JP2016066660A - Semiconductor device - Google Patents

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祐也 奥田
Yuya Okuda
祐也 奥田
岩田 秀一
Shuichi Iwata
秀一 岩田
佳典 西土
Yoshinori Nishido
佳典 西土
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    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an art to simply inhibit grease leakage in a semiconductor device in which a power card encapsulating a semiconductor element and a cooling member are layered and a load is applied in a layered direction.SOLUTION: A semiconductor device disclosed in the present specification includes a heat sink 16a provided on a surface of a power card 10, which faces a cooling member 6 and a grease sandwiched between the heat sink 16a and the cooling member 6. The heat sink 16a has lengths different from each other in two direction orthogonal to each other in plan view. Polish marks 46a remaining on the surface of the heat sink 16a, which faces the cooling member 6 extend along a longer direction of the heat sink 16a.SELECTED DRAWING: Figure 5A

Description

本発明は、半導体装置に関する。特に、半導体素子を封止したパワーカードがグリスを挟んで冷却部材に接している半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device. In particular, the present invention relates to a semiconductor device in which a power card in which a semiconductor element is sealed is in contact with a cooling member with grease interposed therebetween.

上記したタイプの半導体装置の一例が特許文献1に開示されている。特許文献1の半導体装置では、半導体素子を封止したパワーカードに放熱板が備えられており、放熱板と冷却部材の互いに対向する接合面の少なくとも一方に溝が設けられている。そして、放熱板若しくは冷却部材のどちらか一方に放熱板と冷却部材との間へのグリス注入用孔が設けられる。注入されたグリスは、放熱板と冷却部材の間の全面に溝に沿って拡がり易くなる。   An example of the above-described type of semiconductor device is disclosed in Patent Document 1. In the semiconductor device of Patent Document 1, a power card in which a semiconductor element is sealed is provided with a heat radiating plate, and a groove is provided on at least one of the facing surfaces of the heat radiating plate and the cooling member. And either of a heat sink or a cooling member is provided with the hole for grease injection | pouring between a heat sink and a cooling member. The injected grease is easy to spread along the groove over the entire surface between the heat sink and the cooling member.

また、特許文献2にも、上記したタイプの半導体装置が開示されている。特許文献2の半導体装置は、発熱体を収めた素子モジュール(パワーカード)と素子モジュールを収める筐体が備えられており、素子モジュールは筐体にグリスを挟んで固定されている。そして、素子モジュールに対向する筐体面にはグリスを溜めるために複数の平行な線条溝が設けられている。特許文献2の図面には、素子モジュールの長手方向に沿って設けられる線条溝が記載されている。   Patent Document 2 also discloses a semiconductor device of the type described above. The semiconductor device of Patent Document 2 includes an element module (power card) that stores a heating element and a casing that stores the element module. The element module is fixed to the casing with grease. A plurality of parallel linear grooves are provided on the housing surface facing the element module to collect grease. In the drawing of Patent Document 2, a linear groove provided along the longitudinal direction of the element module is described.

特開2005−101259号公報JP 2005-101259 A 特開2013−165202号公報JP 2013-165202 A

特許文献1や特許文献2に開示されるような半導体装置では、グリスの層が薄いほどパワーカードに対する冷却能力が高まる。それゆえ、パワーカードと冷却部材の積層体にはその積層方向に荷重が加えられ、グリスの層が薄く延ばされる。グリスの厚みは100ミクロン以下(サブミリオーダ)であることが好ましい。グリスの厚みがサブミリオーダになると、半導体素子の発熱と冷却の繰り返し(熱サイクル)で生じるブリードアウトやポンピングと呼ばれる現象によりグリスが流出する虞がある。ブリードアウトやポンピングの詳細については実施例にて説明する。なお、一般に、パワーカードと冷却部材の間からグリスが流出することを「グリスが抜ける」と表現することがある。本明細書でもそのような表現を用いる。   In a semiconductor device as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, the thinner the grease layer, the higher the cooling capacity for the power card. Therefore, a load is applied to the laminate of the power card and the cooling member in the lamination direction, and the grease layer is thinly extended. The thickness of the grease is preferably 100 microns or less (sub-milli order). If the thickness of the grease is on the order of sub-millimeters, there is a risk that the grease will flow out due to a phenomenon called bleed-out or pumping that occurs due to repeated heat generation and cooling (thermal cycle) of the semiconductor element. Details of bleed out and pumping will be described in Examples. In general, the outflow of grease from between the power card and the cooling member may be expressed as “the grease comes off”. Such expressions are also used herein.

本明細書は、特許文献1や2のような溝をわざわざ形成することなく、ブリードアウトやポンピングによるグリス抜けを抑制する技術を提供する。   The present specification provides a technique for suppressing grease loss due to bleed-out or pumping without bothering to form grooves as in Patent Documents 1 and 2.

