JP2016058739A - 光学センサー、電子機器及び脈拍計 - Google Patents
光学センサー、電子機器及び脈拍計 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016058739A JP2016058739A JP2015204253A JP2015204253A JP2016058739A JP 2016058739 A JP2016058739 A JP 2016058739A JP 2015204253 A JP2015204253 A JP 2015204253A JP 2015204253 A JP2015204253 A JP 2015204253A JP 2016058739 A JP2016058739 A JP 2016058739A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- angle
- optical sensor
- light
- semiconductor substrate
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 94
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 79
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 69
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 53
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 51
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 50
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 6
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 22
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 22
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 19
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 17
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 2
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930091371 Fructose Natural products 0.000 description 1
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 102000001554 Hemoglobins Human genes 0.000 description 1
- 108010054147 Hemoglobins Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 229960002737 fructose Drugs 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/46—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
- G01J3/50—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors
- G01J3/51—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors using colour filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B5/00—Measuring for diagnostic purposes; Identification of persons
- A61B5/145—Measuring characteristics of blood in vivo, e.g. gas concentration, pH value; Measuring characteristics of body fluids or tissues, e.g. interstitial fluid, cerebral tissue
- A61B5/14532—Measuring characteristics of blood in vivo, e.g. gas concentration, pH value; Measuring characteristics of body fluids or tissues, e.g. interstitial fluid, cerebral tissue for measuring glucose, e.g. by tissue impedance measurement
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B5/00—Measuring for diagnostic purposes; Identification of persons
- A61B5/145—Measuring characteristics of blood in vivo, e.g. gas concentration, pH value; Measuring characteristics of body fluids or tissues, e.g. interstitial fluid, cerebral tissue
- A61B5/1455—Measuring characteristics of blood in vivo, e.g. gas concentration, pH value; Measuring characteristics of body fluids or tissues, e.g. interstitial fluid, cerebral tissue using optical sensors, e.g. spectral photometrical oximeters
- A61B5/14551—Measuring characteristics of blood in vivo, e.g. gas concentration, pH value; Measuring characteristics of body fluids or tissues, e.g. interstitial fluid, cerebral tissue using optical sensors, e.g. spectral photometrical oximeters for measuring blood gases
- A61B5/14552—Details of sensors specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0229—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device
- H01L31/02325—Optical elements or arrangements associated with the device the optical elements not being integrated nor being directly associated with the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H01L31/102—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
- H01L31/103—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN homojunction type
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B2562/00—Details of sensors; Constructional details of sensor housings or probes; Accessories for sensors
- A61B2562/12—Manufacturing methods specially adapted for producing sensors for in-vivo measurements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Surgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【解決手段】光学センサーは、半導体基板10、配線層15、遮光物質25、フォトダイオード31、32、角度制限フィルター41、42、傾斜構造体50(角度構造体)、第1の光バンドパスフィルター61(第1の多層膜フィルター、第1の誘電体フィルター)、第2の光バンドパスフィルター62(第2の多層膜フィルター、第2の誘電体フィルター)、絶縁層70(透明膜)を含む。
【選択図】図2
Description
上述のように、医療・健康等の分野では常時装着等が可能な小型の分光センサーが求められており、分光センサーの小型化が必要であるという課題がある。例えば、測定対象の波長が既知である場合には、連続スペクトルを取得せず、その既知の波長のみを測定するセンサーを設ければよい。
上記実施形態では、傾斜構造体50を半導体プロセスにより形成する構成例について説明したが、本実施形態では、種々の変形実施が可能である。
図4には、傾斜構造体50を用いず、半導体基板10に平行な多層薄膜を形成する第2の変形例を示す。図4に示す分光センサーは、半導体基板10、配線層15、遮光物質25、フォトダイオード31、32、角度制限フィルター41、42、光バンドパスフィルター61、62、絶縁層70を含む。
図5には、フォトダイオード用の不純物領域をトレンチにより区切る第3の変形例を示す。図5に示す分光センサーは、半導体基板10、配線層15、遮光物質25、フォトダイオード31、32、角度制限フィルター41、42、傾斜構造体50、光バンドパスフィルター61〜63、絶縁層70を含む。なお、フォトダイオード32、角度制限フィルター42は、フォトダイオード31、角度制限フィルター41と同様のため図示及び説明を省略する。
図6には、マイクロレンズアレイ(MLA:Micro-Lens Array)により入射光量を増加させる第4の変形例を示す。図6に示す分光センサーは、半導体基板10、配線層15、遮光物質25、フォトダイオード31、32、角度制限フィルター41、42、傾斜構造体50、光バンドパスフィルター61、62、絶縁層70、マイクロレンズアレイ95を含む。なお、フォトダイオード32、角度制限フィルター42、光バンドパスフィルター62は、フォトダイオード31、角度制限フィルター41、光バンドパスフィルター61と同様のため図示及び説明を省略する。
上述のように、光バンドパスフィルターの透過波長帯域は、多層薄膜の傾斜角度と角度制限フィルターの制限角度により設定される。この点について、図7(A)、図7(B)を用いて具体的に説明する。なお、説明を簡単にするために、以下では多層薄膜61、62の膜厚が同じ場合を例に説明するが、本実施形態では、多層薄膜61、62の膜厚が傾斜角θ1、θ2に応じて異なってもよい。例えば、薄膜のデポジションにおいて、半導体基板に対して垂直な方向に薄膜を成長させた場合、多層薄膜61、62の膜厚がcosθ1、cosθ2に比例してもよい。
図8〜図14を用いて、傾斜構造体を半導体プロセスにより形成する場合の本実施形態の分光センサーの製造方法の例について説明する。
図15〜図17を用いて、傾斜構造体を別部材で形成する第1の変形例の分光センサーの製造方法の例について説明する。
図18に、本実施形態の分光センサーを含む電子機器の構成例を示す。例えば、電子機器として、脈拍計、パルスオキシメーター、血糖値測定器、果実糖度計などが想定される。
41,42 角度制限フィルター、50 傾斜構造体、60 多層薄膜、
61,62 光バンドパスフィルター、70 絶縁層、80 接着層、
90 トレンチ、95 マイクロレンズアレイ、
900 分光センサー装置、910 分光センサー、920 フォトダイオード、
930 検出回路、940 A/D変換回路、950 LED、
960 LEDドライバー、970 マイクロコンピューター、980 記憶装置、
990 表示装置、
BW1,BW2 透過波長帯域、LRA 受光領域、θ1,θ2 傾斜角度、
λ1,λ2透過波長
Claims (17)
- 半導体基板上に形成された、フォトダイオード用の不純物領域と、
前記フォトダイオードの受光面に対する入射光の入射角度を制限するための角度制限フィルターと、
を含み、
前記角度制限フィルターは、
前記フォトダイオード用の不純物領域が形成される面を前記半導体基板の表面とする場合に、前記半導体基板の裏面側から前記フォトダイオード用の不純物領域に対して受光用の穴を形成することによって残存する前記半導体基板により形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1において、
前記入射光のうちの特定波長の光を透過する光バンドパスフィルターを含むことを特徴とする光学センサー。 - 請求項2において、
前記光バンドパスフィルターは、
前記フォトダイオードの受光面に対する前記入射光の入射角度に応じて透過波長が異なり、
前記角度制限フィルターは、
前記入射光の入射角度を制限して、前記透過波長の変化範囲を制限し、
前記光バンドパスフィルターは、
前記角度制限フィルターにより制限された前記透過波長の変化範囲により、透過する前記特定波長の帯域が設定されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記角度制限フィルターは、
前記半導体基板に対する平面視において、前記フォトダイオードの受光領域の外周に沿って形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記角度制限フィルターは、
前記半導体基板の裏面側に形成された複数の開口を有し、
前記複数の開口は、
前記フォトダイオードの受光領域の外周に沿って形成され、前記受光領域に対する入射光の入射角度を制限することを特徴とする光学センサー。 - 請求項2または3において、
前記光バンドパスフィルターは、
前記半導体基板に対して、透過波長に応じた角度で傾斜する多層薄膜により形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項6において、
前記光バンドパスフィルターは、
透過波長が異なる複数組の多層薄膜により形成され、
前記複数組の多層薄膜は、
前記半導体基板に対する傾斜角度が透過波長に応じて異なり、同時の薄膜形成工程で形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項6において、
前記フォトダイオード用の不純物領域は、
トレンチ構造の絶縁体により複数の領域に区切られ、
前記光バンドパスフィルターは、
透過波長が異なる複数のバンドパスフィルターにより形成され、
前記複数のバンドパスフィルターの各バンドパスフィルターは、
前記トレンチ構造の絶縁体により区切られた1または複数の領域に対応して設けられることを特徴とする光学センサー。 - 請求項6において、
前記角度制限フィルターの上に設けられた傾斜構造体を含み、
前記傾斜構造体は、
前記半導体基板に対して、前記光バンドパスフィルターの透過波長に応じた角度で傾斜する傾斜面を有し、
前記多層薄膜は、
前記傾斜面の上に形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項9において、
