JP2016065268A - 基板処理装置、ガス導入シャフト及びガス供給プレート - Google Patents
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Abstract
Description
基板が載置される基板載置台と、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられてなるガス供給プレートと、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有して構成されるとともに、前記ガス供給プレートが装着され、前記ガス供給プレートの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して前記複数のガス導入管のそれぞれが前記ガス供給プレートにおける前記ガス分配管と連通するように構成されたガス導入シャフトと、
を備える基板処理装置が提供される。
以下に、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。
本実施形態で説明する基板処理装置は、枚葉式の基板処理装置として構成されている。
基板処理装置が処理対象となる基板としては、例えば、半導体装置(半導体デバイス)が作り込まれる半導体ウエハ基板(以下、単に「ウエハ」という。)が挙げられる。
このような基板に対して行う処理としては、エッチング、アッシング、成膜処理等が挙げられるが、本実施形態では特に交互供給法による成膜処理を行うものとする。
図1は、本実施形態に係る基板処理装置の要部の概略構成例を模式的に示す説明図である。図2は、本実施形態に係る基板処理装置が備えるガス供給プレートの一構成例を示す説明図である。図3は、本実施形態に係る基板処理装置が備えるガス供給プレートの他の構成例と、当該基板処理装置が備えるガス導入シャフトの構成例とを示す斜視図である。図4は、本実施形態に係る基板処理装置が備えるガス導入シャフトにおける嵌合段差部の一構成例を示す説明図である。図5は、本実施形態に係る基板処理装置が備えるガス導入シャフトにおけるガス導入管の一構成例を示す説明図である。図6は、本実施形態に係る基板処理装置が備えるガス導入シャフトにおけるガス供給溝部の一構成例を示す説明図である。図7は、本実施形態に係る基板処理装置におけるガス導入シャフトおよびガス配管の構成例を模式的に示す概念図である。
本実施形態で説明する基板処理装置は、図示しない処理容器を備えている。処理容器は、例えばアルミニウム(Al)やステンレス(SUS)等の金属材料により密閉容器として構成されている。また、処理容器の側面には、図示しない基板搬入出口が設けられており、その基板搬入出口を介してウエハが搬送されるようになっている。さらに、処理容器には、図示しない真空ポンプや圧力制御器等のガス排気系が接続されており、そのガス排気系を用いて処理容器内を所定圧力に調整し得るようになっている。
処理容器の内部には、図1に示すように、ウエハWが載置される基板載置台10が設けられている。基板載置台10は、例えば円板状に形成され、その上面(基板載置面)に複数枚のウエハWが円周方向に均等な間隔で載置されるように構成されている。また、基板載置台10は、加熱源として図示しないヒータを内包しており、そのヒータを用いてウエハWの温度を所定温度に維持し得るようになっている。なお、図例では五枚のウエハWが載置されるように構成された場合を示しているが、これに限られることはなく、載置枚数は適宜設定されたものであればよい。例えば、載置枚数が多ければ処理スループットの向上が期待でき、載置枚数が少なければ基板載置台10の大型化を抑制できる。基板載置台10における基板載置面は、ウエハWと直接触れるため、例えば石英やアルミナ等の材質で形成することが望ましい。
また、処理容器の内部において、基板載置台10の上方側には、カートリッジヘッド20が設けられている。カートリッジヘッド20は、基板載置台10上のウエハWに対して、その上方側から各種ガス(原料ガス、反応ガスまたはパージガス)を供給するとともに、供給した各種ガスを上方側へ排気するためのものである。
ガス供給プレート21は、基板載置台10上に形成される処理空間に対して各種ガスを供給するために用いられるものである。そのために、ガス供給プレート21は、基板載置台10と対向する円板状の処理空間天板部211と、その処理空間天板部211の外周端縁部分から基板載置台10の側に向けて延びる円筒状の外筒部212と、を有している。そして、外筒部212に囲われた処理空間天板部211と基板載置台10との間には、基板載置台10上に載置されたウエハWに対する処理を行うための処理空間が形成されるようになっている。
後述するように、原料ガス供給領域213内は、処理ガスの一つである原料ガスが供給され、原料ガス雰囲気となる。反応ガス供給領域214内は、処理ガスの他の一つである反応ガスが供給され、反応ガス雰囲気となる。不活性ガス供給領域215内は、パージガスとしての不活性ガスが供給され、不活性ガス雰囲気となる。
このように区画された処理空間では、それぞれの領域213〜215内に供給されるガスに応じて、ウエハWに対して所定の処理が施される。
なお、反応ガスをプラズマ化する場合には、反応ガス供給領域214内は、プラズマ化された反応ガス雰囲気または活性化された反応ガス雰囲気となる。
なお、排気領域216の領域には、仕切板を設けてもよい。仕切板は、処理空間天板部211から基板載置台10の側に向けて延びるように設け、その下端が基板載置台10上のウエハWと干渉しない程度に当該基板載置台10に近付けて配置される。これにより、仕切板と基板載置台10との間を通過するガスが少なくなり、各領域213〜215の間でガスが混合することが抑制される。
なお、ガス分配管217は、図2(b)または(c)に示すように、処理空間天板部211に内蔵されるように配されていてもよいが、これに限られることはなく、例えば図3に示すように、処理空間天板部211の上方に露出するように配されていてもよい。
ガス導入シャフト22は、基板載置台10上に形成される処理空間に対して各種ガスを導入するために用いられるものである。そのために、ガス導入シャフト22は、図3に示すように、ガス供給プレート21と同軸の円柱シャフト状に形成されている。そして、ガス導入シャフト22のシャフト下部には、ガス供給プレート21が装着される嵌合段差部221が設けられている。また、ガス導入シャフト22のシャフト上部には、外部からのガス供給が行われるガス供給溝部222が設けられている。さらに、ガス導入シャフト22のシャフト内部には、嵌合段差部221とガス供給溝部222との間に複数のガス導入管223が設けられているとともに、シャフト中心にガス排気管224が設けられている。
