JP2016083938A - Light-transmitting conductive film and light-transmitting film with hard coat - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム
に関する。
The present invention relates to a light-transmitting conductive film and a light-transmitting film with a hard coat.
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、光透過性導電性フィルムが使用されている。光透過性導電性フィルムには、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層等が積層されている。光透過性導電性フィルムは、通常、光透過性導電層側をタッチパネルの操作面側を向けてタッチパネルに配置されている。光透過性導電性フィルムには、光透過性支持層表面の傷つきを防止する目的で、ハードコート層と呼ばれる、比較的表面硬度の高い層が設けられている。ハードコート層は、通常、光透過性支持層のタッチパネルの操作面側を向いている面に隣接して設けられている。 As the conductive film mounted on the touch panel, a light transmissive conductive film is used. In the light transmissive conductive film, a light transmissive conductive layer made of indium tin oxide (ITO) or the like is laminated on a light transmissive support layer made of plastic. The light transmissive conductive film is usually disposed on the touch panel with the light transmissive conductive layer side facing the operation surface side of the touch panel. The light-transmitting conductive film is provided with a layer having a relatively high surface hardness, called a hard coat layer, for the purpose of preventing scratches on the surface of the light-transmitting support layer. The hard coat layer is usually provided adjacent to the surface of the light transmissive support layer facing the operation surface side of the touch panel.
タッチセンサーとして用いるために、光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した上でタッチパネルに搭載されている。センサー電極用パターンが形成された光透過性導電性フィルムでは、フィルム表面を見たときにセンサー電極用パターンが視認されること（いわゆる骨見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。ところで、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した光透過性導電性フィルムは、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じることがあった。 In order to use as a touch sensor, the light-transmitting conductive film is mounted on the touch panel after forming a sensor electrode pattern by etching the light-transmitting conductive layer. In a light-transmitting conductive film in which a sensor electrode pattern is formed, it is known that the sensor electrode pattern is visually recognized when the film surface is viewed (so-called bone visibility phenomenon). By the way, the light-transmitting conductive film in which the light-transmitting conductive layer is etched to form the sensor electrode pattern is reflected in the reflected light reflected on the surface of the sensor electrode pattern due to the shape of the electrode pattern. Distortion may occur.
なお、光透過性導電性フィルムの熱収縮率を抑制してフィルムに皺が発生しにくくする技術が提案されている（特許文献１）。また、ハードコート層に関する発明として、ハードコート層の平均厚みを０．０５μｍ〜１０μｍとし、ナノインデンターを用いた押し込み量が０．２μｍ程度の光透過性導電性フィルム（特許文献２）や、タッチパネル端部領域での筆記耐久性に着目した光透過性導電性フィルム（特許文献３）などがある。しかしながら、いずれの技術も、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面の反射光に歪みが生じるという上記の現象を解決するものではなかった。 In addition, the technique which suppresses the thermal contraction rate of a light transmissive conductive film and makes it difficult to generate | occur | produce a wrinkle on a film is proposed (patent document 1). Moreover, as invention regarding a hard-coat layer, the average thickness of a hard-coat layer shall be 0.05 micrometer-10 micrometers, and the indentation amount using a nano indenter is about 0.2 micrometer (patent document 2), There is a light-transmitting conductive film (Patent Document 3) that focuses on the writing durability in the end region of the touch panel. However, none of the techniques solves the above phenomenon that the reflected light on the surface of the sensor electrode pattern is distorted due to the shape of the electrode pattern.
光透過性導電性フィルムにおいて、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制することを課題とする。 It is an object of the present invention to suppress a phenomenon that distortion occurs in reflected light reflected on the surface of a sensor electrode pattern due to the shape of the electrode pattern in the light transmissive conductive film.
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象の原因パラメータを特定し、かつ定量化することにより、確実にセンサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を低減できることを新たに見出した。本発明は、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
レーザー顕微鏡を用いて測定される前記電極用パターン形状の段差が０．２μｍ〜１．２μｍであり、かつ
前記ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さが６３０〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項２．
前記光透過性支持層（Ａ）は、ポリエステルフィルムである、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置するハードコート付き支持フィルムであって、
最外層に位置する前記ハードコート層（Ｂ）側のナノインデンター硬さが６３０〜１０００ＭＰａであることを特徴とするハードコート付き支持フィルム。
項４．
前記光透過性支持層（Ａ）は、ポリエステルフィルムである、項３に記載のハードコート付き支持フィルム。
The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and by identifying and quantifying the causal parameters of the phenomenon in which the reflected light reflected from the surface of the sensor electrode pattern is distorted, it is possible to ensure the sensor. It was newly found that the phenomenon of distortion in the reflected light reflected from the surface of the electrode pattern can be reduced. The present invention is as follows.
Item 1.
(A) a light-transmitting support layer having a thickness of 50 μm or less;
(B) hard coat layer;
(C) an optical interference layer; and (D) a light transmissive conductive layer having a pattern shape for an electrode,
The hard coat layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers,
The optical interference layer (C) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A) opposite to the hard coat layer (B), directly or via one or more other layers, The light transmissive conductive layer (D) is disposed on the surface of the optical interference layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A), directly or via one or more other layers. A light transmissive conductive film comprising:
The step of the electrode pattern shape measured using a laser microscope is 0.2 μm to 1.2 μm, and the nanoindenter hardness of the hard coat layer (B) is 630 to 1000 MPa. A light-transmitting conductive film.
Item 2.
Item 2. The light transmissive conductive film according to Item 1, wherein the light transmissive support layer (A) is a polyester film.
Item 3.
(A) a light transmissive support layer having a thickness of 50 μm or less; and (B) a hard coat layer, wherein the hard coat layer (B) is directly on at least one surface of the light transmissive support layer (A). Or it is arranged through one or more other layers, and at least one of the hard coat layers (B) is a support film with a hard coat located in the outermost layer,
A support film with a hard coat, wherein the hardness of the nanoindenter on the hard coat layer (B) located in the outermost layer is 630 to 1000 MPa.
