JP2016033623A - Optical film and method for manufacturing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device - Google Patents

Optical film and method for manufacturing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device Download PDF

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寛之 大草
Hiroyuki Okusa
寛之 大草
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film that has low moisture permeability and excellent adhesiveness of a low moisture permeable layer and suppresses blisters of the low moisture permeable layer which occurs upon cutting the film, a method for manufacturing the optical film, and a polarizing plate and a liquid crystal display device using the optical film.SOLUTION: The optical film includes a base film, a first layer, and a second layer, in this order. The first layer is formed by curing a curable composition for forming the first layer, which comprises a compound having an ethylenically unsaturated double bond, and has an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa. The second layer is formed by curing a curable composition for forming the second layer, which comprises at least one of a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.

近年、液晶表示装置は、液晶テレビや、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどの液晶パネル等の用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子とその両側の保護フィルムとからなり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール(PVA)系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしてはセルロースエステルフィルムなどが用いられている。   In recent years, liquid crystal display devices have been widely used for liquid crystal panels such as liquid crystal televisions, personal computers, mobile phones, and digital cameras. Usually, a liquid crystal display device has a liquid crystal panel member provided with polarizing plates on both sides of a liquid crystal cell, and display is performed by controlling light from the backlight member with the liquid crystal panel member. Here, the polarizing plate is composed of a polarizer and protective films on both sides thereof, and a general polarizer is obtained by dyeing a stretched polyvinyl alcohol (PVA) film with iodine or a dichroic dye to protect it. A cellulose ester film or the like is used as the film.

最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる上記の偏光板用保護フィルムや光学補償フィルムなどの光学フィルムについても温度や湿度変化に対する寸法や光学特性の変化を抑えることが求められる。   Recent liquid crystal display devices are becoming more and more demanding, and the demands for durability are becoming stricter as the quality of the liquid crystal display devices increases. For example, when used in outdoor applications, stability against environmental changes is required, and the optical film such as the protective film for polarizing plate and the optical compensation film used in the liquid crystal display device also has dimensions and optical characteristics against temperature and humidity changes. It is required to suppress changes in

液晶表示装置は従来の室内用途だけでなく、屋外などより過酷な環境で使用されるようになっており、液晶表示装置の最表面に配置される光学フィルムは、水分を透過させない性能が重要になっている。この問題は近年大型化が進むTV用途では、液晶セルのガラスが薄手化する傾向の影響もあり、反りが大きくなりやすく、高温高湿環境経時後の光漏れへの影響が懸念されている。   Liquid crystal display devices are used not only in conventional indoor applications, but also in harsher environments such as outdoors, and for optical films placed on the outermost surface of liquid crystal display devices, performance that does not allow moisture to permeate is important. It has become. In TV applications that are becoming larger in size in recent years, this problem is also affected by the tendency of the glass of the liquid crystal cell to become thinner, warping tends to increase, and there is concern about the effect on light leakage after aging in a high temperature and high humidity environment.

特許文献1には、透明性が高く、低吸湿性、高耐熱性、力学的強度の高い光学フィルムの提供を目的として、セルロースエステルにポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリル樹脂を多量添加した光学フィルムが開示されている。
一方、基材フィルム上に、塗布層を設けたフィルムも知られている。例えば、特許文献2には、膜厚80μmのセルロースアシレートである基材フィルム上に、分子内に環状脂肪族炭化水素基と2個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物から形成されてなる塗布層を設けたフィルムが記載されている。
Patent Document 1 describes an optical device in which a large amount of acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA) is added to cellulose ester for the purpose of providing an optical film having high transparency, low moisture absorption, high heat resistance, and high mechanical strength. A film is disclosed.
On the other hand, a film in which a coating layer is provided on a base film is also known. For example, Patent Document 2 contains a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and two or more ethylenically unsaturated double bonds in the molecule on a base film that is a cellulose acylate having a film thickness of 80 μm. A film provided with a coating layer formed from the composition is described.

また、特許文献3〜5には、基材、下塗り層、上塗り層をこの順に有するフィルムが記載されており、下塗り層として特定の弾性率を有する層が記載されている。   Patent Documents 3 to 5 describe a film having a substrate, an undercoat layer, and an overcoat layer in this order, and a layer having a specific elastic modulus as the undercoat layer.

国際公開第2009/047924号International Publication No. 2009/047924 特開2006−83225号公報JP 2006-83225 A 特開2001−229737号公報JP 2001-229737 A 特開2005−181548号公報JP 2005-181548 A 特開2008−197670号公報JP 2008-197670 A

近年急速に広まっているタブレットPCやモバイル用途など中小型では薄型化・液晶表示装置内の省スペース要求が高いため、高温高湿環境経時後の光漏れの問題解決が強く望まれている。液晶表示装置の液晶セルの反りや光漏れの発生は、偏光板及びそれを構成する光学フィルム、特に偏光子が水分を吸収及び放出することにより、液晶表示装置の液晶セルの前面及び背面の偏光板に収縮差が生じてバランスが崩れ液晶セルが反り、液晶セルの四隅や四辺が筐体や背面側の部材と接触して光漏れが生じることが原因と考えられている。このため、偏光板の保護フィルムに対しては、湿度依存性や湿熱耐久性の改善が求められてきたが、抜本的な改良のためには、環境変化で水分の吸収及び放出を抑制する必要があり、特に偏光板の最表面の光学フィルムには更なる透湿度の低減が求められる。   Small and medium-sized devices such as tablet PCs and mobile devices, which have been rapidly spreading in recent years, have high demands for thinning and space-saving in liquid crystal display devices. Therefore, it is strongly desired to solve the problem of light leakage after aging in a high-temperature and high-humidity environment. The occurrence of warping and light leakage of the liquid crystal cell of the liquid crystal display device is caused by the polarization of the front and back surfaces of the liquid crystal cell of the liquid crystal display device by absorbing and releasing moisture by the polarizing plate and the optical film that constitutes the polarizing plate. It is considered that the difference in shrinkage occurs in the plate, the balance is lost, the liquid crystal cell is warped, and the four corners and four sides of the liquid crystal cell come into contact with the casing and the members on the back side to cause light leakage. For this reason, improvements in humidity dependency and wet heat durability have been required for protective films for polarizing plates, but for drastic improvement, it is necessary to suppress the absorption and release of moisture due to environmental changes. In particular, the optical film on the outermost surface of the polarizing plate is required to further reduce moisture permeability.

偏光板の最表面の光学フィルムの透湿度を低減するためには、光学フィルムを基材フィルム上に低透湿層を塗設した構成とすることが考えられる。
しかしながら、低透湿層を形成するためのモノマーは、立体的に嵩高いものが多く、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの従来より硬化層を形成するためのモノマーとして一般的に使用されるアクリレートモノマーに比べて疎水性が高いため、基材フィルムとの密着性確保が難しく、その結果、塗膜の密着性を評価する100マス試験の評価結果が低くなる。
そこで、基材フィルムと低透湿層との間に、下塗り層を設けることにより、化学結合により基材フィルムと下塗り層との間の密着性の向上を図ることが考えられ、これにより、100マス試験による密着性を大幅に改善できることが期待される。
しかしながら、例えば、長尺の偏光板を、液晶表示装置に組み込む大きさに加工するために、裁断、打ち抜き、又は切り出しをした場合に、低透湿層と下塗り層との界面において「浮き」が発生するという新たな問題が明らかになってきた。
In order to reduce the water vapor transmission rate of the optical film on the outermost surface of the polarizing plate, it is conceivable that the optical film has a structure in which a low moisture-permeable layer is coated on the base film.
However, many of the monomers for forming the low moisture permeable layer are sterically bulky, and acrylates generally used as monomers for forming a cured layer such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate have been conventionally used. Since the hydrophobicity is higher than that of the monomer, it is difficult to secure the adhesion with the base film, and as a result, the evaluation result of the 100 mass test for evaluating the adhesion of the coating film is lowered.
Therefore, it is conceivable to improve the adhesion between the base film and the undercoat layer by chemical bonding by providing an undercoat layer between the base film and the low moisture permeable layer. It is expected that adhesion by mass test can be greatly improved.
However, for example, when a long polarizing plate is cut, punched, or cut out to process it into a size to be incorporated into a liquid crystal display device, “floating” occurs at the interface between the low moisture permeable layer and the undercoat layer. A new problem has emerged that arises.

特許文献3には、100マス試験の評価結果は良好であることは開示されているものの、「浮き」の発生を低減することについては、検討されていなかった。即ち、「浮き」はフィルムの裁断時などの、短時間に大きな力が局所的にかかる場合に発生するものであり、一方、100マス試験による密着性評価は、裁断と比べた場合、弱い力が継続的に広い面積にかかる場合の剥がれを評価するものであるため、両者は異なる課題である。   Although Patent Document 3 discloses that the evaluation result of the 100-mass test is good, it has not been studied for reducing the occurrence of “floating”. That is, “floating” occurs when a large force is locally applied in a short time, such as when cutting a film. On the other hand, the adhesion evaluation by the 100-mass test has a weak force when compared with cutting. However, they are different issues because they are intended to evaluate peeling when it covers a large area continuously.

上記のような状況に鑑みて、本発明の目的は、透湿度が低く、低透湿層の密着性が優れており、かつ裁断時に発生する低透湿層の浮きが抑制された光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
本発明の別の目的は、上記光学フィルムを用いた偏光板を提供することである。本発明の更に別の目的は、高温高湿環境経時後の光漏れが改善された液晶表示装置を提供することである。
In view of the situation as described above, the object of the present invention is to provide an optical film having low moisture permeability, excellent adhesion of the low moisture permeable layer, and suppressed floating of the low moisture permeable layer generated during cutting, and The manufacturing method is provided.
Another object of the present invention is to provide a polarizing plate using the optical film. Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device with improved light leakage after a high temperature and high humidity environment.

本発明が解決しようとする課題は、下記の手段により解決することができる。   The problem to be solved by the present invention can be solved by the following means.