嵌合段差部221は、図4(a)に示すように、径が異なる複数の短尺円柱部分が同軸上に重ねて配置され、これにより下方に向けて突出する凸状の段差部分を複数段有する構造となっている。段差部分の段数は、ガス供給プレート21が基板載置台10上のウエハWに対して供給するガスの種類数に対応しているものとする。例えば、原料ガス、反応ガスおよびパージガスの三種のガスをウエハWに対して供給する場合であれば、嵌合段差部221についても、三段の段差部分を有して構成されることになる。
ガス分配管217は、例えばガス排出空間231の外周側の側壁部分に接続される。ガス分配管217は、同一種類のガスを供給するガス供給領域213〜215が複数箇所存在する場合には、一つのガス排出空間231に対して当該複数箇所に対応した複数本が接続されることになる。
また、ガス導入管223a〜223cは、例えばガス排出空間231の天井部分に接続される。ガス導入管223a〜223cは、一つのガス排出空間231に対して少なくとも一つが接続されていればよい。なお、ガス導入管223a〜223cは、ガス排出空間231から上方に向けてガス供給溝部222に到達するまで延びている。
このような構成により、ガス導入シャフト22へのガス供給プレート21の装着時、当該ガス導入シャフト22におけるガス導入管223a〜223cは、円環状のガス排出空間231を介して、当該ガス供給プレート21におけるガス分配管217と連通することになる。
ガス供給溝部222は、図6に示すように、ガス導入シャフト22の円柱外周面に形成された複数の溝部222a〜222cを有しており、各溝部222a〜222cがガス導入シャフト22のシャフト軸方向に沿って並ぶように配されて構成されている。溝部222a〜222cの設置数は、ガス供給プレート21が基板載置台10上のウエハWに対して供給するガスの種類数に対応しているものとする。例えば、原料ガス、反応ガスおよびパージガスの三種のガスをウエハWに対して供給する場合であれば、ガス供給溝部222は、三つの溝部222a〜222cを有して構成されることになる。
ガス導入管223a〜223cが例えばガス導入シャフト22の同一円周上の異なる位置に分配して配置されている場合(例えば図5参照)、ガス導入管223a〜223cは、図6に示すように、各溝部222a〜222cの内周側壁面(すなわち溝底となる壁面)に接続するように配置することが考えられる。ただし、必ずしもこのような配置に限定されることはなく、ガス導入管223a〜223cが例えばガス導入シャフト22の円周径方向に沿って並べて配置されている場合(例えば図4(b)参照)、ガス導入管223a〜223cは、図7に示すように、各溝部222a〜222cの下方側壁面に接続するように配置しても構わない。
以上のようなガス導入シャフト22には、基板載置台10上のウエハWに対して各種ガスの供給/排気を行うために、図7に示すように、以下に述べるガス供給/排気系が接続されている。
ガス供給溝部222の溝部222aを閉塞する蓋体部材222dには、原料ガス供給管311が接続されている。原料ガス供給管311には、上流方向から順に、原料ガス供給源312、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)313、および、開閉弁であるバルブ314が設けられている。このような構成により、原料ガス供給管311が接続された蓋体部材222dによって形成されるガス供給空間222e内には、原料ガスが供給される。そして、供給された原料ガスは、ガス供給空間222eを介して、ガス導入管223aへ流入する。
また、ガス供給溝部222の溝部222bを閉塞する蓋体部材222d、すなわち原料ガス供給管311が接続された蓋体部材222dの隣に配された蓋体部材222dには、反応ガス供給管321が接続されている。反応ガス供給管321には、上流方向から順に、反応ガス供給源322、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)323、開閉弁であるバルブ324が設けられている。このような構成により、反応ガス供給管321が接続された蓋体部材222dによって形成されるガス供給空間222e内には、反応ガスが供給される。そして、供給された反応ガスは、ガス供給空間222eを介して、ガス導入管223bへ流入する。
ガス供給溝部222の溝部222cを閉塞する蓋体部材222d、すなわち反応ガス供給管321が接続された蓋体部材222dの隣に配された蓋体部材222dには、不活性ガス供給管331が接続されている。不活性ガス供給管331には、上流方向から順に、不活性ガス供給源332、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)333、および、開閉弁であるバルブ334が設けられている。このような構成により、不活性ガス供給管331が接続された蓋体部材222dによって形成されるガス供給空間222e内には、不活性ガスが供給される。そして、供給された不活性ガスは、ガス供給空間222eを介して、ガス導入管223cへ流入する。
ガス導入シャフト22のシャフト中心に設けられたガス排気管224には、その上端近傍位置にて、ガス排気管341が接続されている。ガス排気管341には、バルブ342が設けられている。また、ガス排気管341において、バルブ342の下流側には、処理空間内を所定圧力に制御する圧力制御器343が設けられている。さらに、ガス排気管341において、圧力制御器343の下流側には、真空ポンプ344が設けられている。このような構成により、ガス排気管224内からガス導入シャフト22の外方へのガス排気が行われる。なお、基板処理装置の内部全体を排気するための排気管もバルブ342に合流するか、あるいは別途バルブを設けて真空ポンプ344に合流させてもよい。
また図1に示すように、本実施形態に係る基板処理装置は、当該基板処理装置の各部の動作を制御するコントローラ40を有している。コントローラ40は、演算部401および記憶部402を少なくとも有する。コントローラ40は、上述した各構成に接続され、上位コントローラや使用者の指示に応じて記憶部402からプログラムやレシピを呼び出し、その内容に応じて各構成の動作を制御する。具体的には、コントローラ40は、ヒータ、回転駆動機構、MFC313〜333、バルブ314〜334,342、RPU325、圧力制御器343、真空ポンプ344等の動作を制御する。
次に、半導体装置の製造方法の一工程として、本実施形態に係る基板処理装置を使用して、ウエハW上に薄膜を形成する工程について説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ40により制御される。
先ず、ウエハW上に薄膜を形成する基板処理工程における基本的な処理動作について説明する。
図8は、本実施形態に係る基板処理工程を示すフロー図である。