Item 4.
Item 4. The support film with a hard coat according to Item 3, wherein the light transmissive support layer (A) is a polyester film.
本発明によれば、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制できる。より詳細には、定量的な判断に基づく設計により、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象が抑制されたフィルムを確実に得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the phenomenon which distortion arises in the reflected light reflected on the surface of the pattern for sensor electrodes can be suppressed. More specifically, by a design based on quantitative judgment, it is possible to reliably obtain a film in which the phenomenon of distortion in reflected light reflected from the surface of the sensor electrode pattern is suppressed.
１． 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
レーザー顕微鏡を用いて測定される前記電極用パターン形状の段差が０．２μｍ〜１．２μｍであり、かつ
前記ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さが６３０〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光透過性導電性フィルムである。
1. Light transmissive conductive film The light transmissive conductive film of the present invention is
(A) a light-transmitting support layer having a thickness of 50 μm or less;
(B) hard coat layer;
(C) an optical interference layer; and (D) a light transmissive conductive layer having a pattern shape for an electrode,
The hard coat layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers,
The optical interference layer (C) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A) opposite to the hard coat layer (B), directly or via one or more other layers, The light transmissive conductive layer (D) is disposed on the surface of the optical interference layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A), directly or via one or more other layers. A light transmissive conductive film comprising:
The step of the electrode pattern shape measured using a laser microscope is 0.2 μm to 1.2 μm, and the nanoindenter hardness of the hard coat layer (B) is 630 to 1000 MPa. A light transmissive conductive film.
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。 In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A), the light transmissive support layer (A) is used as a reference. Thus, one layer having a large distance from the light transmissive support layer (A) may be referred to as an “upper” layer or the like.
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。 In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).
本発明において、光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）及びハードコート層（Ｄ）の光学厚さと屈折率は光干渉計算により算出する。具体的には、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）又はハードコート層（Ｄ）のいずれかを単層で形成した積層フィルムをそれぞれ用意し、これらの積層フィルムに形成された単層部分の厚みをあらかじめ測定する。次いで、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、これらの層に関する光学シミュレーションに必要なパラメータを算出する。光透過性支持層（Ａ）の上に、ハードコート層（Ｂ）を形成し、さらに光透過性支持層（Ａ）のハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）をこの順に形成することにより本発明の光透過性導電性フィルムを得る過程で、ハードコート層（Ｂ）が形成されたフィルム（ハードコート付き支持フィルム）、光透過性支持層（Ａ）の上に光学干渉層（Ｃ）がさらに形成されたフィルム、及び最終的に得られる光透過性導電性フィルムを順に得る。得られたそれぞれのフィルムについて最上面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそれらのピークにおける反射率の値に基づいて、光透過性導電層（Ｄ）、光学干渉層（Ｃ）及びハードコート層（Ｂ）の光学厚さ及び屈折率を光干渉計算により算出する。
反射率はサンプルの裏面に黒色テープを貼り、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ、又はその同等品）を用いて５度正反射を測定する。また、計算はＷＶＡＳＥ３２（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、又はその同等品）で行う。
なお、本発明において、屈折率は特に言及しない限り、５５０ｎｍの波長の光についての屈折率とする。
In the present invention, the optical thickness and refractive index of the light transmissive conductive layer (D), the optical interference layer (C), and the hard coat layer (D) are calculated by optical interference calculation. Specifically, any one of the light transmissive conductive layer (D), the optical interference layer (C), and the hard coat layer (D) is formed on a suitable thermoplastic film substrate having a refractive index different from those of these layers. Each of the laminated films formed in (1) is prepared, and the thickness of the single layer portion formed on these laminated films is measured in advance. Next, using the wavelength of the maximum peak or minimum peak of the reflectance expressed based on the light interference effect on the light reflection spectrum of the laminated surface and the value of the peak reflectance, parameters necessary for optical simulation regarding these layers Is calculated. A hard coat layer (B) is formed on the light transmissive support layer (A), and an optical interference layer (C) is formed on the surface of the light transmissive support layer (A) opposite to the hard coat layer (B). ) And the light transmissive conductive layer (D) in this order, in the process of obtaining the light transmissive conductive film of the present invention, a film (support film with a hard coat) formed with a hard coat layer (B), A film in which the optical interference layer (C) is further formed on the light transmissive support layer (A) and a light transmissive conductive film finally obtained are obtained in this order. Based on the wavelength of the maximum peak or minimum peak of the reflectance expressed based on the light interference effect on the light reflection spectrum of the top surface of each film obtained and the reflectance value at those peaks, the light transmissive conductivity The optical thickness and refractive index of the layer (D), the optical interference layer (C), and the hard coat layer (B) are calculated by optical interference calculation.
As for the reflectance, black tape is attached to the back surface of the sample, and regular reflection at 5 degrees is measured using a spectrophotometer (UV-3101PC manufactured by Shimadzu Corporation or equivalent). The calculation is performed with WVASE32 (manufactured by JA Woollam or equivalent).
In the present invention, the refractive index is the refractive index for light having a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.
１．１ 光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）は、屈折率が１．６から１．７の光透過性高分子フィルムであれば特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1 Light transmissive support layer (A)
In the present invention, the light transmissive support layer refers to a conductive film containing a light transmissive conductive layer that plays a role of supporting a layer including the light transmissive conductive layer. The light transmissive support layer (A) is not particularly limited as long as it is a light transmissive polymer film having a refractive index of 1.6 to 1.7. For example, in a light transmissive conductive film used for a touch panel or the like, As the permeable support layer, those usually used can be used.
