JP2016110675A - スピンドルモータ、ディスク駆動装置、および、スピンドルモータのベースユニットの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ディスク駆動装置において、アクセス部の回動中心である中心軸の歪みを低減する技術を提供する。【解決手段】スピンドルモータのベースユニットの製造方法は、支柱取付部を有するベースプレートを形成する工程Ｓ１０１と、支柱取付部を貫通する孔部に支柱を取り付ける工程と、支柱取付部の傾きを測定する工程Ｓ１０４と、当該傾きからレーザ光の照射範囲及び照射出力を算出する工程Ｓ１０５と、支柱取付部にレーザ光を照射する工程Ｓ１０６と、支柱取付部の傾きを再度測定する工程Ｓ１０７と、を有する。ベースプレートは、金属のプレス加工、鋳造又は鍛造により形成される。支柱は、かしめ、圧入又は溶接により孔部に取り付けられる。【選択図】図５

Description

本発明は、スピンドルモータ、ディスク駆動装置、および、スピンドルモータのベースユニットの製造方法に関する。

ハードディスク装置および光ディスク装置等のディスク駆動装置には、ディスクをその回転軸を中心として回転させるためのスピンドルモータと、ディスクに対してデータを書き込みまたは読み出しするためのヘッド部を有するアクセス部とを有する。スピンドルモータおよびヘッド部を有するディスク駆動装置は、例えば、特開２００９−１５９７０１号公報に記載されている。

特開２００９−１５９７０１号公報のディスク駆動装置では、アクセス部が、ヘッド部およびアーム（キャリッジ部）を有する。キャリッジ部は、円柱状の回転軸に回動自在に支持されており、その先端にヘッド部が備えられている（段落００３６、図１，２）。
特開２００９−１５９７０１号公報

このようなディスク駆動装置では、アクセス部のアームの回動軸は、ディスクに対して直交する方向に配置される。一方、ヘッド部はアームの先端に備えられる。このため、アームの回動軸が歪むと、ヘッド部とディスクとの距離が、データの書き込みまたは読み出しを行うのに適切でない距離となる虞がある。

本発明の目的は、ディスク駆動装置において、アクセス部の回動中心である中心軸の歪みを低減する技術を提供することである。

本願の例示的な第１発明は、スピンドルモータの電機子が固定されるベースユニットの製造方法であって、ａ）金属のプレス加工、鋳造、または鍛造により、板状の支柱取付部と前記支柱取付部を貫通する孔部とを有するベースプレートを形成する工程と、ｂ）前記工程ａ）の後において、中心軸に沿って延びる略円柱状の支柱をかしめ、圧入または溶接により前記孔部に取り付ける工程と、ｃ）前記工程ｂ）の後において、前記ベースプレートの基準面に対する前記支柱取付部の平面の傾きを測定する工程と、ｄ）前記工程ｃ）の後において、前記傾きからレーザ光の照射範囲および照射出力を算出する工程と、ｅ）前記工程ｄ）の後において、前記照射範囲および前記照射出力に基づいて前記支柱取付部に前記レーザ光を照射する工程と、ｆ）前記工程ｅ）の後において、前記ベースプレートの基準面に対する前記支柱取付部の前記平面の傾きを測定する工程と、を有する、ベースユニットの製造方法である。

本願の例示的な第１発明によれば、支柱の歪みを低減できる。したがって、アクセス部の回動中心である中心軸の歪みを低減できる。

図１は、第１実施形態に係るディスク駆動装置の縦断面図である。 図２は、第１実施形態に係るベースプレートの上面図である。 図３は、第１実施形態に係るディスク駆動装置において、カバーを取り外した状態の上面図である。 図４は、第１実施形態に係るディスク駆動装置の部分縦断面図である。 図５は、第１実施形態に係るベースユニットの製造工程の一部の流れを示したフローチャートである。 図６は、第１実施形態に係るベースプレートの部分下面図である。 図７は、第１実施形態に係るベースプレートおよび支柱の、レーザ光照射の前後における部分断面図である。

以下、本発明の例示的な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本願では、スピンドルモータの回転軸と平行な方向を「軸方向」、スピンドルモータの回転軸に直交する方向を「径方向」、スピンドルモータの回転軸を中心とする円弧に沿う方向を「周方向」、とそれぞれ称する。また、本願では、軸方向を上下方向とし、ベース部に対してステータ側を上として、各部の形状および位置関係を説明する。ただし、この上下方向の定義により、本発明に係るスピンドルモータ、およびディスク駆動装置の使用時の向きを限定する意図はない。