本実施形態に係る基板処理装置では、先ず、基板搬入工程(S101)として、処理容器の基板搬入出口を開いて、図示しないウエハ移載機を用いて処理容器内に複数枚(例えば五枚)のウエハWを搬入して、基板載置台10上に並べて載置する。そして、ウエハ移載機を処理容器の外へ退避させ、基板搬入出口を閉じて処理容器内を密閉する。
基板搬入工程(S101)の後は、次に、圧力温度調整工程(S102)を行う。圧力温度調整工程(S102)では、基板搬入工程(S101)で処理容器内を密閉した後に、処理容器に接続されている図示しないガス排気系を作動させて、処理容器内が所定圧力となるように制御する。所定圧力は、後述する成膜工程(S103)においてTiN膜を形成可能な処理圧力であり、例えばウエハWに対して供給する原料ガスが自己分解しない程度の処理圧力である。具体的には、処理圧力は50〜5000Paとすることが考えられる。この処理圧力は、後述する成膜工程(S103)においても維持されることになる。
圧力温度調整工程(S102)の後は、次に、成膜工程(S103)を行う。成膜工程(S103)で行う処理動作としては、大別すると、相対位置移動処理動作と、ガス供給排気処理動作とがある。なお、相対位置移動処理動作およびガス供給排気処理動作については、詳細を後述する。
以上のような成膜工程(S103)の後は、次に、基板搬出工程(S104)を行う。基板搬出工程(S104)では、既に説明した基板搬入工程(S101)の場合と逆の手順で、ウエハ移載機を用いて処理済のウエハWを処理容器外へ搬出する。
ウエハWの搬出後、コントローラ40は、基板搬入工程(S101)、圧力温度調整工程(S102)、成膜工程(S103)および基板搬出工程(S104)の一連の各工程の実施回数が所定の回数に到達したか否かを判定する(S105)。所定の回数に到達していないと判定したら、次に待機しているウエハWの処理を開始するため、基板搬入工程(S101)に移行する。また、所定の回数に到達したと判定したら、必要に応じて処理容器内等に対するクリーニング工程を行った後に、一連の各工程を終了する。なお、クリーニング工程については、公知技術を利用して行うことができるため、ここではその説明を省略する。
次に、成膜工程(S103)で行う相対位置移動処理動作について説明する。相対位置移動処理動作は、例えば基板載置台10を回転させて、その基板載置台10上に載置された各ウエハWとカートリッジヘッド20との相対位置を移動させる処理動作である。
図9は、図8における成膜工程で行う相対位置移動処理動作の詳細を示すフロー図である。
次に、成膜工程(S103)で行うガス供給排気処理動作について説明する。ガス供給排気処理動作は、基板載置台10上のウエハWに対して各種ガスの供給/排気を行う処理動作である。
図10は、図8における成膜工程で行うガス供給排気処理動作の詳細を示すフロー図である。
次に、上述した基板処理工程の前処理として行うべきプレート装着工程について説明する。
ここで、成膜工程(S103)において、ウエハWに対して各種ガス(具体的には原料ガスまたは反応ガス)を供給する際の供給時間について説明する。
上述した成膜工程(S103)では、原料ガスと反応ガスとをウエハWに対して交互に供給する工程を繰り返す。このような交互供給法による薄膜形成処理では、形成しようとする薄膜の種類によって、ウエハWを原料ガス、反応ガスのそれぞれに曝す時間が異なってくる。そのため、交互供給法による薄膜形成処理を適切に行うためには、ウエハWを各処理ガスに曝す時間の最適化に対応する必要がある。
なお、成膜工程(S103)での基板載置台10の回転速度は一定とすべきである。ウエハWの領域通過速度(すなわち基板載置台10の回転角速度)を調整して対応しようとすると、基板載置台10上には複数枚のウエハWが載置されており、またガス供給プレート21によって形成される処理空間は複数のガス供給領域213〜215に区画されていることから、あるウエハWについては最適化が図れるが、同時並行的に処理される他のウエハWについては必ずしも最適化が図れないといったことが起こり得るからである。
ただし、ウエハW上に形成すべき薄膜の種類によっては、必ずしもウエハWを原料ガスおよび反応ガスのそれぞれに曝す時間が略同一である必要はなく、互いに異なっている方が適切である場合もあり得る。例えば、図11(b)に示す例では、原料ガス供給領域213(図中の記号A)の面積よりも反応ガス供給領域214(図中の記号B)の面積の方が大きくなるように、各ガス供給領域213,214を区画する排気領域216の位置が設定されている。このような構成のガス供給プレート21においては、ウエハWに対して原料ガスよりも反応ガスの供給量を多くすることによって、各ガスの反応量を多くすることができる。また、これとは逆に、原料ガス供給領域213(図中の記号A)の面積よりも反応ガス供給領域214(図中の記号B)の面積の方が小さいほうが適切である場合もあり得る。
ここで、プレート装着工程について具体的に説明する。
プレート装着工程に際しては、各ガス供給領域213,214の大きさが適宜設定されたガス供給プレート21を予め用意しておく。様々な種類の薄膜を形成することが想定される場合には、それぞれの種類の薄膜形成処理に適した複数のガス供給プレート21(すなわち、各ガス供給領域213,214の大きさが異なるように設定された複数のガス供給プレート21)を予め用意しておくことが望ましい。そして、これら複数のガス供給プレート21の中から形成すべき薄膜の種類に適した一つのガス供給プレート21を選択し、その選択したガス供給プレート21をガス導入シャフト22に装着する。具体的には、ガス導入シャフト22の嵌合段差部221を構成する凸状の段差部分に対して、選択したガス供給プレート21に形成された凹状の段差部分と嵌合させ、その状態で固定具による固定を行って、ガス導入シャフト22とガス供給プレート21との装着状態を保持する。
本実施形態によれば、以下に示す一つまたは複数の効果を奏する。
以上、本発明の一実施形態を具体的に説明したが、本発明は上述の一実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
上述した一実施形態では、ガス供給プレート21における複数のガス供給領域213〜215として、原料ガス供給領域213と反応ガス供給領域214とをそれぞれ二つ以上含むとともに、原料ガス供給領域213と反応ガス供給領域214との間に介在する不活性ガス供給領域215を含む場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。すなわち、本発明は、処理空間が複数のガス供給領域に区画された基板処理装置であれば、適用することが可能である。