[1]
基材フィルムと、第1層と、第2層とをこの順に有する光学フィルムであって、
上記第1層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が1.0〜5.0GPaである層であり、
上記第2層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルム。
[2]
上記第1層形成用硬化性組成物は、上記第1層形成用硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を30〜99質量%含有する、[1]に記載の光学フィルム。
[3]
上記第2層形成用硬化性組成物は、上記第2層形成用硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、上記環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを50〜99質量%含有する、[1]又は[2]に記載の光学フィルム。
[4]
上記第1層形成用硬化性組成物は、更に、エラストマーを含有する、[1]〜[3]のいずれか1項に記載の光学フィルム。
[5]
上記エラストマーは、ポリウレタン系、アクリル系、又はポリスチレン系のエラストマーである、[4]に記載の光学フィルム。
[6]
上記第1層形成用硬化性組成物に含有される上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子量が2000以下である、[1]〜[5]のいずれか1項に記載の光学フィルム。
[7]
上記第1層形成用硬化性組成物に含有される上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、アクリル当量が200以下である、[1]〜[6]のいずれか1項に記載の光学フィルム。
[8]
上記第1層の膜厚は1.0μm未満である、[1]〜[7]のいずれか1項に記載の光学フィルム。
[9]
上記第2層形成用硬化性組成物は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を含有し、上記環状脂肪族炭化水素基が下記一般式(I)及び一般式(IV)の少なくとも1種で表される基である[1]〜[8]のいずれか1項に記載の光学フィルム。

Figure 2016033623

一般式(I)中、L、及びL1は各々独立に二価以上の連結基を表し、nは1〜3の整数を表す。
Figure 2016033623

一般式(IV)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表し、L2は水素原子、単結合又は2価以上の連結基を表す。
[10]
上記第2層形成用硬化性組成物は、更にロジン化合物を含有する、[1]〜[9]のいずれか1項に記載の光学フィルム。
[11]
偏光子と、上記偏光子の保護フィルムとして[1]〜[10]のいずれか1項に記載の光学フィルムとを少なくとも1枚含む偏光板。
[12]
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された[11]に記載の偏光板とを含み、上記光学フィルムが最表層となるように配置された液晶表示装置。
[13]
基材フィルムと、第1層と、第2層とをこの順に有する光学フィルムの製造方法であって、
上記基材フィルム上に、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して、弾性率が1.0〜5.0GPaである第1層を形成する工程と、
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して第2層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。 [1]
An optical film having a base film, a first layer, and a second layer in this order,
The first layer is a layer formed by curing a curable composition for forming a first layer containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond and having an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa. ,
The second layer contains at least one of a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond. An optical film, which is a layer formed by curing a curable composition for formation.
[2]
The said 1st layer forming curable composition is 30-99 for the compound which has the said ethylenically unsaturated double bond, when the total solid of the said 1st layer forming curable composition is 100 mass%. The optical film according to [1], which is contained by mass%.
[3]
When the total solid content of the second layer forming curable composition is 100% by mass, the cyclic aliphatic hydrocarbon group and the ethylenically unsaturated double bond are used. The optical film according to [1] or [2], containing 50 to 99% by mass of a compound having a fluorene ring and a compound having an ethylenically unsaturated double bond.
[4]
The said 1st layer forming curable composition is an optical film of any one of [1]-[3] which contains an elastomer further.
[5]
The optical film according to [4], wherein the elastomer is a polyurethane-based, acrylic-based, or polystyrene-based elastomer.
[6]
The compound according to any one of [1] to [5], wherein the compound having an ethylenically unsaturated double bond contained in the curable composition for forming a first layer has a molecular weight of 2000 or less. the film.
[7]
The compound having an ethylenically unsaturated double bond contained in the curable composition for forming the first layer according to any one of [1] to [6], wherein an acrylic equivalent is 200 or less. Optical film.
[8]
The optical film according to any one of [1] to [7], wherein the film thickness of the first layer is less than 1.0 μm.
[9]
The curable composition for forming the second layer contains a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, and the cyclic aliphatic hydrocarbon group is represented by the following general formula (I) and The optical film according to any one of [1] to [8], which is a group represented by at least one of formula (IV).
Figure 2016033623

In general formula (I), L and L1 each independently represent a divalent or higher valent linking group, and n represents an integer of 1 to 3.
Figure 2016033623

In general formula (IV), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher linking group, and L2 represents a hydrogen atom, a single bond or a divalent or higher valent linking group.
[10]
The said 2nd layer forming curable composition is an optical film of any one of [1]-[9] which contains a rosin compound further.
[11]
A polarizing plate comprising at least one polarizer and the optical film according to any one of [1] to [10] as a protective film for the polarizer.
[12]
A liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell and the polarizing plate according to [11] disposed on at least one surface of the liquid crystal cell, wherein the optical film is an outermost layer.
[13]
A method for producing an optical film having a base film, a first layer, and a second layer in this order,
On the base film,
Applying a curable composition for forming a first layer containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond and curing to form a first layer having an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa; ,
Curable composition for second layer formation containing at least one of a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond Applying and curing to form a second layer. An optical film manufacturing method comprising:

本発明により、透湿度が低く、低透湿層の密着性が優れており、かつ裁断時に発生する低透湿層の浮きが抑制された光学フィルム及びその製造方法を提供することができる。本発明の光学フィルムを用いることで、高温高湿環境経時後の光漏れ発生が抑えられた液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an optical film having a low moisture permeability, excellent adhesion of a low moisture permeable layer, and a low moisture permeable layer that is prevented from floating during cutting, and a method for producing the same. By using the optical film of the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the occurrence of light leakage after a high temperature and high humidity environment is suppressed.

本発明の実施例における浮きの評価方法を示す図である。It is a figure which shows the evaluation method of the float in the Example of this invention. 浮きの評価において試料の観察方向を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the observation direction of a sample in evaluation of floating. 試料に発生した浮きを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the float which generate | occur | produced in the sample.

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
「アクリル樹脂」とはメタクリル酸又はアクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂を意味するものとする。また、特に限定しない場合には、「(メタ)アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「(メタ)アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。
更に、フィルムの「遅相軸方向」とはフィルム面内で屈折率が最大となる方向で、「進相軸方向」とはフィルム面内で遅相軸と直交する方向を意味するものとする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
“Acrylic resin” means a resin obtained by polymerizing methacrylic acid or a derivative of acrylic acid, and a resin containing the derivative. Further, when not particularly limited, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, and “(meth) acryl” represents acryl and methacryl.
Furthermore, the “slow axis direction” of the film is the direction in which the refractive index is maximum in the film plane, and the “fast axis direction” means the direction orthogonal to the slow axis in the film plane. .

[光学フィルム]
本発明の光学フィルムは、基材フィルムと、第1層と、第2層(「低透湿層」ともいう)とをこの順に有する光学フィルムであって、第1層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が1.0〜5.0GPaである層であり、第2層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルムである。
[Optical film]
The optical film of the present invention is an optical film having a base film, a first layer, and a second layer (also referred to as “low moisture-permeable layer”) in this order, and the first layer is ethylenically unsaturated. It is a layer formed by curing a curable composition for forming a first layer containing a compound having a double bond and having an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa, and the second layer is a cyclic aliphatic carbonization Curing a curable composition for forming a second layer containing at least one of a compound having a hydrogen group and an ethylenically unsaturated double bond and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond; It is an optical film which is a layer to be formed.

(光学フィルムの透湿度)
本発明の光学フィルムは、透湿度が5.0〜120g/m/dayであることが好ましい。ここで、透湿度は、JIS Z−0208の手法で、40℃、相対湿度90%で24時間経過後の値である。
本発明の光学フィルムの透湿度は、100g/m/day以下であることが好ましく、90g/m/day以下であることがより好ましく、80g/m/day以下であることが更に好ましく、70g/m/day以下であることが特に好ましい。透湿度が120g/m/day以下であれば、液晶表示装置の常温高湿及び高温高湿環境経時後の液晶セルの反りに伴う光漏れを抑制できる。
(Water vapor transmission rate of optical film)
The optical film of the present invention preferably has a moisture permeability of 5.0 to 120 g / m 2 / day. Here, the moisture permeability is a value after 24 hours at 40 ° C. and a relative humidity of 90% by the method of JIS Z-0208.
The moisture permeability of the optical film of the present invention is preferably 100 g / m 2 / day or less, more preferably 90 g / m 2 / day or less, and still more preferably 80 g / m 2 / day or less. 70 g / m 2 / day or less is particularly preferable. If the water vapor transmission rate is 120 g / m 2 / day or less, light leakage due to warpage of the liquid crystal cell after the normal temperature and high humidity and high temperature and high humidity environment of the liquid crystal display device can be suppressed.

{第1層}
光学フィルムにおける第1層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が1.0〜5.0GPaである層である。
{First layer}
The first layer in the optical film is formed by curing a curable composition for forming a first layer containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, and has a modulus of elasticity of 1.0 to 5.0 GPa. It is.

(第1層の弾性率)
第1層の弾性率は1.0〜5.0GPaであり、1.0〜4.0GPaであることが好ましく、1.0〜2.5GPaであることがより好ましい。第1層の弾性率を上記範囲とすることで、光学フィルム裁断時に発生する低透湿層の浮きを抑制することができる。本発明において、弾性率とはナノインデンテーション弾性率(Er)のことであり、実施例の項でその測定方法を詳述する。原理の詳細は、HandbookofMicro/NanoTribology(BharatBhushan編CRC)に記載されている。
(Elastic modulus of the first layer)
The elastic modulus of the first layer is 1.0 to 5.0 GPa, preferably 1.0 to 4.0 GPa, and more preferably 1.0 to 2.5 GPa. By making the elasticity modulus of a 1st layer into the said range, the float of the low moisture-permeable layer which generate | occur | produces at the time of an optical film cutting can be suppressed. In the present invention, the elastic modulus means the nanoindentation elastic modulus (Er), and the measurement method will be described in detail in the section of Examples. Details of the principle are described in Handbook of Micro / NanoTriology (CRC edited by BharatBhushan).

(第1層の膜厚)
第1層の膜厚は1.0μm未満であることが好ましく、0.01μm以上0.8μm以下であることがより好ましく、0.01μm以上0.6μm以下であることが更に好ましい。
(Film thickness of the first layer)
The film thickness of the first layer is preferably less than 1.0 μm, more preferably 0.01 μm or more and 0.8 μm or less, and still more preferably 0.01 μm or more and 0.6 μm or less.

〔エチレン性不飽和二重結合を有する化合物〕
第1層形成用硬化性組成物は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する。
[Compound having an ethylenically unsaturated double bond]
The curable composition for forming the first layer contains a compound having an ethylenically unsaturated double bond.

エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   The compound having an ethylenically unsaturated double bond is preferably a (meth) acrylate compound, (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, polyvalent (Meth) acrylic acid diesters of alcohol, ethylene oxide or propylene oxide adduct (meth) acrylic acid diesters, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, etc. it can.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified Tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate and caprolactone-modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業(株)社製NKエステル A−TMMT、ATM−4E、A−200、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、日本合成化学(株)製ウレタンアクリレート UV−1700B等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開2009−98658号公報の段落[0114]〜[0122]に記載されており、本発明においても同様のものを用いることができる。   Commercially available polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group can be used, and NK ester A-TMMT, ATM-4E, A-200, Nippon Chemical Co., Ltd., manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. KAYARAD DPHA manufactured by Yakuhin Co., Ltd., urethane acrylate UV-1700B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. can be exemplified. The polyfunctional monomer is described in paragraphs [0114] to [0122] of JP-A-2009-98658, and the same can be used in the present invention.