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子を挙げることができる。例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。ポリエーテル系樹脂としては、ポリエーテルスルホン系樹脂等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂が好ましい。ポリエステル系樹脂としては、特にＰＥＴが好ましい。ポリオレフィン系樹脂としては、特にシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が好ましい。 Although the raw material of a light transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, various organic polymers can be mentioned. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, polyamide resin, polyvinyl chloride resin And polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. Examples of polyether resins include polyether sulfone resins. The material of the light transmissive support layer (A) is preferably a polyester resin or a polyolefin resin. As the polyester resin, PET is particularly preferable. As the polyolefin resin, a cycloolefin polymer (COP) is particularly preferable.
光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The light transmissive support layer (A) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、５０μｍ以下であり、好ましくは２〜５０μｍ、より好ましくは２０〜３０μｍである。光透過性支持層（Ａ）の厚さをこれらの下限値以上とすることによって、光透過性導電性フィルムに十分な機械的強度を付与できる。また、タッチパネルの軽量化、薄膜化の要望から光透過性導電性フィルムとしては、非常に薄い厚さであることが要求される。このように光透過性導電性フィルムとして通常要求される厚さを達成するためには、光透過性支持層（Ａ）の厚さを上記の上限値以下とすることが好ましい。なお、光透過性支持層（Ａ）の厚さが薄いほど、本発明の課題である、反射像の歪みを抑制が必要である。 The thickness of the light transmissive support layer (A) is 50 μm or less, preferably 2 to 50 μm, more preferably 20 to 30 μm. By setting the thickness of the light transmissive support layer (A) to the lower limit value or more, sufficient mechanical strength can be imparted to the light transmissive conductive film. In addition, the light-transmitting conductive film is required to have a very thin thickness because of the demand for weight reduction and thinning of the touch panel. Thus, in order to achieve the thickness normally required for the light-transmitting conductive film, the thickness of the light-transmitting support layer (A) is preferably set to the upper limit value or less. In addition, it is necessary to suppress the distortion of the reflected image, which is a problem of the present invention, as the thickness of the light-transmitting support layer (A) is thinner.
１．２ ハードコート層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の上にハードコート層（Ｂ）が形成されている。なお、ハードコート層（Ｂ）は光透過性支持層（Ａ）に形成された密着層のうえに形成されていてもよい。
1.2 Hard coat layer (B)
In the light transmissive conductive film of the present invention, the hard coat layer (B) is formed on the light transmissive support layer (A). The hard coat layer (B) may be formed on the adhesion layer formed on the light transmissive support layer (A).
一層のハードコート層（Ｂ）が光透過性支持層（Ａ）の上に配置されていてもよい。また、二層以上のハードコート層（Ｂ）が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層（Ａ）の上に配置されていてもよい。 One hard coat layer (B) may be disposed on the light-transmissive support layer (A). Further, two or more hard coat layers (B) may be arranged on the light-transmitting support layer (A) adjacent to each other or separated from each other via other layers.
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。 In the present invention, the hard coat layer means a layer that prevents the plastic surface from being damaged. Although it does not specifically limit as a hard-coat layer (B), For example, what is normally used as a hard-coat layer in the transparent electroconductive film used for a touchscreen etc. can be used.
ハードコート層（Ｂ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｂ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。なお、これらのコロイド粒子を分散させることにより、ハードコート層（Ｂ）に光学調整機能を付与することが可能である。この場合、ハードコート層（Ｂ）は後述の光学干渉層（Ｃ）としての役割を兼ねることができる。ハードコート層（Ｂ）は、上記素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ｂ）としては、アクリル樹脂が好ましく、この中でもウレタンアクリレート樹脂が好ましい。
ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さは、６３０〜１０００ＭＰａである限り特に限定されない。該硬さは、好ましくは６３０〜８００ＭＰａ、より好ましくは６３０〜７３０ＭＰａである。
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の上に直接又は一以上の他の層を介してハードコート層（Ｂ）が表面に配置されたフィルムのことを、ハードコート付き支持フィルムと呼ぶ。
The material for the hard coat layer (B) is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, melamine resins, and alkyd resins. Examples of the material for the hard coat layer (B) further include those obtained by dispersing colloidal particles such as silica, zirconia, titania and alumina in the resin. In addition, it is possible to provide an optical adjustment function to the hard coat layer (B) by dispersing these colloidal particles. In this case, the hard coat layer (B) can also serve as an optical interference layer (C) described later. The hard coat layer (B) may be composed of any one of the above materials, or may be composed of a plurality of types. As a hard-coat layer (B), an acrylic resin is preferable and a urethane acrylate resin is preferable among these.
The nanoindenter hardness of the hard coat layer (B) is not particularly limited as long as it is 630 to 1000 MPa. The hardness is preferably 630 to 800 MPa, more preferably 630 to 730 MPa.
In the present specification, a film in which the hard coat layer (B) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers is referred to as a support film with a hard coat. Call.
本発明のハードコート付き支持フィルムは、
（Ａ）厚み５０μｍ以下の光透過性支持層；及び
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置するハードコート付き支持フィルムであって、
最外層に位置する前記ハードコート層（Ｂ）側のナノインデンター硬さが６３０ＭＰａ〜１０００ＭＰａであることを特徴とする。
本発明において、ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さは、以下のようにして測定する。ナノインデンター（ＴＩ ９５０（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）又はその同等品）を用い、２３℃、５０％ＲＨの環境下にて、押し込みモードで「押し込み量：５０ｎｍ、押しこみ速度１０ｎｍ/秒」の条件で、探針（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ ｐｒｏｂｅ ＴＩ−００３９（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）又はその同等品）を用いて測定する。具体的には、一度表面に針を触れさせて距離を認識させ、５秒かけて表面から５０ｎｍ持ち上げる。その後１０秒かけて装置上１００ｎｍ押し込み、押し込んだまま２秒保持し、その後１０ｎｍ/ｓｅｃの速度で針を抜く。一連の操作により得た測定値を、ハードコート層（Ｂ）の硬さとする。
The support film with a hard coat of the present invention is
(A) a light transmissive support layer having a thickness of 50 μm or less; and (B) a hard coat layer, wherein the hard coat layer (B) is directly on at least one surface of the light transmissive support layer (A). Or it is arranged through one or more other layers, and at least one of the hard coat layers (B) is a support film with a hard coat located in the outermost layer,
The nanoindenter hardness on the hard coat layer (B) side located in the outermost layer is 630 MPa to 1000 MPa.