これに対して、図12(b)に示す例では、第一原料ガス供給領域213(図中の記号A)および第二原料ガス供給領域219(図中の記号C)の面積よりも反応ガス供給領域214(図中の記号B)の面積の方が大きくなるように、各ガス供給領域213,214,219を区画する排気領域216の位置が設定されている。このような構成のガス供給プレート21においては、ウエハWに対して第一原料ガスおよび第二原料ガスよりも反応ガスの供給量を多くすることによって、各ガスの反応量を多くすることができる。
また、上述した一実施形態では、RPU325を利用して反応ガス(NH3ガス)をプラズマ化して反応ガス供給領域214内に供給する場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはなく、他の手法を利用して反応ガスのプラズマ化を行うようにしても構わない。
また、このような構成によれば、反応ガス供給領域214内のプラズマ化にあたり、ガス導入シャフト22のシャフト中心にフィード線226を配しているので、シャフト中心以外に配されている場合に比べると、そのフィード線226への電力供給機構を簡素化できる。さらには、ガス導入シャフト22が回転する場合にも容易に対応できるとともに、フィード線226がシャフト中心(すなわち回転中心)に位置することで、ガス導入シャフト22が回転する際の慣性を低減できる。
また、例えば、上述した実施形態では、基板処理装置が行う成膜工程において、原料ガス(第1処理ガス)としてTiCl4ガスを用い、反応ガス(第2処理ガス)としてNH3ガスが用いて、それらを交互に供給することによってウエハW上にTiN膜を形成する場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。すなわち、成膜処理に用いる処理ガスは、TiCl4ガスやNH3ガス等に限られることはなく、他の種類のガスを用いて他の種類の薄膜を形成しても構わない。さらには、三種類以上の処理ガスを用いる場合であっても、これらを交互に供給して成膜処理を行うのであれば、本発明を適用することが可能である。さらには、反応ガスについては、プラズマ化させて供給する場合に限らず、例えば熱により活性化させて供給してもよい。
また、例えば、上述した実施形態では、基板処理装置が行うプロセス処理として成膜処理を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。すなわち、複数の処理領域を基板が順に通過するプロセス処理であれば、成膜処理の他、酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理であってもよい。また、基板処理の具体的内容は不問であり、成膜処理だけでなく、アニール処理、酸化処理、窒化処理、拡散処理、リソグラフィ処理等の他の基板処理にも好適に適用できる。さらに、本発明は、他の基板処理装置、例えばアニール処理装置、酸化処理装置、窒化処理装置、露光装置、塗布装置、乾燥装置、加熱装置、プラズマを利用した処理装置等の他の基板処理装置にも好適に適用できる。また、本発明は、これらの装置が混在していてもよい。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、各実施形態の構成の一部について、他の構成の追加、削除、置換をすることも可能である。
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
本発明の一態様によれば、
基板が載置される基板載置台と、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられてなるガス供給プレートと、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有して構成されるとともに、前記ガス供給プレートが装着され、前記ガス供給プレートの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して前記複数のガス導入管のそれぞれが前記ガス供給プレートにおける前記ガス分配管と連通するように構成されたガス導入シャフトと、
を備える基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記ガス排出空間は、前記複数のガス導入管のそれぞれに対応して複数形成されるとともに、複数のそれぞれが異なる平面上に異なる径で形成される
付記1記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記ガス供給プレートと前記ガス導入シャフトとの少なくとも一方には、前記基板載置台の載置面と平行になる面に、前記ガス排出空間を封止するためのシール部材が配されている
付記1または2記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記複数のガス供給領域は、前記基板に原料ガスを供給する原料ガス供給領域と、前記基板に反応ガスを供給する反応ガス供給領域と、をそれぞれ二つ以上含む
付記1から付記3のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記原料ガス供給領域の平面の面積と前記反応ガス供給領域の平面の面積とが異なる
付記4記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記原料ガス供給領域の平面の面積が前記反応ガス供給領域の平面の面積よりも小さく形成される
付記5記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記原料ガス供給領域は、前記基板に第一原料ガスを供給する第一原料ガス供給領域と、前記基板に前記第一原料ガスとは異なる第二原料ガスを供給する第二原料ガス供給領域と、を含む
付記4から付記6のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記反応ガス供給領域は、前記基板に第一反応ガスを供給する第一反応ガス供給領域と、前記基板に前記第一反応ガスとは異なる第二反応ガスを供給する第二反応ガス供給領域と、を含む
付記4から付記6のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記複数のガス供給領域は、前記原料ガス供給領域と前記反応ガス供給領域との他に、不活性ガスを供給する不活性ガス供給領域を含む
付記4から付記8のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記不活性ガス供給領域は、前記原料ガス供給領域と前記反応ガス供給領域との間に介在するように配される
付記9記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記ガス導入シャフトは、シャフト中心にガス排気管を有して構成されている