第1層形成用硬化性組成物に含有されるエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的には−OH、−SH、−NH−、−CHO、−CONH−、−OCONH−などが挙げられ、ウレタン(メタ)アクリレート類や水酸基を有する(メタ)アクリレート類が好ましい。市販されている(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業(株)社製NKオリゴ U4HA、同NKエステルA−TMM−3、日本化薬(株)製KAYARAD PET−30等を挙げることができる。   The compound having an ethylenically unsaturated double bond contained in the curable composition for forming the first layer is a compound having a hydrogen bonding substituent, adhesion to the support, low curl, It is preferable from the viewpoint of fixability of the fluorine-containing or silicone-based compound described later. The hydrogen-bonding substituent refers to a substituent in which an atom such as nitrogen, oxygen, sulfur, or halogen and a hydrogen bond are bonded by a covalent bond, specifically, —OH, —SH, —NH—, —CHO. , -CONH-, -OCONH- and the like, and urethane (meth) acrylates and (meth) acrylates having a hydroxyl group are preferred. Commercially available polyfunctional acrylates having a (meth) acryloyl group can also be used. Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Oligo U4HA, NK Ester A-TMM-3, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD PET-30 etc. can be mentioned.

エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、第1層形成用硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、30〜99質量%であることが好ましく、40〜90質量%であることがより好ましく、50〜80質量%であることが更に好ましい。ここで、硬化性組成物の全固形分とは、硬化性組成物から溶剤を除いた全成分のことをいう。
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合は合計の含有量が上記範囲であることが好ましい。
The content of the compound having an ethylenically unsaturated double bond is preferably 30 to 99% by mass when the total solid content of the curable composition for forming a first layer is 100% by mass, More preferably, it is 90 mass%, and it is still more preferable that it is 50-80 mass%. Here, the total solid content of the curable composition refers to all components excluding the solvent from the curable composition.
The compounds having an ethylenically unsaturated double bond may be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types together, it is preferable that total content is the said range.

エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子量が2000以下の化合物であることが好ましく、200以上1000以下であることがより好ましい。分子量が2000以下であると、第1層形成時に基材フィルムに染み込みやすくなり、基材フィルムと第1層との密着性を高めることができる。   The compound having an ethylenically unsaturated double bond is preferably a compound having a molecular weight of 2000 or less, and more preferably 200 or more and 1000 or less. When the molecular weight is 2000 or less, the base film is easily soaked when the first layer is formed, and the adhesion between the base film and the first layer can be improved.

また、第1層形成用硬化性組成物に含有されるエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、アクリル当量が200以下であることが好ましく、70以上150以下であることがより好ましい。アクリル当量が200以下であると、第1層と第2層との化学結合により、第1層と第2層との密着性を高めることができる。
アクリル当量とは、アクリル当量をE、分子量をM、分子内のアクリロイル基の数をNとしたときに、以下の式で表される値である。
=M/N
The compound having an ethylenically unsaturated double bond contained in the curable composition for forming the first layer preferably has an acrylic equivalent of 200 or less, more preferably 70 or more and 150 or less. When the acrylic equivalent is 200 or less, the adhesion between the first layer and the second layer can be enhanced by the chemical bond between the first layer and the second layer.
The acrylic equivalent, acrylic equivalent of E a, the molecular weight M, the number of acryloyl groups in the molecule when the N a, is a value represented by the following formula.
E a = M / N a

〔エラストマー〕
第1層形成用硬化性組成物は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物以外に、更に、エラストマーを含有することが好ましい。第1層形成用硬化性組成物中にエラストマーを含有させることにより、第1層の弾性率を所望の範囲に調整することができる。
エラストマーの含有量は、第1層形成用硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、1〜70質量%であることが好ましく、5〜60質量%であることがより好ましく、10〜50質量%であることが更に好ましい。
エラストマーとしては、ポリスチレン系、ポリジエン系、ポリイソブチレン系、アクリル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、フッ素系、シリコーン系のエラストマー等を挙げることができる。ポリスチレン系のエラストマーとしては、旭化成ケミカルズ社製のアサプレンT−411、アサプレンT−439、タフテックH1501、タフテックH1503、タフテックH1272、タフテックM1913、タフテックH1943、タフテックP1500、タフプレンA、タフプレン126S、クラレ社製のセプトンHG252、セプトンS1001、セプトンS2002、セプトンS2006、セプトンS2063、セプトンS2104、セプトンS4044、セプトンS4099、セプトンS8104、ハイブラー5125、ハイブラー5127、ハイブラー7125、ハイブラー7311、日本ゼオン社製のゼオフィットZFT1330 、Quintac3421、Quintac3450、Quintac3390、JSR社製のJSR SIS5002、JSR SIS5403、JSR TR1600、JSR TR2001、JSR TR2250等を挙げることができる。ポリジエン系のエラストマーとしては、JSR社製のJSR BR01、JSR BR730、JSR RB810、JSR RB840、JSR IR2200等を挙げることができる。ポリイソブチレン系のエラストマーとしては、カネカ社製のシブスター062M、シブスター062T、シブスター072T、シブスター073T、シブスター102T、シブスター103T等を挙げることができる。アクリル系のエラストマーとしては、カネカ社製のカネエースB−546、カネエースFM−50、カネエースM−210、カネエースMP−90、カネエースMR−01、ゼムラックYC3623、ゼムラックYP1915B、クラレ社製のクラリティLA2140E、クラリティLA2250、クラリティLA2330、クラリティLA4285、三菱レイヨン社製のメタブレンC−223A、メタブレンC−323A、メタブレンS−2001、メタブレンS−2006、メタブレンS−2030、メタブレンS−2100、メタブレンW−450A、メタブレンW−5500等を挙げることができる。ポリウレタン系のエラストマーとしては、東洋紡社製のバイロンUR−1350、バイロンUR−1510、バイロンUR−1700、バイロンUR−2300、バイロンUR−3200、バイロンUR−3210、バイロンUR−3260、バイロンUR−6100、バイロンUR−8200、バイロンUR−8300、バイロンUR−8700等を挙げることができる。ポリエステル系のエラストマーとしては、東レ・デュポン社製のハイトレル2751、ハイトレル3046、ハイトレル4001T−X04、SB654、ハイトレルSC753、東洋紡社製のペルプレンP30B、ペルプレンP70B、ペルプレンS1001、ペルプレンS9001、三菱化学社製のプリマロイCP200、プリマロイCP300等を挙げることができる。ポリアミド系のエラストマーとしては、宇部興産社製のUBESTA 3012U、UBESTA XPA 9040X1、東洋紡社製のグリラックスE−200LV、グリラックスEH−620等を挙げることができる。フッ素系のエラストマーとしては、住友スリーエム社製のダイニオンTHV、セントラル硝子社製のセフラルソフトG150、ダイキン工業社製のダイエルサーモプラスチックT−530等を挙げることができる。シリコーン系のエラストマーとしては、NUC社製のシルグラフト等を挙げることができる。特に、第1層形成用硬化性組成物中に、全固形分に対して10質量%のエラストマーを添加したときに、第1層の弾性率を10%以上低減できるような種類のエラストマーを使用することが好ましい。
エラストマーとしては、ポリウレタン系、アクリル系、ポリスチレン系のエラストマーが好ましい。
具体的には、ポリエステルウレタン、MMA(メタクリル酸メチル)−BA(アクリル酸ブチル)の共重合体によるコアシェル、MMA−BAのブロック共重合体、スチレン・ブタジエン熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
[Elastomer]
The curable composition for forming the first layer preferably further contains an elastomer in addition to the compound having an ethylenically unsaturated double bond. By including an elastomer in the curable composition for forming the first layer, the elastic modulus of the first layer can be adjusted to a desired range.
The content of the elastomer is preferably 1 to 70% by mass and more preferably 5 to 60% by mass when the total solid content of the curable composition for forming the first layer is 100% by mass. More preferably, it is 10-50 mass%.
Examples of the elastomer include polystyrene, polydiene, polyisobutylene, acrylic, polyurethane, polyester, polyamide, fluorine, and silicone elastomers. As polystyrene-based elastomers, Asaprene T-411, Asaprene T-439, Tuftec H1501, Tuftec H1503, Tuftec M1273, Tuftech H1943, Tuftec P1500, Tufplen A, Tufplen 126S, manufactured by Kuraray Co., Ltd. Septon HG252, Septon S1001, Septon S2002, Septon S2006, Septon S2063, Septon S2104, Septon S4044, Septon S4099, Septon S8104, Hibler 5125, Hibler 5127, Hibler 7125, Hibler 7311, Zeof ZFT13t34t34t34t , Quintac 3390, JSR Corporation Examples include JSR SIS5002, JSR SIS5403, JSR TR1600, JSR TR2001, JSR TR2250, and the like. Examples of the polydiene elastomer include JSR BR01, JSR BR730, JSR RB810, JSR RB840, and JSR IR2200 manufactured by JSR. Examples of the polyisobutylene elastomer include Shibustar 062M, Shibster 062T, Shibster 072T, Shibster 073T, Shibster 102T, and Shibster 103T manufactured by Kaneka Corporation. Examples of the acrylic elastomer include Kane Ace B-546, Kane Ace FM-50, Kane Ace M-210, Kane Ace MP-90, Kane Ace MR-01, Zemlac YC3623, Zemlac YP1915B, Kuraray Clarity LA2140E, and Clarity. LA2250, Clarity LA2330, Clarity LA4285, Metablene C-223A, Metabrene C-323A, Methbrene S-2001, Methbrene S-2006, Methbrene S-2030, Methbrene S-2100, Methbrene W-450A, Methbrene W manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. -5500 etc. can be mentioned. Examples of polyurethane-based elastomers include Byron UR-1350, Byron UR-1510, Byron UR-1700, Byron UR-2300, Byron UR-3200, Byron UR-3210, Byron UR-3260, Byron UR-6100 manufactured by Toyobo Co., Ltd. Byron UR-8200, Byron UR-8300, Byron UR-8700 and the like. As polyester-based elastomers, Toray DuPont's Hytrel 2751, Hytrel 3046, Hytrel 4001T-X04, SB654, Hytrel SC753, Toyobo's Perprene P30B, Perprene P70B, Perprene S1001, Perprene S9001, Mitsubishi Chemical Corporation Primalloy CP200, primalloy CP300, etc. can be mentioned. Examples of polyamide-based elastomers include UBESTA 3012U, UBESTA XPA 9040X1, manufactured by Ube Industries, Ltd., Glais E-200LV, Glais EH-620, manufactured by Toyobo. Examples of the fluorine-based elastomer include Dionon THV manufactured by Sumitomo 3M, Cefral Soft G150 manufactured by Central Glass, Daiel Thermoplastic T-530 manufactured by Daikin Industries. Examples of the silicone-based elastomer include a sill graft made by NUC. In particular, when 10% by mass of elastomer is added to the total solid content in the curable composition for forming the first layer, a type of elastomer that can reduce the elastic modulus of the first layer by 10% or more is used. It is preferable to do.
As the elastomer, polyurethane-based, acrylic-based, and polystyrene-based elastomers are preferable.
Specific examples include polyester urethane, a core shell made of a copolymer of MMA (methyl methacrylate) -BA (butyl acrylate), a block copolymer of MMA-BA, and a styrene / butadiene thermoplastic elastomer.