放熱板の面上には、研磨痕(ツールマーク)が残っている。研磨痕は、高さが数ミクロンから数十ミクロン程度の平行な突条である。発明者らは、グリスの層の厚みがサブミリオーダになると、研磨痕によってグリスの移動方向が制限され、グリスは研磨痕に沿って移動し易くなることに気が付いた。本明細書が開示する技術は、この研磨痕を利用する。本明細書が開示する半導体装置では、放熱板は、パワーカードの冷却部材と対向する面に設けられている。放熱板は、平面視したときに直交する2方向で長さが異なる。放熱板の冷却部材と対向する面に残っている研磨痕が、放熱板の長手方向に沿って伸びているようにする。そうすることで、グリスが拡がる方向を放熱板の長手方向に制御する。研磨痕が放熱板の短手方向に伸びている場合と比較すると、研磨痕が放熱板の長手方向に伸びている方がグリスが移動できる距離が長くなる。グリスが拡がる方向を長手方向に制御することにより、グリスが放熱板上で移動可能な距離を伸ばし、グリスを放熱板上に維持しやすくすることができる。本明細書が開示する技術は、特許文献1の溝や特許文献2の線条溝を設けることなく、グリスを放熱板上に維持し易くする。   Polishing marks (tool marks) remain on the surface of the heat sink. The polishing mark is a parallel protrusion having a height of several microns to several tens of microns. The inventors have noticed that when the thickness of the grease layer is on the order of submillimeters, the movement direction of the grease is limited by the polishing marks, and the grease easily moves along the polishing marks. The technique disclosed in this specification uses this polishing mark. In the semiconductor device disclosed in this specification, the heat dissipation plate is provided on a surface facing the cooling member of the power card. The heatsinks have different lengths in two directions orthogonal to each other when viewed in plan. The polishing marks remaining on the surface of the heat radiating plate facing the cooling member are made to extend along the longitudinal direction of the heat radiating plate. By doing so, the direction which grease spreads is controlled to the longitudinal direction of a heat sink. Compared with the case where the polishing marks extend in the short direction of the heat sink, the distance that the grease can move becomes longer when the polishing marks extend in the longitudinal direction of the heat sink. By controlling the direction in which the grease spreads in the longitudinal direction, the distance that the grease can move on the heat radiating plate can be extended, and the grease can be easily maintained on the heat radiating plate. The technology disclosed in this specification makes it easy to maintain the grease on the heat sink without providing the groove of Patent Document 1 or the linear groove of Patent Document 2.

本明細書が開示する技術によれば、間にグリスを挟んでパワーカードと冷却部材が積層されている半導体装置において、放熱板上に残っている研磨痕を活用して、ブリードアウトやポンピングによるグリス抜けを抑制することができる。本明細書が開示する技術の詳細とさらなる改良は以下の「発明を実施するための形態」にて説明する。   According to the technology disclosed in this specification, in a semiconductor device in which a power card and a cooling member are stacked with grease interposed therebetween, by utilizing polishing marks remaining on the heat sink, bleed-out or pumping is performed. Grease omission can be suppressed. Details and further improvements of the technology disclosed in this specification will be described in the following “DETAILED DESCRIPTION”.

実施例の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device of an Example. パワーカードを裏面からみた斜視図である。It is the perspective view which looked at the power card from the back. 図1の座標系におけるXY平面でカットした半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device cut | disconnected by XY plane in the coordinate system of FIG. 図1の座標系におけるXZ平面でカットした半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device cut | disconnected by the XZ plane in the coordinate system of FIG. パワーカードの正面図である。It is a front view of a power card. パワーカードの裏面図である。It is a reverse view of a power card. 放熱板の図5BのVI−VI線における部分断面図である。It is a fragmentary sectional view in the VI-VI line of FIG. 5B of a heat sink. 変形例におけるパワーカードの正面図である。It is a front view of the power card in a modification.

図面を参照して実施例の半導体装置を説明する。図1は、第1実施例の半導体装置2の斜視図である。半導体装置2は、複数のパワーカード10と複数の冷却器3が積層されたユニットである。なお、図1では、一つのパワーカードだけに符号10を付し、他のパワーカードには符号を省略している。同様に一つの冷却器だけに符号3を付し、他の冷却器には符号を省略している。また、半導体装置2の全体が見えるように、半導体装置2を収容するケース31は仮想線で描いてある。なお、パワーカード10と絶縁板6の間、及び、絶縁板6と冷却器3の間にはグリスが塗布されているが、図1と図2ではグリスの図示は省略している。   A semiconductor device according to an embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor device 2 according to the first embodiment. The semiconductor device 2 is a unit in which a plurality of power cards 10 and a plurality of coolers 3 are stacked. In FIG. 1, reference numeral 10 is given to only one power card, and reference numerals are omitted for the other power cards. Similarly, reference numeral 3 is given to only one cooler, and reference numerals are omitted for the other coolers. In addition, the case 31 for housing the semiconductor device 2 is drawn with imaginary lines so that the entire semiconductor device 2 can be seen. In addition, although grease is apply | coated between the power card 10 and the insulating board 6, and between the insulating board 6 and the cooler 3, illustration of grease is abbreviate | omitted in FIG. 1 and FIG.

一つのパワーカード10には4個の半導体素子が収容されている。4個の半導体素子は、具体的には、2個のトランジスタTa、Tbと、2個のダイオードDa、Dbである。パワーカード10の内部構造は後に詳しく説明する。冷却器3を通る冷媒により、半導体素子が冷却される。冷媒は液体であり、典型的には水である。   One power card 10 accommodates four semiconductor elements. Specifically, the four semiconductor elements are two transistors Ta and Tb and two diodes Da and Db. The internal structure of the power card 10 will be described in detail later. The semiconductor element is cooled by the refrigerant passing through the cooler 3. The refrigerant is a liquid, typically water.

パワーカード10と冷却器3は、共に平板型であり、複数の側面のうち最大面積の平坦面が対向するように積層されている。パワーカード10と冷却器3は交互に積層されており、ユニットの積層方向の両端には冷却器が位置している。パワーカード10と冷却器3の間には絶縁板6が挟まれている。各パワーカード10は、積層方向の両面の夫々に、絶縁板6を挟んで冷却器3が対向している。   The power card 10 and the cooler 3 are both flat plate types, and are laminated so that the flat surfaces having the largest areas face each other among the plurality of side surfaces. The power card 10 and the cooler 3 are alternately stacked, and coolers are located at both ends in the stacking direction of the units. An insulating plate 6 is sandwiched between the power card 10 and the cooler 3. In each power card 10, the cooler 3 faces the both surfaces in the stacking direction with the insulating plate 6 interposed therebetween.