In the present invention, the nanoindenter hardness of the hard coat layer (B) is measured as follows. Using a nanoindenter (TI 950 (manufactured by Hystron) or equivalent) under the conditions of “push-in amount: 50 nm, push-in speed 10 nm / sec” in the push-in mode in an environment of 23 ° C. and 50% RH. , Using a probe (Berkovich probe TI-0039 (manufactured by Hystron) or equivalent). Specifically, the surface is once touched to recognize the distance and lifted 50 nm from the surface over 5 seconds. After that, it is pushed in by 100 nm on the apparatus over 10 seconds, held for 2 seconds while being pushed in, and then the needle is removed at a speed of 10 nm / sec. The measured value obtained by a series of operations is taken as the hardness of the hard coat layer (B).
このような硬さのハードコート付き支持フィルムを得るには、ハードコート層（Ｂ）を形成する際に添加するウレタン又は重合開始剤の量を増減させたり、あるいは露光量を増減する等の方法で硬さを制御すればよい。より具体的には、特に限定されないが、例えば、露光量を増やすことによりＹ方向レーザー顕微鏡変形量を下げることができ、ウレタン添加量を増やすことによりＸ方向ナノインデンター硬さを増やすことができる。また、ウレタンと露光量および開始剤も増減させることによりＸ方向及びＹ方向のナノインデンター硬さを調整することができる。 In order to obtain a support film with a hard coat having such hardness, a method such as increasing or decreasing the amount of urethane or polymerization initiator added when forming the hard coat layer (B), or increasing or decreasing the exposure amount, etc. The hardness can be controlled with. More specifically, although not particularly limited, for example, the amount of deformation of the Y direction laser microscope can be reduced by increasing the exposure amount, and the hardness of the X direction nanoindenter can be increased by increasing the amount of urethane added. . Moreover, the nanoindenter hardness of a X direction and a Y direction can be adjusted by increasing / decreasing a urethane, exposure amount, and an initiator.
ハードコート層（Ｂ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。 The method of disposing the hard coat layer (B) is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying to a film and curing with heat, a method of curing with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and the like. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.
１．３ 光学干渉層（Ｃ）
光学干渉層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光学干渉層（Ｃ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。また、これらの他にも、素材としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂等の樹脂が挙げられる。光学干渉層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含む光学干渉層（Ｃ）が好ましく、酸化ケイ素を含む樹脂からなる光学干渉層（Ｃ）がより好ましい。
1.3 Optical interference layer (C)
The material of the optical interference layer (C) is not particularly limited, but may be, for example, a dielectric material. The material of the optical interference layer (C) is not particularly limited. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxane, polysilazane. Etc. In addition to these, examples of the material include resins such as acrylic resins, silicone resins, urethane resins, melamine resins, and alkyd resins. The optical interference layer (C) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types. The optical interference layer (C) containing silicon oxide is preferable, and the optical interference layer (C) made of a resin containing silicon oxide is more preferable.
一層の光学干渉層（Ｃ）が、光透過性支持層の上に配置されていてもよい。また、二層以上の光学干渉層（Ｃ）が、互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層の上に配置されていてもよい。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、光透過性支持層（Ａ）側にＳｉＯ２からなる光透過性下地層（Ｃ−１）を配置し、光透過性導電層（Ｄ）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層（Ｃ−２）を配置する態様が挙げられる。また、光学干渉層（Ｃ）は、光透過性支持層の上に、ハードコート層を介して配置されていてもよい。この場合のハードコート層は、ジルコニア粒子等が配合されていることにより、光学干渉層としての役割を兼ねていてもよい。なお、光学干渉層としてハードコート層（Ｂ）より屈折率が高い高屈折率干渉層およびハードコート（Ｂ）より屈折率が低い低屈折率干渉層の少なくとも二層が設けられていることがより好ましい。 One optical interference layer (C) may be disposed on the light-transmissive support layer. Two or more optical interference layers (C) may be disposed on the light-transmitting support layer adjacent to each other or separated from each other via another layer. For example, when two layers are disposed adjacent to each other, a light transmissive underlayer (C-1) made of SiO 2 is disposed on the light transmissive support layer (A) side, and the light transmissive conductive layer (D). manner of placing light-transmitting base layer made of SiO x (x = 1.0~2.0) on the side of the (C-2) can be mentioned. The optical interference layer (C) may be disposed on the light-transmitting support layer via a hard coat layer. The hard coat layer in this case may also serve as an optical interference layer by blending zirconia particles and the like. As the optical interference layer, at least two layers of a high refractive index interference layer having a refractive index higher than that of the hard coat layer (B) and a low refractive index interference layer having a refractive index lower than that of the hard coat (B) are provided. preferable.