<溶剤>
本発明における第1層形成用硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
<Solvent>
The curable composition for forming a first layer in the present invention can contain a solvent. As the solvent, various solvents can be used in consideration of the solubility of the monomer, the drying property during coating, the dispersibility of the translucent particles, and the like. Examples of such organic solvents include dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole, dimethyl carbonate, carbonic acid. Methyl ethyl, diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, Methyl propionate, ethyl propionate, γ-ptyrolactone, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-metho Siethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, methyl acetoacetate and other methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, cyclohexyl Alcohol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, ethyl carbitol, butyl carbitol , Hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, benzene, tolu Examples thereof include ene and xylene, and these can be used alone or in combination of two or more.

上記の溶剤のうち、炭酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンのうち少なくとも1種類を用いることが好ましく、炭酸ジメチル、酢酸メチルの何れかを用いることがより好ましく、酢酸メチルを用いることが特に好ましい。   Among the above solvents, it is preferable to use at least one of dimethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetylacetone, and acetone, more preferably dimethyl carbonate or methyl acetate, and methyl acetate is used. It is particularly preferred.

第1層形成用硬化性組成物の固形分の濃度は1〜50質量%の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは1〜40質量%であり、更に好ましくは1〜30質量%である。   It is preferable to use a solvent so that the solid content concentration of the curable composition for forming the first layer is in the range of 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 40% by mass, and still more preferably 1 to 30%. % By mass.

{第2層(低透湿層)}
本発明の光学フィルムにおける第2層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である。
{Second layer (low moisture-permeable layer)}
The second layer in the optical film of the present invention contains at least one of a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond. It is a layer formed by curing the curable composition for forming a second layer.

〔環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物〕
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は、バインダーとして機能し得る。
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を用いることによって、低透湿性を実現でき、第1層や他の層と、第2層との密着性に優れ、更に偏光板の光漏れを防止できる。
詳細は明らかではないが、分子内に環状脂肪族炭化水素基を有する化合物を用いることで、第2層に疎水的な環状脂肪族炭化水素基を導入し、疎水化することで、外部から分子の取り込みを防止し、透湿度を低下させ得る。また、分子内にエチレン性不飽和二重結合を有することで、架橋点密度を上げ、第2層中の水分子の拡散経路を制限する。架橋点密度を上げることは、環状脂肪族炭化水素基の密度を相対的に上昇させる効果も有り、第2層内をより疎水的にし、水分子の吸着を防止し、透湿度を低下させると考えられる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は2以上であることがより好ましい。
[Compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond]
A compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond can function as a binder.
By using a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, low moisture permeability can be realized, and excellent adhesion between the first layer and other layers and the second layer can be achieved. Light leakage of the polarizing plate can be prevented.
Although details are not clear, by using a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group in the molecule, a hydrophobic cycloaliphatic hydrocarbon group is introduced into the second layer, and the molecule is made hydrophobic by making it hydrophobic. Can be prevented and moisture permeability can be reduced. Moreover, by having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, the crosslinking point density is increased and the diffusion path of water molecules in the second layer is restricted. Increasing the cross-linking point density also has the effect of relatively increasing the density of the cyclic aliphatic hydrocarbon group, making the inside of the second layer more hydrophobic, preventing the adsorption of water molecules, and reducing the moisture permeability. Conceivable.
In order to increase the crosslinking point density, the number of ethylenically unsaturated double bonds in the molecule is more preferably 2 or more.

環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数7以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数10以上の脂環式化合物から誘導される基であり、更に好ましくは炭素数12以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開2006−215096号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開2001−10999号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
The cyclic aliphatic hydrocarbon group is preferably a group derived from an alicyclic compound having 7 or more carbon atoms, more preferably a group derived from an alicyclic compound having 10 or more carbon atoms, and still more preferably Is a group derived from an alicyclic compound having 12 or more carbon atoms.
The cycloaliphatic hydrocarbon group is particularly preferably a group derived from a polycyclic compound such as bicyclic or tricyclic.
More preferably, the central skeleton of the compound described in the claims of JP-A No. 2006-215096, the central skeleton of the compound described in JP-A No. 2001-10999, or the skeleton of an adamantane derivative may be used.

環状脂肪族炭化水素基としては具体的には、ノルボルナン基、トリシクロデカン基、テトラシクロドデカン基、ペンタシクロペンタデカン基、アダマンタン基、ジアマンタン基等が挙げられる。   Specific examples of the cyclic aliphatic hydrocarbon group include a norbornane group, a tricyclodecane group, a tetracyclododecane group, a pentacyclopentadecane group, an adamantane group, and a diamantane group.

環状脂肪族炭化水素基(連結基含む)としては、下記一般式(I)〜(V)のいずれかで表される基が好ましく、下記一般式(I)、(II)、又は(IV)で表される基がより好ましく、下記一般式(I)又は(IV)で表される基が更に好ましい。   As the cyclic aliphatic hydrocarbon group (including a linking group), a group represented by any one of the following general formulas (I) to (V) is preferable, and the following general formula (I), (II), or (IV) The group represented by general formula (I) or (IV) is more preferable.

Figure 2016033623
Figure 2016033623

一般式(I)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表す。nは1〜3の整数を表す。   In general formula (I), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher valent linking group. n represents an integer of 1 to 3.

Figure 2016033623
Figure 2016033623

一般式(II)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表す。nは1〜2の整数を表す。   In general formula (II), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher valent linking group. n represents an integer of 1 to 2.

Figure 2016033623
Figure 2016033623

一般式(III)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表す。nは1〜2の整数を表す。   In general formula (III), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher valent linking group. n represents an integer of 1 to 2.

Figure 2016033623
Figure 2016033623

一般式(IV)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表し、L2は水素原子、単結合又は2価以上の連結基を表す。   In general formula (IV), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher linking group, and L2 represents a hydrogen atom, a single bond or a divalent or higher valent linking group.

Figure 2016033623
Figure 2016033623

一般式(V)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表す。
L、L1の2価以上の連結基としては、炭素数1〜6の置換されていてもよいアルキレン基、N位が置換されていてもよいアミド結合、N位が置換されていてもよいウレタン結合、エステル結合、オキシカルボニル基、エーテル結合等、及びこれらの2以上を組み合わせて得られる基が挙げられる。
In general formula (V), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher linking group.
As the divalent or higher linking group of L and L1, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted, an amide bond which may be substituted at the N position, and a urethane which may be substituted at the N position Examples include a bond, an ester bond, an oxycarbonyl group, an ether bond, and the like, and groups obtained by combining two or more thereof.

エチレン性不飽和二重結合としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましい。より好ましくは下記M−1からM−4で例示するような、1分子内に2つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。 Examples of the ethylenically unsaturated double bond include polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group and —C (O) OCH═CH 2 is preferred. More preferably, a compound containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule as exemplified by M-1 to M-4 below can be used.

環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に2個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、上記の環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基が連結基を介して結合することにより構成される。   The compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and having two or more ethylenically unsaturated double bonds in the molecule has the above-described cycloaliphatic hydrocarbon group and group having an ethylenically unsaturated double bond. It is configured by bonding through a linking group.

これらの化合物は、例えば、上記環状脂肪族炭化水素基を有するジオール、トリオール等のポリオールと、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有する化合物のカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体等との一段あるいは二段階の反応により容易に合成することができる。
好ましくは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロイルクロリド、(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリル酸グリシジルなどの化合物や、WO2012/00316A号記載の化合物(例、1、1―ビス(アクリロキシメチル)エチルイソシアナート)を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
These compounds include, for example, polyols such as diols and triols having the above cyclic aliphatic hydrocarbon groups, and carboxylic acids and carboxylic acid derivatives of compounds having (meth) acryloyl groups, vinyl groups, styryl groups, allyl groups, etc. It can be easily synthesized by a one-step or two-step reaction with an epoxy derivative, an isocyanate derivative or the like.
Preferably, compounds such as (meth) acrylic acid, (meth) acryloyl chloride, (meth) acrylic anhydride, glycidyl (meth) acrylate, and compounds described in WO2012 / 00316A (eg, 1,1-bis ( (Acryloxymethyl) ethyl isocyanate) can be synthesized by reacting with a polyol having the above cyclic aliphatic hydrocarbon group.

以下、環状脂肪族炭化水素基を有しエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the preferable specific example of the compound which has a cycloaliphatic hydrocarbon group and has an ethylenically unsaturated double bond is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2016033623
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Figure 2016033623
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〔フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物〕
第2層に含有し得る、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物はバインダーとして機能し得る。また、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となると同時に低透湿性を付与することができる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は2以上であることがより好ましい。
[Compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond]
A compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond that can be contained in the second layer can function as a binder. In addition, a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond can function as a curing agent, and can improve the strength and scratch resistance of the coating film and at the same time impart low moisture permeability. be able to.
In order to increase the crosslinking point density, the number of ethylenically unsaturated double bonds in the molecule is more preferably 2 or more.

フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は下記一般式(VI)で表されることが好ましい。   The compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond is preferably represented by the following general formula (VI).

Figure 2016033623
Figure 2016033623

式(VI)中、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、m、n、p及びqはそれぞれ独立に、0〜4の整数を表し、R及びRの少なくとも一方は、エチレン性不飽和二重結合を有する一価の有機基を表す。 In formula (VI), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a monovalent substituent, and m, n, p and q are each independently 0 to 0 4 represents an integer, and at least one of R 1 and R 2 represents a monovalent organic group having an ethylenically unsaturated double bond.

分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物として上記一般式(VI)の好ましい態様は下記一般式(VII)で表される。   A preferred embodiment of the general formula (VI) as a compound having a fluorene skeleton and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule is represented by the following general formula (VII).

Figure 2016033623
Figure 2016033623

式中、R、Rは水素又はメチル基を、r、sは0〜5の整数を示す。 In formula, R < 7 >, R < 8 > shows hydrogen or a methyl group, r, s shows the integer of 0-5.

