JP2016109472A - Magnetic sensor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the effects on output voltage waveform of the shapes and pitches of irregular parts of a magnetic substance and realize low manufacturing costs in a magnetic sensor for detecting the movement of a magnetic substance.SOLUTION: A magnetic sensor includes GMR elements 22a-22d of magnetic field intensity detection type that are configured the same way and bridge-connected, and a bias magnet 30 for applying a bias magnetic field to the GMR elements 22a-22d, the magnetometric sensor detecting the rotation of a toothed wheel 40 that is a magnetic substance. The GMR elements 22a, 22c and the GMR elements 22b, 22d are arranged within the same plane separately by a prescribed interval. The bias magnet 30 is arranged so that bias magnetic fields facing opposite in directions inclined by a prescribed angle with respect to a direction orthogonal to a line linking the centers of the GMR elements 22a, 22c and MGR elements 22b, 22d within the plane and being equal in intensity are applied to GMR elements 22a, 22c and GMR elements 22b, 22d.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、磁性体の移動を検出する磁気センサに関する。   The present invention relates to a magnetic sensor that detects movement of a magnetic material.

従来から、同一に構成されてブリッジ接続された一対のGMR素子と、一対のGMR素子に対してバイアス磁界を印加するバイアス磁石とを備え、磁性体の移動を検出する磁気センサは知られている。例えば、下記特許文献1には、同一平面内に一対のGMR素子を配置し、前記平面内にて一対のGMR素子の中心を結ぶ直線と平行な方向であって反対向きの同じ強度のバイアス磁界が一対のGMR素子に印加されるようにバイアス磁石を配置した磁気センサが示されている。そして、一対のGMR素子を配置した平面が外周面に凹凸を有する磁性体(歯車)の凹凸面に対向し、かつ一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が磁性体の移動方向(歯車の回転方向)になるように、この磁気センサを配置して、磁性体の移動によるGMR素子の抵抗変化に応じた電圧波形をブリッジ接続された一対のGMR素子から出力するようにしている。     2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic sensor is known that includes a pair of GMR elements that are identically configured and bridge-connected, and a bias magnet that applies a bias magnetic field to the pair of GMR elements, and detects the movement of a magnetic material. . For example, in Patent Document 1 below, a pair of GMR elements are arranged in the same plane, and a bias magnetic field having the same intensity in a direction parallel to and opposite to a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements in the plane. A magnetic sensor in which a bias magnet is arranged so that is applied to a pair of GMR elements is shown. The plane on which the pair of GMR elements are arranged is opposed to the uneven surface of the magnetic body (gear) having unevenness on the outer peripheral surface, and the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements is the moving direction of the magnetic body (rotation direction of the gear) The magnetic sensor is arranged so that the voltage waveform corresponding to the resistance change of the GMR element due to the movement of the magnetic material is output from the pair of bridge-connected GMR elements.

また、下記特許文献2には、磁化方向が一方向に固定された強磁性体のピン相と、電流が主として流れる非磁性体を介してピン層に積層された強磁性体のフリー層とからなる一対のSV−GMR素子を用いて、外周面に凹凸を有する磁性体(歯車)の移動を検出する磁気センサが示されている。この磁気センサにおいても、一対のSV−GMR素子はブリッジ接続されていて、磁性体の移動によるSV−GMR素子の抵抗変化に応じた電圧を出力する。ただし、この磁気センサにおいては、一対のSV−GMR素子を同一平面内に配置するとともに、一対のSV−GMR素子の各ピン層の磁化方向を、前記平面内にて一対のSV−GMR素子の中心を結ぶ直線と直交する方向であって互いに反対方向としておき、一対のSV−GMR素子の中心を結ぶ直線と直交する同一方向に同じ強度のバイアス磁界が一対のSV−GMR素子に印加されるようにバイアス磁石を配置している。そして、一対のSV−GMR素子を配置した平面が外周面に凹凸を有する磁性体(歯車)の凹凸面に対向し、かつ一対のSV−GMR素子の中心を結ぶ直線が磁性体の移動方向(歯車の回転方向)と直交する方向になるように、この磁気センサを配置して、磁性体の移動によるGMR素子の抵抗変化に応じた電圧をブリッジ接続された一対のGMR素子から出力するようにしている。   Patent Document 2 listed below includes a pinned phase of a ferromagnetic material whose magnetization direction is fixed in one direction and a free layer of a ferromagnetic material stacked on a pinned layer via a nonmagnetic material through which a current mainly flows. The magnetic sensor which detects the movement of the magnetic body (gear) which has an unevenness | corrugation in an outer peripheral surface is shown using a pair of SV-GMR element which becomes. Also in this magnetic sensor, the pair of SV-GMR elements are bridge-connected, and outputs a voltage corresponding to the resistance change of the SV-GMR element due to the movement of the magnetic material. However, in this magnetic sensor, a pair of SV-GMR elements are arranged in the same plane, and the magnetization direction of each pinned layer of the pair of SV-GMR elements is set within the plane of the pair of SV-GMR elements. The bias magnetic fields having the same intensity are applied to the pair of SV-GMR elements in the same direction perpendicular to the line connecting the centers of the pair of SV-GMR elements, which are orthogonal to the straight line connecting the centers and opposite to each other. A bias magnet is arranged as shown. The plane on which the pair of SV-GMR elements are arranged is opposed to the uneven surface of the magnetic body (gear) having unevenness on the outer peripheral surface, and the straight line connecting the centers of the pair of SV-GMR elements is the moving direction of the magnetic body ( This magnetic sensor is arranged so as to be in a direction orthogonal to the rotation direction of the gear so that a voltage corresponding to a change in resistance of the GMR element due to movement of the magnetic material is output from a pair of bridge-connected GMR elements. ing.

特開平9−329462号公報JP-A-9-329462 特開2005−233795号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-233795

しかしながら、上記特許文献1に記載された磁気センサにあっては、磁性体における凹凸部の形状及びピッチにより、出力電圧波形の振幅が大きく変化するとともに、出力電圧波形に大きな歪みも発生する(すなわち、出力電圧波形が正弦波形から大きくずれる)。したがって、この磁気センサにおいては、磁性体の凹凸部の形状及びピッチに合わせてGMR素子を配置する必要があり、移動が検出される磁性体ごとに磁気センサを用意する必要があるという問題がある。   However, in the magnetic sensor described in Patent Document 1, the amplitude of the output voltage waveform varies greatly depending on the shape and pitch of the concavo-convex portions of the magnetic material, and a large distortion occurs in the output voltage waveform (that is, The output voltage waveform deviates significantly from the sine waveform). Therefore, in this magnetic sensor, it is necessary to arrange the GMR element in accordance with the shape and pitch of the uneven portion of the magnetic material, and there is a problem that it is necessary to prepare a magnetic sensor for each magnetic material whose movement is detected. .

上記特許文献2に記載された磁気センサでは、出力電圧は磁性体の凹凸部のピッチには影響されない。しかし、ピン層の磁化方向が異なる一対のSV−GMR素子を同一平面上に配置するためには、予め用意しておいた一対のSV−GMR素子を基体上(特許文献2ではバイアス磁石上)に配置して固定する必要があり、磁気センサの製造工程が複雑になって磁気センサの製造コストが高くなる。 In the magnetic sensor described in Patent Document 2, the output voltage is not affected by the pitch of the uneven portions of the magnetic material. However, in order to arrange a pair of SV-GMR elements with different magnetization directions of the pinned layer on the same plane, a pair of SV-GMR elements prepared in advance is on the base (in Patent Document 2, on the bias magnet). Therefore, the manufacturing process of the magnetic sensor becomes complicated and the manufacturing cost of the magnetic sensor increases.

本発明は、このような問題に対処するためになされたもので、その目的は、磁性体の凹凸部の形状及びピッチによる出力電圧波形に対する影響を少なくして、低製造コストを実現する磁気センサを提供することにある。なお、下記本発明の各構成要件の記載においては、本発明の理解を容易にするために、実施形態の対応箇所の符号を括弧内に記載しているが、本発明の各構成要件は、実施形態の符号によって示された対応箇所の構成に限定解釈されるべきものではない。   The present invention has been made in order to cope with such a problem, and an object of the present invention is to reduce the influence on the output voltage waveform due to the shape and pitch of the concave and convex portions of the magnetic material and realize a low manufacturing cost. Is to provide. In addition, in the description of each constituent element of the present invention below, in order to facilitate understanding of the present invention, reference numerals of corresponding portions of the embodiment are described in parentheses, but each constituent element of the present invention is The present invention should not be construed as being limited to the configurations of the corresponding portions indicated by the reference numerals of the embodiments.

前述した目的を達成するため、本発明の特徴は、同一に構成されてブリッジ接続された磁界強度検知型の少なくとも一対のGMR素子(22a,22b又は22c,22d)と、一対のGMR素子に対してバイアス磁界を印加するバイアス磁界印加手段(30)とを備え、磁性体の移動を検出する磁気センサであって、一対のGMR素子を同一の平面内に所定間隔を隔てて配置し、かつバイアス磁界印加手段を、前記平面内にて一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に直交する方向に対して所定角度傾いた方向であって、反対向きの等しい強度のバイアス磁界が一対のGMR素子に印加されるように配置したことにある。   In order to achieve the above-described object, the present invention is characterized in that at least a pair of magnetic field intensity detection type GMR elements (22a, 22b or 22c, 22d) that are identically configured and bridge-connected, and a pair of GMR elements. And a bias magnetic field applying means (30) for applying a bias magnetic field to detect the movement of the magnetic material, wherein a pair of GMR elements are arranged at a predetermined interval in the same plane, and the bias is applied. A magnetic field applying means is applied to the pair of GMR elements in a direction inclined at a predetermined angle with respect to a direction orthogonal to a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements in the plane, and having the same strength in the opposite directions. It is in the arrangement.

この場合、例えば、一対のGMR素子は、絶縁基板(21)に形成された線状のグラニュラ薄膜又は線状の人口格子膜で構成され、かつ絶縁基板には一対のGMR素子に電気接続された複数の電極(23a〜23d)が設けられている。また、例えば、一対のGMR素子、絶縁基板及び複数の電極は、樹脂により成型されたパッケージ(10)内に収容され、かつ複数の電極に電気接続された複数の導電性のリードフレーム(13a〜13d)を、パッケージから突出させている。   In this case, for example, the pair of GMR elements is composed of a linear granular thin film or a linear artificial lattice film formed on the insulating substrate (21), and the insulating substrate is electrically connected to the pair of GMR elements. A plurality of electrodes (23a to 23d) are provided. Further, for example, the pair of GMR elements, the insulating substrate, and the plurality of electrodes are accommodated in a package (10) molded of resin, and a plurality of conductive lead frames (13a to 13a) electrically connected to the plurality of electrodes. 13d) protrudes from the package.

また、例えば、バイアス磁界印加手段を、直方体状であって長尺状の第1面をN極に磁化するとともに第1面の反対側の第2面をS極に磁化した永久磁石で構成し、永久磁石を、第1面又は第2面を一対のGMR素子に対向させ、かつ一対のGMR素子に対向した第1面又は第2面における2つの長辺間の中心線が一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に対して前記所定角度だけ傾き、かつ一対のGMR素子の中心を結ぶ直線の中点が前記中心線上の点に対向するように配置する。また、例えば、磁気センサは、移動方向に対して直交する方向に延設された少なくとも1つの凸部又は凹部を有する磁性体の移動の検出に適用され、一対のGMR素子を、一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が磁性体の移動方向に直交するように配置する。   Further, for example, the bias magnetic field applying means is constituted by a permanent magnet having a rectangular parallelepiped shape and magnetizing the long first surface to the N pole and the second surface opposite to the first surface to the S pole. The permanent magnet has a first surface or a second surface opposed to a pair of GMR elements, and a center line between two long sides of the first surface or the second surface opposed to the pair of GMR elements is a pair of GMR elements. The center of the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements is arranged so as to face the point on the center line. Further, for example, the magnetic sensor is applied to detection of movement of a magnetic body having at least one convex portion or concave portion extending in a direction orthogonal to the moving direction, and a pair of GMR elements is replaced with a pair of GMR elements. Are arranged so that the straight line connecting the centers of the two is perpendicular to the moving direction of the magnetic body.

上記本発明に係る磁気センサを用いて、磁性体で構成した歯車の回転を検出するためには、一対のGMR素子を配置した平面が歯車の歯の外周面に対向し、かつ一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が歯車の回転方向と直交するように、磁気センサを歯車に対して配置する。そして、歯車を回転させれば、一対のGMR素子の抵抗値は磁性体の移動に応じて逆方向に変化して、ブリッジ接続された一対のGMR素子から歯車の回転に応じた正弦波状の信号が得られる。そして、後述する第2実験結果(図8参照)からも分かるように、歯車ピッチが変化しても、高精度の正弦波状の信号を出力電圧として得ることができ、歯車の回転位置を高精度で検出することができる。なお、本発明に係る磁気センサは、歯車以外の磁性体の移動の検出にも利用できる。ただし、この場合の出力は正弦波状には変化しない。また、本発明の磁気センサにおいては、磁界強度検知型の一対のGMR素子を同一に構成して平面内に配置すればよいので、例えば同一構成の一対のGMR素子を絶縁基板などの基体上に形成すればよく、磁気センサを簡単に構成できる。   In order to detect the rotation of the gear made of a magnetic material using the magnetic sensor according to the present invention, the plane on which the pair of GMR elements is arranged faces the outer peripheral surface of the gear teeth and the pair of GMR elements. The magnetic sensor is arranged with respect to the gear so that the straight line connecting the centers of the two is orthogonal to the rotation direction of the gear. When the gear is rotated, the resistance value of the pair of GMR elements changes in the opposite direction in accordance with the movement of the magnetic material, and a sinusoidal signal corresponding to the rotation of the gear from the pair of bridge-connected GMR elements. Is obtained. As can be seen from the second experimental result described later (see FIG. 8), even if the gear pitch changes, a highly accurate sinusoidal signal can be obtained as an output voltage, and the rotational position of the gear can be determined with high accuracy. Can be detected. The magnetic sensor according to the present invention can also be used to detect the movement of a magnetic body other than a gear. However, the output in this case does not change sinusoidally. In the magnetic sensor of the present invention, a pair of magnetic field strength detection type GMR elements may be configured in the same manner and arranged in a plane. For example, a pair of GMR elements having the same configuration is disposed on a base such as an insulating substrate. What is necessary is just to form, and a magnetic sensor can be comprised easily.