付記1から付記10のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記基板が前記複数のガス供給領域を順に通過するように、前記ガス供給プレートおよび前記ガス導入シャフトと前記基板載置台との相対位置を移動させる移動機構
を備える付記1から付記11のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記ガス導入シャフトは、円環状に形成されたガス供給空間を有しており、前記ガス供給空間を介して外部から前記ガス導入管へのガス流入が行われるように構成されている
付記12記載の基板処理装置が提供される。
好ましくは、
前記ガス供給プレートに電極が設けられ、
前記ガス導入シャフトのシャフト中心に、前記電極に電力を供給するフィード線が設けられている
付記1から付記13のいずれかに記載の基板処理装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板が載置される基板載置台上に形成される処理空間に対してガスを導入するために用いられるガス導入シャフトであって、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられてなるガス供給プレートが装着されるように構成されるとともに、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有しており、
前記ガス供給プレートの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して、前記複数のガス導入管のそれぞれが、前記ガス供給プレートにおける前記ガス分配管と連通するように構成された
ガス導入シャフトが提供される。
好ましくは、
前記ガス排出空間は、前記複数のガス導入管のそれぞれに対応して複数形成されるとともに、複数のそれぞれが異なる平面上に異なる径で形成される
付記15記載のガス導入シャフトが提供される。
好ましくは、
前記基板載置台の載置面と平行になる面に、前記ガス排出空間を封止するためのシール部材が配されている
付記15または付記16記載のガス導入シャフトが提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板が載置される基板載置台上に形成される処理空間に対してガスを供給するために用いられるガス供給プレートであって、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、
前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、
前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられ、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有したガス導入シャフトに対して装着されるように構成されるとともに、
前記ガス導入シャフトへの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して、前記ガス導入シャフトにおける複数のガス導入管のそれぞれが前記ガス分配管と連通するように構成された
ガス供給プレートが提供される。
好ましくは、
前記ガス排出空間は、前記複数のガス導入管のそれぞれに対応して複数形成されるとともに、複数のそれぞれが異なる平面上に異なる径で形成される
付記18記載のガス供給プレートが提供される。
好ましくは、
前記基板載置台の載置面と平行になる面に、前記ガス排出空間を封止するためのシール部材が配されている
付記18または付記19記載のガス供給プレートが提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板載置台に基板を載置する基板載置工程と、
前記基板載置台上に形成される処理空間を複数のガス供給領域に区画するとともに前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられてなるガス供給プレートを、異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有して構成されるガス導入シャフトに装着し、前記ガス導入シャフトへの前記ガス供給プレートの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して前記複数のガス導入管のそれぞれを前記ガス分配管と連通させるプレート装着工程と、
前記ガス導入管、前記ガス排出空間および前記ガス分配管を通じて前記複数のガス供給領域のそれぞれに対するガス供給を行うガス供給工程と、
前記基板が前記複数のガス供給領域を順に通過するように、前記ガス供給プレートおよび前記ガス導入シャフトと前記基板載置台との相対位置を移動させる相対位置移動工程と、
を備える半導体装置の製造方法が提供される。
Claims (5)
- 基板が載置される基板載置台と、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられてなるガス供給プレートと、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有して構成されるとともに、前記ガス供給プレートが装着され、前記ガス供給プレートの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して前記複数のガス導入管のそれぞれが前記ガス供給プレートにおける前記ガス分配管と連通するように構成されたガス導入シャフトと、
を備える基板処理装置。 - 前記ガス排出空間は、前記複数のガス導入管のそれぞれに対応して複数形成されるとともに、複数のそれぞれが異なる平面上に異なる径で形成される
請求項1記載の基板処理装置。 - 前記ガス供給プレートと前記ガス導入シャフトとの少なくとも一方には、前記基板載置台の載置面と平行になる面に、前記ガス排出空間を封止するためのシール部材が配されている
請求項1または2記載の基板処理装置。 - 基板が載置される基板載置台上に形成される処理空間に対してガスを導入するために用いられるガス導入シャフトであって、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられてなるガス供給プレートが装着されるように構成されるとともに、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有しており、
前記ガス供給プレートの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して、前記複数のガス導入管のそれぞれが、前記ガス供給プレートにおける前記ガス分配管と連通するように構成された
