JP2016098123A5 - - Google Patents
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Description
［５］前記平坦部及び前記面取部の間のなす角度θが、３〜１５°である前記［１］〜［４］のいずれかに記載の生トチ。
また、面積比率Ｒが規定範囲の上限値（＝８５％）であり、かつ角度θも規定範囲の上限値（＝５０°）または上限値の近傍（＝４５°）である場合（比較例３，４）及び面積比率Ｒが規定範囲の下限値（＝１０％）の場合（比較例５）には、ハニカム構造体底面の真円度及び焼成前後のハニカム構造体底面の真円度の差において“Ｃ”の評価が示された。特に、比較例５においては、支持面積が小さいため、凹みの評価が僅かに低下した。更に、面積比率Ｒが規定範囲の下限値を下回る場合（比較例６）、特に凹みが大きくなることが示された。一方、従来のプレストチの場合（比較例８）、特にセル隔壁の変形が顕著に確認された。
Claims (1)
- 前記平坦部及び前記面取部の間のなす角度θが、３〜１５°である請求項１〜４のいずれか一項に記載の生トチ。
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