また、本発明の他の特徴は、一対のGMR素子は、長手方向と短手方向の形状異方性を有し、かつ一対のGMR素子を、長手方向が一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に直交するように配置したことにある。これによれば、後述する第1実験結果(図7参照)からも分かるように、長手方向が一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に平行になるように配置した場合に比べて、高い感度異方性が得られ、大きな出力を得ることができる。   Another feature of the present invention is that the pair of GMR elements have shape anisotropy in the longitudinal direction and the short side direction, and the pair of GMR elements is connected to the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements. It is arranged so as to be orthogonal to. According to this, as can be seen from a first experimental result (see FIG. 7) described later, the sensitivity difference is higher than that in the case where the longitudinal direction is parallel to the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements. The directivity can be obtained and a large output can be obtained.

また、本発明の他の特徴は、同一に構成されてブリッジ接続された磁界強度検知型の少なくとも一対のGMR素子からなる第1組のGMR素子(22a,22b又は22c,22d)と、第1組のGMR素子とそれぞれ同一に構成されてブリッジ接続された磁界強度検知型の少なくとも一対のGMR素子からなる第2組のGMR素子(22a,22b又は22c,22d)と、第1組の一対のGMR素子及び第2組の一対のGMR素子に対してバイアス磁界をそれぞれ印加するバイアス磁界印加手段(60)とを備えた磁気センサであって、第1組の一対のGMR素子を同一の平面内に所定間隔を隔てて配置し、第2組の一対のGMR素子を、前記平面内に所定間隔を隔てるとともに、第2組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が第1組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線と所定距離隔てて平行になるように配置し、かつバイアス磁界印加手段を、前記平面内にて第1組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線及び第2組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に直交する方向に対してそれぞれ所定角度傾いた方向であって、反対向きの等しい強度のバイアス磁界が第1組の一対のGMR素子及び第2組の一対のGMR素子にそれぞれ印加されるように配置したことにある。   Another feature of the present invention is that the first set of GMR elements (22a, 22b or 22c, 22d) including at least a pair of magnetic field intensity detection type GMR elements that are identically configured and bridge-connected, A second set of GMR elements (22a, 22b or 22c, 22d) composed of at least a pair of magnetic field intensity detection type GMR elements, each of which is configured identically with the pair of GMR elements and bridge-connected; A magnetic sensor comprising bias magnetic field applying means (60) for applying a bias magnetic field to each of the GMR element and the second pair of GMR elements, wherein the first pair of GMR elements are arranged in the same plane. The second pair of GMR elements are spaced apart from each other by a predetermined distance in the plane, and a straight line connecting the centers of the second pair of GMR elements is the first set. The bias magnetic field applying means is arranged parallel to the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements with a predetermined distance, and the bias magnetic field applying means is connected to the straight line connecting the centers of the first pair of GMR elements and the second in the plane. The bias magnetic fields having the same strength in opposite directions are inclined with respect to the direction perpendicular to the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements, and the opposite pair of the same bias magnetic fields are applied to the first pair of GMR elements and the second pair of GMR elements. The arrangement is such that they are applied to the pair of GMR elements, respectively.

この本発明の他の特徴においても、磁性体で構成した歯車の回転を検出するためには、第1及び第2組の一対のGMR素子を配置した平面が歯車の歯の外周面に対向し、かつ一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が歯車の回転方向と直交するように、磁気センサを歯車に対して配置する。そして、歯車を回転させれば、前述のように、ブリッジ接続された第1及び第2の一対のGMR素子から歯車の回転に応じた正弦波状の信号がそれぞれ得られる。第1組及び第2組の一対のGMR素子は、第2組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が第1組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線と所定距離隔てて平行になるように配置されているので、第2組のブリッジ接続された一対のGMR素子から得られる正弦波状の信号は、第1組のブリッジ接続された一対のGMR素子から得られる正弦波状の信号とは位相が異なる。したがって、これによれば、位相の異なる2つの正弦波状の信号を用いて歯車の回転角度を簡単かつ高精度で検出できる。   In another aspect of the present invention, in order to detect the rotation of the gear made of a magnetic material, the plane on which the first and second pairs of GMR elements are arranged faces the outer peripheral surface of the gear teeth. The magnetic sensor is arranged with respect to the gear so that a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements is orthogonal to the rotation direction of the gear. When the gear is rotated, as described above, sinusoidal signals corresponding to the rotation of the gear can be obtained from the first and second pair of GMR elements connected in a bridge manner. The pair of GMR elements of the first group and the second group is such that a straight line connecting the centers of the second pair of GMR elements is parallel to a straight line connecting the centers of the first pair of GMR elements at a predetermined distance. Therefore, the sinusoidal signal obtained from the second pair of bridge-connected GMR elements is different from the sinusoidal signal obtained from the first pair of bridge-connected GMR elements. Is different. Therefore, according to this, the rotation angle of the gear can be detected easily and with high accuracy using two sinusoidal signals having different phases.

本発明の第1実施形態に係る磁気センサのチップパッケージ内の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure in the chip package of the magnetic sensor which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1の磁気センサにおけるセンサチップの拡大平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view of a sensor chip in the magnetic sensor of FIG. 1. 図1の磁気センサの斜視図である。It is a perspective view of the magnetic sensor of FIG. 図1の磁気センサのブリッジ回路図である。It is a bridge circuit diagram of the magnetic sensor of FIG. 図1の磁気センサによる磁性体歯車の回転の検出状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the detection state of rotation of the magnetic body gear by the magnetic sensor of FIG. 印加磁界強度に対するGMR素子の抵抗値の変化特性を示すグラフである。It is a graph which shows the change characteristic of the resistance value of the GMR element with respect to the applied magnetic field intensity. ブリッジ接続したGMR素子のバイアス磁界方向による感度異方性を示すグラフである。It is a graph which shows the sensitivity anisotropy by the bias magnetic field direction of the GMR element bridge-connected. (A)(B)(C)は、異なる凹凸ピッチを有する3種類の磁性体歯車の回転を、図1の磁気センサ(第1実施形態に係る磁気センサ)により検出した検出信号の波形図である。(A), (B), and (C) are waveform diagrams of detection signals obtained by detecting the rotation of three types of magnetic gears having different uneven pitches by the magnetic sensor of FIG. 1 (magnetic sensor according to the first embodiment). is there. 比較例に係る磁気センサのチップパッケージ内の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure in the chip package of the magnetic sensor which concerns on a comparative example. 図9の磁気センサにおけるセンサチップの拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view of a sensor chip in the magnetic sensor of FIG. 9. 図9の磁気センサによる磁性体歯車の回転の検出状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the detection state of rotation of the magnetic body gear by the magnetic sensor of FIG. (A)(B)(C)は、異なる凹凸ピッチを有する3種類の磁性体歯車の回転を、図9の磁気センサ(比較例に係る磁気センサ)により検出した検出信号の波形図である。(A), (B), and (C) are waveform diagrams of detection signals obtained by detecting the rotation of three types of magnetic gears having different uneven pitches by the magnetic sensor of FIG. 9 (magnetic sensor according to a comparative example). 磁性体歯車の凹凸ピッチに対する図1の磁気センサ(第1実施形態に係る磁気センサ)の出力値と、図9の磁気センサ(比較例に係る磁気センサ)の出力値との比較を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing a comparison between the output value of the magnetic sensor of FIG. 1 (magnetic sensor according to the first embodiment) and the output value of the magnetic sensor of FIG. 9 (magnetic sensor according to a comparative example) with respect to the uneven pitch of the magnetic gear. is there. 本発明の第2実施形態に係る磁気センサのチップパッケージ内の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure in the chip package of the magnetic sensor which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図14の磁気センサの斜視図である。It is a perspective view of the magnetic sensor of FIG. 図14の磁気センサ(第2実施形態に係る磁気センサ)の出力電圧波形図である。It is an output voltage waveform figure of the magnetic sensor (magnetic sensor which concerns on 2nd Embodiment) of FIG. 歯車以外の磁性体の移動の検出に磁気センサを適用した例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example which applied the magnetic sensor to the detection of the movement of magnetic bodies other than a gearwheel.

a.第1実施形態
以下、本発明の第1実施形態について図面を用いて説明する。図1は、第1実施形態に係る磁気センサのチップパッケージ10内の概略構成を示す平面図である。図2は図1の磁気センサにおけるセンサチップ20の拡大平面図であり、図3は図1の磁気センサの斜視図である。なお、本明細書においては、図1の上下方向を磁気センサの前後方向(図1の下側を磁気センサの前側、図1の上側を磁気センサの後側)とし、図1の左右方向を磁気センサの左右方向とし、かつ図1における紙面の表裏方向を磁気センサの上下方向として説明する。
a. First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration in a chip package 10 of the magnetic sensor according to the first embodiment. 2 is an enlarged plan view of the sensor chip 20 in the magnetic sensor of FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view of the magnetic sensor of FIG. In this specification, the vertical direction in FIG. 1 is the front-rear direction of the magnetic sensor (the lower side in FIG. 1 is the front side of the magnetic sensor, the upper side in FIG. 1 is the rear side of the magnetic sensor), and the horizontal direction in FIG. The description will be made assuming that the magnetic sensor is the left-right direction and the front-back direction of the paper surface in FIG.

チップパッケージ10は、エポキシ樹脂により、直方体状に構成されている。チップパッケージ10内には、チップパッケージ10の上下方向のほぼ中央位置にて上下面に平行にして、薄板状に非磁性の導電体材料(例えば、銅板)で形成されたアイランド部11、突出部12a,12b及びリードフレーム部13a〜13dが組み込まれている。   The chip package 10 is configured in a rectangular parallelepiped shape with an epoxy resin. In the chip package 10, an island portion 11 made of a nonmagnetic conductive material (for example, a copper plate) in a thin plate shape and parallel to the upper and lower surfaces at a substantially central position in the vertical direction of the chip package 10, a protruding portion 12a, 12b and lead frame portions 13a to 13d are incorporated.

アイランド部11は、平面視で長方形状に構成され、チップパッケージ10の左右方向の中央位置かつ前後方向の若干後方位置に配置されている。アイランド部11の左右辺及び前後辺は、チップパッケージ10の左右辺及び前後辺とそれぞれ平行である。突出部12a,12bは、平面視で鉤型形状にアイランド部11と一体形成され、内側端部の後端をアイランド部11の前端にそれぞれ接続させ、外側端部の前端をチップパッケージ10の前面から突出させている。なお、突出部12a,12bは、アイランド部11の周囲にエポキシ樹脂を流し込んで、アイランド部11、突出部12a,12b及びリードフレーム部13a〜13dをチップパッケージ10内に固定する際に、アイランド部11を支持するために設けられている。リードフレーム部13a〜13dも、平面視で鉤型形状を有し、それらの前端部をアイランド部11の前部近傍に位置させ、それらの後端部をチップパッケージ10の後面から突出させている。   The island part 11 is formed in a rectangular shape in plan view, and is arranged at the center position in the left-right direction of the chip package 10 and at a slightly rear position in the front-rear direction. The left and right sides and the front and rear sides of the island portion 11 are parallel to the left and right sides and the front and rear sides of the chip package 10, respectively. The projecting portions 12 a and 12 b are integrally formed with the island portion 11 in a bowl shape in plan view, the rear end of the inner end portion is connected to the front end of the island portion 11, and the front end of the outer end portion is the front surface of the chip package 10. It protrudes from. The projecting portions 12a and 12b flow into the periphery of the island portion 11 when the island portion 11, the projecting portions 12a and 12b, and the lead frame portions 13a to 13d are fixed in the chip package 10. 11 is provided to support 11. The lead frame portions 13a to 13d also have a bowl shape in plan view, and their front end portions are positioned in the vicinity of the front portion of the island portion 11, and their rear end portions are projected from the rear surface of the chip package 10. .

アイランド部11の前部上面には、センサチップ20が固定されている。センサチップ20は、シリコン、ガラス、セラミック等の絶縁体材料で長方形の板状に構成された絶縁基板21を備えている。絶縁基板21は、本実施形態では、前後方向の長さL1が1.05mmに設定され、左右方向の長さL2がそれぞれ1.8mmに設定され、厚みが0.4mmに設定されている。この絶縁基板21は、その左右辺及び前後辺をチップパッケージ10の左右辺及び前後辺とそれぞれ平行にして、ダイボンド材によりアイランド部11の上面に固着されている。   A sensor chip 20 is fixed to the front upper surface of the island part 11. The sensor chip 20 includes an insulating substrate 21 configured in a rectangular plate shape with an insulating material such as silicon, glass, or ceramic. In this embodiment, the insulating substrate 21 has a length L1 in the front-rear direction set to 1.05 mm, a length L2 in the left-right direction set to 1.8 mm, and a thickness set to 0.4 mm. The insulating substrate 21 is fixed to the upper surface of the island portion 11 by a die bond material with the left and right sides and front and rear sides thereof being parallel to the left and right sides and front and rear sides of the chip package 10, respectively.

絶縁基板21の上面には、GMR素子(巨大磁気抵抗効果素子)22a〜22d及び電極23a〜23dが配置されている。GMR素子22a〜22dは、Ag−FeCoからなる線状のグラニュラ薄膜で構成されており、絶縁基板21の上面上にスパッタリング法を用いてグラニュラ薄膜を成膜することにより、絶縁基板21上に形成されている。GMR素子22a,22dは絶縁基板21の上面における左側かつ前側部分に設けた長方形領域21aに成膜され、GMR素子22b,22cは絶縁基板21の上面における右側かつ前側部分に設けた長方形領域21bに成膜されている。長方形領域21a,21bの形状及び大きさは同じであり、前後方向の長さを左右方向の長さよりも大きくしている。長方形領域21a,21bの左右辺は絶縁基板21及びチップパッケージ10の左右辺とそれぞれ平行であるとともに、長方形領域21a,21bの前後辺は絶縁基板21及びチップパッケージ10の前後辺とそれぞれ平行である。また、長方形領域21a,21bの前後方向の位置は同じであり、すなわち長方形領域21a,21bの前辺から絶縁基板21及びチップパッケージ10の前辺までの距離は同じであり、長方形領域21a,21bは絶縁基板21の左右方向の中心線CL1に対して左右対称に位置する。これらの長方形領域21a,21bにおいては、本実施形態では、前後方向の長さL3が0.4825mmに設定され、左右方向の長さL4が0.3mmに設定されている。また、長方形領域21aの右端から長方形領域21bの左端までの長さL5は、本実施形態では0.92mmに設定されている。そして、GMR素子22a,22dの中心とGMR素子22b,22cの中心との間の距離L6は、1.22mmである。   On the upper surface of the insulating substrate 21, GMR elements (giant magnetoresistive effect elements) 22a to 22d and electrodes 23a to 23d are arranged. The GMR elements 22a to 22d are composed of a linear granular thin film made of Ag—FeCo, and are formed on the insulating substrate 21 by depositing the granular thin film on the upper surface of the insulating substrate 21 using a sputtering method. Has been. The GMR elements 22a and 22d are formed in a rectangular region 21a provided on the left side and the front portion of the upper surface of the insulating substrate 21, and the GMR elements 22b and 22c are formed on the rectangular region 21b provided on the right side and the front portion of the upper surface of the insulating substrate 21. A film is formed. The rectangular regions 21a and 21b have the same shape and size, and the length in the front-rear direction is larger than the length in the left-right direction. The left and right sides of the rectangular regions 21a and 21b are parallel to the left and right sides of the insulating substrate 21 and the chip package 10, respectively, and the front and rear sides of the rectangular regions 21a and 21b are parallel to the front and rear sides of the insulating substrate 21 and the chip package 10, respectively. . Further, the rectangular regions 21a and 21b have the same position in the front-rear direction, that is, the distances from the front sides of the rectangular regions 21a and 21b to the front sides of the insulating substrate 21 and the chip package 10 are the same, and the rectangular regions 21a and 21b. Is located symmetrically with respect to the center line CL1 of the insulating substrate 21 in the left-right direction. In these rectangular regions 21a and 21b, in the present embodiment, the length L3 in the front-rear direction is set to 0.4825 mm, and the length L4 in the left-right direction is set to 0.3 mm. The length L5 from the right end of the rectangular area 21a to the left end of the rectangular area 21b is set to 0.92 mm in this embodiment. The distance L6 between the centers of the GMR elements 22a and 22d and the centers of the GMR elements 22b and 22c is 1.22 mm.