ガス導入シャフト。 - 基板が載置される基板載置台上に形成される処理空間に対してガスを供給するために用いられるガス供給プレートであって、
前記基板載置台と対向する処理空間天板部を有し、
前記処理空間天板部と前記基板載置台との間が複数のガス供給領域に区画され、
前記複数のガス供給領域と個別に連通するガス分配管が設けられ、
異なる種類のガスが流れる複数のガス導入管を有したガス導入シャフトに対して装着されるように構成されるとともに、
前記ガス導入シャフトへの装着時に形成される円環状のガス排出空間を介して、前記ガス導入シャフトにおける複数のガス導入管のそれぞれが前記ガス分配管と連通するように構成された
ガス供給プレート。
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US14/826,782 US20160083844A1 (en) | 2014-09-24 | 2015-08-14 | Substrate Processing Apparatus, Gas Introduction Shaft and Gas Supply Plate |
TW104126705A TW201614753A (en) | 2014-09-24 | 2015-08-17 | Substrate Processing Apparatus, Gas Introduction Shaft and Gas Supply Plate |
CN201510535875.6A CN105448637A (zh) | 2014-09-24 | 2015-08-27 | 衬底处理装置、气体导入轴以及气体供给板 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20160273105A1 (en) * | 2015-03-17 | 2016-09-22 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition apparatus |
CN109478524A (zh) * | 2016-07-06 | 2019-03-15 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 基板支撑装置 |
WO2022054446A1 (ja) * | 2020-09-14 | 2022-03-17 | 株式会社シンクロン | 給電装置 |
CN115341195A (zh) * | 2022-08-11 | 2022-11-15 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备 |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9132436B2 (en) | 2012-09-21 | 2015-09-15 | Applied Materials, Inc. | Chemical control features in wafer process equipment |
US10256079B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-04-09 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing systems having multiple plasma configurations |
US9355922B2 (en) | 2014-10-14 | 2016-05-31 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for internal surface conditioning in plasma processing equipment |
US9966240B2 (en) | 2014-10-14 | 2018-05-08 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for internal surface conditioning assessment in plasma processing equipment |
US11637002B2 (en) | 2014-11-26 | 2023-04-25 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems to enhance process uniformity |
US9741593B2 (en) | 2015-08-06 | 2017-08-22 | Applied Materials, Inc. | Thermal management systems and methods for wafer processing systems |
US9691645B2 (en) | 2015-08-06 | 2017-06-27 | Applied Materials, Inc. | Bolted wafer chuck thermal management systems and methods for wafer processing systems |
US10504700B2 (en) | 2015-08-27 | 2019-12-10 | Applied Materials, Inc. | Plasma etching systems and methods with secondary plasma injection |
US10504754B2 (en) | 2016-05-19 | 2019-12-10 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for improved semiconductor etching and component protection |
US10629473B2 (en) | 2016-09-09 | 2020-04-21 | Applied Materials, Inc. | Footing removal for nitride spacer |
US10546729B2 (en) | 2016-10-04 | 2020-01-28 | Applied Materials, Inc. | Dual-channel showerhead with improved profile |
US10163696B2 (en) | 2016-11-11 | 2018-12-25 | Applied Materials, Inc. | Selective cobalt removal for bottom up gapfill |