前記傾斜構造体は、
前記角度制限フィルターの上に半導体プロセスにより形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項10において、
前記傾斜構造体は、
前記半導体プロセスにより積層された透明膜に段差または粗密パターンが形成され、前記段差または粗密パターンに対して研磨及びエッチングの少なくとも一方が行われることで形成されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至11のいずれかにおいて、
前記受光用の穴を形成することによって残存する前記半導体基板の裏面と、前記受光用の穴の壁面に、遮光物質が配されることを特徴とする光学センサー。 - 請求項12において、
前記遮光物質は、
光吸収物質または光反射物質であることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至13のいずれかにおいて、
入射光を分光するための分光センサーであることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至13のいずれかにおいて、
入射光の照度を測定するための照度センサーであることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至13のいずれかにおいて、
光源の仰角を測定するための仰角センサーであることを特徴とする光学センサー。 - 請求項1乃至16のいずれかに記載された光学センサーを含むことを特徴とする電子機器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010048850 | 2010-03-05 | ||
JP2010048850 | 2010-03-05 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011046101A Division JP2011205088A (ja) | 2010-03-05 | 2011-03-03 | 光学センサー及び電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016058739A true JP2016058739A (ja) | 2016-04-21 |
JP6094652B2 JP6094652B2 (ja) | 2017-03-15 |
Family
ID=44530592
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011046101A Pending JP2011205088A (ja) | 2010-03-05 | 2011-03-03 | 光学センサー及び電子機器 |
JP2015204253A Active JP6094652B2 (ja) | 2010-03-05 | 2015-10-16 | 光学センサー、電子機器及び脈拍計 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011046101A Pending JP2011205088A (ja) | 2010-03-05 | 2011-03-03 | 光学センサー及び電子機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9357956B2 (ja) |
JP (2) | JP2011205088A (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5948007B2 (ja) | 2010-03-29 | 2016-07-06 | セイコーエプソン株式会社 | 分光センサー及び分光フィルター |
JP5663918B2 (ja) | 2010-03-29 | 2015-02-04 | セイコーエプソン株式会社 | 光センサー及び分光センサー |
JP5589515B2 (ja) | 2010-04-05 | 2014-09-17 | セイコーエプソン株式会社 | 傾斜構造体の製造方法 |
US9163984B2 (en) | 2011-03-17 | 2015-10-20 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and angle limiting filter |
JP5845690B2 (ja) | 2011-07-27 | 2016-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | 傾斜構造体、傾斜構造体の製造方法、及び分光センサー |
JP5803419B2 (ja) | 2011-08-19 | 2015-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 傾斜構造体、傾斜構造体の製造方法、及び分光センサー |
AU2012330761B2 (en) | 2011-11-03 | 2016-01-21 | Verifood Ltd. | Low-cost spectrometry system for end-user food analysis |
JP6015034B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2016-10-26 | セイコーエプソン株式会社 | 光学センサー及び電子機器 |
US9443993B2 (en) | 2013-03-28 | 2016-09-13 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic sensor and method for manufacturing same |
WO2014197786A2 (en) * | 2013-06-06 | 2014-12-11 | Kintz Gregory J | Apparatus and methods for detecting optical signals from implanted sensors |
JP6225519B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2017-11-08 | 株式会社リコー | 測定装置及び測定方法 |
EP3028020B1 (en) | 2013-08-02 | 2021-11-24 | Verifood Ltd. | Spectrometry system |
JP6166150B2 (ja) * | 2013-10-29 | 2017-07-19 | アルプス電気株式会社 | 受光装置 |
EP3090239A4 (en) | 2014-01-03 | 2018-01-10 | Verifood Ltd. | Spectrometry systems, methods, and applications |
CN107250739A (zh) | 2014-10-23 | 2017-10-13 | 威利食品有限公司 | 手持式光谱仪的附件 |
WO2016125165A2 (en) | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Verifood, Ltd. | Spectrometry system with visible aiming beam |
WO2016125164A2 (en) | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Verifood, Ltd. | Spectrometry system applications |
WO2016162865A1 (en) | 2015-04-07 | 2016-10-13 | Verifood, Ltd. | Detector for spectrometry system |
US10066990B2 (en) * | 2015-07-09 | 2018-09-04 | Verifood, Ltd. | Spatially variable filter systems and methods |