GMR素子22a,22dは、長方形領域21a上に、長手方向を前後方向にするとともに短手方向を左右方向にして、それぞれ複数の折り返し部がある線状に形成されている。より具体的には、GMR素子22a,22dは、長方形領域にて、前後方向に一直線状に一定長さ(長さL3よりも若干短い長さ)延設させた後に折り返して、前記一直線状に延びた前端部又は後端部を湾曲させて若干長さだけ左右方向に延設して、さらに前記一直線状に延設させた方向と反対方向に一直線状に延設することを繰返す。   The GMR elements 22a and 22d are formed on the rectangular region 21a in a linear shape having a plurality of folded portions, with the longitudinal direction being the front-rear direction and the short direction being the left-right direction. More specifically, the GMR elements 22a, 22d are folded in a straight line in the rectangular region after extending a predetermined length (a little shorter than the length L3) in a straight line. The extending front end portion or rear end portion is curved and extended in the left-right direction by a certain length, and further extending in a straight line in the direction opposite to the straight line extending direction is repeated.

また、GMR素子22a,22dは、隣合う線状部分の左右方向の間隔を大きくした部分と、隣合う線状部分の左右方向の間隔を小さくした部分とを有するように、折り返して構成されている。そして、GMR素子22aにおける隣合う線状部分の左右方向の間隔を大きくした部分に、GMR素子22dにおける隣合う線状部分の左右方向の間隔を小さくした部分を侵入させるとともに、GMR素子22dにおける隣合う線状部分の左右方向の間隔を大きくした部分に、GMR素子22aにおける隣合う線状部分の左右方向の間隔を小さくした部分を侵入させる。なお、これらのGMR素子22a,22bの折り返し回数は、例えば、GMR素子22a,22dの前後方向に延設された直線部分の本数が17本となるように設定されている。   Further, the GMR elements 22a and 22d are folded back so as to have a portion in which the distance between the adjacent linear portions in the left-right direction is increased and a portion in which the distance between the adjacent linear portions in the left-right direction is decreased. Yes. Then, a portion of the GMR element 22a in which the horizontal interval between adjacent linear portions in the GMR element 22d is increased, and a portion in which the distance in the horizontal direction of the adjacent linear portion in the GMR element 22d is reduced is intruded. A portion of the GMR element 22a in which the space in the left-right direction is reduced is inserted into a portion in which the space in the left-right direction of the matching linear portion is increased. The number of times the GMR elements 22a and 22b are folded is set such that the number of straight portions extending in the front-rear direction of the GMR elements 22a and 22d is 17, for example.

GMR素子22b,22cは、長方形領域21b上に、長手方向を前後方向にするとともに短手方向を左右方向にして、それぞれ複数の折り返し部がある線状に形成されている。GMR素子22b,22cも、GMR素子22a,22dと同様に構成されている。そして、GMR素子22bは、前記中心線CL1に対して、GMR素子22aと左右対称になるように配置されている。また、GMR素子22cは、前記中心線CL1に対して、GMR素子22dと左右対称になるように配置されている。   The GMR elements 22b and 22c are linearly formed on the rectangular region 21b with a plurality of folded portions, with the longitudinal direction being the front-rear direction and the short direction being the left-right direction. The GMR elements 22b and 22c are configured similarly to the GMR elements 22a and 22d. The GMR element 22b is arranged so as to be symmetrical with the GMR element 22a with respect to the center line CL1. Further, the GMR element 22c is arranged so as to be symmetrical with the GMR element 22d with respect to the center line CL1.

電極23a〜23dは、薄板状に非磁性の導電体材料(例えば、アルミニウム)で、絶縁基板21上に平面視で正方形状にパターン形成されている。電極23aはGMR素子22b,22cの後方に位置し、電極23bはGMR素子22a,22dの後方に位置する。電極23a,23bは、前記中心線CL1に対して左右対称に配置されている。電極23cはGMR素子22b,22cの左方であって前記中心線CL1とGMR素子22b,22cの間に位置し、電極23dはGMR素子22a,22dの右方であって前記中心線CL1とGMR素子22a,22dの間に位置する。電極23a,23bは、前記中心線CL1に対して左右対称に配置されている。   The electrodes 23a to 23d are made of a non-magnetic conductive material (for example, aluminum) in a thin plate shape, and are patterned in a square shape on the insulating substrate 21 in plan view. The electrode 23a is located behind the GMR elements 22b and 22c, and the electrode 23b is located behind the GMR elements 22a and 22d. The electrodes 23a and 23b are arranged symmetrically with respect to the center line CL1. The electrode 23c is located to the left of the GMR elements 22b and 22c and between the center line CL1 and the GMR elements 22b and 22c, and the electrode 23d is located to the right of the GMR elements 22a and 22d and the center line CL1 and GMR. Located between elements 22a and 22d. The electrodes 23a and 23b are arranged symmetrically with respect to the center line CL1.

また、絶縁基板21上には、GMR素子22a〜22dと電極23a〜23dとをそれぞれ電気接続するための配線パターン24が形成されている。この配線パターン24も、薄板状の非磁性の導電体材料(例えば、アルミニウム)で構成されている。GMR素子22aの一端(右上端)は配線パターン24により電極23aに電気接続され、GMR素子22aの他端(左下端)は配線パターン24により電極23cに接続されている。GMR素子22bの一端(右下端)は配線パターン24により電極23bに電気接続され、GMR素子22bの他端(左上端)は配線パターン24により電極23cに接続されている。これにより、GMR素子22a,22bはハーフブリッジ接続されている。また、GMR素子22cの一端(左上端)は配線パターン24により電極23aに電気接続され、GMR素子22cの他端(右下端)は配線パターン24により電極23dに接続されている。GMR素子22dの一端(左下端)は配線パターン24により電極23bに電気接続され、GMR素子22dの他端(右上端)は配線パターン24により電極23dに接続されている。これにより、GMR素子22c,22dもハーフブリッジ接続されている。   On the insulating substrate 21, wiring patterns 24 for electrically connecting the GMR elements 22a to 22d and the electrodes 23a to 23d are formed. The wiring pattern 24 is also composed of a thin plate-like nonmagnetic conductor material (for example, aluminum). One end (upper right end) of the GMR element 22a is electrically connected to the electrode 23a by the wiring pattern 24, and the other end (lower left end) of the GMR element 22a is connected to the electrode 23c by the wiring pattern 24. One end (lower right end) of the GMR element 22 b is electrically connected to the electrode 23 b by the wiring pattern 24, and the other end (upper left end) of the GMR element 22 b is connected to the electrode 23 c by the wiring pattern 24. Thereby, the GMR elements 22a and 22b are half-bridge connected. Further, one end (upper left end) of the GMR element 22c is electrically connected to the electrode 23a by the wiring pattern 24, and the other end (lower right end) of the GMR element 22c is connected to the electrode 23d by the wiring pattern 24. One end (lower left end) of the GMR element 22d is electrically connected to the electrode 23b by the wiring pattern 24, and the other end (upper right end) of the GMR element 22d is connected to the electrode 23d by the wiring pattern 24. Thereby, the GMR elements 22c and 22d are also half-bridge connected.

電極23a〜23dは、導電線(例えば、金線)からなるワイヤ14a〜14dを介して、リードフレーム部13a〜13dにそれぞれ電気接続されている。リードフレーム部13aには外部に設けた電気回路装置から電圧Vが供給され、リードフレーム部13bは前記電気回路装置により接地されている。リードフレーム13c,13dは、前記電気回路装置に電圧O1,O2をそれぞれ出力する。これにより、GMR素子22a〜22dは図4に示すように、フルブリッジ回路を構成している。また、前記電気回路装置は差動増幅器25を備えており、差動増幅器25は出力電圧O1,O2の差分電圧を出力する。   The electrodes 23a to 23d are electrically connected to the lead frame portions 13a to 13d via wires 14a to 14d made of conductive wires (for example, gold wires). The lead frame portion 13a is supplied with a voltage V from an external electric circuit device, and the lead frame portion 13b is grounded by the electric circuit device. The lead frames 13c and 13d output voltages O1 and O2 to the electric circuit device, respectively. As a result, the GMR elements 22a to 22d constitute a full bridge circuit as shown in FIG. The electric circuit device includes a differential amplifier 25, and the differential amplifier 25 outputs a differential voltage between the output voltages O1 and O2.

チップパッケージ10の下面には、永久磁石である直方体のバイアス磁石30がダイボンド材により固着されている。バイアス磁石30は、本実施形態では、ネオジウムと鉄を主原料としたネオジウム磁石からなり、上面及び下面の長辺及び短辺の長さL7,L8がそれぞれ7mm、3mmに設定され、厚みL9が3mmに設定されている。また、バイアス磁石30は、厚み方向を2等分する面を境界として分極されて境界面に対して垂直方向に2極に着磁されており、上側がN極になっているとともに、下側がS極になっている。そして、バイアス磁石30は、その上面の中心位置を、GMR素子22a,22dとGMR素子22b,22cの中心を通る中心線CL2と前記中心線CL1との交点位置に対向させ、かつその上面の両長辺間の中心を通る中心線CL3を中心線CL2に対して所定角度(本実施形態では45度)傾斜させている。これによって、バイアス磁石30は、図1のGMR素子22a〜22d上に記した矢印方向の磁界を発生し、GMR素子22a〜22dには、それぞれ長手方向すなわち前記中心線CL1に対して前記所定角度(本実施形態では45度)傾斜した方向のバイアス磁界が印加される。ただし、GMR素子22a,22dに印加されるバイアス磁界の方向は、GMR素子22b,22cに印加されるバイアス磁界の方向と反対になる。また、本実施形態においては、バイアス磁石30の上面からGMR素子22a〜22dまでの距離は、1.0mmに設定されている。   A rectangular parallelepiped bias magnet 30, which is a permanent magnet, is fixed to the lower surface of the chip package 10 with a die bond material. In this embodiment, the bias magnet 30 is composed of a neodymium magnet mainly composed of neodymium and iron, and the lengths L7 and L8 of the upper and lower surfaces are set to 7 mm and 3 mm, respectively, and the thickness L9 is set to 9 mm. It is set to 3mm. The bias magnet 30 is polarized with a plane that bisects the thickness direction as a boundary and is magnetized in two poles in a direction perpendicular to the boundary surface. The upper side is an N pole, and the lower side is S pole. The bias magnet 30 has its upper surface centered at the intersection of the center line CL2 passing through the centers of the GMR elements 22a and 22d and the GMR elements 22b and 22c and the center line CL1, and both of the upper surfaces of the bias magnet 30 are disposed. A center line CL3 passing through the center between the long sides is inclined by a predetermined angle (45 degrees in this embodiment) with respect to the center line CL2. As a result, the bias magnet 30 generates a magnetic field in the direction of the arrow indicated on the GMR elements 22a to 22d in FIG. 1, and the GMR elements 22a to 22d are each in the longitudinal direction, that is, the predetermined angle with respect to the center line CL1. A bias magnetic field in an inclined direction is applied (45 degrees in this embodiment). However, the direction of the bias magnetic field applied to the GMR elements 22a and 22d is opposite to the direction of the bias magnetic field applied to the GMR elements 22b and 22c. In the present embodiment, the distance from the upper surface of the bias magnet 30 to the GMR elements 22a to 22d is set to 1.0 mm.

前記のように構成した磁気センサは次のようにして製造される。まず、電極23a〜23d及び配線パターン24を、絶縁基板21上にパターン形成する。そして、絶縁基板21の上面上にスパッタリング法を用いてグラニュラ薄膜を成膜することにより、GMR素子22a〜22dを形成する。なお、前記とは逆に、GMR素子22a〜22dを形成した後に、電極23a〜23d及び配線パターン24を形成してもよい。これにより、絶縁基板21上にGMR素子22a〜22d、電極23a〜23d及び配線パターン24を設けたセンサチップ20が完成する。   The magnetic sensor configured as described above is manufactured as follows. First, the electrodes 23 a to 23 d and the wiring pattern 24 are formed on the insulating substrate 21. Then, GMR elements 22a to 22d are formed by forming a granular thin film on the upper surface of the insulating substrate 21 by using a sputtering method. Contrary to the above, the electrodes 23a to 23d and the wiring pattern 24 may be formed after the GMR elements 22a to 22d are formed. Thereby, the sensor chip 20 in which the GMR elements 22a to 22d, the electrodes 23a to 23d, and the wiring pattern 24 are provided on the insulating substrate 21 is completed.

次に、アイランド部11、突出部12a,12b及びリードフレーム部13a〜13dを図1に示す位置に配置し、アイランド部11部の上面上に絶縁基板21の下面をダイボンド材により接着することにより、アイランド部11上にセンサチップ20を固着する。なお、この場合も、前記とは逆に、アイランド部11上にセンサチップ20を固着した後に、アイランド部11、突出部12a,12b及びリードフレーム部13a〜13dを図1に示す位置に配置してもよい。次に、電極23a〜23dとリードフレーム部13a〜13dにワイヤ14a〜14dの両端をそれぞれワイヤボンディング(超音波加熱接続)により接続して、電極23a〜23dとリードフレーム部13a〜13dとをワイヤ14a〜14dを介して電気接続する。   Next, the island part 11, the projecting parts 12a and 12b, and the lead frame parts 13a to 13d are arranged at the positions shown in FIG. 1, and the lower surface of the insulating substrate 21 is bonded to the upper surface of the island part 11 by a die bond material. The sensor chip 20 is fixed on the island part 11. In this case, contrary to the above, after the sensor chip 20 is fixed on the island part 11, the island part 11, the projecting parts 12a and 12b, and the lead frame parts 13a to 13d are arranged at the positions shown in FIG. May be. Next, both ends of the wires 14a to 14d are connected to the electrodes 23a to 23d and the lead frame portions 13a to 13d by wire bonding (ultrasonic heating connection), respectively, and the electrodes 23a to 23d and the lead frame portions 13a to 13d are connected to the wires. Electrical connection is made via 14a to 14d.

その後、エポキシ樹脂を用いて、センサチップ20、アイランド部11、突出部12a,12bの後部、リードフレーム部13a〜13dの前部、及びワイヤ14a〜14dを内部に収容するとともに、突出部12a,12bの前部及びリードフレーム部13a〜13dの後部を突出させたチップパッケージ10をモールド成型する。次に、チップパッケージ10の下面に、事前に着磁したバイアス磁石30の上面をダイボンド材により接着することにより、チップパッケージ10及びバイアス磁石30が一体となった磁気センサが完成する。   Thereafter, using the epoxy resin, the sensor chip 20, the island portion 11, the rear portions of the protruding portions 12a and 12b, the front portions of the lead frame portions 13a to 13d, and the wires 14a to 14d are accommodated inside, and the protruding portions 12a, The chip package 10 in which the front part of 12b and the rear parts of the lead frame parts 13a to 13d are projected is molded. Next, the upper surface of the pre-magnetized bias magnet 30 is bonded to the lower surface of the chip package 10 with a die bond material, thereby completing a magnetic sensor in which the chip package 10 and the bias magnet 30 are integrated.

このようにして製造される磁気センサにおいては、電極23a〜23d及び配線パターン24を絶縁基板21上にパターン形成するとともに、GMR素子22a〜22dを絶縁基板21上にグラニュラ薄膜を成膜形成するだけで、センサチップ20が製造される。そして、センサチップ20をアイランド部11に固着するとともに、電極23a〜23dとリードフレーム13a〜13dとをワイヤ14a〜14dにより電気接続し、かつモールド成型によりセンサチップ20、アイランド部11、突出部12a,12b、リードフレーム部13a〜13d及びワイヤ14a〜14dを含むチップパッケージ10が製造される。そして、チップパッケージ10にバイアス磁石30を固着するだけで磁気センサが完成するので、磁気センサを簡単に製造できる。   In the magnetic sensor manufactured as described above, the electrodes 23a to 23d and the wiring pattern 24 are formed on the insulating substrate 21, and the GMR elements 22a to 22d are formed on the insulating substrate 21 by forming a granular thin film. Thus, the sensor chip 20 is manufactured. The sensor chip 20 is fixed to the island part 11, and the electrodes 23a to 23d and the lead frames 13a to 13d are electrically connected by the wires 14a to 14d, and the sensor chip 20, the island part 11, and the protruding part 12a are molded by molding. , 12b, lead frame portions 13a to 13d and wires 14a to 14d are manufactured. Since the magnetic sensor is completed simply by fixing the bias magnet 30 to the chip package 10, the magnetic sensor can be easily manufactured.

次に、このようにして製造された磁気センサを用いて磁性体である歯車40の回転を検出する磁性体の移動検出装置について説明する。歯車40は、円形の外周面上にそれぞれ同じ形状及び大きさの方形状の凸部(歯)41と凹部を交互に配置させている。磁気センサは、図5に示すように、チップパッケージ10の上面が歯車40の歯41の外周面に平行に対向し、かつチップパッケージ10(センサチップ20)の前後方向(図1の中心線CL1の方向)が歯車40の回転方向(歯41の移動方向)に一致、すなわちGMR素子22a〜22dの長手方向が歯車40の回転方向に一致するように、図示しない固定部品により歯車40に対して配置される。そして、この第1実施形態では、GMR素子22a〜22dの上表面から前記一つの歯41の外周面までの距離は0.8mmに設定されている。歯車40の回転方向は、図1においてチップパッケージ10の右側に矢印で示す方向であり、図5において歯車40の下側に示す矢印の方向である。   Next, a magnetic body movement detection device that detects the rotation of the gear 40, which is a magnetic body, using the magnetic sensor thus manufactured will be described. In the gear 40, square-shaped convex portions (teeth) 41 and concave portions having the same shape and size are alternately arranged on a circular outer peripheral surface. As shown in FIG. 5, in the magnetic sensor, the upper surface of the chip package 10 faces the outer peripheral surface of the tooth 41 of the gear 40 in parallel, and the front and rear direction of the chip package 10 (sensor chip 20) (center line CL1 in FIG. 1). Of the GMR elements 22a to 22d is aligned with the rotation direction of the gear 40 so that the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d is aligned with the rotation direction of the gear 40. Be placed. In the first embodiment, the distance from the upper surface of the GMR elements 22a to 22d to the outer peripheral surface of the one tooth 41 is set to 0.8 mm. The rotation direction of the gear 40 is a direction indicated by an arrow on the right side of the chip package 10 in FIG. 1, and an arrow direction indicated on the lower side of the gear 40 in FIG. 5.

このように磁気センサを歯車40に対して配置した状態で、歯車40を回転させると、GMR素子22a,22dをそれらの素子面に対して平行に通過する磁界と、GMR素子22b,22cをそれらの素子面に対して平行に通過する磁界は互いに反対方向であって、それらの磁界強度は、180度の位相差をもってそれぞれほぼ正弦波状に変化する。具体的には、GMR素子22a,22dをそれらの素子面に対して平行に通過する磁界であって歯車40の回転方向と反対方向成分を有する磁界強度(この磁界強度を正の印加磁界強度とする)は、GMR素子22a,22dが隣合う2つの歯41の中間位置にあるとき正の所定強度であり、歯車40の回転に従って前記正の所定強度から徐々に大きくなった後、小さくなって、GMR素子22a,22dが一つの歯41に対向する位置に来ると、ほぼ前記正の所定強度に戻る。歯車40がさらに回転すると、前記正の印加磁界強度はほぼ前記正の所定値より徐々に小さくなった後、大きくなって、GMR素子22a〜22dが隣合う2つの歯41の中間位置に来ると、前記正の所定強度に戻る。なお、前記正の印加磁界強度の変化は、ほぼ正弦波状である。   When the gear 40 is rotated in a state where the magnetic sensor is arranged with respect to the gear 40 in this manner, the magnetic field passing through the GMR elements 22a and 22d in parallel to the element surfaces and the GMR elements 22b and 22c are changed to those. Magnetic fields that pass in parallel to the element surface are in opposite directions, and their magnetic field strengths change almost sinusoidally with a phase difference of 180 degrees. Specifically, a magnetic field strength that is a magnetic field that passes through the GMR elements 22a and 22d in parallel to the element surfaces and has a component opposite to the rotation direction of the gear 40 (this magnetic field strength is defined as a positive applied magnetic field strength). Is a positive predetermined strength when the GMR elements 22a and 22d are in the middle position between the two adjacent teeth 41, and gradually decreases from the positive predetermined strength as the gear 40 rotates, and then decreases. When the GMR elements 22a and 22d come to a position facing the one tooth 41, the positive predetermined strength is almost restored. When the gear 40 further rotates, the positive applied magnetic field intensity gradually becomes smaller than the predetermined positive value and then increases, and when the GMR elements 22a to 22d come to an intermediate position between the two adjacent teeth 41. Return to the positive predetermined intensity. The change in the positive applied magnetic field strength is substantially sinusoidal.

一方、GMR素子22b,22cをそれらの素子面に対して平行に通過する磁界であって歯車40の回転方向と同一方向成分を有する磁界強度(この磁界強度を負の印加磁界強度とする)は、GMR素子22b,22cが隣合う2つの歯41の中間位置にあるとき負の所定強度であり、歯車40の回転に従って前記負の所定強度から徐々に小さくなった後、大きくなって、GMR素子22a〜22dが一つの歯41に対向する位置に来ると、ほぼ前記負の所定強度に戻る。歯車40がさらに回転すると、前記負の印加磁界強度はほぼ前記負の所定強度より徐々に大きくなった後、小さくなって、GMR素子22a〜22dが隣合う2つの歯41の中間位置に来ると、前記負の所定強度に戻る。なお、前記負の印加磁界強度の変化も、ほぼ正弦波状である。また、前記正の所定強度と前記負の所定強度の絶対値は等しい。   On the other hand, the magnetic field strength passing through the GMR elements 22b and 22c in parallel to their element surfaces and having the same direction component as the rotation direction of the gear 40 (this magnetic field strength is defined as a negative applied magnetic field strength) is The GMR elements 22b and 22c have a negative predetermined strength when they are at an intermediate position between the two adjacent teeth 41. The GMR elements 22b and 22c gradually increase from the negative predetermined strength as the gear 40 rotates and then increase. When 22a-22d comes to the position which opposes one tooth | gear 41, it will return to the said negative predetermined intensity | strength substantially. When the gear 40 further rotates, the negative applied magnetic field strength gradually increases from the negative predetermined strength and then decreases, and when the GMR elements 22a to 22d come to an intermediate position between the two adjacent teeth 41. , Return to the negative predetermined intensity. The change in the negative applied magnetic field strength is also substantially sinusoidal. The absolute values of the positive predetermined intensity and the negative predetermined intensity are equal.

前記正の印加磁界強度の変化により、図6に実線で示す印加磁界強度に対するGMR素子の抵抗値の変化特性からも理解できるように、歯車40が歯41の1ピッチ分だけ回転する時間を1周期として、GMR素子22a〜22dの抵抗値はほぼ正弦波状に変化する。そして、GMR素子22b,22cの抵抗値変化は、GMR素子22a,22dの抵抗値変化に対して、180度(歯車40の歯41の1/2ピッチ)だけ位相を異ならせる。   As can be understood from the change characteristic of the resistance value of the GMR element with respect to the applied magnetic field strength shown by the solid line in FIG. 6 due to the change in the positive applied magnetic field strength, the time required for the gear 40 to rotate by one pitch of the teeth 41 is 1 As a cycle, the resistance values of the GMR elements 22a to 22d change in a substantially sine wave shape. The resistance value changes of the GMR elements 22b and 22c differ in phase by 180 degrees (1/2 pitch of the tooth 41 of the gear 40) with respect to the resistance value changes of the GMR elements 22a and 22d.

したがって、図4に示す電気回路装置から、磁性体からなる歯車40の回転を表し、歯41の1ピッチ分を1周期とする正弦波信号からなる、図8(A)〜(C)に示すような出力電圧信号が取り出される。この場合、GMR素子22a〜22dはフルブリッジ接続され、出力電圧O1,O2の差分電圧が差動増幅器25から出力されるので、大きな振幅値を有する歯車40の回転検出信号を得ることができる。   Therefore, the electric circuit device shown in FIG. 4 represents the rotation of the gear 40 made of a magnetic material, and is shown in FIGS. 8A to 8C, which consists of a sine wave signal with one pitch of the teeth 41 as one cycle. Such an output voltage signal is extracted. In this case, the GMR elements 22a to 22d are full-bridge connected, and the differential voltage between the output voltages O1 and O2 is output from the differential amplifier 25. Therefore, a rotation detection signal of the gear 40 having a large amplitude value can be obtained.

次に、上記第1実施形態の磁気センサを用いた歯車40の回転検出による効果について、実験結果に基づいて説明する。     Next, the effect of detecting the rotation of the gear 40 using the magnetic sensor of the first embodiment will be described based on experimental results.

a1.第1実験結果
まず、チップパッケージ10にバイアス磁石30を固着した上記第1実施形態の磁気センサに外部磁界を印加して、上記電気回路装置の差動増幅器25の出力電圧(差分電圧)を測定した。この場合、外部磁界の印加方向を中心線CL1(図1参照)の方向すなわちGMR素子22a〜22dの長手方向にして、磁界強度を正負に変化させてGMR素子22a〜22dに外部磁界を印加した。なお、この外部磁界の方向は、図1に矢印で示す歯車40の回転方向と反対方向(図1の上方向)を正方向として、前記回転方向(図1の下方向)を負方向とする。具体的には、外部磁界強度を、0KA/mから約22KA/mまで徐々に上昇させた後に、約−22KA/mまで徐々に下降させ、その後に0KA/mまで上昇させた。なお、この外部磁界の印加は、上述した歯車40の回転によるGMR素子22a〜22dに対する印加磁界の変化に対応する。
a1. First Experiment Result First, an external magnetic field is applied to the magnetic sensor of the first embodiment in which the bias magnet 30 is fixed to the chip package 10 to measure the output voltage (differential voltage) of the differential amplifier 25 of the electric circuit device. did. In this case, the external magnetic field is applied in the direction of the center line CL1 (see FIG. 1), that is, the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d, and the magnetic field intensity is changed positively and negatively to apply the external magnetic field to the GMR elements 22a to 22d. . As for the direction of the external magnetic field, the direction opposite to the rotation direction of the gear 40 indicated by the arrow in FIG. 1 (upward direction in FIG. 1) is the positive direction, and the rotation direction (downward direction in FIG. 1) is the negative direction. . Specifically, the external magnetic field strength was gradually increased from 0 KA / m to about 22 KA / m, then gradually decreased to about −22 KA / m, and then increased to 0 KA / m. The application of the external magnetic field corresponds to the change in the applied magnetic field to the GMR elements 22a to 22d due to the rotation of the gear 40 described above.

そして、外部磁界強度の所定値ずつの変化ごとに、差動増幅器25の出力電圧値を測定した。この測定結果を図7のグラフに実線で示す。これによれば、広動作磁界範囲で、高いリニア特性を有し、ヒステリシスの無い出力特性が得られたことが分かる。   Then, the output voltage value of the differential amplifier 25 was measured for each change of the external magnetic field strength by a predetermined value. The measurement result is shown by a solid line in the graph of FIG. According to this, it can be seen that an output characteristic having high linear characteristics and no hysteresis was obtained in a wide operating magnetic field range.

次に、前記測定と同じ上記第1実施形態の磁気センサを用いて、外部磁界の印加方向を中心線CL2(図1参照)の方向すなわちGMR素子22a〜22dの短手方向に、磁界強度を正負に変化させてGMR素子22a〜22dに外部磁界を印加した。なお、この外部磁界の方向は、図1の左方向を正方向として、図1の右方向を負方向とする。そして、外部磁界強度を、前記場合と同様に、約−22KA/mから約22KA/mの範囲で変化させた。   Next, using the same magnetic sensor of the first embodiment as in the above measurement, the direction of application of the external magnetic field is set to the direction of the center line CL2 (see FIG. 1), that is, the short direction of the GMR elements 22a to 22d. An external magnetic field was applied to the GMR elements 22a to 22d while changing between positive and negative. As for the direction of the external magnetic field, the left direction in FIG. 1 is a positive direction, and the right direction in FIG. 1 is a negative direction. Then, the external magnetic field intensity was changed in the range of about −22 KA / m to about 22 KA / m, as in the above case.

そして、外部磁界強度の所定値ずつの変化ごとに、差動増幅器25の出力電圧値を測定した。この測定結果を図7のグラフに破線で示す。これによっても、比較的広動作磁界範囲で、高いリニア特性を有し、ヒステリシスの無い出力特性が得られたことが分かる。しかし、この測定結果から、外部磁界の印加方向をGMR素子22a〜22dの短手方向とした場合には、外部磁界の印加方向をGMR素子22a〜22dの長手方向にした場合に比べて、出力電圧値の変化は15〜20%程度低下している。すなわち、外部磁界の印加方向をGMR素子22a〜22dの長手方向にした場合には、外部磁界の印加方向をGMR素子22a〜22dの短手方向にした場合に比べて、15〜20%程度高い感度異方性が得られることが分かった。   Then, the output voltage value of the differential amplifier 25 was measured for each change of the external magnetic field strength by a predetermined value. The measurement result is indicated by a broken line in the graph of FIG. This also shows that an output characteristic having a high linear characteristic and no hysteresis was obtained in a relatively wide operating magnetic field range. However, from this measurement result, when the application direction of the external magnetic field is the short direction of the GMR elements 22a to 22d, the output is larger than when the application direction of the external magnetic field is the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d. The change in voltage value is reduced by about 15 to 20%. That is, when the application direction of the external magnetic field is set to the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d, it is about 15 to 20% higher than the case where the application direction of the external magnetic field is set to the short direction of the GMR elements 22a to 22d. It was found that sensitivity anisotropy was obtained.

これについて考察すると、図6の実線は、GMR素子の長手方向を磁界の印加方向としたときにおける、印加磁界強度に対するGMR素子の抵抗値の変化特性を示す一般的なグラフである。図6の破線は、GMR素子の短手方向を磁界の印加方向としたときにおける、印加磁界強度に対するGMR素子の抵抗値の変化特性を示す一般的なグラフである。すなわち、前記感度異方性に関しては、前記長手方向を磁界の印加方向とする場合の方が、前記短手方向を磁界の印加方向とする場合よりも、印加磁界強度に対するGMR素子の抵抗値の変化が大きくなることからも理解される。   Considering this, the solid line in FIG. 6 is a general graph showing the change characteristic of the resistance value of the GMR element with respect to the applied magnetic field strength when the longitudinal direction of the GMR element is set as the magnetic field application direction. The broken line in FIG. 6 is a general graph showing the change characteristic of the resistance value of the GMR element with respect to the applied magnetic field strength when the short direction of the GMR element is set as the magnetic field application direction. That is, regarding the sensitivity anisotropy, the resistance value of the GMR element with respect to the applied magnetic field strength is greater when the longitudinal direction is the magnetic field application direction than when the short direction is the magnetic field application direction. It can also be understood from the fact that the change is large.

この第1実験結果から、GMR素子22a〜22dの長手方向において磁界強度を変化させることが、GMR素子22a〜22dの短手方向において磁界強度を変化させることよりも好ましいことが分かる。したがって、上記第1実施形態のように、GMR素子22a〜22dの長手方向が歯車40の回転方向に一致するように、磁気センサを歯車40に対して配置することが好ましい。その結果、上記第1実施形態の歯車40の回転検出においては、振幅の大きくかつ高精度な正弦波状の出力電圧を得ることができる。   From the results of the first experiment, it can be seen that changing the magnetic field strength in the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d is preferable to changing the magnetic field strength in the short direction of the GMR elements 22a to 22d. Therefore, it is preferable to arrange the magnetic sensor with respect to the gear 40 so that the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d coincides with the rotational direction of the gear 40 as in the first embodiment. As a result, in the rotation detection of the gear 40 of the first embodiment, it is possible to obtain a sinusoidal output voltage having a large amplitude and high accuracy.

a2.第2実験結果
次に、歯車ピッチの異なる歯車40に対して、上記第1実施形態のように磁気センサを配置して、歯車40を回転させて出力電圧を測定した。なお、ここで言う歯車ピッチとは、隣合う2つの歯41の回転方向幅の中心と歯車40の回転中心を結ぶ2つの直線が前記隣合う歯41の外周面と交差する2点間の円周方向の長さ、すなわち直線距離ではなく前記2点間の円弧の長さである。また、次の図8のおける電気角とは、1歯車ピッチを360度に対応させたものである。
a2. Second Experimental Result Next, with respect to the gear 40 having a different gear pitch, a magnetic sensor was arranged as in the first embodiment, and the output voltage was measured by rotating the gear 40. The gear pitch referred to here is a circle between two points where two straight lines connecting the center of the rotation width of the two adjacent teeth 41 and the rotation center of the gear 40 intersect the outer peripheral surface of the adjacent tooth 41. It is the length in the circumferential direction, that is, the length of the arc between the two points, not the linear distance. Moreover, the electrical angle in the next FIG. 8 corresponds to one gear pitch corresponding to 360 degrees.

図8(A)は歯車ピッチが2.36mmである場合の測定結果であり、図8(B)は歯車ピッチが3.14mmである場合の測定結果であり、図8(C)は歯車ピッチが4.71mmである場合の測定結果である。図8(A)(B)(C)においては、測定結果である出力電圧の変化を実線で示し、出力電圧波形と正弦波形との比較のために正弦波形を破線で示している。   8A shows the measurement results when the gear pitch is 2.36 mm, FIG. 8B shows the measurement results when the gear pitch is 3.14 mm, and FIG. 8C shows the gear pitch. It is a measurement result in case that is 4.71 mm. 8A, 8 </ b> B, and 8 </ b> C, the change in the output voltage as a measurement result is indicated by a solid line, and the sine waveform is indicated by a broken line for comparison between the output voltage waveform and the sine waveform.

この第2実験結果によれば、歯車ピッチが小さくなると、出力電圧の振幅値は低下するものの、いずれの場合でも、出力電圧はほぼ正弦波状に変化する。その結果、上記第1実施形態にように構成した磁気センサを用いて、上記第1実施形態のように歯車40に対して磁気センサを配置すれば、歯車ピッチが変化しても、高精度の正弦波信号を出力電圧として得ることができ、歯車40の回転位置を高精度で検出することができる。   According to the results of the second experiment, when the gear pitch is reduced, the amplitude value of the output voltage is reduced, but in any case, the output voltage changes in a substantially sine wave shape. As a result, if the magnetic sensor is arranged with respect to the gear 40 as in the first embodiment using the magnetic sensor configured as in the first embodiment, even if the gear pitch is changed, high accuracy is achieved. A sine wave signal can be obtained as an output voltage, and the rotational position of the gear 40 can be detected with high accuracy.

a3.第3実験結果
次に、上記背景技術(特許文献1)で説明したように、一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が歯車の回転方向になるように磁気センサを配置して、歯車の回転の測定結果と、上記第1実施形態の測定結果とを比較する。
a3. Third Experiment Result Next, as described in the background art (Patent Document 1), the magnetic sensor is arranged so that the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements is the rotation direction of the gear, and the rotation of the gear is The measurement result is compared with the measurement result of the first embodiment.

この場合、比較対象となる磁気センサにおいても、図9に示すように、上記第1実施形態のチップパッケージ10と同様なチップパッケージ10’内に、上記第1実施形態のアイランド部11、突出部12a,12b及びリードフレーム部13a〜13dと同様なアイランド部11’、突出部12a’,12b’及びリードフレーム部13a’〜13d ’が組み込まれている。   In this case, also in the magnetic sensor to be compared, as shown in FIG. 9, the island portion 11 and the protruding portion of the first embodiment are included in the chip package 10 ′ similar to the chip package 10 of the first embodiment. 12a, 12b and lead frame parts 13a-13d are incorporated with island parts 11 ', projecting parts 12a', 12b 'and lead frame parts 13a'-13d'.

アイランド部11’の前部上面には、センサチップ20’が固定されている。センサチップ20’は、上記第1実施形態の絶縁基板21と同様に絶縁基板21’の下面をアイランド部11’の上面に固着させている。また、絶縁基板21’の上面には、図10に示すように、上記第1実施形態の電極23a〜23d及び配線パターン24と同様な電極23a’〜23d’及び配線パターン24’が設けられている。また、電極23a’〜23d’は、上記第1実施形態のワイヤ14a〜14dと同様なワイヤ14a’〜14d’により、リードフレーム部13a’〜13d ’に電気接続されている。   A sensor chip 20 'is fixed on the upper surface of the front portion of the island portion 11'. In the sensor chip 20 ′, the lower surface of the insulating substrate 21 ′ is fixed to the upper surface of the island portion 11 ′ in the same manner as the insulating substrate 21 of the first embodiment. Further, as shown in FIG. 10, electrodes 23a ′ to 23d ′ and a wiring pattern 24 ′ similar to the electrodes 23a to 23d and the wiring pattern 24 of the first embodiment are provided on the upper surface of the insulating substrate 21 ′. Yes. The electrodes 23a 'to 23d' are electrically connected to the lead frame portions 13a 'to 13d' by wires 14a 'to 14d' similar to the wires 14a to 14d of the first embodiment.

この場合も、図10に示すように、絶縁基板21’には、GMR素子22a’,22d’が絶縁基板21’の上面における左側かつ前側部分に設けた長方形領域21a’に配置されるとともに、GMR素子22b’,22c’が絶縁基板21’の上面における右側かつ前側部分に配置されている。これらのGMR素子22a’〜22d’も、上記第1実施形態の場合と同様に、グラニュラ薄膜で形成されている。ただし、GMR素子22a’,22d’は、長方形領域21a’上に、長手方向を左右方向にするとともに短手方向を前後方向にして、それぞれ複数の折り返し部がある線状に形成されている。GMR素子22b’,22c’は、長方形領域21b’上に、長手方向を左右方向にするとともに短手方向を前後方向にして、それぞれ複数の折り返し部がある線状に形成されている。   Also in this case, as shown in FIG. 10, on the insulating substrate 21 ′, GMR elements 22a ′ and 22d ′ are arranged in a rectangular region 21a ′ provided on the left side and the front side portion of the upper surface of the insulating substrate 21 ′. The GMR elements 22b ′ and 22c ′ are arranged on the right side and the front side portion of the upper surface of the insulating substrate 21 ′. These GMR elements 22a 'to 22d' are also formed of a granular thin film as in the case of the first embodiment. However, the GMR elements 22a 'and 22d' are formed on the rectangular region 21a 'in a linear shape having a plurality of folded portions, the longitudinal direction being the left-right direction and the short direction being the front-rear direction. The GMR elements 22b 'and 22c' are formed on the rectangular region 21b 'in a linear shape having a plurality of folded portions with the longitudinal direction being the left-right direction and the short direction being the front-rear direction.

そして、GMR素子22a’,22b’は、絶縁基板21’の左右方向の中心線CL1’に対してそれぞれ左右対称に配置されている。また、GMR素子22c’,22d’も、前記中心線CL1’に対してそれぞれ左右対称に配置されている。なお、長方形領域21a’,21b’の面積は上記第1実施形態の長方形領域21a,21bの面積と同じであるとともに、GMR素子22a’〜22d’の線状部分の幅、長手方向及び短手方向の総長さも上記第1実施形態のGMR素子22a〜22dの線状部分の幅、長手方向及び短手方向の総長さとそれぞれ同じである。また、GMR素子22a’,22d’(長方形領域21a’)の中心位置とGMR素子22b’,22c’(長方形領域21b’)の中心位置との距離L10(素子ピッチ)は、上記第1実施形態の場合と同じ1.22mmである。   The GMR elements 22a 'and 22b' are arranged symmetrically with respect to the center line CL1 'in the left-right direction of the insulating substrate 21'. The GMR elements 22c 'and 22d' are also arranged symmetrically with respect to the center line CL1 '. The areas of the rectangular regions 21a ′ and 21b ′ are the same as the areas of the rectangular regions 21a and 21b of the first embodiment, and the widths, longitudinal directions, and short sides of the linear portions of the GMR elements 22a ′ to 22d ′ are used. The total length in the direction is also the same as the width of the linear portions of the GMR elements 22a to 22d of the first embodiment, and the total length in the longitudinal direction and the short direction. Further, the distance L10 (element pitch) between the center position of the GMR elements 22a ′ and 22d ′ (rectangular area 21a ′) and the center position of the GMR elements 22b ′ and 22c ′ (rectangular area 21b ′) is the first embodiment. It is the same 1.22 mm as in the case of.

チップパッケージ10’の下面には、上記第1実施形態のバイアス磁石30と同様に、ネオジウムと鉄を主原料としたネオジウム磁石で構成した直方体状のバイアス磁石30’が固着されている。このバイアス磁石30’においては、その上面及び下面は正方形で各辺の長さはそれぞれ3mm、3mmに設定され、厚みが5mmに設定されている。また、このバイアス磁石30’も、厚み方向を2等分する面を境界として分極されて境界面に対して垂直方向に2極に着磁されており、上側がN極になっているとともに、下側がS極になっている。そして、バイアス磁石30’は、その上面の中心位置を、GMR素子22a’,22d’とGMR素子22b’,22c’の中心を通る中心線CL2’と前記中心線CL1’との交点位置に対向させ、かつその上面の前後方向の一対の辺を前記中心線CL1’に平行にしている。これによって、バイアス磁石30’は、図9のGMR素子22a’〜22d ’上に記した矢印方向の磁界が発生し、GMR素子22a’〜22d ’には、それぞれ長手方向にバイアス磁界が印加される。この場合も、GMR素子22a’,22d’に印加されるバイアス磁界の方向は、GMR素子22b’,22c’に印加されるバイアス磁界の方向と反対になる。また、この場合も、バイアス磁石30’の上面からGMR素子22a’〜22d ’までの距離は、1.0mmに設定されている。   A rectangular parallelepiped bias magnet 30 ′ composed of neodymium magnets mainly composed of neodymium and iron is fixed to the lower surface of the chip package 10 ′, similarly to the bias magnet 30 of the first embodiment. In the bias magnet 30 ', the upper and lower surfaces are square, the length of each side is set to 3 mm and 3 mm, respectively, and the thickness is set to 5 mm. The bias magnet 30 'is also polarized with a plane that bisects the thickness direction as a boundary and is magnetized in two poles in a direction perpendicular to the boundary surface, and the upper side is an N pole. The lower side is the S pole. Then, the bias magnet 30 ′ has the center position of the upper surface facing the intersection of the center line CL1 ′ and the center line CL2 ′ passing through the centers of the GMR elements 22a ′ and 22d ′ and the GMR elements 22b ′ and 22c ′. And a pair of sides in the front-rear direction on the upper surface thereof are parallel to the center line CL1 ′. As a result, the bias magnet 30 'generates a magnetic field in the direction indicated by the arrow on the GMR elements 22a' to 22d 'in FIG. 9, and a bias magnetic field is applied to each of the GMR elements 22a' to 22d 'in the longitudinal direction. The Also in this case, the direction of the bias magnetic field applied to the GMR elements 22a 'and 22d' is opposite to the direction of the bias magnetic field applied to the GMR elements 22b 'and 22c'. Also in this case, the distance from the upper surface of the bias magnet 30 ′ to the GMR elements 22 a ′ to 22 d ′ is set to 1.0 mm.

そして、前記のように構成した磁気センサを用いた上記第1実施形態と同様な歯車40の回転の検出においても、図11に示すように、チップパッケージ10’の上面を歯車40の外周面に平行に対向させて、図示しない固定部品により歯車40に対して配置される。ただし、この場合には、磁気センサは、チップパッケージ10’の左右方向(中心線CL2’の方向)が歯車40の回転方向(歯41の移動方向)に一致、すなわちGMR素子22a’〜22d ’の長手方向が歯車40の回転方向に一致するように、歯車40に対して配置される。また、この場合も、GMR素子22a’〜22d ’の上表面から前記一つの歯41までの距離は0.8mmに設定されている。なお、歯車40の回転方向は、図9においてチップパッケージ10の右側に矢印で示す方向であり、図11において歯車40の下側に示す矢印の方向である。   Even in the detection of the rotation of the gear 40 similar to that in the first embodiment using the magnetic sensor configured as described above, the upper surface of the chip package 10 ′ is placed on the outer peripheral surface of the gear 40 as shown in FIG. Opposed in parallel, they are arranged with respect to the gear 40 by fixing parts (not shown). However, in this case, in the magnetic sensor, the left and right direction (the direction of the center line CL2 ′) of the chip package 10 ′ matches the rotation direction of the gear 40 (the moving direction of the teeth 41), that is, the GMR elements 22a ′ to 22d ′. Are arranged with respect to the gear 40 so that the longitudinal direction of the gear matches the rotational direction of the gear 40. Also in this case, the distance from the upper surface of the GMR elements 22a 'to 22d' to the one tooth 41 is set to 0.8 mm. Note that the rotation direction of the gear 40 is a direction indicated by an arrow on the right side of the chip package 10 in FIG. 9, and an arrow direction indicated on the lower side of the gear 40 in FIG. 11.

このように磁気センサを歯車40に対して配置した状態で、歯車40を回転させると、GMR素子22a’,22d’をそれらの素子面に対して平行に通過する磁界と、GMR素子22b’,22c’をそれらの素子面に対して平行に通過する磁界は互いに反対方向であって、それらの磁界強度は、180度の位相差をもってそれぞれほぼ正弦波状に変化する。具体的な磁界強度の変化は、上記説明した第1実施形態の場合と同じである。そして、GMR素子22a’〜22d ’を上記第1実施形態で説明したように電気回路装置に接続すれば(図4参照)、歯車40の回転を表し、歯41の1ピッチ分を1周期とする正弦波信号からなり、図12(A)〜(C)に示すような出力電圧信号が取り出される。   When the gear 40 is rotated in a state where the magnetic sensor is arranged with respect to the gear 40 in this way, a magnetic field passing through the GMR elements 22a ′ and 22d ′ in parallel to the element surfaces, and the GMR elements 22b ′, The magnetic fields passing through 22c 'in parallel to the element surfaces are in opposite directions, and their magnetic field strengths change substantially sinusoidally with a phase difference of 180 degrees. The specific change in magnetic field strength is the same as that in the first embodiment described above. When the GMR elements 22a ′ to 22d ′ are connected to the electric circuit device as described in the first embodiment (see FIG. 4), the rotation of the gear 40 is represented, and one pitch of the teeth 41 is defined as one cycle. The output voltage signal as shown in FIGS. 12A to 12C is extracted.

図12(A)は歯車ピッチが2.36mmである場合の測定結果であり、図12(B)は歯車ピッチが3.14mmである場合の測定結果であり、図12(C)は歯車ピッチが4.71mmである場合の測定結果である。図12(A)(B)(C)においても、測定結果である出力電圧の変化を実線で示し、出力電圧波形と正弦波形との比較のために正弦波形を破線で示している。   12A shows the measurement results when the gear pitch is 2.36 mm, FIG. 12B shows the measurement results when the gear pitch is 3.14 mm, and FIG. 12C shows the gear pitch. It is a measurement result in case that is 4.71 mm. 12A, 12B, and 12C, the change in the output voltage as a measurement result is shown by a solid line, and the sine waveform is shown by a broken line for comparison between the output voltage waveform and the sine waveform.

この第2実験結果によっても、歯車ピッチが小さくなると、出力電圧の振幅値は低下する。そして、歯車ピッチが3.14mmである場合には、図12(B)に示すように、出力電圧波形はほぼ正弦波状に変化する。しかし、歯車ピッチが2.36mmである場合、及び歯車ピッチが4.71mmである場合には、出力電圧波形は正弦波状に変化しない。すなわち、先行技術に示された磁気センサによる従来の歯車40の回転検出においては、出力電圧波形が、歯車ピッチに応じて大きく変化するとともに、正弦波形から大きくずれる。その結果、上記第1実施形態(本方式)によれば、前記先行技術(従来方式)の場合に比べて、歯車ピッチが変化しても、出力として高精度な正弦波信号を得ることができ、歯車の高精度な回転位置の検出が可能となる。   Also according to the result of the second experiment, the amplitude value of the output voltage decreases as the gear pitch decreases. When the gear pitch is 3.14 mm, as shown in FIG. 12B, the output voltage waveform changes almost sinusoidally. However, when the gear pitch is 2.36 mm and when the gear pitch is 4.71 mm, the output voltage waveform does not change in a sine wave shape. That is, in the conventional rotation detection of the gear 40 by the magnetic sensor shown in the prior art, the output voltage waveform changes greatly according to the gear pitch and deviates greatly from the sine waveform. As a result, according to the first embodiment (present system), a highly accurate sine wave signal can be obtained as an output even when the gear pitch is changed as compared with the prior art (conventional system). It is possible to detect the rotational position of the gear with high accuracy.

さらに、図13は、歯車ピッチを変化させた場合における、上記第1実施形態(本方式)による出力電圧のピーク間の差電圧を実線で示し、前記先行技術(従来方式)による出力電圧のピーク間の差電圧を破線で示している。これによれば、上記第1実施形態(本方式)によれば、前記先行技術(従来方式)による場合に比べて、歯車ピッチが小さな領域で大きな出力電圧が得られることも理解できる。   Further, FIG. 13 shows the voltage difference between the peaks of the output voltage according to the first embodiment (this method) when the gear pitch is changed by a solid line, and the peak of the output voltage according to the prior art (conventional method). The voltage difference between them is indicated by a broken line. According to this, it can also be understood that according to the first embodiment (present method), a large output voltage can be obtained in a region where the gear pitch is small as compared with the case of the prior art (conventional method).

b.第2実施形態
次に、磁性体である歯車40の回転を表す2相信号を出力する磁気センサについて説明する。図14は、第2実施形態に係る磁気センサのチップパッケージ50内の概略構成を示す平面図である。図15は、図14の磁気センサの斜視図である。なお、この第2実施形態においても、図14の上下方向を磁気センサの前後方向(図14の下側を磁気センサの前側、図14上側を磁気センサの後側)とし、図14の左右方向を磁気センサの左右方向とし、かつ図14における紙面の表裏方向を磁気センサの上下方向として説明する。
b. Second Embodiment Next, a magnetic sensor that outputs a two-phase signal representing the rotation of the gear 40, which is a magnetic body, will be described. FIG. 14 is a plan view showing a schematic configuration in the chip package 50 of the magnetic sensor according to the second embodiment. FIG. 15 is a perspective view of the magnetic sensor of FIG. Also in the second embodiment, the vertical direction of FIG. 14 is the front-rear direction of the magnetic sensor (the lower side of FIG. 14 is the front side of the magnetic sensor and the upper side of FIG. 14 is the rear side of the magnetic sensor). Is the left-right direction of the magnetic sensor, and the front-back direction of the paper surface in FIG. 14 is the vertical direction of the magnetic sensor.

チップパッケージ50は、上記第1実施形態と同様に、エポキシ樹脂により直方体状に構成されている。ただし、チップパッケージ50は、磁気センサの前後方向(及び左右方向)に対して傾けて配置されている。この場合も、チップパッケージ50内には、チップパッケージ50の上下方向のほぼ中央位置にて上下面に平行にして、薄板状に非磁性の導電体材料(例えば、銅板)で形成されたアイランド部51、突出部52a,52b及びリードフレーム部53a〜53hが組み込まれている。   The chip package 50 is formed in a rectangular parallelepiped shape with an epoxy resin, as in the first embodiment. However, the chip package 50 is disposed to be inclined with respect to the front-rear direction (and left-right direction) of the magnetic sensor. Also in this case, in the chip package 50, an island portion formed of a non-magnetic conductive material (for example, a copper plate) in a thin plate shape in parallel with the upper and lower surfaces at a substantially central position in the vertical direction of the chip package 50. 51, protrusions 52a and 52b, and lead frame portions 53a to 53h are incorporated.

アイランド部51は、平面視で略長方形状に構成され、チップパッケージ50のほぼ中央位置に、各辺をチップパッケージ50の上下面の各辺にほぼ平行にして配置されている。突出部52a,52bは、上記第1実施形態の突出部12a,12bと同一機能を有するもので、平面視で長尺状のほぼ長方形状に形成されている。突出部52aは、その右下端をアイランド部51に接続させてアイランド部51と一体形成され、その左上端をチップパッケージ50の左上側面から突出させている。突出部52bは、その右下端をチップパッケージ50の右下側面から突出させている。リードフレーム部53a〜53d及びリードフレーム部53e〜53hは、上記第1実施形態のリードフレーム部13a〜13dとそれぞれ同一機能を有するもので、平面視で長尺状のほぼ長方形状に形成されている。リードフレーム部53a,53f,53g,53hは、それらの右下端をチップパッケージ50の右下側面から突出させている。リードフレーム部53b,53c,53d,53eは、それらの左上端をチップパッケージ50の左上側面から突出させている。
面から突出させている。
The island portion 51 is formed in a substantially rectangular shape in plan view, and is arranged at a substantially central position of the chip package 50 with each side being substantially parallel to each side of the upper and lower surfaces of the chip package 50. The protrusions 52a and 52b have the same function as the protrusions 12a and 12b of the first embodiment, and are formed in a long and substantially rectangular shape in plan view. The protruding portion 52 a is integrally formed with the island portion 51 by connecting the lower right end to the island portion 51, and the upper left end protrudes from the upper left side surface of the chip package 50. The protruding portion 52 b has a lower right end protruding from the lower right side surface of the chip package 50. The lead frame portions 53a to 53d and the lead frame portions 53e to 53h have the same functions as the lead frame portions 13a to 13d of the first embodiment, respectively, and are formed in a long and substantially rectangular shape in plan view. Yes. The lead frame portions 53a, 53f, 53g, and 53h have their lower right ends projecting from the lower right side surface of the chip package 50. The lead frame portions 53b, 53c, 53d, and 53e have their upper left ends protruding from the upper left side surface of the chip package 50.
It protrudes from the surface.

アイランド部51の上面には、2つのセンサチップ20A,20Bが固定されている。これらのセンサチップ20A,20Bは、上記第1実施形態のセンサチップ20と同様に構成されているので、それらの具体的な構成に関しては、上記第1実施形態の場合と同じ符号を付して説明を省略する。   Two sensor chips 20 </ b> A and 20 </ b> B are fixed to the upper surface of the island portion 51. Since these sensor chips 20A and 20B are configured in the same manner as the sensor chip 20 of the first embodiment, their specific configurations are denoted by the same reference numerals as in the first embodiment. Description is omitted.

センサチップ20A,20Bは、前後位置及び左右位置をそれぞれ異ならせて絶縁基板21上に配置され、センサチップ20Bは、アイランド部51の上面上にて、センサチップ20Aを180度回転させて配置されている。センサチップ20Aにおける絶縁基板21の左右方向の中心線CL1、及びセンサチップ20Bにおける絶縁基板21の左右方向の中心線CL1は共に前後方向に延びており、前記2つの中心線CL1,CL1は互いに平行である。また、センサチップ20AにおけるGMR素子22a,22dとGMR素子22b,22cの中心を通る中心線CL2、及びセンサチップ20BにおけるGMR素子22a,22dとGMR素子22b,22cの中心を通る中心線CL2は共に左右方向に延びており、前記2つの中心線CL2,CL2は互いに平行である。   The sensor chips 20A and 20B are arranged on the insulating substrate 21 with different front and rear positions and left and right positions, and the sensor chip 20B is arranged on the upper surface of the island portion 51 by rotating the sensor chip 20A by 180 degrees. ing. The center line CL1 in the left-right direction of the insulating substrate 21 in the sensor chip 20A and the center line CL1 in the left-right direction of the insulating substrate 21 in the sensor chip 20B both extend in the front-rear direction, and the two center lines CL1, CL1 are parallel to each other. It is. The center line CL2 passing through the centers of the GMR elements 22a and 22d and the GMR elements 22b and 22c in the sensor chip 20A and the center line CL2 passing through the centers of the GMR elements 22a and 22d and the GMR elements 22b and 22c in the sensor chip 20B are both. The two center lines CL2 and CL2 are parallel to each other.

センサチップ20A,20Bの左右方向の配置に関しては、8個全てのGMR素子22a〜22dが歯車40の歯41の回転方向と直交する方向の幅内に収まっていればよく、センサチップ20A,20Bの両中心線CL1,CL1間の距離は適当に設定される。しかし、センサチップ20A,20Bの両中心線CL2,CL2間の距離L11は、2相の出力信号の位相差に関係するので、必要とする2相の出力信号の位相差に対応させて設定する必要がある。具体的には、前記必要とする2相の出力信号の位相差をαとするならば、歯車40の歯41の1ピッチの長さをLpとしたとき、前記距離L11は下記数1の関係にあるように設定される。
(数1)
L11/Lp=α/2π
As for the arrangement of the sensor chips 20A, 20B in the left-right direction, all eight GMR elements 22a-22d need only be within the width in the direction perpendicular to the rotation direction of the teeth 41 of the gear 40, and the sensor chips 20A, 20B. The distance between the center lines CL1 and CL1 is appropriately set. However, since the distance L11 between the center lines CL2 and CL2 of the sensor chips 20A and 20B is related to the phase difference between the two-phase output signals, the distance L11 is set corresponding to the required phase difference between the two-phase output signals. There is a need. Specifically, if the phase difference between the required two-phase output signals is α, when the length of one pitch of the teeth 41 of the gear 40 is Lp, the distance L11 is expressed by the following equation (1). Is set to
(Equation 1)
L11 / Lp = α / 2π

本第2実施形態では、歯41の1ピッチが3.14mmの歯車40の回転を検出し、かつ90度の位相の異なる2つの出力信号を得るために、前記距離L11は後述する歯車40の歯41の1ピッチである3.14mmの1/4である0.785mmに設定されている。   In the second embodiment, in order to detect the rotation of the gear 40 in which one pitch of the teeth 41 is 3.14 mm and to obtain two output signals having different phases of 90 degrees, the distance L11 is set to the gear 40 described later. It is set to 0.785 mm which is 1/4 of 3.14 mm which is one pitch of the teeth 41.

センサチップ20Aの電極23a〜23dは、上記第1実施形態のワイヤ14a〜14dと同様なワイヤ54a〜54dを介して、リードフレーム部53a〜53dにそれぞれ電気接続されている。センサチップ20Bの電極23a〜23dは、上記第1実施形態のワイヤ14a〜14dと同様なワイヤ55a〜55dを介して、リードフレーム部53e〜53hにそれぞれ電気接続されている。リードフレーム部53a,53eには外部に設けた電気回路装置から電圧Vが供給され、リードフレーム部53b,53fは前記電気回路装置により接地されている。リードフレーム部53c,53gは前記電気回路装置に電圧O1,O1をそれぞれ出力し、リードフレーム部53d,53hは前記電気回路装置に電圧O2,O2をそれぞれ出力する。これにより、センサチップ20AのGMR素子22a〜22dは図4に示す第1フルブリッジ回路を構成するとともに、センサチップ20BのGMR素子22a〜22dも図4に示す第2フルブリッジ回路を構成する。なお、前記電気回路装置が第1及び第2フルブリッジ回路に関する差動増幅器25をそれぞれ備えている点も上記第1実施形態と同じであり、センサチップ20A,20Bに関する各出力電圧O1,O2の差分電圧がそれぞれ出力される。   The electrodes 23a to 23d of the sensor chip 20A are electrically connected to lead frame portions 53a to 53d via wires 54a to 54d similar to the wires 14a to 14d of the first embodiment, respectively. The electrodes 23a to 23d of the sensor chip 20B are electrically connected to lead frame portions 53e to 53h via wires 55a to 55d similar to the wires 14a to 14d of the first embodiment, respectively. A voltage V is supplied to the lead frame portions 53a and 53e from an external electric circuit device, and the lead frame portions 53b and 53f are grounded by the electric circuit device. The lead frame portions 53c and 53g output voltages O1 and O1 to the electric circuit device, respectively, and the lead frame portions 53d and 53h output voltages O2 and O2 to the electric circuit device, respectively. Accordingly, the GMR elements 22a to 22d of the sensor chip 20A constitute a first full bridge circuit shown in FIG. 4, and the GMR elements 22a to 22d of the sensor chip 20B also constitute a second full bridge circuit shown in FIG. It is to be noted that the electrical circuit device includes the differential amplifiers 25 relating to the first and second full bridge circuits, respectively, which is the same as in the first embodiment, and the output voltages O1, O2 relating to the sensor chips 20A, 20B. A differential voltage is output.

チップパッケージ50の下面には、図15に示すように、永久磁石である直方体のバイアス磁石60がダイボンド材により固着されている。バイアス磁石60は、上記第1実施形態と同様に構成されており、この場合も、上面及び下面の長辺及び短辺の長さがそれぞれ7mm、3mmに設定され、厚みが3mmに設定されている。そして、バイアス磁石60は、その上面の中心位置を、センサチップ20Aにおける両中心線CL1,CL2の交点と、センサチップ20Bにおける両中心線CL1,CL2の交点とを結ぶ直線の中点に対向させ、かつその上面の両長辺間の中心を通る中心線CL3をセンサチップ20A,20Bにおける両中心線CL2,CL2に対して所定角度(本実施形態では45度)傾斜させている。これによって、バイアス磁石60は、図14のセンサチップ20A,20BにおけるGMR素子22a〜22d上にそれぞれ記した矢印方向の磁界を発生し、センサチップ20A,20BにおけるGMR素子22a〜22dには、それぞれ長手方向すなわちセンサチップ20A,20Bにおける中心線CL1,CL1に対して前記所定角度(本実施形態では45度)傾斜した方向のバイアス磁界が印加される。この場合も、センサチップ20A,20BにおけるGMR素子22a,22dに印加されるバイアス磁界の方向は、センサチップ20A,20BにおけるGMR素子22b,22cに印加されるバイアス磁界の方向とそれぞれ反対になる。また、この第2実施形態においても、バイアス磁石60の上面からセンサチップ20A,20BにおけるGMR素子22a〜22dまでの距離は、1.0mmに設定されている。   As shown in FIG. 15, a rectangular parallelepiped bias magnet 60 which is a permanent magnet is fixed to the lower surface of the chip package 50 by a die bond material. The bias magnet 60 is configured in the same manner as in the first embodiment. In this case, the lengths of the long side and the short side of the upper surface and the lower surface are set to 7 mm and 3 mm, respectively, and the thickness is set to 3 mm. Yes. The bias magnet 60 has the center position of the upper surface opposed to the midpoint of a straight line connecting the intersection of both center lines CL1 and CL2 in the sensor chip 20A and the intersection of both center lines CL1 and CL2 in the sensor chip 20B. A center line CL3 passing through the center between both long sides of the upper surface is inclined at a predetermined angle (45 degrees in the present embodiment) with respect to both center lines CL2 and CL2 in the sensor chips 20A and 20B. As a result, the bias magnet 60 generates magnetic fields in the directions indicated by the arrows on the GMR elements 22a to 22d in the sensor chips 20A and 20B in FIG. 14, respectively, and the GMR elements 22a to 22d in the sensor chips 20A and 20B respectively. A bias magnetic field in a direction inclined in the longitudinal direction, that is, the predetermined angle (45 degrees in the present embodiment) with respect to the center lines CL1 and CL1 in the sensor chips 20A and 20B is applied. Also in this case, the direction of the bias magnetic field applied to the GMR elements 22a and 22d in the sensor chips 20A and 20B is opposite to the direction of the bias magnetic field applied to the GMR elements 22b and 22c in the sensor chips 20A and 20B. Also in the second embodiment, the distance from the upper surface of the bias magnet 60 to the GMR elements 22a to 22d in the sensor chips 20A and 20B is set to 1.0 mm.

このように構成した第2実施形態に係る一対のセンサチップ20A,20Bを有する磁気センサも、上記第1実施形態の場合と同様に製造される。そして、前記製造された磁気センサを用いて磁性体である歯車40の回転の検出においては、上記第1実施形態の場合と同様に、磁気センサは、チップパッケージ50の上面が歯車40の歯41の外周面に平行に対向し、かつチップパッケージ50(センサチップ20A,20B)の前後方向(図14の両中心線CL1,CL1の方向)が歯車40の回転方向(歯41の移動方向)に一致、すなわちセンサチップ20A,20BにおけるGMR素子22a〜22dの長手方向が歯車40の回転方向に一致するように、図示しない固定部品により歯車40に対して配置される。この場合、歯車40の歯41の1ピッチは、3,14mmである。そして、この第2実施形態においても、センサチップ20A,20BにおけるGMR素子22a〜22dの上表面から前記一つの歯41の外周面までの距離は0.8mmに設定されている。また、歯車40の回転方向は、図14においてチップパッケージ50の右側に矢印で示す方向である。   The magnetic sensor having the pair of sensor chips 20A and 20B according to the second embodiment configured as described above is also manufactured in the same manner as in the case of the first embodiment. In the detection of the rotation of the gear 40, which is a magnetic material, using the manufactured magnetic sensor, the top surface of the chip package 50 has the teeth 41 of the gear 40 as in the case of the first embodiment. The front and rear direction of the chip package 50 (sensor chips 20A and 20B) (the direction of both center lines CL1 and CL1 in FIG. 14) is the rotational direction of the gear 40 (the moving direction of the teeth 41). In other words, the GMR elements 22a to 22d in the sensor chips 20A and 20B are arranged with respect to the gear 40 by a fixing component (not shown) so that the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d matches the rotation direction of the gear 40. In this case, one pitch of the teeth 41 of the gear 40 is 3,14 mm. Also in the second embodiment, the distance from the upper surface of the GMR elements 22a to 22d in the sensor chips 20A and 20B to the outer peripheral surface of the one tooth 41 is set to 0.8 mm. Further, the rotation direction of the gear 40 is a direction indicated by an arrow on the right side of the chip package 50 in FIG.

このように磁気センサを歯車40に対して配置した状態で、歯車40を回転させると、上記第1実施形態で説明したように、センサチップ20A,20Bに対応した一対の電気回路装置(図4参照)から、第1及び第2フルブリッジ回路の一対の正弦波状の差分電圧信号がそれぞれ出力される。この場合、歯車40の回転方向に直交するセンサチップ20Aにおける中心線CL2とセンサチップ20Bにおける中心線CL2との距離L11は、歯車40の歯41の1ピッチの1/4である。したがって、この第2実施形態においては、図16に実線及び破線で示すように、90度位相の異なる一対の出力A,Bを得ることができる。   When the gear 40 is rotated in a state where the magnetic sensor is arranged with respect to the gear 40 as described above, as described in the first embodiment, a pair of electric circuit devices corresponding to the sensor chips 20A and 20B (FIG. 4). From the reference), a pair of sinusoidal differential voltage signals of the first and second full-bridge circuits are respectively output. In this case, the distance L11 between the center line CL2 in the sensor chip 20A and the center line CL2 in the sensor chip 20B orthogonal to the rotation direction of the gear 40 is 1/4 of one pitch of the teeth 41 of the gear 40. Therefore, in the second embodiment, as shown by a solid line and a broken line in FIG. 16, a pair of outputs A and B having a phase difference of 90 degrees can be obtained.

その結果、歯車40の回転を表す正弦波状の出力A及び余弦波状の出力Bを得ることができ、出力A,Bを用いた逆正接(アークタンジェント)演算により、歯車40の回転角度を簡単に計算することもできる。また、上記第1実施形態に係る磁気センサにおいても、歯車40の回転角度を計算することはできるが、出力変化の少ないピーク値付近では1相出力のみでは検出角度の精度は悪化する。これに対して、この第2実施形態によれば、2相の出力A,Bを用いることにより、歯車40の回転角度を高精度で得ることができる。   As a result, a sine wave-like output A and a cosine wave-like output B representing the rotation of the gear 40 can be obtained, and the rotation angle of the gear 40 can be easily determined by arctangent calculation using the outputs A and B. It can also be calculated. Also, in the magnetic sensor according to the first embodiment, the rotation angle of the gear 40 can be calculated, but the accuracy of the detection angle is deteriorated only by the one-phase output near the peak value where the output change is small. In contrast, according to the second embodiment, the rotation angle of the gear 40 can be obtained with high accuracy by using the two-phase outputs A and B.

なお、前記第2実施形態においては、2相の出力A,Bを得るようにしたが、さらに多相の出力を得るようにしてもよい。この場合、出力数に等しい複数のセンサチップをチップパッケージ内に組込み、複数のセンサチップからの出力を得るようにすればよい。そして、前記第2実施形態のように、前記中心線CL2に対応した複数のセンサチップの中心線を歯車40の回転方向に直交させ、前記複数のセンサチップの中心線の間隔を所定の距離に定めるように、複数のセンサチップをチップパッケージ内に組込むようにする。例えば、120度ずつ位相の異なる3つの出力を得るためには、前記第2実施形態のセンサチップ20A,20Bに加えて、前記中心線CL2に対応した他の1つのセンサチップの中心線が前記中心線CL2に平行であり、各センサチップの前記中心線間の距離が歯車40の歯41の1ピッチ長さの1/3となるように、3つのセンサチップをチップパッケージ内に組込むようにすればよい。   In the second embodiment, the two-phase outputs A and B are obtained. However, a multi-phase output may be obtained. In this case, a plurality of sensor chips equal to the number of outputs may be incorporated in the chip package to obtain outputs from the plurality of sensor chips. Then, as in the second embodiment, the center lines of the plurality of sensor chips corresponding to the center line CL2 are orthogonal to the rotation direction of the gear 40, and the intervals between the center lines of the plurality of sensor chips are set to a predetermined distance. As defined, a plurality of sensor chips are incorporated into the chip package. For example, in order to obtain three outputs whose phases are different by 120 degrees, in addition to the sensor chips 20A and 20B of the second embodiment, the center line of another sensor chip corresponding to the center line CL2 is The three sensor chips are incorporated into the chip package so that the distance between the center lines of each sensor chip is 1/3 of one pitch length of the teeth 41 of the gear 40 and is parallel to the center line CL2. do it.

c.変形例
上記第1及び第2実施形態においては、各種長さ及び距離L1〜L11を所定の値に設定したが、この値は適宜変更され得る。また、上記第1及び第2実施形態においては、バイアス磁石30,60のチップパッケージ10,50(センサチップ20,20A,20B)側をN極にして反対側をS極に磁化したが、このN極とS極を逆にしてもよい。また、上記第1及び第2実施形態では、アイランド部11,51及び突出部12a,12b,52a,52bを、リードフレーム13a〜13d,53a〜53hと同様な非磁性の導電板で構成した。しかし、アイランド部11,51及び突出部12a,12b,52a,52bは導電性を必要としないので、非磁性であれば、導電性を有さない材料の薄板を用いてもよい。
c. Modification In the first and second embodiments, various lengths and distances L1 to L11 are set to predetermined values, but these values can be changed as appropriate. In the first and second embodiments, the bias magnets 30 and 60 are magnetized with the chip package 10 and 50 (sensor chip 20, 20A, 20B) side as the N pole and the opposite side as the S pole. The N pole and the S pole may be reversed. In the first and second embodiments, the island portions 11 and 51 and the projecting portions 12a, 12b, 52a, and 52b are configured by nonmagnetic conductive plates similar to the lead frames 13a to 13d and 53a to 53h. However, since the island portions 11 and 51 and the projecting portions 12a, 12b, 52a, and 52b do not require conductivity, a thin plate made of a material that does not have conductivity may be used as long as it is nonmagnetic.

また、上記第1及び第2実施形態においては、4個のGMR素子22a〜22dでフルブリッジ回路を構成し、フルブリッジ回路から正弦波状の出力信号を得て、歯車40の回転を検出するようにした。しかし、出力値は小さくなるが、2個のGMR素子22a,22b(又は22c,22d)でハーフブリッジ回路を構成し、ハーフブリッジ回路から正弦波状の出力信号を得て、歯車40の回転を検出するようにしてもよい。   In the first and second embodiments, a full bridge circuit is configured by the four GMR elements 22a to 22d, a sine wave output signal is obtained from the full bridge circuit, and the rotation of the gear 40 is detected. I made it. However, although the output value is small, a half bridge circuit is constituted by two GMR elements 22a and 22b (or 22c and 22d), a sine wave output signal is obtained from the half bridge circuit, and the rotation of the gear 40 is detected. You may make it do.

また、上記第1及び第2実施形態においては、バイアス磁石30,60によるバイアス磁界の方向が歯車40の回転方向に対して45度だけ傾斜させるようにした。しかし、センサチップ20,20A,20BにおけるGMR素子22a,22dとGMR素子22b,22cに反対方向のバイアス磁界が付与され、かつ歯車40の回転によりGMR素子22a,22dとGMR素子22b,22cとにおける磁界強度の逆方向の変化を得ることができれば、前記45度の傾斜角度を異ならせてもよい。例えば、前記傾斜角度は、20〜70度程度の範囲内であれば、正弦波状の出力を得ることができて歯車40の回転を検出できる。   In the first and second embodiments, the direction of the bias magnetic field generated by the bias magnets 30 and 60 is inclined by 45 degrees with respect to the rotation direction of the gear 40. However, a bias magnetic field in the opposite direction is applied to the GMR elements 22a and 22d and the GMR elements 22b and 22c in the sensor chips 20, 20A and 20B, and the rotation of the gear 40 causes the GMR elements 22a and 22d and the GMR elements 22b and 22c to If the change in the reverse direction of the magnetic field intensity can be obtained, the 45 degree inclination angle may be varied. For example, if the inclination angle is in the range of about 20 to 70 degrees, a sinusoidal output can be obtained and the rotation of the gear 40 can be detected.

また、上記第1及び第2実施形態においては、面内感磁素子である磁界強度検知型のGMR素子として、グラニュラ薄膜を用いたGMR素子22a〜22dを用いた。しかし、これに代えて、面内感磁素子である磁界強度検知型のGMR素子として、人工格子型のGMR素子を用いることができる。この人工格子型のGMR素子は、例えば、日本応用磁気学会誌Vol.15,No51991,P813〜821の「人工格子の磁気抵抗効果」と題する論文に記載されている数オングストロームから数十オングストロームの厚さの磁性層と非磁性層とを交互に積層させた積層体、いわゆる人工格子膜((Fe/Cr)n,(パーマロイ/Cu/Co/Cu)n,(Co/Cu)nなど)で構成される。   In the first and second embodiments, the GMR elements 22a to 22d using a granular thin film are used as the magnetic field intensity detection type GMR elements that are in-plane magnetosensitive elements. However, instead of this, an artificial lattice type GMR element can be used as a magnetic field intensity detection type GMR element which is an in-plane magnetosensitive element. This artificial lattice type GMR element has a thickness of several angstroms to several tens of angstroms described in a paper entitled “Magnetic Resistance Effect of Artificial Lattice” in Journal of Japan Society of Applied Magnetics Vol.15, No51991, P813 to 821 A laminated body in which magnetic layers and nonmagnetic layers are alternately laminated, so-called artificial lattice films ((Fe / Cr) n, (Permalloy / Cu / Co / Cu) n, (Co / Cu) n, etc.)) Composed.

また、上記第1及び第2実施形態では、GMR素子22a〜22dの長手方向を歯車40の回転方向に一致させて、歯車40の回転によりGMR素子22a〜22dの長手方向の磁界強度を変化させるようにした。しかし、GMR素子22a〜22dの短手方向を歯車40の回転方向に一致させて、歯車40の回転によりGMR素子22a〜22dの短手方向の磁界強度を変化させてもよい。これによっても、上述した第1実験結果で説明したように、振幅は多少減少するものの、歯車40の回転に応じた正弦波状の出力信号を得ることができる。また、GMR素子22a〜22dの長手方向又は短手方向を歯車40の回転方向に一致させずに、GMR素子22a〜22dの長手方向(又は短手方向)を歯車40の回転方向に対して傾斜させてもよい。   In the first and second embodiments, the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d is made to coincide with the rotational direction of the gear 40, and the magnetic field strength in the longitudinal direction of the GMR elements 22a to 22d is changed by the rotation of the gear 40. I did it. However, the short direction of the GMR elements 22a to 22d may be matched with the rotation direction of the gear 40, and the rotation of the gear 40 may change the magnetic field strength in the short direction of the GMR elements 22a to 22d. This also makes it possible to obtain a sinusoidal output signal corresponding to the rotation of the gear 40, although the amplitude is somewhat reduced as described in the first experimental result. Further, the longitudinal direction (or short direction) of the GMR elements 22a to 22d is inclined with respect to the rotational direction of the gear 40 without matching the longitudinal direction or short direction of the GMR elements 22a to 22d with the rotational direction of the gear 40. You may let them.

また、上記第1及び第2実施形態では、GMR素子として、グラニュラ薄膜を折り返しながら直線状に延設させたGMR素子22a〜22dを用いた。しかし、このGMR素子22a〜22dに代えて、渦巻き状のGMR素子を用いてもよい。この渦巻き状のGMR素子とは、絶縁基板上に、外側から内側に渦巻き状に線状のグラニュラ薄膜(又は人工格子膜)を延設させ、内側端から外側に渦巻き状に線状のグラニュラ薄膜(又は人工格子膜)を延設させたものである。   Further, in the first and second embodiments, the GMR elements 22a to 22d that are linearly extended while folding the granular thin film are used as the GMR elements. However, instead of the GMR elements 22a to 22d, spiral GMR elements may be used. The spiral GMR element is formed by extending a linear granular thin film (or artificial lattice film) spirally from the outside to the inside on an insulating substrate, and spirally linear linear thin film from the inner end to the outside. (Or an artificial lattice film) is extended.

また、上記第1及び第2実施形態では、バイアス磁界印加手段として、永久磁石であるバイアス磁石30,60を用いているが、これに代えて磁気コイルを用い、磁気コイルに電流を流すことによりバイアス磁界を発生させてもよい。   In the first and second embodiments, bias magnets 30 and 60, which are permanent magnets, are used as the bias magnetic field applying means. Instead, a magnetic coil is used and a current is passed through the magnetic coil. A bias magnetic field may be generated.

また、上記第1及び第2実施形態では、磁気センサを磁性体からなる歯車40の回転を検出する検出装置に適用した。しかし、上述した磁気センサは、歯車40でなくても、図17に示すように、磁性体からなる円盤状部材70の外周面に凹凸を形成した一つ以上の凸部71を有するような円盤状部材の回転の検出にも適用され得る。また、円盤状部材の外周面に一つ以上の凹部を有する円盤状部材の回転検出にも適用され得る。この場合も、上記第1及び第2実施形態の場合と同様に、凸部71の外周面に対向させて上述した磁気センサを配置すればよい。さらには、回転体でなくても、磁性体からなり凸部又は凹部を有していて直線的に移動する移動体の検出にも、上述した磁気センサは適用され得る。この場合も、移動体の凹凸部に対向させて上述した磁気センサを配置すればよい。   In the first and second embodiments, the magnetic sensor is applied to the detection device that detects the rotation of the gear 40 made of a magnetic material. However, the magnetic sensor described above is not the gear 40, but a disc having one or more convex portions 71 formed with irregularities on the outer peripheral surface of a disc-like member 70 made of a magnetic material, as shown in FIG. It can also be applied to the detection of the rotation of the member. Further, the present invention can be applied to rotation detection of a disk-shaped member having one or more recesses on the outer peripheral surface of the disk-shaped member. In this case as well, the magnetic sensor described above may be arranged facing the outer peripheral surface of the convex portion 71 as in the case of the first and second embodiments. Furthermore, the magnetic sensor described above can also be applied to detection of a moving body that is not a rotating body but is made of a magnetic body and has a convex portion or a concave portion and moves linearly. In this case as well, the above-described magnetic sensor may be disposed so as to face the uneven portion of the moving body.

10,50…チップパッケージ、11,51…アイランド部、13a〜13d,53a〜53h…リードフレーム部、14a〜14d,54a〜54d,55a〜55d…ワイヤ、20,20A,20B…センサチップ、21…絶縁基板、22a〜22d…GMR素子、23a〜23d…電極、24…配線パターン、30,60…バイアス磁石、40…歯車 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,50 ... Chip package, 11, 51 ... Island part, 13a-13d, 53a-53h ... Lead frame part, 14a-14d, 54a-54d, 55a-55d ... Wire, 20, 20A, 20B ... Sensor chip, 21 Insulating substrate, 22a to 22d ... GMR element, 23a to 23d ... electrode, 24 ... wiring pattern, 30, 60 ... bias magnet, 40 ... gear

Claims (7)

同一に構成されてブリッジ接続された磁界強度検知型の少なくとも一対のGMR素子と、
前記一対のGMR素子に対してバイアス磁界を印加するバイアス磁界印加手段とを備え、磁性体の移動を検出する磁気センサであって、
前記一対のGMR素子を同一の平面内に所定間隔を隔てて配置し、かつ
前記バイアス磁界印加手段を、前記平面内にて前記一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に直交する方向に対して所定角度傾いた方向であって、反対向きの等しい強度のバイアス磁界が前記一対のGMR素子に印加されるように配置したことを特徴とする磁気センサ。
At least a pair of magnetic field intensity detection type GMR elements that are identically configured and bridge-connected;
A magnetic field sensor for detecting movement of a magnetic body, comprising a bias magnetic field applying means for applying a bias magnetic field to the pair of GMR elements,
The pair of GMR elements are arranged at a predetermined interval in the same plane, and the bias magnetic field applying means is predetermined in a direction orthogonal to a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements in the plane. A magnetic sensor, wherein the magnetic field sensor is arranged so that bias magnetic fields of equal strength in opposite directions and in opposite directions are applied to the pair of GMR elements.
前記一対のGMR素子は、絶縁基板に形成された線状のグラニュラ薄膜又は線状の人口格子膜で構成され、かつ前記絶縁基板には前記一対のGMR素子に電気接続された複数の電極が設けられている請求項1に記載の磁気センサ。   The pair of GMR elements are composed of a linear granular thin film or a linear artificial lattice film formed on an insulating substrate, and the insulating substrate is provided with a plurality of electrodes electrically connected to the pair of GMR elements. The magnetic sensor according to claim 1. 前記一対のGMR素子、前記絶縁基板及び前記複数の電極は、樹脂により成型されたパッケージ内に収容され、かつ
前記複数の電極に電気接続された複数の導電性のリードフレームを、前記パッケージから突出させた請求項2に記載の磁気センサ。
The pair of GMR elements, the insulating substrate, and the plurality of electrodes are accommodated in a package molded of resin, and a plurality of conductive lead frames that are electrically connected to the plurality of electrodes protrude from the package. The magnetic sensor according to claim 2.
前記バイアス磁界印加手段を、直方体状であって長尺状の第1面をN極に磁化するとともに前記第1面の反対側の第2面をS極に磁化した永久磁石で構成し、
前記永久磁石を、前記第1面又は前記第2面を前記一対のGMR素子に対向させ、かつ前記一対のGMR素子に対向した前記第1面又は前記第2面における2つの長辺間の中心線が前記一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に対して前記所定角度だけ傾き、かつ前記一対のGMR素子の中心を結ぶ直線の中点が前記中心線上の点に対向するように配置した請求項1乃至3のうちのいずれか一つに記載の磁気センサ。
The bias magnetic field applying means is composed of a permanent magnet having a rectangular parallelepiped shape and magnetizing the long first surface to the N pole and the second surface opposite to the first surface to the S pole,
The permanent magnet has a center between two long sides of the first surface or the second surface, the first surface or the second surface being opposed to the pair of GMR elements, and the pair of GMR elements facing the pair of GMR elements. The line is disposed so that a line is inclined by the predetermined angle with respect to a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements, and a midpoint of the straight line connecting the centers of the pair of GMR elements is opposed to a point on the center line. The magnetic sensor according to any one of 1 to 3.
移動方向に対して直交する方向に延設された少なくとも1つの凸部又は凹部を有する磁性体の移動の検出に適用され、
前記一対のGMR素子を、前記一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が前記磁性体の移動方向に直交するように配置した請求項1乃至4のうちのいずれか一つに記載の磁気センサ。
Applied to the detection of the movement of a magnetic body having at least one convex part or concave part extending in a direction perpendicular to the moving direction;
5. The magnetic sensor according to claim 1, wherein the pair of GMR elements are arranged such that a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements is orthogonal to a moving direction of the magnetic body.
前記一対のGMR素子は、長手方向と短手方向の形状異方性を有し、かつ
前記一対のGMR素子を、長手方向が一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に直交するように配置した請求項1乃至5のうちのいずれか一つに記載の磁気センサ。
The pair of GMR elements have shape anisotropy in a longitudinal direction and a short direction, and the pair of GMR elements are arranged so that the longitudinal direction is orthogonal to a straight line connecting the centers of the pair of GMR elements. Item 6. The magnetic sensor according to any one of Items 1 to 5.
同一に構成されてブリッジ接続された磁界強度検知型の少なくとも一対のGMR素子からなる第1組のGMR素子と、
前記第1組のGMR素子とそれぞれ同一に構成されてブリッジ接続された磁界強度検知型の少なくとも一対のGMR素子からなる第2組のGMR素子と、
前記第1組の一対のGMR素子及び前記第2組の一対のGMR素子に対してバイアス磁界をそれぞれ印加するバイアス磁界印加手段とを備えた磁気センサであって、
前記第1組の一対のGMR素子を同一の平面内に所定間隔を隔てて配置し、
前記第2組の一対のGMR素子を、前記平面内に所定間隔を隔てるとともに、前記第2組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線が前記第1組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線と所定距離隔てて平行になるように配置し、かつ
前記バイアス磁界印加手段を、前記平面内にて前記第1組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線及び前記第2組の一対のGMR素子の中心を結ぶ直線に直交する方向に対してそれぞれ所定角度傾いた方向であって、反対向きの等しい強度のバイアス磁界が前記第1組の一対のGMR素子及び前記第2組の一対のGMR素子にそれぞれ印加されるように配置したことを特徴とする磁気センサ。
A first set of GMR elements comprising at least a pair of GMR elements of magnetic field strength detection type that are identically configured and bridge-connected;
A second set of GMR elements comprising at least a pair of magnetic field strength detection type GMR elements, each of which is configured identically to the first set of GMR elements and bridge-connected;
A magnetic sensor comprising bias magnetic field applying means for applying a bias magnetic field to the first pair of GMR elements and the second pair of GMR elements,
The first set of GMR elements are arranged at a predetermined interval in the same plane,
The second pair of GMR elements are spaced apart from each other by a predetermined distance in the plane, and a straight line connecting the centers of the second pair of GMR elements is a straight line connecting the centers of the first pair of GMR elements. And the bias magnetic field applying means includes a straight line connecting the centers of the first pair of GMR elements and the second pair of GMR elements in the plane. The bias magnetic fields having the same strength in opposite directions are inclined with respect to the direction orthogonal to the straight line connecting the centers of the first pair of GMR elements and the second pair of GMR elements. The magnetic sensor is arranged to be applied to each of the magnetic sensors.
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