US10026621B2 (en) | 2016-11-14 | 2018-07-17 | Applied Materials, Inc. | SiN spacer profile patterning |
US10431429B2 (en) | 2017-02-03 | 2019-10-01 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for radial and azimuthal control of plasma uniformity |
US10943834B2 (en) | 2017-03-13 | 2021-03-09 | Applied Materials, Inc. | Replacement contact process |
US11276559B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-03-15 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing chamber for multiple precursor flow |
US11276590B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-03-15 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone semiconductor substrate supports |
US10920320B2 (en) | 2017-06-16 | 2021-02-16 | Applied Materials, Inc. | Plasma health determination in semiconductor substrate processing reactors |
US10727080B2 (en) | 2017-07-07 | 2020-07-28 | Applied Materials, Inc. | Tantalum-containing material removal |
US10297458B2 (en) | 2017-08-07 | 2019-05-21 | Applied Materials, Inc. | Process window widening using coated parts in plasma etch processes |
US10903054B2 (en) | 2017-12-19 | 2021-01-26 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone gas distribution systems and methods |
US11328909B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-05-10 | Applied Materials, Inc. | Chamber conditioning and removal processes |
US10854426B2 (en) | 2018-01-08 | 2020-12-01 | Applied Materials, Inc. | Metal recess for semiconductor structures |
US10679870B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-06-09 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus |
US10964512B2 (en) | 2018-02-15 | 2021-03-30 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus and methods |
TWI716818B (zh) | 2018-02-28 | 2021-01-21 | 美商應用材料股份有限公司 | 形成氣隙的系統及方法 |
US10593560B2 (en) | 2018-03-01 | 2020-03-17 | Applied Materials, Inc. | Magnetic induction plasma source for semiconductor processes and equipment |
US10319600B1 (en) | 2018-03-12 | 2019-06-11 | Applied Materials, Inc. | Thermal silicon etch |
US10699879B2 (en) | 2018-04-17 | 2020-06-30 | Applied Materials, Inc. | Two piece electrode assembly with gap for plasma control |
KR102577264B1 (ko) | 2018-04-20 | 2023-09-11 | 삼성전자주식회사 | 샤워헤드 및 기판 처리 장치 |
US10886137B2 (en) | 2018-04-30 | 2021-01-05 | Applied Materials, Inc. | Selective nitride removal |
US10755941B2 (en) | 2018-07-06 | 2020-08-25 | Applied Materials, Inc. | Self-limiting selective etching systems and methods |
US10872778B2 (en) | 2018-07-06 | 2020-12-22 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods utilizing solid-phase etchants |
US10672642B2 (en) | 2018-07-24 | 2020-06-02 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for pedestal configuration |
US11049755B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor substrate supports with embedded RF shield |
US10892198B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-01-12 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for improved performance in semiconductor processing |