US10203246B2 (en) | 2015-11-20 | 2019-02-12 | Verifood, Ltd. | Systems and methods for calibration of a handheld spectrometer |
US10254215B2 (en) | 2016-04-07 | 2019-04-09 | Verifood, Ltd. | Spectrometry system applications |
EP3488204A4 (en) | 2016-07-20 | 2020-07-22 | Verifood Ltd. | ACCESSORIES FOR HANDLABLE SPECTROMETERS |
US10791933B2 (en) | 2016-07-27 | 2020-10-06 | Verifood, Ltd. | Spectrometry systems, methods, and applications |
JP6862216B2 (ja) | 2017-02-28 | 2021-04-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光検出装置 |
US10770489B2 (en) * | 2018-03-30 | 2020-09-08 | Vishay Intertechnology, Inc. | Optoelectronic device arranged as a multi-spectral light sensor having a photodiode array with aligned light blocking layers and N-well regions |
JP7388815B2 (ja) | 2018-10-31 | 2023-11-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光ユニット及び分光モジュール |
US20210038080A1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-11 | Maxim Integrated Products, Inc. | Optical diagnostic sensor systems and methods |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007139591A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Canon Inc | 分光測定装置及びそれを有する画像形成装置 |
JP2009182223A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Fujifilm Corp | 裏面照射型固体撮像素子 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2713838B2 (ja) | 1992-10-15 | 1998-02-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光イメージングセンサ |
US20050133879A1 (en) * | 2003-04-07 | 2005-06-23 | Takumi Yamaguti | Solid-state imaging device, signal processing device, camera, and spectral device |
KR100672687B1 (ko) * | 2005-06-03 | 2007-01-22 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 씨모스 이미지 센서 및 그 제조방법 |
JP4836498B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-12-14 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置及びカメラ |
-
2011
- 2011-03-02 US US13/038,992 patent/US9357956B2/en active Active
- 2011-03-03 JP JP2011046101A patent/JP2011205088A/ja active Pending
-
2015
- 2015-10-16 JP JP2015204253A patent/JP6094652B2/ja active Active
-
2016
- 2016-05-05 US US15/147,456 patent/US9683894B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007139591A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Canon Inc | 分光測定装置及びそれを有する画像形成装置 |
JP2009182223A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Fujifilm Corp | 裏面照射型固体撮像素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011205088A (ja) | 2011-10-13 |
US9357956B2 (en) | 2016-06-07 |
US20160245700A1 (en) | 2016-08-25 |
US20110215432A1 (en) | 2011-09-08 |
US9683894B2 (en) | 2017-06-20 |
JP6094652B2 (ja) | 2017-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6094652B2 (ja) | 光学センサー、電子機器及び脈拍計 | |
JP5663900B2 (ja) | 分光センサー装置及び電子機器 | |
JP5999168B2 (ja) | 光学センサー及び電子機器 | |
JP5862025B2 (ja) | 光学センサー及び電子機器 | |
US9885604B2 (en) | Optical sensor and electronic apparatus | |
US20120236313A1 (en) | Spectroscopic sensor and angle limiting filter | |
JP5970685B2 (ja) | 光学センサー及び電子機器 | |
JP5810565B2 (ja) | 光学センサー及び電子機器 | |
JP6112190B2 (ja) | 分光センサー及びパルスオキシメーター | |
JP5862754B2 (ja) | 脈拍センサー及び脈拍計 | |
JP5614339B2 (ja) | 分光センサー及び角度制限フィルター | |
JP5862753B2 (ja) | 分光センサー装置及び電子機器 | |
JP5614540B2 (ja) | 分光センサー及び角度制限フィルター | |
JP5821400B2 (ja) | 分光センサー及び角度制限フィルター | |
JP6079840B2 (ja) | 分光センサー及び角度制限フィルター | |
JP5804166B2 (ja) | 分光センサー及び角度制限フィルター | |
JP2013156325A (ja) | 分光センサー及び角度制限フィルター |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160909 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6094652 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |