JP2016062930A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造が容易で小型化が可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置1は、半導体基板10と、半導体基板上の第1領域Rsに設けられた絶縁部材11と、半導体基板上における絶縁部材が設けられていない第2領域Raに設けられ、上面が絶縁部材の上面よりも低い絶縁膜12と、絶縁部材上及び絶縁膜上に設けられた導電部材13と、導電部材13に接続された2つのビア14a,14bと、を備える。導電部材13の上部13bは、第1領域Rs及び第2領域Raの双方に設けられており、導電部材13の下部13aは、第2領域Raに設けられ第1領域Rsには設けられていない。導電部材13は、一方のビアが接続された部分から他方のビアが接続された部分に向かうときに、少なくとも1ヶ所の第1領域Rsを横断する。
【選択図】図3
【解決手段】半導体装置1は、半導体基板10と、半導体基板上の第1領域Rsに設けられた絶縁部材11と、半導体基板上における絶縁部材が設けられていない第2領域Raに設けられ、上面が絶縁部材の上面よりも低い絶縁膜12と、絶縁部材上及び絶縁膜上に設けられた導電部材13と、導電部材13に接続された2つのビア14a,14bと、を備える。導電部材13の上部13bは、第1領域Rs及び第2領域Raの双方に設けられており、導電部材13の下部13aは、第2領域Raに設けられ第1領域Rsには設けられていない。導電部材13は、一方のビアが接続された部分から他方のビアが接続された部分に向かうときに、少なくとも1ヶ所の第1領域Rsを横断する。
【選択図】図3
Description
本発明の実施形態は、半導体装置及びその製造方法に関する。
半導体装置において、STI(Shallow Trench Isolation)領域に設けられた素子分離絶縁体の上面は、活性領域に設けられたシリコン酸化膜の上面よりも高い位置にある。従って、STI領域に形成されるポリシリコン膜は、活性領域に形成されるポリシリコン膜よりも薄くなる。このため、シリコン基板上にポリシリコンからなる抵抗部材を設ける場合は、シート抵抗を高めるために、STI領域に配置することが好ましい。
実施形態の目的は、製造が容易で小型化が可能な半導体装置及びその製造方法を提供することである。
実施形態に係る半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上の第1領域に設けられた絶縁部材と、前記半導体基板上における前記絶縁部材が設けられていない第2領域に設けられ、上面が前記絶縁部材の上面よりも低い絶縁膜と、前記絶縁部材上及び前記絶縁膜上に設けられた導電部材と、前記導電部材に接続された2つのビアと、を備える。前記導電部材の上部は、前記第1領域及び前記第2領域の双方に設けられており、前記導電部材の下部は、前記第2領域に設けられ前記第1領域には設けられていない。前記導電部材は、一方の前記ビアが接続された部分から他方の前記ビアが接続された部分に向かうときに、少なくとも1ヶ所の前記第1領域を横断する。
実施形態に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板上に絶縁膜、第1導電膜及びストッパ膜を形成する工程と、第1領域に、前記ストッパ膜、前記第1導電膜及び前記絶縁膜を貫通し、前記半導体基板内に進入したトレンチを形成する工程と、前記トレンチ内に素子分離絶縁体を形成する工程と、前記ストッパ膜をストッパとして平坦化処理を施す工程と、前記ストッパ膜を除去する工程と、前記第1導電膜に接するように第2導電膜を形成する工程と、前記第2導電膜及び前記第1導電膜を選択的に除去することにより、前記第1領域、及び、前記半導体基板上における前記絶縁膜が設けられた第2領域に、前記第1導電膜及び前記第2導電膜を含む導電部材を形成する工程と、前記導電部材に接続される2つのビアを形成する工程と、を備える。前記2つのビアは、前記導電部材において、一方の前記ビアが接続された部分から他方の前記ビアが接続された部分に向かうときに、少なくとも1ヶ所の前記第1領域を横断するような位置に形成する。
(第1の実施形態)
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
先ず、第1の実施形態について説明する。
本実施形態に係る半導体装置は、例えば、周辺回路部に抵抗素子が設けられた積層型半導体記憶装置である。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
先ず、第1の実施形態について説明する。
本実施形態に係る半導体装置は、例えば、周辺回路部に抵抗素子が設けられた積層型半導体記憶装置である。
図1は、本実施形態に係る半導体装置を例示する平面図である。