環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかの含有量は、上記第2層形成用の硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、50〜99質量%であることが好ましく、透湿度低減の顕著性の観点から、50質量%より多く99質量%以下であることがより好ましく、55〜95質量%であることが更に好ましく、60〜90質量%であることが特に好ましい。
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合は合計の含有量が上記範囲であることが好ましい。
The content of at least one of the compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond and the compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond is determined by the curing for forming the second layer. When the total solid content of the adhesive composition is 100% by mass, it is preferably 50 to 99% by mass, and from the viewpoint of the remarkable reduction in moisture permeability, it is more than 50% by mass and 99% by mass or less. More preferably, it is more preferably 55 to 95% by mass, and particularly preferably 60 to 90% by mass.
At least one of a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond may be used alone, or 2 More than one species may be used in combination. When using 2 or more types together, it is preferable that total content is the said range.

[環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物]
本発明に用いる第2層形成用硬化性組成物中には、分子内に環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を本発明の効果を損なわない範囲において併用できる。
[Compounds having an ethylenically unsaturated double bond not having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and a fluorene ring]
In the curable composition for forming the second layer used in the present invention, a compound having an ethylenically unsaturated double bond that does not have a cyclic aliphatic hydrocarbon group and a fluorene ring in the molecule is impaired. Can be used in combination as long as no

環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さない(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   The compound having an ethylenically unsaturated double bond not having a cycloaliphatic hydrocarbon group and a fluorene ring is preferably a (meth) acrylate compound not having a cycloaliphatic hydrocarbon group and a fluorene ring, (Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols, (meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts , Epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and the like.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified Tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate and caprolactone-modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業(株)社製NKエステル A−TMMT、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開2009−98658号公報の段落[0114]〜[0122]に記載されており、本発明においても同様のものを用いることができる。   Commercially available polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group can be used, such as NK ester A-TMMT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Can be mentioned. The polyfunctional monomer is described in paragraphs [0114] to [0122] of JP-A-2009-98658, and the same can be used in the present invention.

環状脂肪族炭化水素基を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的には−OH、−SH、−NH−、−CHO、−CONH−、−OCONH−などが挙げられ、ウレタン(メタ)アクリレート類や水酸基を有する(メタ)アクリレート類が好ましい。市販されている(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業(株)社製NKオリゴ U4HA、同NKエステルA−TMM−3、日本化薬(株)製KAYARAD PET−30等を挙げることができる。
環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合の含有量は、上記第2層形成用の硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、全固形分に対し1〜30質量%であることが好ましく、2〜20質量%がより好ましく、3〜15質量%が更に好ましい。
The compound having an ethylenically unsaturated double bond that does not have a cycloaliphatic hydrocarbon group is a compound having a hydrogen bondable substituent, adhesion to the support, low curl, It is preferable from the viewpoint of fixability of fluorine or silicone compounds. The hydrogen-bonding substituent refers to a substituent in which an atom such as nitrogen, oxygen, sulfur, or halogen and a hydrogen bond are bonded by a covalent bond, specifically, —OH, —SH, —NH—, —CHO. , -CONH-, -OCONH- and the like, and urethane (meth) acrylates and (meth) acrylates having a hydroxyl group are preferred. Commercially available polyfunctional acrylates having a (meth) acryloyl group can also be used. Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Oligo U4HA, NK Ester A-TMM-3, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD PET-30 etc. can be mentioned.
Content in the case of containing the compound which has an ethylenically unsaturated double bond which does not have a cycloaliphatic hydrocarbon group and a fluorene ring is 100 mass of the total solid of the said curable composition for 2nd layer formation. % Is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 2 to 20% by mass, and still more preferably 3 to 15% by mass with respect to the total solid content.

〔ロジン化合物〕
第2層形成用硬化性組成物は、更に、ロジン化合物を含有することが好ましい。
ロジン化合物としては、具体的には、ロジン、水添ロジン(水素化ロジンとも称する)、酸変性ロジン及びエステル化ロジン(ロジンエステルとも称する)から選ばれる1種類以上であることが好ましい。
ロジンとしては、アビエチン酸、レボピマール酸、パルストリン酸、ネオアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、或いはジヒドロアビエチン酸など樹脂酸を主成分とするトール油ロジン、ガムロジン、ウッドロジンなどの未変性ロジンが挙げられる。
水添ロジンとは、上記ロジンを水素化したものをいう。テトラヒドロアビエチン酸等のテトラヒドロ体を高含量(例えば50質量%以上)含むもの等が挙げられる。酸変性ロジンとしては、ディールズ・アルダー付加反応によりマレイン酸、フマル酸やアクリル酸などの不飽和酸を付加した不飽和酸変性ロジンが挙げられ、より具体的にはロジンにマレイン酸を付加したマレオピマール酸、フマル酸を付加したフマロピマール酸、アクリル酸を付加したアクリロピマール酸等が挙げられる。エステル化ロジンとしては、ロジンのアルキルエステル、ロジンとグリセリンとをエステル化反応させて得られるグリセリンエステル、ロジンとペンタエリスリトールとをエステル化して得られるペンタエリスリトールエステル等が挙げられる。
[Rosin compound]
It is preferable that the curable composition for forming the second layer further contains a rosin compound.
Specifically, the rosin compound is preferably at least one selected from rosin, hydrogenated rosin (also referred to as hydrogenated rosin), acid-modified rosin and esterified rosin (also referred to as rosin ester).
Examples of the rosin include unmodified rosins such as tall oil rosin, gum rosin, and wood rosin mainly composed of a resin acid such as abietic acid, levopimaric acid, pastrinic acid, neoabietic acid, dehydroabietic acid, or dihydroabietic acid.
The hydrogenated rosin means a hydrogenated rosin. Examples include those containing a high content (for example, 50% by mass or more) of a tetrahydro compound such as tetrahydroabietic acid. Examples of acid-modified rosins include unsaturated acid-modified rosins in which unsaturated acids such as maleic acid, fumaric acid and acrylic acid have been added by Diels-Alder addition reaction, and more specifically, maleopimar in which maleic acid is added to rosin. Examples thereof include fumaropimaric acid added with acid and fumaric acid, acrylopimaric acid added with acrylic acid, and the like. Examples of esterified rosins include alkyl esters of rosin, glycerin esters obtained by esterifying rosin and glycerin, and pentaerythritol esters obtained by esterifying rosin and pentaerythritol.

上記ロジンエステルとしては、スーパーエステルE−720、スーパーエステルE−730−55、スーパーエステルE−650、スーパーエステルE−786−60、タマノルE−100、エマルジョンAM−1002、エマルジョンSE−50(以上全て商品名、特殊ロジンエステルエマルジョン、荒川化学工業(株)製)、スーパーエステルL、スーパーエステルA−18、スーパーエステルA−75、スーパーエステルA−100、スーパーエステルA−115、スーパーエステルA−125、スーパーエステルT−125(以上全て商品名、特殊ロジンエステル、荒川化学工業(株)製)等が挙げられる。
また、ロジンエステルとして、エステルガムAAG、エステルガムAAL、エステルガムA、エステルガムAAV、エステルガム105、エステルガムHS、エステルガムAT、エステルガムH、エステルガムHP、エステルガムHD、ペンセルA、ペンセルAD、ペンセルAZ、ペンセルC、ペンセルD−125、ペンセルD−135、ペンセルD−160、ペンセルKK(以上全て商品名、ロジンエステル系樹脂、荒川化学工業(株)製)、が挙げられる。
Examples of the rosin ester include super ester E-720, super ester E-730-55, super ester E-650, super ester E-786-60, tamanol E-100, emulsion AM-1002, emulsion SE-50 (and above). All trade names, special rosin ester emulsion, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.), Super Ester L, Super Ester A-18, Super Ester A-75, Super Ester A-100, Super Ester A-115, Super Ester A- 125, Superester T-125 (all trade names, special rosin esters, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) and the like.
As rosin esters, ester gum AAG, ester gum AAL, ester gum A, ester gum AAV, ester gum 105, ester gum HS, ester gum AT, ester gum H, ester gum HP, ester gum HD, Pencel A, Pencel AD, Pencel AZ, Pencel C, Pencel D-125, Pencel D-135, Pencel D-160, Pencel KK (all are trade names, rosin ester resins, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.).

更に、その他のロジンとしては、ロンヂスR、ロンヂスK−25、ロンヂスK−80、ロンヂスK−18(以上全て商品名、ロジン誘導体、荒川化学工業(株)製)パインクリスタルKR−85、パインクリスタルKR−120、パインクリスタルKR−612、パインクリスタルKR−614、パインクリスタルKE−100、パインクリスタルKE−311、パインクリスタルKE−359、パインクリスタルKE−604、パインクリスタル30PX、パインクリスタルD−6011、パインクリスタルD−6154、パインクリスタルD−6240、パインクリスタルKM−1500、パインクリスタルKM−1550(以上全て商品名、超淡色系ロジン誘導体、荒川化学工業(株)製)、アラダイムR−140、アラダイムR−95(以上全て商品名、重合ロジン、荒川化学工業(株)製)、ハイペールCH(以上全て商品名、水素化ロジン、荒川化学工業(株)製)、ビームセット101(以上全て商品名、ロジンアクリレート、荒川化学工業(株)製)等が挙げられる。   Furthermore, other rosins include Longis R, Longes K-25, Longis K-80, Longes K-18 (all trade names, rosin derivatives, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) Pine Crystal KR-85, Pine Crystal KR-120, pine crystal KR-612, pine crystal KR-614, pine crystal KE-100, pine crystal KE-311, pine crystal KE-359, pine crystal KE-604, pine crystal 30PX, pine crystal D-6011, Pine Crystal D-6154, Pine Crystal D-6240, Pine Crystal KM-1500, Pine Crystal KM-1550 (all trade names, ultra-light color rosin derivatives, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.), Aradym R-140, Aradym R-9 (All trade names, polymerized rosin, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), Hyper Pale CH (all trade names, hydrogenated rosin, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), beam set 101 (all trade names, rosin acrylate) And Arakawa Chemical Industries, Ltd.).

