JP2016104896A5 - - Google Patents

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水溶性のヒドロキシルアミン類としては、ヒドロキシルアミン;メチルヒドロキシルアミン、エチルヒドロキシルアミン、n‐プロピルヒドロキシルアミン、イソプロピルヒドロキシルアミン、n‐ブチルヒドロキシルアミン、tert-ブチルヒドロキシルアミン、シクロヘキシルヒドロキシルアミン等のN‐(C1−6アルキル)‐N‐ヒドロキシルアミン(上記化学式(1)において、一方のRがHであり、他方のRがC1−6アルキルである化合物);N,N‐ジメチルヒドロキシルアミン、N,N‐ジエチルヒドロキシルアミン等のN,N‐ビス(C1−6アルキル)‐N‐ヒドロキシルアミン(上記化学式(1)において、両方のRがC1−6アルキルである化合物);(2‐ヒドロキシエチル)ヒドロキシルアミン、(1,3‐ジヒドロキシ‐n‐プロピル)‐1‐ヒドロキシルアミン等のN‐(ヒドロキシC1−6アルキル)‐N‐ヒドロキシルアミン(上記化学式(1)において、一方のRがHであり、他方のRがC1−6ヒドロキシルアルキルである化合物);ビス(1,2-ジヒドロキシエチル)‐N‐ヒドロキシルアミン等のN,N‐ビス(ヒドロキシC1−6アルキル)‐N‐ヒドロキシルアミン(上記化学式(1)において、両方のRがC1−6ヒドロキシルアルキルである化合物);エチルヒドロキシメチルヒドロキシルアミン、エチル-2-ヒドロキシエチルヒドロキシルアミン、エチル-1,2-ジヒドロキシエチルヒドロキシルアミン等のN‐C1−6アルキル‐N‐(ヒドロキシC1−6アルキル)‐N‐ヒドロキシルアミン(上記化学式(1)において、一方のRがC1−6アルキルであり、他方のRがヒドロキシルC1−6アルキルである化合物)N‐ヒドロキシカルバミン酸およびそのエステル;N‐メチル‐N‐[1‐メチル‐2‐(メチルアミノ)エチル]ヒドロキシルアミン等のN‐アルキル‐N‐アミノアルキル‐N‐ヒドロキシルアミン;ヒドロキシルアミン‐N‐スルホン酸等が挙げられる。
水溶性のオキシム類としては、ホルムオキシム、アセトキシム、ピリジン‐2‐アルドキシム、ピリジン‐4‐アルドキシム、イソニトロソアセトフェノン、α‐ベンズアルドキシム、サリチルアルドキシム等のアルドキシム;ジメチルグリオキシム、2‐ブタノンオキシム、イソブチルメチルケトキシム、2,3‐ブタンジオンモノオキシム、1,3−ジヒドロキシアセトンオキシム、ピナコリンオキシム、3‐ヒドロキシ‐3‐メチル‐2‐ブタノンオキシム、ビオルル酸、ジアミノグリオキシム、2−イソニトロソプロピオフェノン、ジ−2−ピリジルケトキシム、シクロペンタノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、シクロヘプタノンオキシム、アセトフェノンオキシム、α‐ベンゾインオキシム、β‐イサトキシム、ジアセチルモノオキシム、フタロキシム等のケトキシム;グリオキシムグリオキサルジオキシム、2,3‐ブタンジオンジオキシム、2,4‐ペンタンジオンジオキシム、1,4‐ベンゾキノンジオキシム、1,2‐シクロヘキサンジオンジオキシム、1,4‐シクロヘキサンジオンジオキシム、オキサミドジオキシム、ジクロログリオキシム、ジメドンジオキシム、ニオキシム等のジオキシム;ベンズアミドオキシム;N,N”‐ジヒドロキシエタンジイミドアミド等が挙げられる。
なお、表1に示すエッチング剤の各成分の濃度は、純物質としての濃度であり、表1に示す各エッチング剤の配合成分の残部はイオン交換水である。深さ方のエッチング量は、60秒間のエッチング処理の前後の重量変化から求めたエッチング速度(μm/分)に基づいて、エッチング時間から算出した値である。各実施例および比較例のエッチング後の試験基板のSEM観察写真(加速電圧20kV、試料傾斜角45°、倍率1500倍)を、図2〜18に示す。
<樹脂複合体の形成および引張せん断強度測定試験>
上記処理後の試験基板1の表面に、幅10mm、長さ30mm、厚み5.0mmのナイロン6(東レ製 アミランCM1011)樹脂板2を重ね合せ(重ねしろ:10mm)、ポリイミド耐熱テープで仮固定した後、250℃のホットプレート上で2分間加熱してナイロン樹脂を硬化させ、図1に示すマグネシウム−樹脂複合体10を作製した。この複合体のマグネシウム合金部および樹脂部をクランプし、オートグラフ(島津製作所製 オートグラフAGS−X10kN)により接合部の引張せん断強度を測定した。引張せん断強度の測定結果を表1に示す。
Figure 2016104896
硝酸が用いられた比較例3(図11)では、表面形状の凹凸が浅く、かつ面内の凹凸の形成が不均一であるため、接合強度が小さいと考えられる。相対的に高濃度の塩酸あるは硫酸が用いられた比較例1,2(図9,10)では、比較例3に比べると凹凸が深く、面内均一性も高いが、実施例(図2〜8)に比べると、凹凸が粗大で均一性も低いことがわかる。また、相対的に低濃度の酸が用いられた比較例4〜6(図12〜14)では、凹凸が粗大化し、凹凸形状の面内均一性も低下している。
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CN201580065256.3A CN107018669A (zh) 2014-12-01 2015-09-17 蚀刻剂及其补给液、镁构件的表面粗化方法以及镁-树脂复合体的制造方法
US15/531,764 US20170268112A1 (en) 2014-12-01 2015-09-17 Etching agent and replenishing solution therefor, method for roughening surface of magnesium component, and method for manufacturing magnesium-resin composite
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PCT/JP2015/076483 WO2016088432A1 (ja) 2014-12-01 2015-09-17 エッチング剤およびその補給液、マグネシウム部品の表面粗化方法、ならびにマグネシウム-樹脂複合体の製造方法
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TW104138049A TW201627534A (zh) 2014-12-01 2015-11-18 蝕刻劑及其補給液、鎂構件的表面粗化方法以及鎂/樹脂複合體的製造方法