図2(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図1に示すA−A’線による断面図であり、(b)は図1に示すB−B’線による断面図である。
図3(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図1に示すC−C’線による断面図であり、(b)は図1に示すD−D’線による断面図である。
図1に示す領域は、例えば、積層型半導体記憶装置の周辺回路部における抵抗素子が形成される領域である。
図2(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図1に示すA−A’線による断面図であり、(b)は図1に示すB−B’線による断面図である。
図3(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図1に示すC−C’線による断面図であり、(b)は図1に示すD−D’線による断面図である。
図1に示す領域は、例えば、積層型半導体記憶装置の周辺回路部における抵抗素子が形成される領域である。
図1、図2(a)及び(b)、図3(a)及び(b)に示すように、本実施形態に係る半導体装置1においては、シリコン基板10が設けられている。以下、説明の便宜上、本明細書においては、XYZ直交座標系を採用する。すなわち、シリコン基板10の上面10aに対して平行で、相互に直交する2方向を「X方向」及び「Y方向」とし、シリコン基板10の上面10aに対して垂直な方向を「Z方向」とする。
シリコン基板10上には、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raが設定されている。Z方向から見て、絶縁体領域Rsの形状は、X方向及びY方向に延びる格子状である。また、半導体領域Raの形状は、X方向を長手方向とする長方形状である。そして、複数の半導体領域Raが、X方向及びY方向に沿ってマトリクス状に配列されている。なお、半導体装置1における能動素子が設けられている領域(図示せず)においては、半導体領域Raは活性領域として用いられる領域であり、絶縁体領域RsはSTI領域として用いられる領域である。
絶縁体領域Rsにおいては、シリコン基板10上に絶縁部材としての素子分離絶縁体11が設けられている。素子分離絶縁体11は、シリコン酸化物により形成されている。また、半導体領域Raにおいては、シリコン基板10上に絶縁膜としてのシリコン酸化膜12が設けられている。素子分離絶縁体11の上面は、シリコン酸化膜12の上面よりも上方に位置し、素子分離絶縁体11の下面は、シリコン基板10の上面10aよりも下方に位置している。
シリコン基板10及び素子分離絶縁体11の上方には、導電部材として、ポリシリコン膜13が複数本設けられている。ポリシリコン膜13は、不純物を含む多結晶シリコンによって形成されている。各ポリシリコン膜13の形状は、Y方向に延びるライン状であり、複数の半導体領域RaのX方向の一端部上を通過するように配置されている。このため、図3(a)に示すように、ポリシリコン膜13の幅方向の片側部分は、絶縁体領域Rsと半導体領域Raを交互に通過する。また、図3(b)に示すように、ポリシリコン膜13の幅方向の他の片側部分は、絶縁体領域Rsのみを通過する。半導体領域Raの幅、すなわち、Y方向における長さは、ポリシリコン膜13の幅、すなわち、X方向における長さよりも短い。
ポリシリコン膜13においては、下層13a及び上層13bが設けられている。Z方向における下層13aと上層13bとの界面の位置は、素子分離絶縁体11の上面の位置とほぼ等しい。このため、下層13aは素子分離絶縁体11に挟まれており、半導体領域Raのみに配置されている。一方、上層13bは素子分離絶縁体11上及び下層13a上に乗っており、半導体領域Ra及び絶縁体領域Rsの双方に配置されている。
また、各ポリシリコン膜13の直上域には、2本のビア14a及び14bが設けられており、ポリシリコン膜13に接続されている。ビア14a及びビア14bは、1本のポリシリコン膜13におけるY方向に離隔した位置に接続されている。これにより、ポリシリコン膜13におけるビア14aとビア14bとの間に位置する部分は、抵抗素子として機能する。ポリシリコン膜13におけるビア14aとビア14bとの間に位置する部分は、絶縁体領域Rsを複数回横断する。シリコン基板10上には、素子分離絶縁体11、シリコン酸化膜12、ポリシリコン膜13、ビア14a及び14bを埋め込むように、層間絶縁膜15が設けられている。なお、図示の便宜上、図1においては、層間絶縁膜15を省略している。
次に、本実施形態に係る半導体装置の製造方法について説明する。
図4(a)〜(c)、図5(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置の製造方法を例示する断面図である。
なお、図4(a)〜(c)、図5(a)及び(b)が示す領域は、図1に示すA−A’線による断面に相当する。
図4(a)〜(c)、図5(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置の製造方法を例示する断面図である。
なお、図4(a)〜(c)、図5(a)及び(b)が示す領域は、図1に示すA−A’線による断面に相当する。
先ず、図4(a)に示すように、半導体基板としてのシリコン基板10上に、絶縁膜としてのシリコン酸化膜12、第1導電膜としてのポリシリコン膜21、及び、ストッパ膜としてのシリコン窒化膜22をこの順に形成する。
次に、図4(b)に示すように、リソグラフィ法により、半導体領域Raを覆うように、フォトレジストマスク膜(図示せず)を形成する。次に、このフォトレジストマスク膜をマスクとしてRIE(Reactive Ion Etching:反応性イオンエッチング)を施す。これにより、シリコン窒化膜22、ポリシリコン膜21、シリコン酸化膜12及びシリコン基板10の上層部分が選択的に除去されて、トレンチ25が形成される。トレンチ25は、シリコン窒化膜22、ポリシリコン膜21及びシリコン酸化膜12を貫通し、シリコン基板10内に進入している。上方、すなわち、Z方向から見て、トレンチ25の形状は格子状である。次に、フォトレジストマスク膜を除去する。
次に、図4(c)に示すように、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長法)法により、全面にシリコン酸化膜26を形成する。シリコン酸化膜26はトレンチ25内にも埋め込まれる。
次に、図5(a)に示すように、シリコン窒化膜22をストッパ膜としてCMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械研磨)等の平坦化処理を施すことにより、シリコン酸化膜26におけるシリコン窒化膜22上に形成された部分を除去する。次に、熱リン酸を用いたウェットエッチングを施すことにより、シリコン窒化膜22を除去する。これにより、ポリシリコン膜21の上面が露出する。次に、フッ酸を用いたウェットエッチングを施すことにより、シリコン酸化膜26におけるポリシリコン膜21の上面から突出した部分を除去する。これにより、ポリシリコン膜21の上面及びシリコン酸化膜26の上面がほぼ平坦な連続面となる。以上の工程により、シリコン酸化膜26はトレンチ25内のみに残留し、これが素子分離絶縁体11となる。
次に、図5(b)に示すように、全面に第2導電膜としてのポリシリコン膜27を形成する。ポリシリコン膜27はポリシリコン膜21に接する。
次に、図5(b)に示すように、全面に第2導電膜としてのポリシリコン膜27を形成する。ポリシリコン膜27はポリシリコン膜21に接する。
次に、図2(a)に示すように、リソグラフィ法により、Y方向に延びるラインアンドスペース状のフォトレジストマスク膜(図示せず)を形成する。次に、このフォトレジストマスク膜をマスクとしてRIEを施すことにより、ポリシリコン膜27及びポリシリコン膜21を、Y方向に延びるラインアンドスペース状に加工する。これにより、ポリシリコン膜13が形成される。このとき、ポリシリコン膜21が下層13aとなり、ポリシリコン膜27が上層13bとなる。次に、フォトレジストマスク膜を除去する。
次に、全面に例えばシリコン酸化物を堆積させて、層間絶縁膜15を形成する。次に、層間絶縁膜15内に、ビア14a及び14bを形成する。このようにして、本実施形態に係る半導体装置1が製造される。
次に、本実施形態の効果について説明する。
本実施形態に係る半導体装置1においては、格子状の絶縁体領域Rsとマトリクス状の半導体領域Raが入り組んで配置されている。そして、ポリシリコン膜13は、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raの双方を通過するように配置されている。
本実施形態に係る半導体装置1においては、格子状の絶縁体領域Rsとマトリクス状の半導体領域Raが入り組んで配置されている。そして、ポリシリコン膜13は、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raの双方を通過するように配置されている。
絶縁体領域Rs及び半導体領域Raが入り組んで配置されていることにより、図5(a)に示す工程において、CMPを施したときに、全体を均一に研磨することができる。このため、本実施形態に係る半導体装置1は、製造が容易である。
また、ポリシリコン膜13が絶縁体領域Rs及び半導体領域Raの双方に配置されており、全てのポリシリコン膜13が抵抗素子として好適であるため、ダミーの抵抗素子を設ける必要がない。従って、抵抗素子の形成領域において、デッドスペースが生じない。これにより、半導体装置の小型化を図ることができる。
更に、ポリシリコン膜13においては、上層13bはポリシリコン膜13の長手方向(Y方向)に沿って連続的に延びており、電流経路を構成するが、下層13aはY方向において分断されているため、電流経路としてはほとんど寄与しない。すなわち、ポリシリコン膜13における実質的な電流経路は上層13bのみである。従って、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raの双方に配置されたポリシリコン膜13のシート抵抗は、絶縁体領域Rsに配置された上層13bのみからなるポリシリコン膜13のシート抵抗と同等である。このため、ポリシリコン膜13により抵抗素子を実現すれば、小さな面積で大きな抵抗値を得ることができる。この結果、半導体装置の小型化を図ることができる。
(比較例)
次に、比較例について説明する。
図6(a)は、本比較例に係る半導体装置を例示する平面図であり、(b)は断面図である。
図6(b)は(a)に示すK−K’線による断面を示す。
次に、比較例について説明する。
図6(a)は、本比較例に係る半導体装置を例示する平面図であり、(b)は断面図である。
図6(b)は(a)に示すK−K’線による断面を示す。
図6(a)及び(b)に示すように、本比較例に係る半導体装置101においては、比較的大きな半導体領域Ra及び絶縁体領域Rsが設定されている。そして、一部のポリシリコン膜13は、半導体領域Ra及び絶縁体領域Rsの双方にわたって設けられている。他のポリシリコン膜13は、絶縁体領域Rsのみに設けられている。
半導体装置101においては、半導体領域Raを通過するポリシリコン膜13において、ある程度の長さ、例えば、ポリシリコン膜13の幅よりも長い長さにわたって、下層13aが連続的に延在する。従って、上層13bに加えて下層13aも電流経路を形成するため、ポリシリコン膜13のシート抵抗は低い。このため、半導体装置101においては、ポリシリコン膜13のうち、半導体領域Raを通過せず、全長にわたって絶縁体領域Rs内に配置されたポリシリコン膜13だけが抵抗素子として好適であり、半導体領域Raを通過するポリシリコン膜13は抵抗素子として不適となる。図6(a)及び(b)に示す例でいえば、絶縁体領域Rsに設けられた中央の2本のポリシリコン膜13だけが使用される抵抗素子であり、左右3本ずつのポリシリコン膜13はダミーの抵抗素子となる。このように、半導体領域Raを通過するポリシリコン膜13はダミーの抵抗素子となり、ダミーの抵抗素子が設けられた領域はデッドスペースとなるため、半導体装置の小型化が阻害されてしまう。
なお、抵抗素子の形成領域に半導体領域Raを設定せず、絶縁体領域Rsのみを設定して、ダミーの抵抗素子をなくすことも考えられる。しかしながら、この場合は、CMP工程においてディッシングが発生してしまう。すなわち、シリコン酸化物はシリコン窒化物よりも研磨されやすいため、例えば、図5(a)に示す工程においてCMPを施したときに、シリコン酸化膜26の上面がシリコン窒化膜22の上面よりも低くなってしまい、上面の平坦性が低下する。そして、この平坦性の低下は、後の工程まで悪影響を及ぼしてしまう。通常、このように絶縁体領域Rsを設定することは、製造ルールによって禁止されている。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態について説明する。
図7は、本実施形態に係る半導体装置を例示する平面図である。
図8(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図7に示すE−E’線による断面図であり、(b)は図7に示すF−F’線による断面図である。
図9(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図7に示すG−G’線による断面図であり、(b)は図7に示すH−H’線による断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。
図7は、本実施形態に係る半導体装置を例示する平面図である。
図8(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図7に示すE−E’線による断面図であり、(b)は図7に示すF−F’線による断面図である。
図9(a)及び(b)は、本実施形態に係る半導体装置を例示する断面図であり、(a)は図7に示すG−G’線による断面図であり、(b)は図7に示すH−H’線による断面図である。
図7、図8(a)及び(b)、図9(a)及び(b)に示すように、本実施形態に係る半導体装置2は、前述の第1の実施形態に係る半導体装置1(図1等参照)と比較して、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raの形状が、共にX方向に延びるライン状である点が異なっている。ポリシリコン膜13は、第1の実施形態と同様に、Y方向に延びるライン状である。このため、Z方向から見ると、半導体領域Raとポリシリコン膜13が格子を形成しており、ポリシリコン膜13は、ビア14aが接続された部分からビア14bが接続された部分に向かうときに、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raを交互に横断する。そして、例えば、半導体領域Raの幅は、ポリシリコン膜13の幅よりも短い。