ロジン化合物の酸価は、150〜400mgKOH/gが好ましく、200〜400mgKOH/gであることがより好ましく、280〜400mgKOH/gであることが特に好ましい。基材フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合、ロジン化合物の酸価をこの範囲に制御することで硬化層の透湿度低減効果を維持しながら極めて良好な密着効果が得られる。
酸価が上記範囲のロジン化合物としては、前出の酸変性ロジンが挙げられ、特にマレイン酸やフマル酸をディールズ・アルダー反応で付加したロジン化合物が本発明では好ましく用いられる。
また、本発明においてロジン化合物は酸変性した後に水添処理をしたものを用いるのが好ましい。水添処理を施すことでロジン化合物の残存二重結合が第2層内で酸化されフィルムが着色することを防止することが出来る。
ロジン化合物の軟化点は、70〜170℃が好ましい。ロジン化合物の軟化点が70℃以上のであると、硬化層が柔らかくならずブロッキング性に優れる。軟化点が170℃未満であると溶剤に対する溶解性を保つことができ、硬化層のヘイズが上昇しづらい利点がある。
本発明においてロジン化合物の軟化点は、JIS K−2531の環球法により測定することができる。
ロジン化合物を添加する場合、その含有量は、上記第2層形成用の硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、1〜50質量%であることが好ましく、5〜40質量%であることがより好ましく、15〜30質量%であることが更に好ましい。
The acid value of the rosin compound is preferably 150 to 400 mgKOH / g, more preferably 200 to 400 mgKOH / g, and particularly preferably 280 to 400 mgKOH / g. When the substrate film is a cellulose acylate film, by controlling the acid value of the rosin compound within this range, a very good adhesion effect can be obtained while maintaining the moisture permeability reduction effect of the cured layer.
Examples of the rosin compound having an acid value in the above range include the above-mentioned acid-modified rosin. Particularly, a rosin compound obtained by adding maleic acid or fumaric acid by Diels-Alder reaction is preferably used in the present invention.
In the present invention, it is preferable to use a rosin compound that has been acid-modified and then hydrogenated. By performing the hydrogenation treatment, it is possible to prevent the remaining double bond of the rosin compound from being oxidized in the second layer and coloring the film.
The softening point of the rosin compound is preferably 70 to 170 ° C. When the softening point of the rosin compound is 70 ° C. or higher, the cured layer is not soft and has excellent blocking properties. When the softening point is less than 170 ° C., the solubility in a solvent can be maintained, and there is an advantage that the haze of the cured layer is difficult to increase.
In the present invention, the softening point of the rosin compound can be measured by the ring and ball method of JIS K-2531.
When the rosin compound is added, the content is preferably 1 to 50% by mass when the total solid content of the curable composition for forming the second layer is 100% by mass, and preferably 5 to 40%. The content is more preferably mass%, and further preferably 15-30 mass%.

[無機層状化合物]
本発明の第2層の透湿度を更に低減するためには、上述の第2層に用いることが可能なバインダー中に無機層状化合物を分散することも好ましい。無機層状化合物は親水性の表面を有するため、有機化処理することが好ましい。
[Inorganic layered compound]
In order to further reduce the moisture permeability of the second layer of the present invention, it is also preferable to disperse the inorganic layered compound in a binder that can be used for the second layer. Since the inorganic layered compound has a hydrophilic surface, it is preferably subjected to an organic treatment.

無機層状化合物とは、単位結晶層が積層した構造を有し、層間に溶剤を配位又は吸収することにより膨潤又はヘキ開する性質を示す無機化合物である。このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物(モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト等)、パームキュライト群粘土鉱物、カオリナイト群粘土鉱物、フィロケイ酸塩(マイカ等)などが例示できる。また、合成無機層状化合物も好ましく用いられ、合成無機層状化合物としては、合成スメクタイト(ヘクトライト、サポナイト、スティブンサイトなど)、合成マイカなどが挙げられ、スメクタイト、モンモリロナイト、マイカが好ましく、モンモリロナイト、マイカがより好ましい。市販品として使用できる無機層状化合物としては、MEB−3(コープケミカル(株)製合成マイカ水分散液)、ME−100(コープケミカル(株)製合成マイカ)、S1ME(コープケミカル(株)製合成マイカ)、SWN(コープケミカル(株)製合成スメクタイト)、SWF(コープケミカル(株)製合成スメクタイト)、クニピアF(クニミネ化学工業(株)製精製ベントナイト)、ベンゲル(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲルHV(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲルFW(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲル ブライト11(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲル ブライト23(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲル ブライト25(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲル A(ホージュン(株)製精製ベントナイト)、ベンゲル 2M(ホージュン(株)製精製ベントナイト)等を用いることができる。
また、かかる無機層状化合物は、これら無機層状化合物に有機化処理を施したものであることが好ましい。
上記有機化処理された無機層状化合物としては、特開2012−234094号公報段落0038〜0044に記載の有機化処理された無機層状化合物が挙げられる。
The inorganic layered compound is an inorganic compound having a structure in which unit crystal layers are laminated and exhibiting a property of swelling or cleaving by coordinating or absorbing a solvent between the layers. Examples of such inorganic compounds include swellable hydrous silicates such as smectite group clay minerals (montmorillonite, saponite, hectorite, etc.), palm curite group clay minerals, kaolinite group clay minerals, phyllosilicates (mica). Etc.). In addition, a synthetic inorganic layered compound is also preferably used. Examples of the synthetic inorganic layered compound include synthetic smectite (hectorite, saponite, stevensite, etc.), synthetic mica, etc., preferably smectite, montmorillonite, mica, montmorillonite, mica. Is more preferable. As an inorganic layered compound that can be used as a commercial product, MEB-3 (Synthetic mica aqueous dispersion manufactured by Corp Chemical Co., Ltd.), ME-100 (Synthetic mica manufactured by Corp Chemical Co., Ltd.), S1ME (manufactured by Corp Chemical Co., Ltd.) Synthetic mica), SWN (Synthetic smectite manufactured by Corp Chemical Co., Ltd.), SWF (Synthetic smectite manufactured by Corp Chemical Co., Ltd.), Kunipia F (Purified bentonite manufactured by Kunimine Chemical Co., Ltd.), Bengel (Purified by Hojun Co., Ltd.) Bentonite), Wengel HV (Purified bentonite manufactured by Hojung Co., Ltd.), Wenger FW (Purified bentonite manufactured by Hojun Co., Ltd.), Wenger Bright 11 (Purified bentonite manufactured by Hojun Co., Ltd.), Wenger Bright 23 (Purified manufactured by Hojun Co., Ltd.) Bentonite), Wenger Bright 25 (Hojung Co., Ltd.) Purification bentonite), Wenger A (HOJUN Co. purification bentonite), can be used Wenger 2M (HOJUN Co. purified bentonite) or the like.
Such inorganic layered compounds are preferably those obtained by subjecting these inorganic layered compounds to organic treatment.
Examples of the organic layered inorganic layered compound include the organic layered inorganic layered compounds described in JP-A-2012-234094, paragraphs 0038 to 0044.

[重合開始剤]
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び/又は分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物には、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
[Polymerization initiator]
The composition containing a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule and / or a compound having a fluorene skeleton and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule includes a polymerization initiator. It is preferable to contain. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator is preferable.
As photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, Examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins. Specific examples, preferred embodiments, commercially available products, and the like of the photopolymerization initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, and can be suitably used in the present invention as well. it can.

「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159, and “UV Curing System” written by Kiyomi Kato (published by the General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、BASF社製(旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)の「イルガキュア651」、「イルガキュア184」、「イルガキュア819」、「イルガキュア907」、「イルガキュア1870」(CGI−403/イルガキュア184=7/3混合開始剤)、「イルガキュア500」、「イルガキュア369」、「イルガキュア1173」、「イルガキュア2959」、「イルガキュア4265」、「イルガキュア4263」、「イルガキュア127」、“OXE01”等;日本化薬(株)製の「カヤキュアーDETX−S」、「カヤキュアーBP−100」、「カヤキュアーBDMK」、「カヤキュアーCTX」、「カヤキュアーBMS」、「カヤキュアー2−EAQ」、「カヤキュアーABQ」、「カヤキュアーCPTX」、「カヤキュアーEPD」、「カヤキュアーITX」、「カヤキュアーQTX」、「カヤキュアーBTC」、「カヤキュアーMCA」など;サートマー社製の“Esacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KTO46,KT37,KIP150,TZT)”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。   Commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include “Irgacure 651”, “Irgacure 184”, “Irgacure 819”, “Irgacure 907” manufactured by BASF (formerly Ciba Specialty Chemicals), “Irgacure 1870” (CGI-403 / Irgacure 184 = 7/3 mixed initiator), “Irgacure 500”, “Irgacure 369”, “Irgacure 1173”, “Irgacure 2959”, “Irgacure 4265”, “Irgacure 4263”, “Irgacure 127”, “OXE01”, etc .; “Kaya Cure DETX-S”, “Kaya Cure BP-100”, “Kaya Cure BDK”, “Kaya Cure BTX”, “Kaya Cure BMS”, “Kaya Cure 2” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. -EAQ "," Kayaki " “AraQ”, “Kayacure CPTX”, “Kayacure EPD”, “Kayacure ITX”, “Kayacure QTX”, “Kayacure BTC”, “Kayacure MCA”, etc .; “Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, BP, manufactured by Sartomer) X33, KTO46, KT37, KIP150, TZT) "and the like, and combinations thereof are preferable examples.

本発明に用いられる分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び/又は分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物中の光重合開始剤の含有量は、上記組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   In a composition containing a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule and / or a compound having a fluorene skeleton and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule used in the present invention The content of the photopolymerization initiator is polymerized from the polymerizable compound contained in the composition, and is set so that the starting point does not increase too much, with respect to the total solid content in the composition, 0.5-8 mass% is preferable and 1-5 mass% is more preferable.

[紫外線吸収剤]
第2層を含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示装置部材に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、第2層に紫外線吸収剤を含有することで、光学フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
紫外線吸収剤としては、公知のものを用いることができる。例えば、特開2001−72782号公報や特表2002−543265号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例、及び好ましい例としては、{基材フィルム}<紫外線吸収剤>の項において後述する紫外線吸収剤の具体例、及び好ましい例と同様のものが挙げられる。
[Ultraviolet absorber]
The optical film of the present invention including the second layer is used for a polarizing plate or a liquid crystal display device member, but from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal, by containing an ultraviolet absorber in the second layer, It is also possible to impart ultraviolet absorptivity to the optical film.
A well-known thing can be used as a ultraviolet absorber. For example, the ultraviolet absorber as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-72782 and Special Table 2002-543265 is mentioned. Specific examples and preferred examples of the ultraviolet absorber include those similar to the specific examples and preferred examples of the ultraviolet absorber described later in the section of {Substrate film} <ultraviolet absorber>.

[溶剤]
本発明における第2層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、第1層形成用硬化性組成物と同様の各種溶剤を用いることができる。
[solvent]
The composition for 2nd layer formation in this invention can contain a solvent. As the solvent, various solvents similar to the curable composition for forming the first layer can be used.

第2層形成用の硬化性組成物の固形分の濃度は20〜80質量%の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは30〜75質量%であり、更に好ましくは40〜70質量%である。   It is preferable to use a solvent such that the solid content of the curable composition for forming the second layer is in the range of 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, and still more preferably 40 to 40% by mass. 70% by mass.

