μｍである。島部の最小ピッチは２７００μｍであり、最大ピッチは３７００μｍであり、平均ピッチは３２００μｍである。また、凹凸差Ｈは、いずれの島部においても約２２３μｍである（従って、Ｈ_ｍａｘ＝２２３μｍ）。また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比は、０．０７０である。その他の条件は、実施例１と同様である。

作製後の複層ガラスの第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、最大でも２．３ｍｍ程度であった。熱処理前の第１および第２のガラス固化層の幅は、１．８ｍｍ程度であったことから、第１および第２のガラス固化層は、熱処理後にも、水平方向にあまり広がっていないことが確認された。

（実施例６）
実施例１と同様の方法により、複層ガラスを作製し、シール部材におけるガラス固化層の広がり状態を評価した。

ただし、この実施例６では、金属部材として、両表面に、図１７に示す形態の島状パターンを有するアルミ箔を使用した。

図１７に示すように、この金属部材の島状パターンでは、島部は、不規則に配列されており、各島部は、凸状に構成される。島部の最大長さＬ_ｍａｘは、２１０００μｍである。島部の最小ピッチは２０００μｍであり、最大ピッチは２４０００μｍであり、平均ピッチは１３０００μｍである。また、凹凸差Ｈは、いずれの島部においても約２５６μｍである（従って、Ｈ_ｍａｘ＝２５６μｍ）。また、最大凹凸差Ｈ_ｍａｘ／平均ピッチの比は、０．０２０である。その他の条件は、実施例１と同様である。

作製後の複層ガラスの第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、最大８．６ｍｍ程度であった。熱処理前の第１および第２のガラス固化層の幅は、１．８ｍｍ程度であったことから、実施例６で使用した金属部材による第１および第２のガラス固化層の広がりの抑制効果は、他の実施例ほど顕著ではないことがわかった。

しかしながら、後述の比較例１の結果に比べると、第１および第２のガラス固化層の広がりは、有意に抑制されていることが確認された。

（比較例１）
実施例１と同様の方法により、複層ガラスを作製し、シール部材におけるガラス固化層の広がり状態を評価した。

ただし、この比較例１では、金属部材として、両表面に島状パターンを有さない、すなわち平滑な表面のアルミ箔を使用した。アルミ箔の厚さは、５０μｍである。その他の条件は、実施例１と同様である。

作製後の複層ガラスの第１および第２のガラス固化層の幅を観察した。その結果、第１および第２のガラス固化層の幅は、約９．８ｍｍであった。熱処理前の第１および第２のガラス固化層の幅は、１．５ｍｍ程度であったことから、第１および第２のガラス固化層は、熱処理後によって、水平方向に大きく広がる傾向にあることが確認された。

以下の表３には、実施例１〜実施例６および比較例１において使用した金属部材の仕様、および加熱処理前後のガラス固化層の幅の値等をまとめて示した。

以上のように、接合層と接する表面部分に、島状のパターンを有する金属部材を使用することにより、製造後の複層ガラスのシール部材における接合層の広がりを、有意に抑制できることがわかった。

本発明は、建築物の窓ガラス等に使用される真空複層ガラス等に利用することができる。

１ 真空複層ガラス
２、１１０、３１０、４１０、５１０ 第１のガラス基板
３、１２０、３２０、４２０、５２０ 第２のガラス基板
５、１９０ スペーサ
６、１３０、３３０、４３０、５３０ 間隙部
２５ 第１のガラスフリット
２６ 第２のガラスフリット
７０、１５０、３５０、４５０、５５０ シール部材
７１ Ｕ字型金属部材
１００ 第１の真空複層ガラス
１１２ 第１の内表面
１１４、３１４、４１４ 第１の外表面
１２２、３２２ 第２の内表面
１２４、４２４ 第２の外表面
１５５、３５５、４５５、５５５ 金属部材
１６０、３６０、４６０、５６０ 第１の接合層
１６５、３６５、４６５、５６５ 第２の接合層
１７０、３７０、４７０、５７０ 第３の表面
１７２ 第４の表面
１７５、３７５、４７５、５７５ 第１の接触領域
１７７、３７７、４７７、５７７ 第２の接触領域
２００ 第１の島状パターン
２１０、２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃ、２６０、２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄ 島部
２２０、２７０ 隔離部
２５０ 第２の島状パターン
２５１ 第３の島状パターン
３００ 第２の真空複層ガラス
４００ 第３の真空複層ガラス
５００ 第４の真空複層ガラス
５１６、５２６ 端面

Claims (15)

1. 相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を備える複層ガラスであって、
   前記間隙部は、当該複層ガラスの周囲でシール部材によって密閉され、
   前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、当該複層ガラスの周囲に沿った環状を有する金属部材と、第１の接合層と、第２の接合層とを有し、
   前記金属部材は、前記第１の接合層と接触する第１の接触領域と、前記第２の接合層と接触する第２の接触領域とを有し、
   前記第１の接合層は、前記第１のガラス基板の周囲に形成され、前記第１の接触領域に結合され、
   前記第２の接合層は、前記第２のガラス基板の周囲に形成され、前記第２の接触領域に結合され、
   前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域には、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されていることを特徴とする複層ガラス。
2. 前記複数の島部は、少なくとも異なる２つの方向に配列される請求項１に記載の複層ガラス。
3. 前記複数の島部は、３００μｍ以上２４０００μｍ以下のピッチで配列される請求項１または２に記載の複層ガラス。
4. 前記島状パターンは、前記複数の島部が、周期構造を有する請求項１から３のいずれかに記載の複層ガラス。
5. 前記複数の島部は、１０μｍ以上２１０００μｍ以下の最大長さＬ_ｍａｘを有する請求項１から４のいずれかに記載の複層ガラス。
6. 前記複数の島部は、１０μｍ以上３００μｍ以下の最大凹凸差Ｈ_ｍａｘを有する請求項１から５のいずれかに記載の複層ガラス。
7. 前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の端面よりも内側に配置される請求項１から６のいずれかに記載の複層ガラス。
8. 前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、
   前記第１の接触領域と前記第２の接触領域とは、いずれも前記第３の表面側に配置される請求項１から７のいずれかに記載の複層ガラス。
9. 前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、
   前記第１の接触領域と第２の接触領域とは、それぞれ、前記第３の表面と前記第４の表面側とに配置される請求項１から７のいずれかに記載の複層ガラス。
10. 前記金属部材は、金属板または金属箔であり、アルミニウムおよび／または銅を含む請求項１から９のいずれかに記載の複層ガラス。
11. 前記第１の接合層および／または前記第２の接合層は、ガラス固化層を有する請求項１から１０のいずれかに記載の複層ガラス。
12. 前記金属部材は、接合部のない一体品で構成される請求項１から１１のいずれかに記載の複層ガラス。
13. 第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を備える複層ガラスの製造方法であって、
    前記第１のガラス基板の周囲に第１の接合層を、前記第２のガラス基板の周囲に第２の接合層を形成するステップと、
    前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状を有する環状の金属部材を準備するステップと、
    前記第１の接合層および前記第２の接合層が、それぞれ、前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域と接するよう金属部材を組み合わせて、第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層し、組立体を構成するステップと
    前記組立体の少なくとも前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱して、前記第１の接合層および前記第２の接合層と前記金属部材とを結合させるステップと、
    を有し、
    前記金属部材を準備するステップは、前記第１の接触領域および前記第２の接触領域に凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成された前記金属部材を準備するステップであることを特徴とする複層ガラスの製造方法。
14. 前記結合させるステップは、前記組立体を厚さ方向に圧力を加えながら前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱するステップを有する請求項１３に記載の複層ガラスの製造方法。
15. 前記第１の接合層および／または前記第２の接合層は、ガラス固化層を有する請求項１３または１４に記載の複層ガラスの製造方法。