JP2016058435A - 光半導体素子、光センサ及び光半導体素子の製造方法 - Google Patents
光半導体素子、光センサ及び光半導体素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016058435A JP2016058435A JP2014181216A JP2014181216A JP2016058435A JP 2016058435 A JP2016058435 A JP 2016058435A JP 2014181216 A JP2014181216 A JP 2014181216A JP 2014181216 A JP2014181216 A JP 2014181216A JP 2016058435 A JP2016058435 A JP 2016058435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- wavelength
- active layer
- electrode layer
- optical semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】光半導体素子は、第1電極層13と、第1電極層上に配置され、第1波長に感度を有する第1活性層14と、第1活性層上に配置される第2電極層15と、第2電極層上に配置され、第2波長に感度を有する第2活性層16と、第2活性層上に配置される第3電極層17と、第2電極層15に対して第1活性層側に配置され、入射した光の内の第1波長を有する光を選択的に第1活性層14に導く第1光結合層20と、第2電極層15に対して第2活性層側に配置され、入射した光の内の第2波長を有する光を選択的に第2活性層16に導く第2光結合層21と、を備える。
【選択図】図3
Description
10a 入射面
11 基板
12 バッファ層
13 第1電極層
14 第1活性層
15 第2電極層
16 第2活性層
17 第3電極層
18 反射層
20 第1光結合層
21 第2光結合層
22 加工層
30 光センサ
31 絶縁層
32a、32b、32c 開口
33 配線層
34 配線層
35a、35b、35c 電極
36a、36b、36c バンプ
40 信号処理部
Claims (8)
- 第1電極層と、
前記第1電極層上に配置され、第1波長に感度を有する第1活性層と、
前記第1活性層上に配置される第2電極層と、
前記第2電極層上に配置され、第2波長に感度を有する第2活性層と、
前記第2活性層上に配置される第3電極層と、
前記第2電極層に対して前記第1活性層側に配置され、入射した光の内の第1波長を有する光を選択的に第1活性層に導く第1光結合層と、
前記第2電極層に対して前記第2活性層側に配置され、入射した光の内の第2波長を有する光を選択的に第2活性層に導く第2光結合層と、
を備える光半導体素子。 - 前記第1電極層側に光の入射面を備え、
第1波長は、第2波長よりも波長が短い請求項1に記載の光半導体素子。 - 前記第1光結合層は、前記第1電極層の外方に配置され、前記第2光結合層は、前記第3電極層の外方に配置される請求項1又は2に記載の光半導体素子。
- 前記第1光結合層は、前記第1活性層に隣接して配置され、前記第2光結合層は、前記第2活性層に隣接して配置される請求項1又は2に記載の光半導体素子。
- 前記第1光結合層又は前記第2光結合層は、回折格子を有する請求項1〜3の何れか一項に記載の光半導体素子。
- 前記第1活性層又は前記第2活性層は、量子井戸又は量子ドットを有する請求項1〜4の何れか一項に記載の光半導体素子。
- 第1電極層と、
前記第1電極層上に配置され、第1波長に感度を有する第1活性層と、
前記第1活性層上に配置される第2電極層と、
前記第2電極層上に配置され、第2波長に感度を有する第2活性層と、
前記第2活性層上に配置される第3電極層と、
前記第2電極層に対して前記第1活性層側に配置され、入射した光の内第1波長を有する光を選択的に第1活性層に導く第1光結合層と、
前記第2電極層に対して前記第2活性層側に配置され、入射した光の内第2波長を有する光を選択的に第2活性層に導く第2光結合層と、
を有する複数の光半導体素子と、
各前記光半導体素子の電気信号を読み出す信号処理部と、
を備える光センサ。 - 基板上に、第1電極層を形成し、
前記第1電極層上に、第1波長に感度を有する第1活性層を形成し、
前記第1活性層上に、第2電極層を形成し、
前記第2電極層上に、第2波長に感度を有する第2活性層を形成し、
前記第2活性層上に、第3電極層を形成し、
前記第3電極層上に、第2波長を有する光を選択的に第2光吸収層に導く第2光結合層を形成し、
前記基板を加工して、第1波長を有する光を選択的に第1光吸収層に導く第1光結合層を形成する、光半導体素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014181216A JP6413518B2 (ja) | 2014-09-05 | 2014-09-05 | 光半導体素子、光センサ及び光半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014181216A JP6413518B2 (ja) | 2014-09-05 | 2014-09-05 | 光半導体素子、光センサ及び光半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016058435A true JP2016058435A (ja) | 2016-04-21 |
JP6413518B2 JP6413518B2 (ja) | 2018-10-31 |
Family
ID=55758977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014181216A Active JP6413518B2 (ja) | 2014-09-05 | 2014-09-05 | 光半導体素子、光センサ及び光半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6413518B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018018920A (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 富士通株式会社 | 光検出器、撮像装置及び光検出器の製造方法 |
JP2018200915A (ja) * | 2017-05-25 | 2018-12-20 | 富士通株式会社 | 化合物半導体装置、赤外線検知器及び撮像装置 |
JP7489961B2 (ja) | 2019-03-05 | 2024-05-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | 受光装置、及び受光装置の製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110600632A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-12-20 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 电致发光器件及显示装置 |