(第2層の膜厚)
第2層(低透湿層)の膜厚は、0.5〜25μmであることが好ましく、1〜20μmであることがより好ましく、2〜18μmであることが更に好ましく、3〜17μmであることが特に好ましい。
(Film thickness of the second layer)
The film thickness of the second layer (low moisture permeable layer) is preferably 0.5 to 25 μm, more preferably 1 to 20 μm, further preferably 2 to 18 μm, and 3 to 17 μm. It is particularly preferred.

(第2層の透湿度)
複合フィルムの気体透過式より(例えば、「包装材料のバリア性の科学(包装学基礎講座5)」p68〜72 仲川勤著 日本包装学会)、定常状態の光学フィルムの透湿度をJ、基材フィルムと第1層との積層体の透湿度をJ、光学フィルムを、基材フィルムと第1層との積層体と、第2層とに分離したときの第2層の透湿度をJとしたときに、以下の式が成り立つ。
1/J=1/J+1/J ・・・・・式(1)
光学フィルムの透湿度Jと基材フィルムと第1層との積層体の透湿度Jは直接測定することができ、それらの測定値を基に、第2層の透湿度Jを計算で求めることができる。
本発明において、第2層の透湿度が5.0〜120g/m/dayであることが好ましい。
(Water permeability of the second layer)
From the gas transmission type of the composite film (e.g., "barrier of Science of the packaging material (packaging Fundamental Course 5)" p68~72 Tsutomu Nakagawa al Japan Packaging Institute), the moisture permeability of the optical film of the steady state J f, group The moisture permeability of the laminate of the material film and the first layer is J s , and the moisture permeability of the second layer when the optical film is separated into the laminate of the base film and the first layer and the second layer is when a J b, the following equation holds.
1 / J f = 1 / J s + 1 / J b (1)
The moisture permeability J f of the optical film and the moisture permeability J s of the laminate of the base film and the first layer can be directly measured, and the moisture permeability J b of the second layer is calculated based on those measured values. Can be obtained.
In the present invention, the moisture permeability of the second layer is preferably 5.0 to 120 g / m 2 / day.

(第2層の単位膜厚当たりの透湿度)
一般に定常状態に於ける透湿度は膜厚に反比例することが知られている。従って、上記膜厚の範囲で第2層が到達できる透湿度は材料の特性値である単位膜厚当たりの透湿度で決まり、その値が小さいほどより低透湿度に到達することができる。一方、上記の関係を基に第2層の膜厚調整で透湿度の調整をすることができるが、単位膜厚当たりの透湿度が低過ぎると光学フィルムの透湿度の制御が難しくなる。
両者を考慮して、第2層の膜厚10μmあたりの透湿度は5.0〜120g/m/dayが好ましく、10〜120g/m/dayがより好ましく、20〜100g/m/dayがより好ましく、30〜80g/m/dayが特に好ましい。
(透湿度は、JIS Z−0208の手法で、40℃、相対湿度90%で24時間経過後の値である。)
なお、第2層の膜厚10μmにあたりの透湿度は、基材フィルムと第1層との積層体の透湿度、光学フィルムの透湿度、第2層の膜厚から以下のように見積もられる。
(Moisture permeability per unit film thickness of the second layer)
It is generally known that the moisture permeability in a steady state is inversely proportional to the film thickness. Accordingly, the moisture permeability that the second layer can reach within the above-mentioned film thickness range is determined by the moisture permeability per unit film thickness, which is a characteristic value of the material. The smaller the value, the lower the moisture permeability. On the other hand, the moisture permeability can be adjusted by adjusting the film thickness of the second layer based on the above relationship, but if the moisture permeability per unit film thickness is too low, it becomes difficult to control the moisture permeability of the optical film.
In view of both moisture permeability per thickness 10μm of the second layer is preferably 5.0~120g / m 2 / day, more preferably 10~120g / m 2 / day, 20~100g / m 2 / Day is more preferable, and 30 to 80 g / m 2 / day is particularly preferable.
(The moisture permeability is a value after 24 hours at 40 ° C. and 90% relative humidity by the method of JIS Z-0208.)
The moisture permeability per 10 μm of the thickness of the second layer is estimated as follows from the moisture permeability of the laminate of the base film and the first layer, the moisture permeability of the optical film, and the thickness of the second layer.

第2層の膜厚10μmに対する透湿度C(10μm)は上記で算出したJを基に以下の式で表すことができる。
(10μm)=J×d/10 [g/m/day]・・・・・式(2)
(ここで、d[μm]は第2層の膜厚であり、上記の通り、第2層積層前後の膜厚差から求めることができる。)
The moisture permeability C b (10 μm) for the film thickness of the second layer of 10 μm can be expressed by the following formula based on J b calculated above.
C b (10 μm) = J b × d b / 10 [g / m 2 / day] (2)
(Here, d b [μm] is the film thickness of the second layer, and can be determined from the film thickness difference before and after the second layer lamination as described above.)

本発明の光学フィルムの第2層は透湿度ハードコート層機能、反射防止機能、防汚機能などを併せて持たせることも好ましい。   The second layer of the optical film of the present invention preferably has a moisture permeable hard coat layer function, an antireflection function, an antifouling function, and the like.

{基材フィルム}
[基材フィルムの材質]
基材フィルムを形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、等方性などに優れるポリマーが好ましい。本発明でいう透明とは、可視光の透過率が60%以上であることを示し、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等の(メタ)アクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は上記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
{Base film}
[Material of base film]
As a material for forming the base film, a polymer excellent in optical performance transparency, mechanical strength, thermal stability, isotropy and the like is preferable. The term “transparent” as used in the present invention indicates that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. Examples include polycarbonate polymers, polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, (meth) acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, and styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymers (AS resin). It is done. Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyolefin polymers such as ethylene / propylene copolymers, vinyl chloride polymers, amide polymers such as nylon and aromatic polyamide, imide polymers, sulfone polymers, polyethersulfone polymers Examples thereof include polyether ether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers, epoxy polymers, and polymers obtained by mixing the above polymers. The polymer film of the present invention can also be formed as a cured layer of an ultraviolet-curable or thermosetting resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone.

また、基材フィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー(特に好ましくは、セルロースアシレート)も好ましく用いることができる。また、近年偏光板保護フィルムとして導入が提案されているアクリル系フィルムにも好ましく用いることができる。以下に、本発明の基材フィルムの例として、主にセルロースアシレートと(メタ)アクリル系ポリマーについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できる。   In addition, as a material for forming the base film, a cellulose polymer (particularly preferably, cellulose acylate) represented by triacetyl cellulose, which has been conventionally used as a transparent protective film of a polarizing plate, is preferably used. it can. Moreover, it can use preferably also for the acrylic-type film which introduction | transduction is proposed as a polarizing plate protective film in recent years. Hereinafter, as an example of the base film of the present invention, cellulose acylate and (meth) acrylic polymer are mainly described in detail, but the technical matters can be similarly applied to other polymer films.

[セルロースアシレート置換度]
次に上述のセルロースを原料に製造されるセルロースアシレートについて記載する。セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が2のアセチル基から炭素原子数が22のものまでいずれも用いることができる。基材フィルムの材料として用いられるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、セルロースの水酸基をアシル化する酢酸及び/又は炭素原子数3〜22のカルボン酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ASTMのD−817−91に準じて実施することが出来る。
[Substitution degree of cellulose acylate]
Next, the cellulose acylate produced from the above cellulose will be described. Cellulose acylate is obtained by acylating a hydroxyl group of cellulose, and the substituent can be any acetyl group having 2 carbon atoms in the acyl group to those having 22 carbon atoms. In the cellulose acylate used as the material for the base film, the substitution degree of the acyl group to the hydroxyl group of cellulose is not particularly limited, but acetic acid and / or carboxylic acid having 3 to 22 carbon atoms for acylating the hydroxyl group of cellulose. The degree of substitution can be measured and the degree of substitution can be obtained by calculation. As a measuring method, it can carry out according to ASTM D-817-91.

セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、2.50〜3.00であることが好ましく、2.75〜3.00であることがより好ましく、2.85〜3.00であることが更に好ましい。   Although the substitution degree of the acyl group to the hydroxyl group of cellulose is not particularly limited, it is preferably 2.50 to 3.00, more preferably 2.75 to 3.00, and 2.85 to 3.00. More preferably.

セルロースの水酸基をアシル化する酢酸及び/又は炭素原子数3〜22のカルボン酸としては、脂肪族カルボン酸でも芳香族カルボン酸でもよく、単一でも2種類以上の混合物でもよい。これらによりアシル化されたセルロースエステルとしては、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、n−ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、iso−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、t−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、n−ブタノイル基がより好ましい。   Acetic acid and / or carboxylic acid having 3 to 22 carbon atoms for acylating the hydroxyl group of cellulose may be an aliphatic carboxylic acid or an aromatic carboxylic acid, and may be a single or a mixture of two or more. Examples of the cellulose ester acylated by these include alkylcarbonyl ester, alkenylcarbonyl ester, aromatic carbonyl ester, aromatic alkylcarbonyl ester and the like of cellulose, and each may further have a substituted group. Preferred acyl groups include acetyl, propionyl, n-butanoyl, heptanoyl, hexanoyl, octanoyl, decanoyl, dodecanoyl, tridecanoyl, tetradecanoyl, hexadecanoyl, and octadecanoyl. , Iso-butanoyl group, cyclohexanecarbonyl group, oleoyl group, benzoyl group, naphthylcarbonyl group, cinnamoyl group and the like. Among these, acetyl group, propionyl group, butanoyl group, dodecanoyl group, octadecanoyl group, t-butanoyl group, oleoyl group, benzoyl group, naphthylcarbonyl group, cinnamoyl group and the like are preferable, and acetyl group, propionyl group, n -A butanoyl group is more preferred.

<セルロースアシレート系基材フィルム>
[セルロースアシレートの重合度]
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で180〜700であり、セルロースアセテートにおいては、180〜550がより好ましく、180〜400が更に好ましく、180〜350が特に好ましい。
<Cellulose acylate base film>
[Degree of polymerization of cellulose acylate]
The degree of polymerization of cellulose acylate preferably used in the present invention is 180 to 700 in terms of viscosity average polymerization degree, and in cellulose acetate, 180 to 550 is more preferable, 180 to 400 is more preferable, and 180 to 350 is particularly preferable. .

上記基材フィルムは、(メタ)アクリル系ポリマーであることも好ましく、主鎖にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも1種を有する(メタ)アクリル系ポリマーであることがより好ましい。   The base film is preferably a (meth) acrylic polymer, and a (meth) acrylic polymer having at least one of a lactone ring structure, a glutaric anhydride ring structure, and a glutarimide ring structure in the main chain. It is more preferable that

なお、(メタ)アクリル系ポリマーは、メタクリル系重合体とアクリル系ポリマーの両方を含む概念である。また、(メタ)アクリル系ポリマーには、アクリレート/メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル/メタクリレートエステルの(共)重合体も含まれる。   The (meth) acrylic polymer is a concept including both a methacrylic polymer and an acrylic polymer. The (meth) acrylic polymer also includes acrylate / methacrylate derivatives, particularly acrylate / methacrylate (co) polymers.