複数の冷却器3は、連結パイプ5a、5bで連結されている。積層方向の一端の冷却器3には、冷媒供給管4aと冷媒排出管4bが連結されている。冷媒供給管4aを通じて供給される冷媒は、連結パイプ5aを通じて全ての冷却器3に分配される。冷媒は各冷却器3を通る間に隣接するパワーカード10から熱を吸収する。各冷却器3を通った冷媒は連結パイプ5bを通り、冷媒排出管4bから排出される。   The plurality of coolers 3 are connected by connecting pipes 5a and 5b. A refrigerant supply pipe 4a and a refrigerant discharge pipe 4b are connected to the cooler 3 at one end in the stacking direction. The refrigerant supplied through the refrigerant supply pipe 4a is distributed to all the coolers 3 through the connection pipe 5a. The refrigerant absorbs heat from the adjacent power card 10 while passing through each cooler 3. The refrigerant passing through each cooler 3 passes through the connecting pipe 5b and is discharged from the refrigerant discharge pipe 4b.

半導体装置2はケース31に収容される際、積層方向の一端側に板バネ32が挿入される。その板バネ32により、パワーカード10と絶縁板6と冷却器3の積層ユニットには、積層方向の両側から荷重が加えられる。その荷重は、例えば3[kN]である。後述するように絶縁板6とパワーカード10の間にはグリスが塗布されるが、3[kN]という高い荷重は、グリスの層を薄く引き延ばし、パワーカード10から冷却器3への伝熱効率を高める。パワーカード10は、直接的には絶縁板6に熱を奪われる。それゆえ、絶縁板6は、冷却部材に相当する。半導体装置2は、半導体素子(2個のトランジスタTa、Tbと2個のダイオードDa、Db)を収容したパワーカード10にグリスを挟んで絶縁板6(冷却部材)が接しているとともに、パワーカード10と絶縁板6が密着するようにそれらの積層方向に荷重が加えられているデバイスである。   When the semiconductor device 2 is accommodated in the case 31, a leaf spring 32 is inserted on one end side in the stacking direction. Due to the leaf spring 32, a load is applied to the laminated unit of the power card 10, the insulating plate 6, and the cooler 3 from both sides in the lamination direction. The load is, for example, 3 [kN]. As will be described later, grease is applied between the insulating plate 6 and the power card 10, but a high load of 3 [kN] extends the grease layer thinly to improve the heat transfer efficiency from the power card 10 to the cooler 3. Increase. The power card 10 is directly deprived of heat by the insulating plate 6. Therefore, the insulating plate 6 corresponds to a cooling member. In the semiconductor device 2, an insulating plate 6 (cooling member) is in contact with a power card 10 containing semiconductor elements (two transistors Ta and Tb and two diodes Da and Db) with grease interposed therebetween. In this device, a load is applied in the stacking direction so that 10 and the insulating plate 6 are in close contact with each other.

パワーカード10を説明する。パワーカード10において、絶縁板6と対向する一方の平坦面10aには、放熱板16a、16bが露出している。放熱板16a、16bにはグリスを挟んで絶縁板6が接しており、その絶縁板6にはグリスを挟んで冷却器3が接している。説明の便宜上、平坦面10aが位置する側をパワーカード10の正面と称する。パワーカード10を裏面(X軸の負方向)からみた図を図2に示す。平坦面10aとは反対側の平坦面10bには、別の放熱板17が露出している。放熱板17にはグリスを挟んで別の絶縁板6が接しており、その絶縁板6にはグリスを挟んで別の冷却器3が接している。パワーカード10の上面(図中Z軸の正方向を向く面)からは3本の電極端子7a、7b、7cが伸びており、下面(図中Z軸方向の負方向を向く面)からは制御端子29が伸びている。   The power card 10 will be described. In the power card 10, the heat radiating plates 16 a and 16 b are exposed on one flat surface 10 a facing the insulating plate 6. The insulating plate 6 is in contact with the heat radiating plates 16a and 16b with grease, and the cooler 3 is in contact with the insulating plate 6 with the grease interposed therebetween. For convenience of explanation, the side on which the flat surface 10 a is located is referred to as the front surface of the power card 10. FIG. 2 shows a view of the power card 10 as seen from the back surface (negative direction of the X axis). Another heat radiating plate 17 is exposed on the flat surface 10b opposite to the flat surface 10a. Another insulating plate 6 is in contact with the heat radiating plate 17 with grease, and another cooler 3 is in contact with the insulating plate 6 with the grease interposed therebetween. Three electrode terminals 7a, 7b, and 7c extend from the upper surface of the power card 10 (the surface facing the positive direction of the Z-axis in the figure), and from the lower surface (the surface facing the negative direction of the Z-axis direction in the figure). The control terminal 29 is extended.

ここからは、図1、図2とともに図3と図4を参照してパワーカード10の内部構造を説明する。図3は、図1のパワーカード10を図中の座標系のXY面に平行な平面であってトランジスタTaとTbを横切る平面でカットした断面図である。図4は、図1のパワーカード10を図中の座標系のXZ面に平行な平面でカットした断面図であってトランジスタTaとダイオードDaを横切る平面でカットした断面図である。別言すれば、図4は、図3のIV−IV線に沿った断面図であり、図3は図4のIII−III線に沿った断面図である。   From here, the internal structure of the power card 10 will be described with reference to FIGS. 3 and 4 together with FIGS. FIG. 3 is a cross-sectional view of the power card 10 of FIG. 1 cut along a plane parallel to the XY plane of the coordinate system in the drawing and across the transistors Ta and Tb. FIG. 4 is a cross-sectional view of the power card 10 of FIG. 1 cut along a plane parallel to the XZ plane of the coordinate system in the drawing, and is a cross-sectional view cut along a plane crossing the transistor Ta and the diode Da. In other words, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. 3, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG.

4個の半導体素子(トランジスタTa、Tb、ダイオードDa、Db)は、樹脂製の筐体13に封止されている。筐体13は、射出成形により半導体素子を封止する。いずれの半導体素子も平坦なチップであり、その平坦面が筐体13の平坦面(パワーカード10の平坦面10a、10b)と平行になるように配置されている。なお、以下では、パワーカード10の平坦面10a、10bを筐体13の平坦面10a、10bと称する場合がある。   The four semiconductor elements (transistors Ta and Tb, diodes Da and Db) are sealed in a resin casing 13. The housing 13 seals the semiconductor element by injection molding. Each semiconductor element is a flat chip, and is arranged so that the flat surface is parallel to the flat surface of the housing 13 (the flat surfaces 10a and 10b of the power card 10). Hereinafter, the flat surfaces 10 a and 10 b of the power card 10 may be referred to as the flat surfaces 10 a and 10 b of the housing 13.

トランジスタTa、TbはIGBTである。トランジスタTa、Tbはコレクタ電極、エミッタ電極、ゲート電極を有している。トランジスタTa(Tb)のチップの一方の平坦面にはコレクタ電極が露出しており、他方の平坦面にはエミッタ電極が露出している。トランジスタTa(Tb)のゲートは、チップの一方の平坦面の端に設けられている。トランジスタTaの一方の平坦面の電極はハンダ15により放熱板16aの裏面に接合している。放熱板16aのおもて面は、筐体13の平坦面10aに露出している。なお、放熱板において、筐体13から露出している側の面を「おもて面」と称し、反対側の面を「裏面」と称する。一方、トランジスタTaの他方の平坦面の電極は、ハンダ15と導電部材(スペーサ14)を介して放熱板17の裏面に接合している。放熱板17のおもて面は、筐体13の平坦面10bに露出している。トランジスタTaの他方の平坦面の端にはゲートが位置しており、そのゲートはワイヤを介して制御端子29に接続されている。図4では、ワイヤは破線で描いてある。トランジスタTbも同様の構成を有しており、トランジスタTbのコレクタ電極、エミッタ電極は夫々放熱板16a、17に接続されている。   The transistors Ta and Tb are IGBTs. The transistors Ta and Tb have a collector electrode, an emitter electrode, and a gate electrode. The collector electrode is exposed on one flat surface of the chip of the transistor Ta (Tb), and the emitter electrode is exposed on the other flat surface. The gate of the transistor Ta (Tb) is provided at the end of one flat surface of the chip. The electrode on one flat surface of the transistor Ta is joined to the back surface of the heat radiating plate 16 a by solder 15. The front surface of the heat radiating plate 16 a is exposed on the flat surface 10 a of the housing 13. In the heat sink, the surface exposed from the housing 13 is referred to as a “front surface”, and the opposite surface is referred to as a “back surface”. On the other hand, the electrode on the other flat surface of the transistor Ta is joined to the back surface of the heat sink 17 via the solder 15 and the conductive member (spacer 14). The front surface of the heat radiating plate 17 is exposed on the flat surface 10 b of the housing 13. A gate is located at the end of the other flat surface of the transistor Ta, and the gate is connected to the control terminal 29 via a wire. In FIG. 4, the wires are drawn in broken lines. The transistor Tb has the same configuration, and the collector electrode and emitter electrode of the transistor Tb are connected to the heat sinks 16a and 17, respectively.

図4によく示されているように、放熱板16aは、電極端子7aの一部である。筐体内部で放熱板16aの側縁から延設部が伸びており、その延設部は筐体13の内部を通り、筐体13の上面(図中の座標系のZ軸正方向を向く面)から外部へ伸びている。即ち、トランジスタTaの電極を外部の他のデバイスと接続するための電極端子7aにおいて、筐体13の平坦面10aに露出している部位が放熱板16aに相当する。電極端子7aはトランジスタTaの電極と接しているので、トランジスタTaの内部の熱を伝えやすい。その電極端子7aの一部が放熱板16aとして筐体13から露出しているので、放熱板16aにはトランジスタTaの内部の熱がよく伝わる。一方、冷却器3はアルミニウム(導電性の金属)で作られているので、放熱板16aと絶縁する必要がある。それゆえ、半導体装置2は、冷却器3と放熱板16a(パワーカード10)との間に絶縁板6を挟んでいる。絶縁板6は、薄くて絶縁性が高く、伝熱性も良いセラミックスで作られている。放熱板16a(電極端子7a)は、導電性と伝熱性に優れた銅で作られている。スペーサ14も、導電性と伝熱性に優れた銅で作られている。   As well shown in FIG. 4, the heat sink 16a is a part of the electrode terminal 7a. An extending portion extends from the side edge of the heat radiating plate 16a inside the housing. The extending portion passes through the inside of the housing 13 and faces the upper surface of the housing 13 (in the positive Z-axis direction of the coordinate system in the drawing). Surface) to the outside. That is, in the electrode terminal 7a for connecting the electrode of the transistor Ta to another external device, a portion exposed to the flat surface 10a of the housing 13 corresponds to the heat radiating plate 16a. Since the electrode terminal 7a is in contact with the electrode of the transistor Ta, it easily conducts heat inside the transistor Ta. Since part of the electrode terminal 7a is exposed as the heat sink 16a from the housing 13, the heat inside the transistor Ta is well transmitted to the heat sink 16a. On the other hand, since the cooler 3 is made of aluminum (conductive metal), it is necessary to insulate it from the heat sink 16a. Therefore, the semiconductor device 2 has the insulating plate 6 sandwiched between the cooler 3 and the heat radiating plate 16a (power card 10). The insulating plate 6 is made of a ceramic that is thin, highly insulating, and has good heat conductivity. The heat sink 16a (electrode terminal 7a) is made of copper having excellent conductivity and heat conductivity. The spacer 14 is also made of copper having excellent conductivity and heat conductivity.

ダイオードDa、Dbも平坦なチップであり、一方の平坦面にアノード電極が露出しており、他方の平坦面にカソード電極が露出している。ダイオードDaの一方の平坦面に露出している電極は、トランジスタTaと同様に、ハンダ15を介して放熱板16aの裏面に接続している。ダイオードDaの他方の平坦面に露出している電極も、トランジスタTaと同様に、ハンダ15とスペーサ14を介して放熱板17の裏面に接続している。即ち、トランジスタTaとダイオードDaは、放熱板16a(即ち電極端子7a)と放熱板17の間で並列(逆並列)に接続されている。放熱板17も、放熱板16aと同様に電極端子7cの一部である。   The diodes Da and Db are also flat chips, with the anode electrode exposed on one flat surface and the cathode electrode exposed on the other flat surface. The electrode exposed on one flat surface of the diode Da is connected to the back surface of the heat radiating plate 16a through the solder 15 like the transistor Ta. The electrode exposed on the other flat surface of the diode Da is also connected to the back surface of the heat radiating plate 17 via the solder 15 and the spacer 14 like the transistor Ta. That is, the transistor Ta and the diode Da are connected in parallel (reverse parallel) between the heat sink 16a (that is, the electrode terminal 7a) and the heat sink 17. The heat sink 17 is also a part of the electrode terminal 7c like the heat sink 16a.

トランジスタTbとダイオードDbの組も、トランジスタTaとダイオードDaの組と同様の構造を有している。トランジスタTaとダイオードDbの一方の面の電極はハンダ15を介して放熱板16bの裏面に接続されており、他方の面の電極はハンダ15とスペーサ14を介して放熱板17の裏面に接続している。トランジスタTbとダイオードDbも、筐体13の内部で並列(逆並列)に接続されている。放熱板16bも、放熱板16aと同様に、電極端子7bの一部である。   The set of the transistor Tb and the diode Db has the same structure as the set of the transistor Ta and the diode Da. The electrodes on one surface of the transistor Ta and the diode Db are connected to the back surface of the heat sink 16b via the solder 15, and the electrodes on the other surface are connected to the back surface of the heat sink 17 via the solder 15 and the spacer 14. ing. The transistor Tb and the diode Db are also connected in parallel (in reverse parallel) inside the housing 13. The heat sink 16b is also a part of the electrode terminal 7b like the heat sink 16a.

放熱板16a、16bは、平板型のパワーカード10(筐体13)の最大面積の一方の平坦面10aに露出しており、放熱板17は、パワーカード10(筐体13)の最大面積の他方の平坦面10bに露出している。図3、及び、図4によく示されているように、絶縁板6と放熱板16aとの間にはグリス9aが塗布されている。同様に、絶縁板6と放熱板16b、17の間にもグリス9aが塗布されている。絶縁板6と冷却器3の間の夫々にもグリス9bが塗布されている。グリス9aとグリス9bは、同じ種類のグリスである。   The heat sinks 16a and 16b are exposed on one flat surface 10a of the maximum area of the flat power card 10 (housing 13), and the heat sink 17 has a maximum area of the power card 10 (housing 13). It is exposed on the other flat surface 10b. As well shown in FIGS. 3 and 4, grease 9a is applied between the insulating plate 6 and the heat radiating plate 16a. Similarly, grease 9a is also applied between the insulating plate 6 and the heat radiating plates 16b and 17. Grease 9 b is also applied between the insulating plate 6 and the cooler 3. The grease 9a and the grease 9b are the same type of grease.

放熱板のおもて面について、図5A、5Bを参照して説明する。図5Aに、パワーカード10の正面図を示し、図5Bに、パワーカード10の裏面図を示す。図5Aは、パワーカード10をX軸の正方向から見た図であり、図5Bは、パワーカード10をX軸の負方向からみた図である。図5A、図5Bでは、絶縁板6が仮想線で描かれている。トランジスタTa、Tb及びダイオードDa、Dbは破線で描かれている。図5Aに示すように、放熱板16aは、平面視したとき、直交する2方向で長さが異なっている。放熱板16aのZ軸方向の長さをL1と称し、Y軸方向の長さをL2と称する。放熱板16aはL1>L2である。即ち、Z軸方向が放熱板16aの長手方向となり、Y軸方向が放熱板16aの短手方向となる。放熱板16bも放熱板16aと同様である。また、図5Bに示すように、放熱板17も平面視したときに直交する2方向で長さが異なっている。放熱板17のY軸方向の長さをL3と称し、Z軸方向の長さをL4と称する。放熱板17はL3>L4である。即ち、Y軸方向が放熱板17の長手方向となり、Z軸方向が放熱板17の短手方向となる。放熱板16a、16bの長手方向と放熱板17の長手方向は、互いに直交する。   The front surface of the heat sink will be described with reference to FIGS. 5A and 5B. FIG. 5A shows a front view of the power card 10, and FIG. 5B shows a back view of the power card 10. 5A is a diagram of the power card 10 viewed from the positive direction of the X axis, and FIG. 5B is a diagram of the power card 10 viewed from the negative direction of the X axis. In FIG. 5A and FIG. 5B, the insulating plate 6 is drawn with a virtual line. The transistors Ta and Tb and the diodes Da and Db are drawn with broken lines. As shown in FIG. 5A, the heat radiating plate 16a has different lengths in two orthogonal directions when viewed in plan. The length of the heat radiating plate 16a in the Z-axis direction is referred to as L1, and the length in the Y-axis direction is referred to as L2. The heat sink 16a is L1> L2. That is, the Z-axis direction is the longitudinal direction of the heat sink 16a, and the Y-axis direction is the short direction of the heat sink 16a. The heat sink 16b is the same as the heat sink 16a. Further, as shown in FIG. 5B, the length of the heat radiating plate 17 is also different in two directions orthogonal to each other when viewed in plan. The length of the heat sink 17 in the Y-axis direction is referred to as L3, and the length in the Z-axis direction is referred to as L4. The heat sink 17 is L3> L4. That is, the Y-axis direction is the longitudinal direction of the heat radiating plate 17, and the Z-axis direction is the short direction of the radiating plate 17. The longitudinal direction of the radiator plates 16a and 16b and the longitudinal direction of the radiator plate 17 are orthogonal to each other.

放熱板16aのおもて面(筐体13の平坦面10aに露出している面)は、平面に研磨される。これは、放熱板16aと絶縁板6の間のグリスにおける熱抵抗を、放熱板16aの全面で均一になるように管理するためである。放熱板16aのおもて面には、研磨時における研磨痕(ツールマーク)が複数残っている。ツールマークは、高さが数ミクロンから数十ミクロン程度の平行な突条である。図5Aに示すように、複数のツールマーク46aが放熱板16aの長手方向(Z軸方向)に沿って平行に伸びている。別言すれば、ツールマーク46aが放熱板16aの長手方向に沿って平行に伸びるように放熱板16aのおもて面が研磨される。ツールマーク46aは直線状であり、ツールマーク46aは、放熱板16aの長手方向の一端から他端に向かって伸びている。放熱板16bのおもて面にも、放熱板16aと同様のツールマーク46bが残っている。また、放熱板17のおもて面も研磨される。図5Bに示すように、複数のツールマーク47が放熱板17の長手方向(Y軸方向)に沿って平行に伸びている。ツールマーク47も直線状であり、ツールマーク47は、放熱板17の長手方向の一端から他端に向かって伸びている。   The front surface of the heat radiating plate 16a (the surface exposed to the flat surface 10a of the housing 13) is polished to a flat surface. This is for managing the thermal resistance of the grease between the heat radiating plate 16a and the insulating plate 6 to be uniform over the entire surface of the heat radiating plate 16a. A plurality of polishing marks (tool marks) at the time of polishing remain on the front surface of the heat radiating plate 16a. The tool mark is a parallel protrusion having a height of several microns to several tens of microns. As shown in FIG. 5A, a plurality of tool marks 46a extend in parallel along the longitudinal direction (Z-axis direction) of the heat sink 16a. In other words, the front surface of the heat sink 16a is polished so that the tool mark 46a extends in parallel along the longitudinal direction of the heat sink 16a. The tool mark 46a is linear, and the tool mark 46a extends from one end in the longitudinal direction of the heat radiating plate 16a toward the other end. A tool mark 46b similar to that of the heat sink 16a remains on the front surface of the heat sink 16b. Further, the front surface of the heat radiating plate 17 is also polished. As shown in FIG. 5B, the plurality of tool marks 47 extend in parallel along the longitudinal direction (Y-axis direction) of the heat radiating plate 17. The tool mark 47 is also linear, and the tool mark 47 extends from one end in the longitudinal direction of the heat radiating plate 17 toward the other end.

ツールマークの形状について説明する。図6は、図5AのVI−VI線における放熱板16aの部分断面図である。図6では、強調してツールマーク46aを大きく描いている。ツールマーク46aは、放熱板16aのおもて面から、その直交する方向に突出している。また、ツールマーク46aは、先に述べたように、放熱板16aの長手方向に伸びる突条である。その高さH1は、1ミクロンから10ミクロンである。図中では、一つのツールマーク46aの高さについてだけ符号H1を付しているが、他のツールマーク46aについても同様にその高さはH1である。また、平行に伸びる複数のツールマーク46aの間隔Wは、ツールマーク46aの高さH1よりも十分に広くなっている。その間隔Wは、500ミクロンから700ミクロンである。図中では、ツールマーク46aの一つの間隔にだけ符号Wを付しているが、ツールマーク46aの他の間隔についても同様にその間隔はWである。   The shape of the tool mark will be described. FIG. 6 is a partial cross-sectional view of the heat dissipation plate 16a taken along line VI-VI in FIG. 5A. In FIG. 6, the tool mark 46a is drawn in a large size with emphasis. The tool mark 46a protrudes from the front surface of the heat sink 16a in the orthogonal direction. Further, as described above, the tool mark 46a is a protrusion extending in the longitudinal direction of the heat radiating plate 16a. Its height H1 is 1 to 10 microns. In the figure, only the height of one tool mark 46a is denoted by reference numeral H1, but the height of other tool marks 46a is also H1. Further, the interval W between the plurality of tool marks 46a extending in parallel is sufficiently wider than the height H1 of the tool mark 46a. The interval W is 500 to 700 microns. In the drawing, the symbol W is attached to only one interval of the tool mark 46a, but the interval of other intervals of the tool mark 46a is also W.

半導体装置2では、グリスの層が薄いほどパワーカードに対する冷却能力が高まる。上述したように、半導体装置2では、パワーカード10と絶縁板6と冷却器3の積層ユニットに板ばね32により積層方向に荷重が加えられ、グリス9a、9bの層が薄く延ばされる。グリスの厚みは100ミクロン以下(サブミリオーダ)であることが好ましい。グリスの厚みがサブミリオーダになると、半導体素子の発熱と冷却の繰り返し(熱サイクル)で生じるポンピングやブリードアウトと呼ばれる現象によりグリスが流出する虞がある。   In the semiconductor device 2, the thinner the grease layer, the higher the cooling capacity for the power card. As described above, in the semiconductor device 2, a load is applied to the stacked unit of the power card 10, the insulating plate 6, and the cooler 3 in the stacking direction by the leaf spring 32, and the layers of grease 9 a and 9 b are thinly extended. The thickness of the grease is preferably 100 microns or less (sub-milli order). If the thickness of the grease is on the order of sub-millimeters, there is a risk that the grease will flow out due to a phenomenon called pumping or bleedout that occurs due to repeated heat generation and cooling (thermal cycle) of the semiconductor element.

ポンピングとは、パワーカードの熱変形により、パワーカードと冷却部材の間の隙間幅が局所的に狭まったり元に戻ったりする現象である。隙間幅が狭まるとグリスがパワーカードと冷却部材に圧縮され、グリスは放熱板の周囲へと拡がる。隙間幅が元に戻る際にグリスは隙間に吸い込まれる。ここで、隙間幅が元に戻る際に放熱板の外まで拡がったグリスの一部が放熱板の外に流出したままの状態になる場合がある。グリスの一部が放熱板の外に流出したままの状態になると、流出したグリスの一部が千切れることにより生じた隙間に空気が入り込む。空気はグリスよりも熱伝導率が低い。隙間に空気が入り込むことにより放熱板と冷却部材の間の熱抵抗が上昇する。また、ブリードアウトは、グリス自体の熱膨張収縮によりパワーカードと冷却部材の隙間からグリスが抜ける現象である。グリスが膨張すると、グリスは放熱板の周囲へと拡がる。膨張した際に放熱板の外まで拡がったグリスの一部が放熱板の外に流出したままの状態になる場合がある。これにより、ポンピングと同様に、流出したグリスの一部が千切れることにより生じた隙間に空気が入り込み、放熱板と冷却部材の間の熱抵抗が上昇する。   Pumping is a phenomenon in which the gap width between the power card and the cooling member is locally reduced or restored due to thermal deformation of the power card. When the gap width is narrowed, the grease is compressed by the power card and the cooling member, and the grease spreads around the heat sink. When the gap width returns, the grease is sucked into the gap. Here, when the gap width returns to the original state, a part of the grease that has spread to the outside of the heat radiating plate may remain flowing out of the heat radiating plate. If a part of the grease is left flowing out of the heat sink, air enters a gap generated by a part of the grease that has flowed out. Air has a lower thermal conductivity than grease. When air enters the gap, the thermal resistance between the heat sink and the cooling member increases. Bleed-out is a phenomenon in which grease is removed from the gap between the power card and the cooling member due to thermal expansion and contraction of the grease itself. As the grease expands, the grease spreads around the heat sink. When expanded, a part of the grease that has spread to the outside of the heat sink may remain flowing out of the heat sink. Thereby, like pumping, air enters into the gap generated by part of the grease that has flowed out, and the thermal resistance between the heat sink and the cooling member increases.

筐体13の平坦面10aは樹脂製であり、その面粗度は、放熱板16a、16bの面粗度よりも大きい。パワーカード10を平面視すると、放熱板16a、16bの周りには、放熱板16a、16bより面粗度が高い筐体13の平坦面10aが位置している。ポンピングやブリードアウトによりグリス抜けが生じるとグリスの一部が面粗度の高い平坦面10aに流出することになる。グリスは面粗度が高くなるほど移動し難くなる。よって、面粗度が高い平坦面10aに流出したグリスの一部は平坦面10aに留まりやすい。   The flat surface 10a of the housing 13 is made of resin, and the surface roughness thereof is larger than the surface roughness of the heat sinks 16a and 16b. When the power card 10 is viewed in plan, the flat surface 10a of the housing 13 having a higher surface roughness than the heat radiating plates 16a and 16b is located around the heat radiating plates 16a and 16b. When grease is lost due to pumping or bleed-out, part of the grease flows out to the flat surface 10a having a high surface roughness. The grease becomes difficult to move as the surface roughness increases. Therefore, some of the grease that has flowed out to the flat surface 10a having a high surface roughness tends to stay on the flat surface 10a.

発明者らは、グリスの層の厚みがサブミリオーダになると、ツールマークによってグリスの移動方向が制限され、グリスはツールマークに沿って移動し易くなることに気が付いた。特に、複数のツールマークが平行に伸びているほど、そのツールマークに沿ってグリスが移動しやすくなる。実施例の放熱板16aのおもて面には平行に伸びる複数のツールマーク46aが残っている。そして、実施例では、ツールマーク46aは放熱板16aの長手方向に沿って伸びている。このような構成によれば、ツールマーク46aが放熱板16aの短手方向に伸びている場合と比較すると、ツールマーク46aが放熱板16aの長手方向に伸びている方がグリス9aが移動できる距離が長くなる。グリス9aが拡がる方向を放熱板16aの長手方向に制御することにより、グリス9aが放熱板16a上で移動可能な距離を伸ばし、グリス9aを放熱板16a上に維持しやすくすることができる。即ち、ブリードアウトやポンピングによるグリス抜けを抑制することができる。   The inventors have noticed that when the thickness of the grease layer becomes submillimeter order, the movement direction of the grease is limited by the tool mark, and the grease easily moves along the tool mark. In particular, the more the tool marks extend in parallel, the easier it is for the grease to move along the tool marks. A plurality of tool marks 46a extending in parallel remain on the front surface of the heat sink 16a of the embodiment. In the embodiment, the tool mark 46a extends along the longitudinal direction of the heat sink 16a. According to such a configuration, the distance that the grease 9a can move is longer when the tool mark 46a extends in the longitudinal direction of the heat sink 16a than when the tool mark 46a extends in the shorter direction of the heat sink 16a. Becomes longer. By controlling the direction in which the grease 9a spreads in the longitudinal direction of the heat radiating plate 16a, the distance that the grease 9a can move on the heat radiating plate 16a can be extended, and the grease 9a can be easily maintained on the heat radiating plate 16a. That is, grease loss due to bleed out or pumping can be suppressed.

また、ツールマークは放熱板を研磨する工程で生じる痕である。即ち、別の工程を追加する必要が無い。研磨機は通常、研磨粉が塗布された回転円板を有する。ツールマークが放熱板の長手方向に伸びるようにするには、回転円板の周方向が放熱板の長手方向に一致するように研磨機を放熱板に当てればよい。そうすることで、ブリードアウトやポンピングによるグリス抜けを抑制するようにツールマークを残すことができる。   The tool mark is a mark generated in the process of polishing the heat sink. That is, it is not necessary to add another process. The polishing machine usually has a rotating disk coated with polishing powder. In order for the tool mark to extend in the longitudinal direction of the heat sink, a polishing machine may be applied to the heat sink so that the circumferential direction of the rotating disk coincides with the longitudinal direction of the heat sink. By doing so, it is possible to leave a tool mark so as to suppress grease loss due to bleeding out or pumping.

放熱板16b(17)のおもて面に残っているツールマーク46b(47)も、放熱板16b(17)の長手方向に伸びている。ツールマーク46b(47)も、グリス抜けの抑制に貢献する。   The tool mark 46b (47) remaining on the front surface of the heat sink 16b (17) also extends in the longitudinal direction of the heat sink 16b (17). The tool mark 46b (47) also contributes to suppression of grease loss.

図7を参照して変形例の半導体装置について説明する。変形例の半導体装置は、放熱板のツールマーク以外の構成は、上述の実施例と同じである。変形例の放熱板のツールマークについて説明する。図7は、変形例のパワーカード110の正面図を示す。パワーカード110の放熱板116aのおもて面には、複数の平行に伸びるツールマーク56aが残っている。ツールマーク56aは実施例と同様に放熱板116aの長手方向に沿って伸びており、ツールマーク56aは短手方向に湾曲している。放熱板116bのおもて面にも、放熱板116aと同様のツールマーク56bが残っている。このような構成でも、実施例と同様に、グリスが拡がる方向を放熱板の長手方向に制御することができる。即ち、グリスを放熱板上に維持しやすくすることができ、ブリードアウトやポンピングによるグリス抜けを抑制することができる。   A modified semiconductor device will be described with reference to FIG. The configuration of the semiconductor device of the modification is the same as that of the above-described embodiment except for the tool mark of the heat sink. The tool mark of the heat sink of a modification is demonstrated. FIG. 7 shows a front view of a modified power card 110. A plurality of tool marks 56a extending in parallel remain on the front surface of the heat sink 116a of the power card 110. The tool mark 56a extends along the longitudinal direction of the heat sink 116a as in the embodiment, and the tool mark 56a is curved in the short direction. A tool mark 56b similar to that of the heat sink 116a remains on the front surface of the heat sink 116b. Even in such a configuration, the direction in which the grease spreads can be controlled in the longitudinal direction of the heat radiating plate, as in the embodiment. That is, it is possible to easily maintain the grease on the heat radiating plate, and it is possible to suppress the loss of grease due to bleed out or pumping.

以下、実施例で示した技術に関する留意点を述べる。半導体装置に使用される半導体素子(トランジスタ)は、IGBTに限らない。例えば、MOSFETでもよい。その場合、「コレクタ電極」は「ソース電極」、「エミッタ電極」は「ドレイン電極」と呼ばれる。また、ツールマークの間隔は同一でなくても良い。図7の変形例で示したように、ツールマークは湾曲していてもよい。また、ツールマークは、放熱板の長手方向に平行でなくともよい。   Hereinafter, points to be noted regarding the technology shown in the embodiments will be described. The semiconductor element (transistor) used in the semiconductor device is not limited to the IGBT. For example, a MOSFET may be used. In this case, the “collector electrode” is called a “source electrode”, and the “emitter electrode” is called a “drain electrode”. Further, the intervals between the tool marks need not be the same. As shown in the modification of FIG. 7, the tool mark may be curved. The tool mark may not be parallel to the longitudinal direction of the heat sink.

平面視したときの放熱板の形状は、長手方向と短手方向の区別がつけばよい。例えば、平面視したときの放熱板の形状は楕円であってもよい。   What is necessary is just to distinguish the shape of a heat sink at the time of planar view in a longitudinal direction and a transversal direction. For example, the shape of the heat sink when viewed in plan may be an ellipse.

以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。   Specific examples of the present invention have been described in detail above, but these are merely examples and do not limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples illustrated above. The technical elements described in this specification or the drawings exhibit technical usefulness alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims at the time of filing. In addition, the technology exemplified in this specification or the drawings can achieve a plurality of objects at the same time, and has technical usefulness by achieving one of the objects.

2:半導体装置
3:冷却器
4a、4b:冷媒供給管
5a、5b:連結パイプ
6:絶縁板
7a、7b、7c:電極端子
9a、9b:グリス
10、110:パワーカード
13:筐体
14:スペーサ
15:ハンダ
16a、16b、17、116a、116b:放熱板
29:制御端子
31:ケース
32:板バネ
46a、46b、47、56a、56b:ツールマーク(研磨痕)
Ta、Tb:トランジスタ
Da、Db:ダイオード
2: Semiconductor device 3: Coolers 4a, 4b: Refrigerant supply pipes 5a, 5b: Connection pipe 6: Insulating plates 7a, 7b, 7c: Electrode terminals 9a, 9b: Grease 10, 110: Power card 13: Housing 14: Spacer 15: Solder 16a, 16b, 17, 116a, 116b: Heat sink 29: Control terminal 31: Case 32: Plate springs 46a, 46b, 47, 56a, 56b: Tool mark (polishing mark)
Ta, Tb: transistors Da, Db: diodes

Claims (1)

半導体素子を封止したパワーカードと冷却部材が積層されているとともに積層方向に荷重が加えられている半導体装置において、
前記パワーカードの前記冷却部材と対向する面に設けられており、平面視したときに直交する2方向で長さが異なる放熱板と、
前記放熱板と前記冷却部材の間に挟まれているグリスと、
を備えており、
前記放熱板の冷却部材と対向する面に残っている研磨痕が、前記放熱板の長手方向に沿って伸びている、
ことを特徴とする半導体装置。
In a semiconductor device in which a power card sealing a semiconductor element and a cooling member are stacked and a load is applied in the stacking direction,
A heat sink provided on a surface of the power card facing the cooling member, and having different lengths in two directions orthogonal to each other when viewed in plan;
Grease sandwiched between the heat sink and the cooling member;
With
Polishing traces remaining on the surface of the heat sink facing the cooling member extend along the longitudinal direction of the heat sink,
A semiconductor device.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11251163B2 (en) 2019-12-18 2022-02-15 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device having circuit board interposed between two conductor layers
US11658231B2 (en) 2019-12-17 2023-05-23 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device

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