本実施形態によれば、図4(b)に示す工程において、トレンチ25を形成するためのフォトレジストマスク膜(図示せず)をラインアンドスペース状に形成することができるため、前述の第1の実施形態と比較して、リソグラフィが容易である。
本実施形態における上記以外の構成、製造方法及び効果は、前述の第1の実施形態と同様である。すなわち、本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、絶縁体領域Rs及び半導体領域Raが入り組んでいるため、CMPを施したときの平坦性が良好である。また、ポリシリコン膜13における下層13aが、Y方向に沿って細かく分断されているため、ポリシリコン膜13に高い抵抗を持たせることができる。このため、全てのポリシリコン膜13を抵抗素子として用いることができ、面積効率が良好である。
以上説明した実施形態によれば、製造が容易で小型化が可能な半導体装置及びその製造方法を実現することができる。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明及びその等価物の範囲に含まれる。
1、2:半導体装置、10:シリコン基板、10a:上面、11:素子分離絶縁体、12:シリコン酸化膜、13:ポリシリコン膜、13a:下層、13b:上層、14a、14b:ビア、15:層間絶縁膜、21:ポリシリコン膜、22:シリコン窒化膜、25:トレンチ、26:シリコン酸化膜、27:ポリシリコン膜、101:半導体装置、Ra:半導体領域、Rs:絶縁体領域
Claims (10)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上の第1領域に設けられた絶縁部材と、
前記半導体基板上における前記絶縁部材が設けられていない第2領域に設けられ、上面が前記絶縁部材の上面よりも低い絶縁膜と、
前記絶縁部材上及び前記絶縁膜上に設けられた導電部材と、
前記導電部材に接続された2つのビアと、
を備え、
前記導電部材の上部は、前記第1領域及び前記第2領域の双方に設けられており、前記導電部材の下部は、前記第2領域に設けられ前記第1領域には設けられておらず、
前記導電部材は、一方の前記ビアが接続された部分から他方の前記ビアが接続された部分に向かうときに、少なくとも1ヶ所の前記第1領域を横断する半導体装置。 - 上方から見て、前記絶縁部材の形状は格子状である請求項1記載の半導体装置。
- 上方から見て、前記絶縁部材の形状はライン状である請求項1記載の半導体装置。
- 前記導電部材は、一方の前記ビアが接続された部分から他方の前記ビアが接続された部分に向かうときに、前記第1領域を複数回横断する請求項1〜3のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記導電部材における前記2つのビア間に接続された抵抗素子部分の形状は、ライン状である請求項1〜4のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記抵抗素子部分が延びる方向における前記第2領域の長さは、前記抵抗素子部分の幅よりも短い請求項5記載の半導体装置。
- 前記半導体基板はシリコン基板であり、前記絶縁部材及び前記絶縁膜はシリコン酸化物からなり、前記導電部材は不純物を含むシリコンからなる請求項1〜6のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 半導体基板上に絶縁膜、第1導電膜及びストッパ膜を形成する工程と、
第1領域に、前記ストッパ膜、前記第1導電膜及び前記絶縁膜を貫通し、前記半導体基板内に進入したトレンチを形成する工程と、
前記トレンチ内に素子分離絶縁体を形成する工程と、
前記ストッパ膜をストッパとして平坦化処理を施す工程と、
前記ストッパ膜を除去する工程と、
前記第1導電膜に接するように第2導電膜を形成する工程と、
前記第2導電膜及び前記第1導電膜を選択的に除去することにより、前記第1領域、及び、前記半導体基板上における前記絶縁膜が設けられた第2領域に、前記第1導電膜及び前記第2導電膜を含む導電部材を形成する工程と、
前記導電部材に接続される2つのビアを形成する工程と、
を備え、
前記2つのビアは、前記導電部材において、一方の前記ビアが接続された部分から他方の前記ビアが接続された部分に向かうときに、少なくとも1ヶ所の前記第1領域を横断するような位置に形成する半導体装置の製造方法。 - 上方から見て、前記トレンチを格子状に形成する請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 上方から見て、前記トレンチをライン状に形成する請求項8記載の半導体装置の製造方法。
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