＜１．第１実施形態＞
＜１−１．ディスク駆動装置の構成＞
図１は、第１実施形態に係るディスク駆動装置１の縦断面図である。図２は、ベースプレート１２の上面図である。図３は、カバー１３を取り外したディスク駆動装置１の上面図である。

ディスク駆動装置１は、磁気ディスク１４（以下、単に「ディスク１４」という）を回転させ、ディスク１４に対して情報の読み出しおよび書き込みを行う装置である。図１に示したように、ディスク駆動装置１は、スピンドルモータ１１、ベースプレート１２、カバー１３、ディスク１４、およびアクセス部１５を備える。

スピンドルモータ１１は、ディスク１４を支持しながら、回転軸９０を中心としてディスク１４を回転させる。スピンドルモータ１１は、ベース部２１を有する静止部２と、回転部３とを有する。ベース部２１は、ベースプレート１２の一部であり、ベースプレートの他の部位と一繋がりの部材で形成される。

ベースプレート１２は、底部１２１と、壁部１２２とを有する。底部１２１は、回転軸９０に直交する方向に拡がる。底部１２１は、ベース部２１と、ディスク配置部４１と、支柱取付部４２とを有する。ベース部２１は、前述の通り、スピンドルモータ１１の一部である。ディスク配置部４１は、ベース部から径方向外側に拡がる。図１および図３に示すように、ディスク１４がディスク駆動装置１内に収容されると、ディスク配置部４１の上方にディスク１４が配置される。支柱取付部４２は、ディスク配置部４１の径方向外側に配置される略円板状の部位である。支柱取付部４２には、アクセス部１５の後述するアーム１５１が取り付けられる。

壁部１２２は、ディスク１４およびアクセス部１５より径方向外側に位置し、底部１２１の外周部から上方へ延びる。また、壁部１２２は、底部１２１を囲む。図１に示すように、ベースプレート１２は、上部に開口１２３を有する。壁部１２２の上端面は、回転軸９０に対して垂直に、かつ、平らに拡がる。壁部１２２の上端面は、スピンドルモータ１１、ベースプレート１２およびアクセス部１５からなるベースユニット１０の高さの基準となる基準面１２０となっている。

本実施形態のベースプレート１２は、プレス加工により圧延鋼を成形した母材の表面を、無電界ニッケルめっきで覆ったものである。なお、ベースプレート１２は、例えば、鋳造または鍛造によりアルミニウムを成形した母材の表面を、樹脂コーティングで覆ったものであってもよい。また、ベースプレート１２は、上記以外の金属材料により形成されてもよいし、上記以外の工法により作製されてもよい。

カバー１３は、ベースプレート１２の開口１２３を覆う。すなわち、カバー１３は、ベースプレート１２の上部を閉塞する。ベースプレート１２と、カバー１３とは、筐体を構成する。当該筐体の内部には、スピンドルモータ１１の回転部３、ディスク１４、およびアクセス部１５が、収容される。

ディスク１４は、スピンドルモータ１１の回転部３に支持される。ディスク１４は、スピンドルモータ１１が駆動すると、回転部３とともに回転する。

アクセス部１５は、アーム１５１と、ヘッド部１５２とを有する。アーム１５１は、支柱取付部４２に取り付けられる支柱４３を中心として回動することにより、ヘッド部１５２をディスク１４の記録面に沿って移動させる。ヘッド部１５２は、ディスク１４に対する情報の読み出しおよび書き込みを行う。なお、ヘッド部１５２は、ディスク１４に対して情報の読み出しおよび書き込みのいずれか一方のみを行うものであってもよい。アクセス部１５のベースプレート１２に対する取り付けについては、後述する。

なお、ディスク駆動装置１は、２枚以上のディスク１４を有するものであってもよい。

＜１−２．スピンドルモータの構成＞
次に、上記のスピンドルモータ１１の構成について説明する。図１に示したように、スピンドルモータ１１は、ディスク駆動装置１のベースプレート１２に対して相対的に静止した静止部２と、ディスク１４を支持しながら回転軸９０を中心として回転する回転部３とを備える。

本実施形態の静止部２は、ベース部２１、ステータ２２、および軸受ユニット２３を有する。

ベース部２１は、回転部３、ディスク１４、およびアクセス部１５の下側において、回転軸９０に対して直交する方向に拡がっている。また、前述の通り、ベース部２１は、ベースプレート１２の底部１２１の一部である。

ステータ２２は、ステータコア５１と、複数のコイル５２とを有する。ステータコア５１および複数のコイル５２は、ベース部２１の上方に位置する。ステータコア５１は、円環状のコアバック５１１と、複数のティース５１２とを有する。コアバック５１１の内周面は、ベース部２１に固定されている。これにより、ステータ２２は、ベースプレート１２に固定されている。各ティース５１２は、コアバック５１１から径方向外側へ向けて、突出する。コイル５２は、各ティース５１２の周囲に巻かれた導線により、構成される。

軸受ユニット２３は、後述するシャフト３１の下端部付近を収容し、かつ、シャフト３１の下端面を覆う。すなわち軸受ユニット２３は、有底円筒状である。また、軸受ユニット２３は、ベース部２１の径方向内側に収容され、ベース部２１に固定される。なお、軸受ユニット２３は、図１のように複数の部材で構成されてもよく、単一の部材で構成されてもよい。

回転部３は、シャフト３１、ハブ３２、およびマグネット３３を有する。

シャフト３１は、軸方向に延びる柱状の部材である。シャフト３１の材料には、例えば、ステンレス鋼等の金属が使用される。前述した通り、シャフト３１の下端部は、軸受ユニット２３の内部に収容される。

ハブ３２は、シャフト３１の上端部の周縁部から、径方向外側へ向けて、拡がる。ハブ３２は、外縁部にディスク載置部３２１を有する。そして、図１に示すように、ディスク１４は、ディスク載置部３２１に載置され、クランパ（図示せず）により、ハブ３２に固定される。

シャフト３１およびハブ３２と、軸受ユニット２３との間には、潤滑流体が介在する。潤滑流体には、例えば、潤滑油が使用される。シャフト３１は、軸受ユニット２３に対して、潤滑流体を介して、回転可能に支持されている。これにより、回転部３は、回転軸９０を中心として回転する。

マグネット３３は、ステータ２２の径方向外側において、ハブ３２に固定される。

このようなスピンドルモータ１１において、コイル５２に駆動電流が供給されると、複数のティース５１２に磁束が生じる。そして、ティース５１２とマグネット３３との間の磁束の相互作用により、周方向のトルクが発生する。その結果、静止部２に対して回転部３が、回転軸９０を中心として回転する。そして、ハブ３２に支持されたディスク１４は、回転部３とともに、回転軸９０を中心として回転する。

＜１−３．アクセス部のベースプレートへの取り付けについて＞
続いて、アクセス部１５のベースプレート１２への取り付け部分の構造について、図４を参照しながら説明する。図４は、ディスク駆動装置１の部分断面図である。

ベースプレート１２の支柱取付部４２は、基準面１２０に対して略平行に拡がる板状の部位である。支柱取付部４２の略中央には、支柱取付部４２を上下に貫通する孔部４２１が設けられる。孔部４２１には、支柱４３が取り付けられる。

支柱４３は、支柱取付部の上面側に取り付けられる略円柱状の部材である。支柱４３は、アクセス部１５の回動中心である中心軸９１に沿って、軸方向に延びる。すなわち、アクセス部１５は、支柱４３を中心として回動する。また、支柱４３の中央には、上下に延びる貫通孔が設けられる。

支柱４３は、孔部４２１にかしめにより取り付けられる。具体的には、支柱４３の下端部が塑性変形することによって、支柱取付部４２の下面に接触する。これにより、図４に示すように、支柱４３の下端部に、支柱取付部４２の下面に沿うかしめ部４３１が形成される。なお、支柱４３は、圧入または溶接により孔部４２１に取り付けられてもよい。一方、支柱４３の上端部は、例えばねじ止めによって、カバー１３に固定される。