光学干渉層（Ｃ）の一層あたりの厚さは、１５〜２５ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光学干渉層（Ｃ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の厚みは３０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、低屈折率干渉層の厚み１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましい。 As for the thickness per layer of an optical interference layer (C), 15-25 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the optical interference layers (C) adjacent to each other may be within the above range. When two optical interference layers of a high refractive index interference layer and a low refractive index interference layer are provided, the thickness of the high refractive index interference layer is preferably 30 nm to 50 nm, and the thickness of the low refractive index interference layer is 10 nm to 50 nm. It is preferable that
光学干渉層（Ｃ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが目的とする用途に使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の屈折率は１．６〜１．７であることが好ましく、低屈折率干渉層の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましい。 The refractive index of the optical interference layer (C) is not particularly limited as long as it can be used for the intended purpose of the light-transmitting conductive film of the present invention. For example, 1.4 to 1.5 is preferable. When two optical interference layers, a high refractive index interference layer and a low refractive index interference layer, are provided, the refractive index of the high refractive index interference layer is preferably 1.6 to 1.7, and the low refractive index interference layer The refractive index is preferably 1.45 to 1.55.
光学干渉層（Ｃ）を配置するための方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。 The method for disposing the optical interference layer (C) may be either a wet method or a dry method, and is not particularly limited. Examples of the wet method include a sol-gel method, a fine particle dispersion, and a method of applying a colloid solution. Can be mentioned.
光学干渉層（Ｃ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。 Examples of the method for disposing the optical interference layer (C) include a dry method such as a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a pulse laser deposition method.
１．４ 光透過性導電層（Ｄ）
光透過性導電層（Ｄ）は電極用パターン形状を有する。電極用パターン形状としては、特に限定されず、通常採用されうる形状の中から幅広く選択できる。例えば、櫛状、外形がひし形の電極を鎖状につなげた形状、及び外形が円形の電極を鎖状につなげた形状等が挙げられる。特に限定されないが、櫛状のように基本単位となる形状の繰り返し形状を有する場合、繰り返し形状同士の間隔は、０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは０．３μｍ〜２０μｍである。本明細書において、光透過性導電性フィルムを光透過性導電層（Ｄ）側から見たときに、電極用パターン形状が存在する部分のことをパターン部分、その他の部分を非パターン部分ということがある。
電極用パターン形状は、特に限定されないが、通常エッチング処理により得られる。エッチング処理の方法は、特に限定されないが、公知の方法を適用することができ、例えば、以下の方法等によって電極用パターン形状を得ることができる。
成膜及びアニール（１５０℃、１時間）後、スクリーン印刷にてレジスト印刷を行う。続いてＵＶ露光し、酸エッチングによりレジストが乗っていない箇所の透明導電層を溶かす。さらに、アルカリエッチングにより残っているレジストを剥がす。その後、アニール（１３０℃、４０分）し、ガラスにＯＣＡで貼り合せる。
レーザー顕微鏡を用いて測定される電極用パターン形状の段差は、１．５μｍ以下である限り特に限定されず、その上限は例えば１．２μｍ、好ましくは１．０μｍ、より好ましくは０．８μｍである。本発明において、レーザー顕微鏡を用いた段差の測定は、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ製、ＶＫ−９５１０又はその同等品）を用いて電極パターン表面を測定した結果に基づき、解析ソフト（ＶＫ Ａｎａｌｙｚｅｒ（ＫＥＹＥＮＣＥ製）、又はその同等品）により算出する。
1.4 Light transmissive conductive layer (D)
The light transmissive conductive layer (D) has an electrode pattern shape. The pattern shape for the electrode is not particularly limited, and can be widely selected from shapes that can be usually employed. Examples include a comb shape, a shape in which electrodes having a rhombus shape are connected in a chain shape, and a shape in which electrodes having a circular shape are connected in a chain shape. Although not particularly limited, in the case of having a repeating shape that is a basic unit such as a comb shape, the interval between the repeating shapes is 0.1 μm to 50 μm, preferably 0.3 μm to 20 μm. In this specification, when the light-transmitting conductive film is viewed from the light-transmitting conductive layer (D) side, a portion where the electrode pattern shape exists is referred to as a pattern portion, and the other portion is referred to as a non-pattern portion. There is.
The electrode pattern shape is not particularly limited, but is usually obtained by etching. The etching method is not particularly limited, and a known method can be applied. For example, the electrode pattern shape can be obtained by the following method or the like.
After film formation and annealing (150 ° C., 1 hour), resist printing is performed by screen printing. Subsequently, UV exposure is performed, and the transparent conductive layer where no resist is placed is dissolved by acid etching. Further, the remaining resist is removed by alkali etching. Then, it anneals (130 degreeC, 40 minutes), and is bonded to glass by OCA.
The step of the electrode pattern shape measured using a laser microscope is not particularly limited as long as it is 1.5 μm or less, and the upper limit is, for example, 1.2 μm, preferably 1.0 μm, more preferably 0.8 μm. . In the present invention, the step difference measurement using a laser microscope is based on the result of measuring the electrode pattern surface using a laser microscope (manufactured by KEYENCE, VK-9510 or equivalent), and analysis software (VK Analyzer (manufactured by KEYENCE)). Or equivalent).
光透過性導電層（Ｄ）は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。 The light transmissive conductive layer (D) contains a conductive substance. Although it does not specifically limit as an electroconductive substance, For example, the electroconductive substance normally used in the transparent electroconductive film used for a touchscreen etc. can be used.
光透過性導電層（Ｄ）は、好ましくは、金属酸化物を含有する。 The light transmissive conductive layer (D) preferably contains a metal oxide.
光透過性導電層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｄ）としては、光透過性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｂ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。 The material for the light transmissive conductive layer (D) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. As the light-transmitting conductive layer (D), a light-transmitting conductive layer containing indium oxide doped with a dopant is preferable in terms of achieving both light transmittance and conductivity. The light transmissive conductive layer (B) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.
光透過性導電層（Ｄ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｄ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the material of the light transmissive conductive layer (D), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) doped with tin (IV) oxide (SnO 2 ) (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a transparent conductive layer (D) what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left description. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.
光透過性導電層（Ｄ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The light transmissive conductive layer (D) may be composed of any one of the various materials described above, or may be composed of a plurality of types.
光透過性導電層（Ｄ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。 The light transmissive conductive layer (D) is not particularly limited, but may be a crystalline or amorphous body, or a mixture thereof.
光透過性導電層（Ｄ）の厚さは、特に限定されないが、通常は５〜５０ｎｍであり、好ましくは１０〜４０ｎｍ、より好ましくは１２〜３５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍである。 Although the thickness of a light-transmissive conductive layer (D) is not specifically limited, Usually, it is 5-50 nm, Preferably it is 10-40 nm, More preferably, it is 12-35 nm, More preferably, it is 15-30 nm.
光透過性導電層（Ｄ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。これらのうち、タッチパネル用途に低抵抗で大面積の均質な膜を安定に生産するという観点において、スパッタリング法が好ましい。 A method for forming the light transmissive conductive layer (D) is not particularly limited, and examples thereof include an ion plating method, a sputtering method, a vacuum deposition method, a CVD method, and a pulse laser deposition method. Among these, the sputtering method is preferable from the viewpoint of stably producing a uniform film having a low resistance and a large area for touch panel applications.
光透過性導電層（Ｄ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。 As a method for forming the light transmissive conductive layer (D), a method including a step of baking a conductive material is preferable. Although it does not specifically limit as a baking method, For example, the drum heating at the time of performing sputtering etc., a hot-air-type baking furnace, a far-infrared baking furnace, etc. can be mentioned as an example. Although a calcination temperature is not specifically limited, Usually, it is 30-250 degreeC, Preferably it is 50-200 degreeC, More preferably, it is 80-180 degreeC, More preferably, it is 100-160 degreeC. The firing time is preferably 3 minutes to 180 minutes, more preferably 5 minutes to 120 minutes, and even more preferably 10 minutes to 90 minutes. As an atmosphere for performing the firing, an atmosphere, an inert gas such as nitrogen or argon, oxygen, hydrogenated nitrogen, or a combination of two or more of these can be given under vacuum. By firing the conductive material, crystallization of the conductive material is promoted.
１．５ その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の側に形成されたハードコート層（Ｂ）、並びに他方の側に形成された光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）に加えて、少なくとも１種のその他の層（Ｅ）がさらに配置されていてもよい。
1.5 Other Layers The light-transmitting conductive film of the present invention comprises a hard coat layer (B) formed on at least one side of the light-transmitting support layer (A), and an optical formed on the other side. In addition to the interference layer (C) and the light transmissive conductive layer (D), at least one other layer (E) may be further disposed.
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as another layer (E), For example, an adhesive layer etc. are mentioned.
接着層は、接着したい二層の間に当該二層と互いに隣接して配置される。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、単層の接着層であってもよいし、二層以上の接着層であってもよい。 The adhesive layer is disposed adjacent to each other between the two layers to be bonded. Although it does not specifically limit as an adhesive layer, For example, what is normally used as an adhesive layer in the transparent electroconductive film used for a touchscreen etc. can be used. The adhesive layer may be a single adhesive layer or two or more adhesive layers.
１．６ 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、骨見え現象が抑制できるので、例えば静電容量型タッチパネル用光透過性導電性フィルムとして好ましい。タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
1.6 Use of the light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is preferable as a light-transmitting conductive film for a capacitive touch panel, for example, because it can suppress the bone appearance phenomenon. Details of the touch panel are as described in 2.
２．本発明のタッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
2. Touch Panel of the Present Invention The capacitive touch panel of the present invention includes the light-transmitting conductive film of the present invention, and further includes other members as necessary.
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.
３．本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、たとえば、光透過性支持層（Ａ）の上に、直接又は一以上の他の層を介して、ハードコート層（Ｂ）を、配置し、光透過性支持層（Ａ）のハードコート層（Ｂ）とは反対側に、直接又は一以上の他の層を介して、光学干渉層（Ｃ）を配置する工程、及びさらにその上に、直接又は一以上の他の層を介して、光透過性導電層（Ｄ）を配置する方法により製造できる。
3. Production method of light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is hardened, for example, on the light-transmitting support layer (A) directly or via one or more other layers. The coating layer (B) is disposed, and the optical interference layer (C) is disposed directly or via one or more other layers on the opposite side of the light transmissive support layer (A) from the hard coating layer (B). It can be manufactured by the step of disposing, and further by a method of disposing the light-transmitting conductive layer (D) directly or via one or more other layers thereon.
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
実施例１
＜光透過性導電性フィルムの製造方法＞
次のようにして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。該フィルムの層構成を図１に示す。
Example 1
<Method for producing light transmissive conductive film>
The light transmissive conductive film of the present invention was obtained as follows. The layer structure of the film is shown in FIG.
厚さ５０のＰＥＴ樹脂基材（ｎＡ＝１．６６）の易接着処理側の表面の上に、ウレタンアクリレート系樹脂と光重合開始剤を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射して表１に記載のハードコート層（Ｈ１）を形成し、本発明のハードコート付き支持フィルムを得た。 A photoreactive coating liquid containing a urethane acrylate resin and a photopolymerization initiator is applied on the surface of the 50-mm-thick PET resin substrate (n A = 1.66) on the easy adhesion treatment side, and dried by heating. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated to form a hard coat layer (H1) shown in Table 1, and a support film with a hard coat of the present invention was obtained.
次いで、ハードコート層が形成されていない側のＰＥＴ樹脂基材の上にハードコート層兼光学干渉層（高屈折率干渉層）としてジルコニア粒子を含んだ厚さ４２ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ１＝１．６８）を形成し、さらにその上に光学干渉層（低屈折率干渉層）として厚さの３３．５ｎｍの酸化ケイ素を含有するアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ２＝１．４９）を形成した。次いで、その上に密着性向上のためのＳｉＯｘ層を介して光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層（ｎＤ＝１．８７）を厚さ２６ｎｍとなるように成膜して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、ターゲット材として酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料を用いた。また、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ＳｉＯｘ層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。 Next, a layer made of an acrylate-based resin having a thickness of 42 nm containing zirconia particles as a hard coat layer / optical interference layer (high refractive index interference layer) on the PET resin substrate on the side where the hard coat layer is not formed ( n C1 = 1.68), and an optical interference layer (low refractive index interference layer) made of an acrylate resin containing 33.5 nm thick silicon oxide (n C2 = 1. 49) was formed. Next, a layer made of indium tin oxide (n D = 1.87) as a light-transmitting conductive layer is formed so as to have a thickness of 26 nm through a SiO x layer for improving adhesion, A light transmissive conductive film of the present invention was obtained. In addition, the sintered compact material which consists of indium oxide: 97 weight% and tin oxide: 3 weight% was used as a target material. Further, the DC magnetron sputtering method, to form the SiO x layer, was formed thereon an indium tin oxide layer.
＜評価方法＞
＜骨見え評価方法＞
光透過性導電性フィルムの光透過性導電層の上にポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、洗浄及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、４ｍｍ間隔で１．５ｍｍ幅のラインアンドスペースでＩＴＯ膜がパターニングされた光透過性導電性フィルムを得た。次いで、作製した光透過性導電性フィルムを乾燥オーブンに入れて１３０℃で４０分間加熱した。 乾燥オーブンから取り出された光透過性導電性フィルムを室温に達するまで放置した後、縦４５ｍｍ、横４５ｍｍの大きさに切り出し、光透過性導電層に縦４０ｍｍ、横４０ｍｍサイズの透明接着フィルム(EW1502-A1、エリエールテクセル社製)を介して縦５０ｍｍ、横８０ｍｍサイズで厚さ１ｍｍのスライドガラスに貼り付けた。次いで、同様のエッチング方法により、ＩＴＯ膜が格子間隔４ｍｍで１ｍｍ幅の格子模様にパターニングされた縦４５ｍｍ、横４５ｍｍの大きさの光透過性導電性フィルムを得た。
スライドガラスに貼り付けられている光透過性導電性フィルムの上に、透明接着フィルム(EW1502-A1、エリエールテクセル社製)を介してＩＴＯ膜が格子間隔４ｍｍで１．５ｍｍ幅の格子模様にパターニングされた光透過性導電性フィルムを光透過性導電層側から貼り付けた。得られたガラス付きフィルムについて、以下の基準でＬＥＤ光または蛍光灯をあてて反射像を観察し、導電層のパターンに起因する歪みの有無を観察した。なお、ＬＥＤ光よりも、蛍光灯の方が、導電層のパターンに起因する歪みが視認されやすい傾向にある。
A…ＬＥＤ光、蛍光灯のいずれを照射した場合においても、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認されない。
B…ＬＥＤ光を照射した場合には、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認されないが、蛍光灯を照射した場合には、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認される。
C…ＬＥＤ光、蛍光灯のいずれを照射した場合においても、目視で導電層のパターンに起因する歪みが視認される。
<Evaluation method>
<Bone appearance evaluation method>
The laminate with the polyimide tape affixed on the light transmissive conductive layer of the light transmissive conductive film is immersed in an ITO etching solution (trade name “ITO-06N” manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) for 1 minute, and the polyimide tape is The light-transmitting conductive film in which the ITO film was patterned with a line-and-space of 1.5 mm width at intervals of 4 mm was obtained by removing the unattached portion of ITO and removing the polyimide tape after washing and drying. . Next, the produced light-transmitting conductive film was put in a drying oven and heated at 130 ° C. for 40 minutes. The light-transmitting conductive film taken out from the drying oven is allowed to stand until it reaches room temperature, and then cut into a size of 45 mm in length and 45 mm in width, and a transparent adhesive film having a size of 40 mm in length and 40 mm in width (EW1502) on the light-transmitting conductive layer. -A1, manufactured by Eliere Texel Inc.) and attached to a slide glass having a size of 50 mm length and 80 mm width and 1 mm thickness. Next, by the same etching method, a light-transmitting conductive film having a size of 45 mm in length and 45 mm in width was obtained by patterning the ITO film into a grid pattern having a grid interval of 4 mm and a width of 1 mm.
An ITO film is patterned on a light-transmitting conductive film affixed to a slide glass into a grid pattern with a grid interval of 4 mm and a width of 1.5 mm via a transparent adhesive film (EW1502-A1, manufactured by Elle Techel) The light-transmitting conductive film thus prepared was attached from the light-transmitting conductive layer side. About the obtained film with glass, the reflection image was observed by applying LED light or a fluorescent lamp according to the following criteria, and the presence or absence of distortion due to the pattern of the conductive layer was observed. It should be noted that the fluorescent lamp tends to be more easily visually distorted due to the pattern of the conductive layer than the LED light.
A: When either LED light or fluorescent lamp is irradiated, distortion caused by the pattern of the conductive layer is not visually recognized.
B: When the LED light is irradiated, distortion due to the conductive layer pattern is not visually recognized. However, when the fluorescent lamp is irradiated, distortion due to the conductive layer pattern is visually observed.
C: When the LED light or the fluorescent lamp is irradiated, distortion caused by the pattern of the conductive layer is visually recognized.
骨見え評価方法にて得られたガラス付きフィルムについて、次の試験を行った。
＜レーザー顕微鏡による光透過性導電性フィルム表面の段差の測定方法＞
レーザー顕微鏡（KEYENCE製、VK-9510）を用いて得られたガラス付きフィルムのＩＴＯ膜がエッチングされた電極パターン表面を測定した。また、電極パターン表面の段差の数値は、解析ソフト（ＶＫ Ａｎａｌｙｚｅｒ（ＫＥＹＥＮＣＥ製））により算出した。結果を表１及び２に示した。
The following test was performed on the film with glass obtained by the bone appearance evaluation method.
<Measurement method of level difference of light-transmitting conductive film surface by laser microscope>
The surface of the electrode pattern on which the ITO film of the film with glass obtained by using a laser microscope (manufactured by KEYENCE, VK-9510) was etched was measured. The numerical value of the step on the electrode pattern surface was calculated by analysis software (VK Analyzer (manufactured by KEYENCE)). The results are shown in Tables 1 and 2.
＜ハードコート層の硬さの測定方法＞
ナノインデンター(TI 950 Hysitron社製) を用い、23℃ 50％RHの環境下で 押し込みモードで、押し込み量５０ｎｍ、押しこみ速度１０ｎｍ/秒、の条件で、探針（Berkovich probe TI-0039、Hysitron社製)を用いて、実施例、および比較例で得られた光透過性導電性フィルムを得る前の、ハードコート付き支持フィルムについて、ハードコート層側の硬さを測定した。結果を表１及び２に示した。なお、具体的には、一度表面に針を触れさせ距離を認識させ、5秒かけ表面から50nm持ち上げた。その後10秒かけ装置上100nm押し込み、押し込んだまま2秒保持しその後10nm/secの速度で針を抜いた。一連の操作により得た測定値を、ハードコート層の硬さとした。
<Measurement method of hardness of hard coat layer>
Using a nanoindenter (made by TI 950 Hysitron) in a push-in mode in an environment of 23 ° C. and 50% RH under the conditions of a push-in amount of 50 nm and a push-in speed of 10 nm / sec, a probe (Berkovich probe TI-0039, The hardness on the hard coat layer side of the support film with a hard coat before obtaining the light-transmitting conductive films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using Hysitron). The results are shown in Tables 1 and 2. Specifically, the surface was once touched to make the distance recognized and lifted 50 nm from the surface over 5 seconds. Then, it was pushed into the apparatus at 100 nm for 10 seconds, held for 2 seconds while being pushed in, and then the needle was removed at a speed of 10 nm / sec. The measured value obtained by a series of operations was taken as the hardness of the hard coat layer.
実施例２〜１１、比較例１〜５
ハードコート層の硬さを表１及び２に記載した硬さのハードコートに変えたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。
Examples 2-11, Comparative Examples 1-5
A light transmissive conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the hardness of the hard coat layer was changed to a hard coat having the hardness described in Tables 1 and 2.
実施例１〜１１、並びに比較例１〜５で得られた光透過性導電性フィルムの測定結果から、レーザー顕微鏡によるエッチングされた光透過性導電性フィルム表面の段差と、ナノインデンターを用いたハードコート層の硬さとの関係図を得た。関係図を図２に示す。 From the measurement results of the light transmissive conductive films obtained in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 5, a step on the surface of the light transmissive conductive film etched by a laser microscope and a nanoindenter were used. The relationship with the hardness of the hard coat layer was obtained. The relationship diagram is shown in FIG.
表１及び２に示した通り、特定の硬さのハードコート層を備えたハードコート付き支持フィルムを用いた光透過性導電性フィルムであることにより、エッチングされた光透過性導電性フィルムの光透過性導電性層の表面で反射する反射像の歪みを抑制できる。 As shown in Tables 1 and 2, the light of the light-transmitting conductive film etched by using the light-transmitting conductive film using the hard-coated support film provided with the hard coat layer having a specific hardness. Distortion of the reflected image reflected on the surface of the transmissive conductive layer can be suppressed.
１ ハードコート層（Ｈ１）
２ ＰＥＴ樹脂基材
３ ハードコート層兼光学干渉層（高屈折率層）
４ 光学干渉層（低屈折率層）
５ 光透過性導電層
1 Hard coat layer (H1)
2 PET resin substrate 3 Hard coat layer and optical interference layer (high refractive index layer)
4 Optical interference layer (low refractive index layer)
5 Light transmissive conductive layer
Claims (4)
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）電極用パターン形状を有する光透過性導電層
を含有し、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光学干渉層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｄ）が、前記光学干渉層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
レーザー顕微鏡を用いて測定される前記電極用パターン形状の段差が０．２μｍ〜１．２μｍであり、かつ
前記ハードコート層（Ｂ）のナノインデンター硬さが６３０〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光透過性導電性フィルム。 (A) a light-transmitting support layer having a thickness of 50 μm or less;
(B) hard coat layer;
(C) an optical interference layer; and (D) a light transmissive conductive layer having a pattern shape for an electrode,
The hard coat layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers,
The optical interference layer (C) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A) opposite to the hard coat layer (B), directly or via one or more other layers, The light transmissive conductive layer (D) is disposed on the surface of the optical interference layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A), directly or via one or more other layers. A light transmissive conductive film comprising:
The step of the electrode pattern shape measured using a laser microscope is 0.2 μm to 1.2 μm, and the nanoindenter hardness of the hard coat layer (B) is 630 to 1000 MPa. A light-transmitting conductive film.
（Ｂ）ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）が最外層に位置するハードコート付き支持フィルムであって、
最外層に位置する前記ハードコート層（Ｂ）側のナノインデンター硬さが６３０〜１０００ＭＰａであることを特徴とするハードコート付き光透過性フィルム。 (A) a light transmissive support layer having a thickness of 50 μm or less; and (B) a hard coat layer, wherein the hard coat layer (B) is directly on at least one surface of the light transmissive support layer (A). Or it is arranged through one or more other layers, and at least one of the hard coat layers (B) is a support film with a hard coat located in the outermost layer,
A light-transmitting film with a hard coat, wherein the hardness of the nanoindenter on the hard coat layer (B) side located in the outermost layer is 630 to 1000 MPa.
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