US11062887B2 (en) | 2018-09-17 | 2021-07-13 | Applied Materials, Inc. | High temperature RF heater pedestals |
US11417534B2 (en) | 2018-09-21 | 2022-08-16 | Applied Materials, Inc. | Selective material removal |
CN109444331B (zh) * | 2018-09-30 | 2020-08-28 | 中国科学技术大学 | 一种超高真空加热装置及其加热方法 |
US11682560B2 (en) | 2018-10-11 | 2023-06-20 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for hafnium-containing film removal |
US11121002B2 (en) | 2018-10-24 | 2021-09-14 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for etching metals and metal derivatives |
US11437242B2 (en) | 2018-11-27 | 2022-09-06 | Applied Materials, Inc. | Selective removal of silicon-containing materials |
US11721527B2 (en) | 2019-01-07 | 2023-08-08 | Applied Materials, Inc. | Processing chamber mixing systems |
US10920319B2 (en) | 2019-01-11 | 2021-02-16 | Applied Materials, Inc. | Ceramic showerheads with conductive electrodes |
KR20210127768A (ko) * | 2019-03-11 | 2021-10-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판 프로세싱 챔버들을 위한 덮개 조립체 장치 및 방법들 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001254181A (ja) * | 2000-01-06 | 2001-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
JP2008524842A (ja) * | 2004-12-16 | 2008-07-10 | 株式会社フュージョンエード | 薄膜蒸着装置及び方法 |
JP2010114391A (ja) * | 2008-11-10 | 2010-05-20 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置 |
JP2010219125A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置 |
JP2013546009A (ja) * | 2010-10-08 | 2013-12-26 | ヴァレオ・シャルター・ウント・ゼンゾーレン・ゲーエムベーハー | 光学測定装置用の偏向ミラー部品および対応する光学測定装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5453124A (en) * | 1992-12-30 | 1995-09-26 | Texas Instruments Incorporated | Programmable multizone gas injector for single-wafer semiconductor processing equipment |
JP3818561B2 (ja) * | 1998-10-29 | 2006-09-06 | エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド | シリコン酸化膜の成膜方法および薄膜トランジスタの製造方法 |
JP5131240B2 (ja) * | 2009-04-09 | 2013-01-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 |
KR101319823B1 (ko) * | 2011-11-29 | 2013-10-23 | 주식회사 테스 | 유기금속화학증착 반응기 |
-
2014
- 2014-09-24 JP JP2014193362A patent/JP5764246B1/ja not_active Expired - Fee Related
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2015
- 2015-08-07 KR KR1020150111545A patent/KR20160035970A/ko not_active IP Right Cessation
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001254181A (ja) * | 2000-01-06 | 2001-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
JP2008524842A (ja) * | 2004-12-16 | 2008-07-10 | 株式会社フュージョンエード | 薄膜蒸着装置及び方法 |
JP2010114391A (ja) * | 2008-11-10 | 2010-05-20 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置 |
JP2010219125A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置 |
JP2013546009A (ja) * | 2010-10-08 | 2013-12-26 | ヴァレオ・シャルター・ウント・ゼンゾーレン・ゲーエムベーハー | 光学測定装置用の偏向ミラー部品および対応する光学測定装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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