支柱４３の外周面には、ピボットアセンブリ６が取り付けられる。ピボットアセンブリ６は、内側円筒部６１、外側円筒部６２および軸受部６３を有する。内側円筒部６１および外側円筒部６２は、略円筒形状の部材である。内側円筒部６１の内周面は、支柱４３の外周面に固定される。外側円筒部６２の内周面は、軸受部６３を介して内側円筒部６１の外周面に回動可能に取り付けられる。また、外側円筒部６２の外周面には、アクセス部１５のアーム１５１が固定されている。

軸受部６３は、外側円筒部６２を介してアクセス部１５を回転可能に支持している。本実施形態の軸受部６３には、球体を介して外輪と内輪とを回転させるボールベアリングが、使用されている。ただし、ボールベアリングに代えて、すべり軸受または流体軸受等の他方式の軸受が、使用されてもよい。

このように、アクセス部１５は、ピボットアセンブリ６を介して、支柱４３に回動可能に取り付けられている。そのため、支柱４３の延びる方向がスピンドルモータ１１に対して歪んだ場合、アクセス部１５の回動中心となる中心軸９１が、スピンドルモータ１１の回転軸９０に対して歪む。したがって、スピンドルモータ１１が支持するディスク１４とアクセス部１５のヘッド部１５２との位置関係がずれる虞がある。特に、本実施形態では、支柱４３の長さよりもアーム１５の長さの方が、十分に長い。このため、支柱４３の傾きによって、ヘッド部１５２の位置が大きくずれる。このため、ベースユニット１０の製造工程において、基準面１２０に対する支柱取付部４２の平行度を向上させる必要がある。

＜１−４．ベースユニットの製造方法について＞
ベースユニット１０の製造方法について、図５を参照しながら説明する。図５は、ベースユニット１０の製造工程の一部の流れを示したフローチャートである。図６は、支柱取付部４２の下面図である。図７は、レーザ光照射の前後におけるベースプレート１２および支柱４３の部分縦断面図である。なお、図７においては、レーザ光の照射前の様子が実線で、レーザ光の照射後の様子が二点鎖線で示されている。

ベースユニット１０の製造工程では、まず、ベースプレート１２の母材を形成する（ステップＳ１０１）。具体的には、本実施形態では、圧延鋼をプレス加工することにより、ベースプレート１２の母材を形成する。なお、ベースプレート１２の母材は、鋳造または鍛造により成形されてもよいし、アルミニウム等の他の金属により形成されてもよい。

次に、ベースプレート１２の母材に無電解ニッケルめっきを施す（ステップＳ１０２）。これにより、ベースプレート１２の表面にめっき層が形成される。その結果、ベースプレート１２に錆が発生するのが抑制される。ステップＳ１０１〜Ｓ１０２で形成されたベースプレート１２は、支柱取付部４２と、支柱取付部４２を貫通する孔部４２１とを有する。

その後、支柱取付部４２に対して支柱４３を取り付ける（ステップＳ１０３）。本実施形態では、前述の通り、かしめにより支柱４３の取付を行う。このとき、かしめ工程において支柱取付部４２にかかる応力により、支柱取付部４２の基準面１２０に対する平行度が悪化する場合がある。支柱取付部４２の基準面１２０に対する角度が大きいと、アーム１５１の回動中心である中心軸９１が歪んでしまう。そのため、以後のステップＳ１０４〜Ｓ１０７により、支柱取付部４２の基準面１２０に対する平行度を向上させる。

なお、支柱４３は、支柱取付部４２に対して圧入または溶接により取り付けられてもよい。それらの場合であっても、圧入工程または溶接工程において支柱取付部４２にかかる応力により、支柱取付部４２の基準面１２０に対する平行度が悪化する場合がある。

ステップＳ１０３の後で、支柱取付部４２の基準面１２０に対する傾きを測定する（ステップＳ１０４）。具体的には、支柱取付部４２の上面４２２について、基準面１２０に対する傾きを測定する。

ステップＳ１０４では、まず、ベースプレート１２の基準面１２０のうち、複数の基準点Ｐ１における軸方向の高さが測定される。基準点Ｐ１は、例えば、図２に示すように、ベースプレート１２の基準面１２０の四隅に設定される。そして、基準点Ｐ１のそれぞれの高さから、基準面１２０と略一致する基準平面Ｈ１（図７参照）が計算により求められる。なお、本実施形態では、４箇所の基準点Ｐ１を設けたが、基準点Ｐ１は３箇所であってもよいし、５箇所以上であってもよい。

一方、支柱取付部４２の上面４２２について、図２中に示す３箇所の計測点Ｐ２における軸方向の高さが測定される。すなわち、３箇所の計測点Ｐ２に対して基準面１２０からの高さが測定される。そして、計測点Ｐ２のそれぞれの高さから、上面４２２の拡がる方向を示す計測平面Ｈ２（図７参照）が計算により求められる。本実施形態の計測点Ｐ２は、中心軸９１から同一円周上に位置する上面４２２の３箇所である。これにより、効率よく、かつ、精度良く計測平面Ｈ２を求めることができる。

そして、求められた基準平面Ｈ１および計測平面Ｈ２から、基準面１２０に対して上面４２２が下向きに傾く方向（以下、「下傾方向」と称する）が算出される。図６には、中心軸９１から下傾方向に延びる線分である最下傾線分Ｌが示されている。最下傾線分Ｌは、すなわち、中心軸９１と、下面４２３の縁部４２５とを結ぶ線分のうち、基準面１２０に対して最も下方に傾く線分である。

続いて、レーザ光の照射範囲および照射出力が算出される（ステップＳ１０５）。本実施形態では、後述するステップＳ１０６において、下面４２３に対してレーザ光を照射する。下面４２３にレーザ光を照射すると、支柱取付部４２の下面４２３側が熱収縮する。その結果、支柱取付部４２のうちレーザ光の照射範囲付近が上方へ向かって変形する。

そのため、レーザ光の照射範囲は、最下傾線分Ｌと重なる位置に設定される。これにより、支柱取付部４２のうち基準面１２０に対する高さが低い部分にレーザ光が照射され、支柱取付部４２の基準面１２０に対する平行度が向上する。

また、レーザ光の照射範囲の面積および照射出力は、基準平面Ｈ１と計測平面Ｈ２とがなす角度、すなわち、支柱取付部４２の傾きにより算出される。本実施形態では、レーザ光の照射範囲の面積は、支柱取付部４２の傾きに拘わらず一定とする。また、算出されるレーザの照射出力は、支柱取付部４２の傾きが大きいほど大きくなるように設定する。

なお、レーザ光の照射出力を一定とし、支柱取付部４２の傾きによってレーザ光の照射範囲の面積を変更してもよい。その場合、支柱取付部４２の傾きが大きいほど、算出されるレーザ光の照射範囲が広くなるように設定される。また、支柱取付部４２の傾きによって、レーザ光の照射範囲の面積および照射出力の双方を変更してもよい。

そして、ステップＳ１０５で算出された照射範囲および照射出力に基づいて、図７中白抜き矢印で示すように、支柱取付部４２の下面４２３に対してレーザ光が照射される（ステップＳ１０６）。これにより、支柱取付部４２が熱収縮し、支柱取付部４２のうちレーザ光の照射範囲付近が上方へ向かって変形する。これにより、図７に示すように、支柱４３の歪みが修正される。その結果、ディスク駆動装置１における支柱４３の歪みが低減される。

また、図４、図６、および図７に示すように、レーザ光の照射により、支柱取付部４２の下面４２３に、上方に向かって凹む溶融痕４２４が形成される。溶融痕４２４は、レーザ光の照射範囲に形成される。

ここで、前述の通り、ベースプレート１２はその母材がめっき層により覆われている。ステップＳ１０６において支柱取付部４２の下面４２３にレーザ光が照射されると、当該めっき層が溶融する。このとき、レーザ光の照射出力は、溶融痕４２４においてベースプレート１２の母材が露出しない出力量に設定されることが好ましい。そうすれば、ベースプレート１２に錆が生じるのを抑制できる。

図６に示すように、溶融痕４２４は、中心軸９１を中心として円弧状に配置されている。すなわち、レーザ光の照射範囲は、中心軸９１を中心とする円弧状の領域である。このように、支柱４３の周囲の一部分に、円弧状にレーザ光を照射することにより、支柱取付部４２の平面度の悪化を抑制しながら、支柱取付部４２を効率良く変形できる。

溶融痕４２４の中央付近は、最下傾線分Ｌと重なる。すなわち、レーザ光の照射範囲は、最下傾線分Ｌ上の点を中心として配置されている。これにより、支柱取付部４２の傾きを適切に修正できる。したがって、基準面１２０に対する支柱取付部４２の平行度を向上できる。すなわち、支柱４３の歪みをより低減できる。