US11430969B2 (en) | 2019-08-28 | 2022-08-30 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Electroluminescent component having metal layer disposed between two of optical coupling layers and display device having the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020008191A1 (en) * | 1999-12-24 | 2002-01-24 | Faska Thomas S. | Multi-color, multi-focal plane optical detector |
JP2005159002A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Seiko Epson Corp | 受光素子、光モジュール、及び光伝送装置 |
JP2013161950A (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | フォトダイオード、波長センサ、波長測定装置 |
JP2014017403A (ja) * | 2012-07-10 | 2014-01-30 | Fujitsu Ltd | 光検出器およびその製造方法 |
-
2014
- 2014-09-05 JP JP2014181216A patent/JP6413518B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020008191A1 (en) * | 1999-12-24 | 2002-01-24 | Faska Thomas S. | Multi-color, multi-focal plane optical detector |
JP2005159002A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Seiko Epson Corp | 受光素子、光モジュール、及び光伝送装置 |
JP2013161950A (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | フォトダイオード、波長センサ、波長測定装置 |
JP2014017403A (ja) * | 2012-07-10 | 2014-01-30 | Fujitsu Ltd | 光検出器およびその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018018920A (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 富士通株式会社 | 光検出器、撮像装置及び光検出器の製造方法 |
JP2018200915A (ja) * | 2017-05-25 | 2018-12-20 | 富士通株式会社 | 化合物半導体装置、赤外線検知器及び撮像装置 |
JP7489961B2 (ja) | 2019-03-05 | 2024-05-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | 受光装置、及び受光装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6413518B2 (ja) | 2018-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6413518B2 (ja) | 光半導体素子、光センサ及び光半導体素子の製造方法 | |
JP5170110B2 (ja) | 半導体受光素子及び光通信デバイス | |
JP6035921B2 (ja) | 光検出器およびその製造方法 | |
JP2017112169A (ja) | イメージセンサ、撮像システム及びイメージセンサの製造方法 | |
JP6001063B2 (ja) | 光学素子及び光検出器 | |
US20170363722A1 (en) | Photo detector, photo detection device, and lidar device | |
US20140319637A1 (en) | Photodetector | |
JP2010114114A (ja) | 反射型フォトインタラプタ | |
CN109496364A (zh) | 具有集成高对比度光栅偏振器的光电检测器设备 | |
JP2009117499A (ja) | 受光素子 | |
JP5001788B2 (ja) | 光検出装置 | |
US20150097156A1 (en) | Photodetector | |
JP2007266541A (ja) | 多波長量子井戸型赤外線検知器 | |
JP4751926B2 (ja) | 光半導体装置および光検出システム | |
US20190305021A1 (en) | Photodetector and imaging device | |
US20210247504A1 (en) | Three-dimensional imaging and sensing applications using polarization specific vcsels | |
JP6759805B2 (ja) | 光検出器、撮像装置及び光検出器の製造方法 | |
JP5255042B2 (ja) | 光検知素子 | |
JP4997066B2 (ja) | 光検出装置 | |
JP6597035B2 (ja) | 光検出器及び光検出器の製造方法 | |
US7741691B2 (en) | Semiconductor photodetector | |
JP6348876B2 (ja) | フォトダイオード装置およびフォトミキサモジュール | |
JP6849900B2 (ja) | 検出素子及び検出器 | |
JP2015094738A (ja) | 光検出器の製造方法 | |
JP2012124197A (ja) | 光センサ及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170605 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180403 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180511 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180917 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6413518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |