JP2016090637A - ビームスプリッタ - Google Patents
ビームスプリッタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016090637A JP2016090637A JP2014221198A JP2014221198A JP2016090637A JP 2016090637 A JP2016090637 A JP 2016090637A JP 2014221198 A JP2014221198 A JP 2014221198A JP 2014221198 A JP2014221198 A JP 2014221198A JP 2016090637 A JP2016090637 A JP 2016090637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam splitter
- film
- transparent substrate
- carbon film
- silicon carbide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
【課題】単結晶シリコンカーバイドの優れた透過特性を活かしたビームスプリッタを提供する。
【解決手段】単結晶シリコンカーバイドからなる透明基板1の一方の主表面に、カーボン膜2あるいはカーボン膜とダイヤモンドライクカーボン膜の積層膜からなるビームスプリッタ膜が形成されている。スプリッタ膜は、入射する光の一部を反射し、一部の光は透明基板を通過させる構成となっている。また、表面に周期的な凹凸形状を備える構成となっている。
【選択図】図2
【解決手段】単結晶シリコンカーバイドからなる透明基板1の一方の主表面に、カーボン膜2あるいはカーボン膜とダイヤモンドライクカーボン膜の積層膜からなるビームスプリッタ膜が形成されている。スプリッタ膜は、入射する光の一部を反射し、一部の光は透明基板を通過させる構成となっている。また、表面に周期的な凹凸形状を備える構成となっている。
【選択図】図2
Description
本発明は、ビームスプリッタに関し、特に厳しい使用環境下でも光学特性の劣化のないビームスプリッタに関する。
近年、人工衛星と地上との間でレーザー光を用いて交信するなど、使用環境の厳しい中で光学系装置が使用される場合が増え、高温、高真空環境下においても使用できるビームスプリッタが必要となってきている。
一般的なビームスプリッタでは、透明基板であるガラス基板上に高屈折率材料層と低屈折率材料層を交互に積層形成したフィルタ特性を有する光学多層膜フィルタが形成されている。しかし、従来のガラス基板は高温下で、温度変化が著しく大きな環境(宇宙)での使用には適さない。
一方、高温環境下での使用に適した光学ミラーとして、基体としてシリコンカーバイド−シリコン複合材料を用いた技術が開示されている(特許文献1)。しかし、特許文献1に開示されている基体は、焼結体であり、基体を透過させるタイプのビームスプリッタとしては利用することはできない。
従来提案されているシリコンカーバイド材料を用いた光学ミラーは反射ミラーであり、可視波長領域〜赤外波長領域の光に対して透明度が高いというシリコンカーバイドの特性を十分には発揮するものではなかった。本発明は、単結晶シリコンカーバイドの優れた透過特性を活かしたビームスプリッタを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本願請求項1に係る発明は、透明基板の一方の主表面にビームスプリッタ膜が形成されたビームスプリッタにおいて、前記透明基板は単結晶シリコンカーバイドからなり、前記ビームスプリッタ膜はカーボン膜あるいはカーボン膜とダイヤモンドライクカーボン膜の積層膜であることを特徴とする。
本願請求項2に係る発明は、請求項1記載のビームスプリッタにおいて、前記ビームスプリッタ膜は、入射する光の一部を反射させるとともに、入射する光の一部は前記透明基板を透過させることを特徴とする。
本願請求項3に係る発明は、請求項1記載のビームスプリッタにおいて、前記ビームスプリッタ膜は、周期的な凹凸形状を備え、入射する光の偏光成分を区別して一部を反射させ、別の偏光成分は前記透明基板を透過させることを特徴とする。
本発明のビームスプリッタは、高真空、低温から高温にわたる熱サイクル、放射線等の影響に対して優れた耐環境性を有する単結晶シリコンカーバイドを透明基板として使用するため、宇宙空間のような厳しい環境下でも光学特性が劣化することはない。
また本発明のビームスプリッタは、入射する光を反射させるとともに一部の光は透明基板を透過させる光学ミラーあるいは回析格子として用いた場合、透明基板を構成する単結晶シリコンカーバイドの可視光領域から赤外線領域にわたる優れた透過性を利用することができる。
本発明に係るビームスプリッタは、透明基板として単結晶シリコンカーバイド(SiC)を使用し、さらにその表面にスプリッタ膜となるカーボン膜によって被覆された構造となっている。このような構造とすることにより波長400nm〜1000nmの領域でなだらかに変化する反射率となり、波長依存性の少ないビームスプリッタとすることが可能となる。
具体的には、一例として4H−SiC基板上に50nmのカーボン膜を積層形成したときの反射特性を図1に示す。図1に示すように、4H−SiC基板のみ(図中「SiC」と表示)では、波長400nmから1000nmで反射率が不規則に変化するのに対し、カーボン膜で被覆する(図中「SiC+C」と表示)ことにより反射率の変化の揺らぎがなくなり、緩やかに変化する特性となる。以下、本発明の実施例について説明する。
本発明の第1の実施例について説明する。ビームスプリッタとして光学ミラーを形成した場合を図2に示す。図2に示すように、4H−SiCからなる透明基板1の表面および裏面に50nm程度のカーボン膜2が積層形成されている。透明基板1の表面は、目視鏡面仕上げ程度に研磨しておけば十分であるが、通常のSiC基板の鏡面仕上げ同様、適切な研磨処理とCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理を行うことで、算術平均粗さRa<1nm程度の鏡面仕上げを行うとさらに効果的である。
鏡面仕上げされた透明基板1表面にカーボン膜を被覆する際には、表面を清浄化した後、表面の水分を十分に蒸発させ、スパッタ法によりカーボン膜2を50nm堆積させる。ここで、透明基板1を200℃以上に加熱することで、カーボン膜を脱ガスする効果があり好ましい。一方常温でスパッタする場合や本発明の光学ミラーの使用温度が高温となる場合には、使用温度を越える温度のアニール処理を加えると、透明基板1とカーボン膜2との結合を安定化させることもできる。
4H−SiCからなる透明基板1上に50nmのカーボン膜2を積層し、アルゴン雰囲気で1700℃のアニール処理を加えたときの反射特性を図3に示す。図3に示すように、波長400nm〜1000nmの領域でなだらかに変化する反射率となり、波長依存性の少ない光学ミラーとすることが可能となる。
本発明の光学ミラーは、透明基板1を構成する単結晶シリコンカーバイドの透過特性により、可視波長領域〜赤外波長領域の光に対して透明度が高く、ハーフミラー等透明基板を入射光の一部が透過するタイプの光学ミラーとして好適である。
なお、ビームスプリッタ膜として使用するカーボン膜は、カーボン膜とダイヤモンドライクカーボン膜との積層膜であっても良い。ダイヤモンドライクカーボンは、製造方法を調整することで、その熱膨張係数をシリコンカーバイドの熱膨張係数に近い膜とすることができ、高温環境下で使用する場合の光学ミラーとして好適である。
次に第2の実施例について説明する。ビームスプリッタとして回析格子を形成した場合を図4に示す。図4に示すように、4H−SiCからなる基板1の表面に厚さ数百nm程度回析格子パターン3が形成されたカーボン膜が積層形成されている。透明基板1の表面は、目視鏡面仕上げ程度に研磨しておけば十分であるが、通常のSiC基板の鏡面仕上げ同様、適切な研磨処理とCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理を行うことで、算術平均粗さRa<1nm程度の鏡面仕上げを行うとさらに効果的である。
鏡面仕上げされた透明基板1表面に、カーボン膜を被覆する際には、表面を清浄化した後、表面の水分を十分に蒸発させ、スパッタ法によりカーボン膜を50nm堆積させる。ここで、透明基板1を200℃以上に加熱することで、カーボン膜を脱ガスする効果があり好ましい。一方常温でスパッタする場合や本発明の回析格子の使用温度が高温となる場合には、使用温度を越える温度のアニール処理を加えると、透明基板1とカーボン膜との結合を安定化させることもできる。
次に回析格子パターンを形成するため、カーボン膜上にフォトレジストを所定の形状にパターニングし、露出するカーボン膜の一部を酸素プラズマを用いてエッチング除去する。エッチングされた部分(凹形状の底)のカーボン膜は、50nm程度残すようにする。その後フォトレジストを除去することで、図4に示すような回析格子パターン3を備えた回析格子を形成することができる。
本実施例に使用するカーボン膜も、図1に示すように波長400nm〜1000nmの領域でなだらかに変化する反射率となり、波長依存性の少ない回析格子とすることが可能となる。カーボン膜に1700℃のアニール処理を加え、図3に示す反射特性とすることも可能である。
本発明の回析格子は、透明基板1を構成する単結晶シリコンカーバイドの透過特性により、可視波長領域〜赤外波長領域の光に対して透明度が高く、透明基板を入射光の一部が透過するタイプの回析格子として好適である。
なお、ビームスプリッタ膜として使用するカーボン膜は、カーボン膜とダイヤモンドライクカーボン膜との積層膜であっても良い。ダイヤモンドライクカーボン膜は、製造方法を調整することで、その熱膨張係数をシリコンカーバイドの熱膨張係数に近い膜とすることができ、高温環境下で使用する場合の光学ミラーとして好適である。
1:透明基板、2:カーボン膜、3:回析格子パターン
Claims (3)
- 透明基板の一方の主表面にビームスプリッタ膜が形成されたビームスプリッタにおいて、
前記透明基板は単結晶シリコンカーバイドからなり、前記ビームスプリッタ膜はカーボン膜あるいはカーボン膜とダイヤモンドライクカーボン膜の積層膜であることを特徴とするビームスプリッタ。 - 請求項1記載のビームスプリッタにおいて、前記ビームスプリッタ膜は、入射する光の一部を反射させるとともに、入射する光の一部は前記透明基板を透過させることを特徴とするビームスプリッタ。
- 請求項1記載のビームスプリッタにおいて、前記ビームスプリッタ膜は、周期的な凹凸形状を備え、入射する光の偏光成分を区別して一部を反射させ、別の偏光成分は前記透明基板を透過させることを特徴とするビームスプリッタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014221198A JP2016090637A (ja) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | ビームスプリッタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014221198A JP2016090637A (ja) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | ビームスプリッタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016090637A true JP2016090637A (ja) | 2016-05-23 |
Family
ID=56018488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014221198A Pending JP2016090637A (ja) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | ビームスプリッタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016090637A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001091713A (ja) * | 1999-09-22 | 2001-04-06 | Nippon Pillar Packing Co Ltd | レーザミラー |
JP2006003384A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Sony Corp | 偏光ビームスプリッタ、及び液晶プロジェクタ装置 |
JP2006053992A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ピックアップ装置およびその製造方法 |
US20100091236A1 (en) * | 2008-04-03 | 2010-04-15 | Pasquale Matera | Polarized eyewear |
-
2014
- 2014-10-30 JP JP2014221198A patent/JP2016090637A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001091713A (ja) * | 1999-09-22 | 2001-04-06 | Nippon Pillar Packing Co Ltd | レーザミラー |
JP2006003384A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Sony Corp | 偏光ビームスプリッタ、及び液晶プロジェクタ装置 |
US20060098283A1 (en) * | 2004-06-15 | 2006-05-11 | Yoshihisa Sato | Polarization beam splitter and liquid crystal projector apparatus |
JP2006053992A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ピックアップ装置およびその製造方法 |
US20100091236A1 (en) * | 2008-04-03 | 2010-04-15 | Pasquale Matera | Polarized eyewear |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Lee et al. | Omnidirectional Flexible Transmissive Structural Colors with High‐Color‐Purity and High‐Efficiency Exploiting Multicavity Resonances | |
KR102360078B1 (ko) | 향상된 성능의 금속계 광학 미러 기판 | |
JP2020516941A (ja) | 赤外線光学機器の反射防止膜 | |
FR2898295B1 (fr) | Substrat transparent antireflet presentant une couleur neutre en reflexion | |
JP2014032213A (ja) | 赤外線用光学機能膜 | |
JP2017040909A5 (ja) | 光学フィルタおよびそれを有する光学系、撮像装置 | |
JP2013097160A5 (ja) | ||
JP4692486B2 (ja) | 光学フィルタおよび光学フィルタの製造方法 | |
US20170182749A1 (en) | Substrate ceramic laminate | |
JP5896889B2 (ja) | 光学選択膜 | |
JP5888124B2 (ja) | 多層膜フィルタ、及び多層膜フィルタの製造方法 | |
CN104407405A (zh) | 一种可变反射率镜 | |
US10162091B1 (en) | Silicon film optical filtering systems and methods of fabrication | |
JP2019015764A5 (ja) | ||
JP2016090637A (ja) | ビームスプリッタ | |
JP2009192708A (ja) | ビームスプリッター、並びにそれを利用した一眼レフデジタルカメラ及びオートフォーカスビデオカメラ | |
JPH07209516A (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
JP2008032804A (ja) | 光学素子 | |
JP2017009704A (ja) | 多層膜を用いた光学素子、光学系および光学機器 | |
JP5730147B2 (ja) | 炭酸ガスレーザー光を透過させる光学素子および反射防止膜 | |
JP2006072031A (ja) | 赤外域用反射防止膜およびこれを用いた赤外線レンズ | |
JPWO2006092919A1 (ja) | 光学素子及び光学素子の製造方法 | |
JP2019059986A (ja) | 薄膜の形成方法及び光学素子 | |
CN207440323U (zh) | 一种光通信用1550纳米波段的偏振不相关宽带反射光栅 | |
JP2008064976A (ja) | 光通信用ミラー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180410 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180411 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20181016 |