また、図６の例では、溶融痕４２４の中心軸９１からの中心角は、約９０°である。このように、レーザ光の照射範囲は、中心角が６０°以上１２０°以下であることが好ましい。中心角を６０°以上１２０°以下とすることにより、支柱取付部４２のうち、傾斜した中心軸９１よりも上方に位置する部分の変形を抑制し、かつ、傾斜した中心軸９１よりも下方に位置する部分を効率よく上方へと変形できる。

溶融痕４２４は、支柱４３の外周面よりも径方向外側に配置される。すなわち、レーザ光の照射範囲は、支柱４３よりも径方向外側である。支柱取付部４２のうち、支柱４３と軸方向に重なる部分にレーザ光を照射すると、支柱取付部４２と支柱４３との取付精度が低下する虞がある。また、支柱取付部４２のうち、支柱４３と軸方向に重なる部分は、レーザ光が照射されたとしても変形しにくい。そのため、このように、支柱４３よりも径方向外側にレーザ光を照射することが好ましい。

ステップＳ１０６が終了した後で、再度、支柱取付部４２の基準面１２０に対する傾きを測定する（ステップＳ１０７）。ステップＳ１０７における具体的な手順は、ステップＳ１０４と同様である。ステップＳ１０７において、支柱取付部４２の基準面１２０に対する傾きが、製品としての許容範囲に含まれない場合、再度レーザ光の照射を行ってもよいし、規格外製品として処分してもよい。

上記ステップＳ１０１〜Ｓ１０７に示すように、ベースユニット１０の製造工程において、ベースプレート１２に対する支柱４３の取付と、支柱取付部４２の傾きの修正とを行う。これにより、支柱４３の歪みを低減できる。すなわち、アクセス部１５の回動中心である中心軸９１の歪みを低減できる。

なお、ベースユニット１０の製造工程において、ベースプレート１２に対してステータ２２および軸受ユニット２３の取付を行うのは、ステップＳ１０２とステップＳ１０３との間であってもよいし、ステップＳ１０７の後であってもよい。

＜２．変形例＞
以上、本発明の例示的な実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。

上記の実施形態では、支柱取付部の基準面に対する傾きを算出するために、支柱取付部の上面の３箇所の高さを測定したが、本発明はこの限りではない。支柱取付部の下面の３箇所の高さを測定し、当該高さに基づいて、支柱取付部の基準面に対する傾きを算出してもよい。なお、この場合、支柱取付部の下面において、高さの測定箇所と、レーザ光の照射範囲とが重ならないことが望ましい。

また、上記の実施形態では、支柱取付部の下面にレーザ光を照射したが、本発明はこの限りではない。例えば、支柱取付部の上面にレーザ光を照射することによって、支柱取付部の傾きを補正してもよい。

また、各部材の細部の形状については、本願の各図に示された形状と、相違してもよい。また、上記の実施形態に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。

本発明は、スピンドルモータ、ディスク駆動装置、および、スピンドルモータのベースユニットの製造方法に利用できる。

１ ディスク駆動装置
６ ピボットアセンブリ
１０ ベースユニット
１１ スピンドルモータ
１２ ベースプレート
１５ アクセス部
２１ ベース部
２２ ステータ
２３ 軸受ユニット
４２ 支柱取付部
４３ 支柱
９０ 回転軸
９１ 中心軸
１２０ 基準面
１５１ アーム
１５２ ヘッド部
４２１ 孔部
４２２ 上面
４２３ 下面
４２４ 溶融痕
４３１ かしめ部
Ｈ１ 基準平面
Ｈ２ 計測平面
Ｌ 最下傾線分
Ｐ１ 基準点
Ｐ２ 計測点

Claims (15)