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3311556B1 (en) * 2015-06-19 2020-07-29 M&C Mfg. (Singapore) Pte. Ltd. Method of manufacturing the metal frame for the mobile communication terminal
CN106400018B (zh) * 2016-06-28 2019-01-04 北京石油化工学院 一种挤压态镁锂合金的金相腐蚀剂及其使用方法
TWI829142B (zh) * 2021-04-28 2024-01-11 日商斯庫林集團股份有限公司 基板處理方法及處理液
JP7125804B1 (ja) * 2021-06-18 2022-08-25 ドングァン ディーエスピー テクノロジー カンパニー リミテッド ポリマーとマグネシウムの接合体のためのマグネシウム表面処理方法
WO2023068133A1 (ja) * 2021-10-22 2023-04-27 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法と基板処理装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH422470A (fr) * 1963-08-10 1966-10-15 Borg Holding Ag Procédé de décapage et de nettoyage d'ouvrages au moins en partie métalliques, notamment d'installations thermiques
US5143562A (en) * 1991-11-01 1992-09-01 Henkel Corporation Broadly applicable phosphate conversion coating composition and process
US6261466B1 (en) * 1997-12-11 2001-07-17 Shipley Company, L.L.C. Composition for circuit board manufacture
US7008554B2 (en) * 2001-07-13 2006-03-07 Applied Materials, Inc. Dual reduced agents for barrier removal in chemical mechanical polishing
US8703272B2 (en) * 2005-10-04 2014-04-22 Taisei Plas Co., Ltd. Composite of metal and resin and method for manufacturing same
CN101541697A (zh) * 2006-11-10 2009-09-23 旭硝子株式会社 平板显示器用玻璃基板及其制造方法以及采用该玻璃基板的显示面板
KR101115786B1 (ko) * 2006-12-06 2012-03-09 다이세이 플라스 가부시끼가이샤 고내식성 복합체의 제조 방법
EP2580303B1 (en) * 2010-06-09 2018-08-29 Basf Se Aqueous alkaline etching and cleaning composition and method for treating the surface of silicon substrates
JP5685845B2 (ja) * 2010-07-20 2015-03-18 東ソー株式会社 エッチング用組成物
JP5219304B2 (ja) * 2010-12-14 2013-06-26 メック株式会社 エッチング剤及びこれを用いたエッチング方法
KR101396196B1 (ko) * 2011-10-06 2014-05-19 (주)일광폴리머 마그네슘 합금 수지 복합 구조물과 그 제조방법 및 마그네슘 합금의 제조방법
JP6135999B2 (ja) * 2012-04-10 2017-05-31 三菱瓦斯化学株式会社 銅およびモリブデンを含む多層膜のエッチングに使用される液体組成物、およびそれを用いたエッチング方法
US9612490B2 (en) * 2012-12-28 2017-04-04 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display
JP6261926B2 (ja) * 2013-09-18 2018-01-17 関東化學株式会社 金属酸化物エッチング液組成物およびエッチング方法

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