1. スピンドルモータの電機子が固定されるベースユニットの製造方法であって、
   ａ）金属のプレス加工、鋳造、または鍛造により、板状の支柱取付部と前記支柱取付部を貫通する孔部とを有するベースプレートを形成する工程と、
   ｂ）前記工程ａ）の後において、中心軸に沿って延びる略円柱状の支柱をかしめ、圧入または溶接により前記孔部に取り付ける工程と、
   ｃ）前記工程ｂ）の後において、前記ベースプレートの基準面に対する前記支柱取付部の平面の傾きを測定する工程と、
   ｄ）前記工程ｃ）の後において、前記傾きからレーザ光の照射範囲および照射出力を算出する工程と、
   ｅ）前記工程ｄ）の後において、前記照射範囲および前記照射出力に基づいて前記支柱取付部にレーザ光を照射する工程と、
   ｆ）前記工程ｅ）の後において、前記ベースプレートの基準面に対する前記支柱取付部の前記平面の傾きを測定する工程と、
   を有する、ベースユニットの製造方法。
2. 請求項１に記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記工程ｃ）において、前記中心軸から同一円周上に位置する前記平面の３箇所に対して前記基準面からの高さを測定することにより、前記平面の前記基準面に対する傾きを測定する、ベースユニットの製造方法。
3. 請求項１または請求項２に記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記工程ｂ）において、前記支柱は、前記支柱取付部の上面側に取り付けられ、
   前記工程ｅ）において、前記支柱取付部の下面にレーザ光が照射される、ベースユニットの製造方法。
4. 請求項３に記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記照射範囲は、前記中心軸と前記平面の縁部とを結ぶ線分のうち前記基準面に対して最も下方に傾く線分と重なる位置に配置される、ベースユニットの製造方法。
5. 請求項３または請求項４に記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記照射範囲は、前記支柱よりも径方向外側である、ベースユニットの製造方法。
6. 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記支柱取付部は、略円板状であり、
   前記照射範囲は、前記中心軸を中心とする円弧状の領域である、ベースユニットの製造方法。
7. 請求項６に記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記照射範囲は、中心角が６０°以上１２０°以下の円弧状の領域である、ベースユニットの製造方法。
8. 請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のベースユニットの製造方法であって、
   前記工程ｄ）において、前記傾きが大きいほど算出される前記照射出力が大きい、ベースユニットの製造方法。
9. 電機子と、前記電機子が固定されるベースプレートとを有する静止部と、
   マグネットを有し、前記静止部に対して回転軸を中心として回転する回転部と、
   を有し、
   前記ベースプレートは、プレス加工、鋳造、または鍛造により成形され、
   前記ベースプレートは、
   平らに拡がる基準面と、
   前記基準面に対して略平行に拡がる板状の支柱取付部と、
   前記支柱取付部を貫通する孔部と、
   を有し、
   前記孔部に、中心軸に沿って延びる略円柱状の支柱がかしめ、圧入または溶接により取り付けられ、
   前記支柱取付部は、前記支柱の周囲の少なくとも一部分に溶融痕を有する、スピンドルモータ。
10. 請求項９に記載のスピンドルモータであって、
    前記電機子および前記支柱は、ともに、前記ベースプレートの上面側に配置され、
    前記溶融痕は、前記ベースプレートの下面に配置される、スピンドルモータ。
11. 請求項９または請求項１０に記載のスピンドルモータであって、
    前記支柱取付部は、略円板状であり、
    前記溶融痕は、前記中心軸を中心とする円弧状である、スピンドルモータ。
12. 請求項９ないし請求項１１のいずれかに記載のスピンドルモータであって、
    前記溶融痕は、前記支柱の径方向外側に配置される、スピンドルモータ。
13. 請求項９ないし請求項１２のいずれかに記載のスピンドルモータであって、
    前記ベースプレートは、圧延鋼をプレス加工することにより成形され、
    前記ベースプレートの表面は、無電界ニッケルめっきにより覆われる、スピンドルモータ。
14. 請求項９ないし請求項１２のいずれかに記載のスピンドルモータであって、
    前記ベースプレートは、アルミニウムの鋳造または鍛造により成形され、
    前記ベースプレートの表面は、樹脂コーティングにより覆われる、スピンドルモータ。
15. 請求項９ないし請求項１４のいずれかに記載のスピンドルモータと、
    前記スピンドルモータの前記回転部に支持されたディスクに対し、情報の読み出しおよび書き込みの少なくとも一方を行うヘッド部と、
    カバーと、
    を備え、
    前記ヘッド部は、前記支柱を中心として回動し、
    前記ベースプレートと前記カバーとで構成される筐体の内部に、前記回転部および前記ヘッド部が収容されているディスク駆動装置。

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