<(メタ)アクリル系ポリマー>
基材フィルムは、(メタ)アクリル系ポリマーから形成されることも好ましい。
<(Meth) acrylic polymer>
The base film is also preferably formed from a (meth) acrylic polymer.

本発明で好ましく用いられる(メタ)アクリル系ポリマーについては、繰り返し構造単位として(メタ)アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を主鎖に有し、主鎖には更にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも1種を有していてもよい。   The (meth) acrylic polymer preferably used in the present invention has a repeating structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer as a repeating structural unit in the main chain. It may have at least one of a glutaric acid ring structure and a glutarimide ring structure.

(メタ)アクリル系ポリマーは、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸及び下記一般式(201)で表される単量体から選ばれる少なくとも1種を重合して得られる繰り返し構造単位を含んでいてもよい。   The (meth) acrylic polymer is obtained by polymerizing at least one selected from a hydroxyl group-containing monomer, an unsaturated carboxylic acid, and a monomer represented by the following general formula (201) as a repeating structural unit. The repeating structural unit may be included.

一般式(201)
CH=C(X)R201
式中、R201は水素原子又はメチル基を表し、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、−CN基、−CO−R202基、又は−O−CO−R203基を表し、R202及びR203は各々独立に水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。
General formula (201)
CH 2 = C (X) R 201
In the formula, R 201 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a —CN group, a —CO—R 202 group, or —O—CO—R 203. R 202 and R 203 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms.

(メタ)アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル;などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは10〜100質量%、より好ましくは10〜100質量%、更に好ましくは40〜100質量%、特に好ましくは50〜100質量%である。
Although it does not specifically limit as (meth) acrylic acid ester, For example, acrylics, such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, etc. Acid esters; methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and benzyl methacrylate; May be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl methacrylate is particularly preferable from the viewpoint of excellent heat resistance and transparency.
When (meth) acrylic acid ester is used, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 10 to 10%, in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. 100 mass%, More preferably, it is 40-100 mass%, Most preferably, it is 50-100 mass%.

水酸基含有単量体としては、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルなどの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸エステル;2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸などの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸;などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。
Examples of the hydroxyl group-containing monomer include α-hydroxymethyl styrene, α-hydroxyethyl styrene, 2- (hydroxyethyl) acrylic acid ester such as methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate; 2- (hydroxyethyl) acrylic acid, and the like. 2- (hydroxyalkyl) acrylic acid; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
In the case of using a hydroxyl group-containing monomer, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20%, in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. It is 0 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。
Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-substituted acrylic acid, α-substituted methacrylic acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more. May be. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are preferable in that the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
When using an unsaturated carboxylic acid, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20% by mass, in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. %, More preferably 0 to 15% by mass, particularly preferably 0 to 10% by mass.

一般式(201)で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
一般式(201)で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。
Examples of the monomer represented by the general formula (201) include styrene, vinyl toluene, α-methyl styrene, acrylonitrile, methyl vinyl ketone, ethylene, propylene, and vinyl acetate. These are used alone. Or two or more of them may be used in combination. Among these, styrene and α-methylstyrene are particularly preferable in that the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
When the monomer represented by the general formula (201) is used, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. More preferably, it is 0-20 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

[主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系ポリマー]
(メタ)アクリル系ポリマーの中でも主鎖に環構造を有するものが好ましい。主鎖に環構造を導入することで、主鎖の剛直性を高め、耐熱性を向上することができる。
主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系ポリマーの中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体、主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体、主鎖にグルタルイミド環構造を有する重合体のいずれかであることが好ましい。中でも主鎖にラクトン環構造を形成する重合体であることがより好ましい。
以下のこれらの主鎖に環構造を有する重合体について順に説明する。
[(Meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain]
Among (meth) acrylic polymers, those having a ring structure in the main chain are preferred. By introducing a ring structure into the main chain, the rigidity of the main chain can be improved and the heat resistance can be improved.
Among (meth) acrylic polymers having a ring structure in the main chain, a polymer having a lactone ring structure in the main chain, a polymer having a glutaric anhydride ring structure in the main chain, and a polymer having a glutarimide ring structure in the main chain It is preferably any one of coalesces. Among them, a polymer that forms a lactone ring structure in the main chain is more preferable.
The following polymers having a ring structure in these main chains will be described in order.

(主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系ポリマー)
主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系ポリマー(以降ラクトン環含有重合体とも称す)は、主鎖にラクトン環を有する(メタ)アクリル系ポリマーであり、特開2006−096960号公報、特開2007−063541号公報等に記載された樹脂を用いることができる。
((Meth) acrylic polymer with lactone ring structure in the main chain)
A (meth) acrylic polymer having a lactone ring structure in the main chain (hereinafter also referred to as a lactone ring-containing polymer) is a (meth) acrylic polymer having a lactone ring in the main chain, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-096960, Resins described in JP 2007-066351 A can be used.

(主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体)
主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体とは、グルタル酸無水物単位を有する重合体であり、特開2009−210905号公報、特開2009−030001号公報等に記載された樹脂を用いることができる。
(Polymer having glutaric anhydride ring structure in the main chain)
The polymer having a glutaric anhydride ring structure in the main chain is a polymer having a glutaric anhydride unit, and uses a resin described in JP 2009-210905 A, JP 2009-030001 A, or the like. be able to.

(主鎖にグルタルイミド環構造を有する(メタ)アクリル系ポリマー)
主鎖にグルタルイミド環構造を有する(メタ)アクリル系ポリマー(以降グルタルイミド系樹脂とも称す)は、主鎖にグルタルイミド環構造を有することによって光学特性や耐熱性などの点で好ましい特性バランスを発現できる。
((Meth) acrylic polymer with glutarimide ring structure in the main chain)
A (meth) acrylic polymer having a glutarimide ring structure in the main chain (hereinafter also referred to as a glutarimide resin) has a desirable balance of properties in terms of optical properties and heat resistance by having a glutarimide ring structure in the main chain. It can be expressed.

グルタルイミド系樹脂は、米国特許3284425号、米国特許4246374号、特開平2−153904号公報等に記載されており、イミド化可能な単位を有する樹脂としてメタクリル酸メチルエステルなどを主原料として得られる樹脂を用い、上記イミド化可能な単位を有する樹脂をアンモニアまたは置換アミンを用いてイミド化することにより得ることができる。   The glutarimide resin is described in US Pat. No. 3,284,425, US Pat. No. 4,246,374, JP-A-2-153904, and the like, and is obtained by using methyl methacrylate as a main raw material as a resin having an imidizable unit. The resin can be obtained by imidizing a resin having a unit capable of imidization with ammonia or a substituted amine.

[紫外線吸収剤]
上記基材フィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。上記基材フィルムを含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。例えば、特開2001−72782号公報や特表2002−543265号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
[Ultraviolet absorber]
The ultraviolet absorber preferably used for the substrate film will be described. The optical film of the present invention including the base film is used for a polarizing plate or a liquid crystal display member, and an ultraviolet absorber is preferably used from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties. Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used in combination. For example, the ultraviolet absorber as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-72782 and Special Table 2002-543265 is mentioned. Specific examples of the ultraviolet absorber include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like.

その中でも、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)、(2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、(2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に(2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、(2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。   Among them, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′- Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3 -Tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methyl) Enyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy) -5-benzoylphenylmethane), (2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2 (2 '-Hydroxy-3', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, (2 (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1 , 3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4- Hydroxy-hydrocinnamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxybenzyl) -isocyanurate and the like. In particular, (2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2 (2′-hydroxy-3 ′, 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, (2 (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,6-di -Tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl -5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], for example, N, N'-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4 Hydroxyphenyl) may be used in combination with phosphorus-based processing stabilizer such as metal hydrazine systems such as propionyl] hydrazine deactivator and tris (2,4-di -tert- butylphenyl) phosphite.

紫外線吸収剤は、紫外線吸収能を有する構成単位として樹脂に導入することもできる。例えば、重合性基を導入したベンゾトリアゾール誘導体、トリアジン誘導体又はベンゾフェノン誘導体である。導入する重合性基は、樹脂が有する構成単位に応じて、適宜選択できる。   An ultraviolet absorber can also be introduce | transduced into resin as a structural unit which has an ultraviolet absorptivity. For example, a benzotriazole derivative, a triazine derivative or a benzophenone derivative into which a polymerizable group is introduced. The polymerizable group to be introduced can be appropriately selected according to the structural unit of the resin.

単量体の具体例は、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシ)エチルフェニル−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学製、商品名RUVA−93)、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシ)フェニル−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メタクリロイルオキシ)フェニル−2H−ベンゾトリアゾールである。   Specific examples of the monomer include 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloyloxy) ethylphenyl-2H-benzotriazole (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., trade name RUVA-93), 2- (2′-hydroxy-5) '-Methacryloyloxy) phenyl-2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methacryloyloxy) phenyl-2H-benzotriazole.

[その他の添加剤]
上記基材フィルムには、マット剤、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤などの添加剤を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば20℃以下と20℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開2001−151901号公報などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開2001−194522号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開2001−151902号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて16頁〜22頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
[Other additives]
To the base film, additives such as a matting agent, a retardation developing agent, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a deterioration preventing agent, a release agent, an infrared absorber, and a wavelength dispersion adjusting agent can be added. However, it may be an oily substance. That is, the melting point and boiling point are not particularly limited. For example, mixing of ultraviolet absorbing material at 20 ° C. or lower and 20 ° C. or higher, and similarly, mixing of a plasticizer is described in, for example, JP-A-2001-151901. Furthermore, infrared absorbing dyes are described in, for example, JP-A-2001-194522. Moreover, the addition time may be added at any time in the dope preparation step, but may be added by adding an additive to the final preparation step of the dope preparation step. Furthermore, the amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested. Moreover, when an optical film is formed from a multilayer, the kind and addition amount of the additive of each layer may differ. For example, although it describes in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-151902 etc., these are techniques conventionally known. For these details, materials described in detail on pages 16 to 22 in the Japan Institute of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical No. 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention) are preferably used.

また上記基材フィルムには、ゴム状粒子を含有しても良い。たとえば、軟質アクリル系樹脂、アクリルゴム、及び、ゴム−アクリル系グラフト型コアシェルポリマーなどアクリル粒子、又はスチレン−エラストマー共重合体があげられる。更に、特公昭60−17406、特公平3−39095号公報等に記載の、耐衝撃性、耐応力白化性が改善する添加剤も好ましく用いられる。   The base film may contain rubber-like particles. Examples thereof include acrylic particles such as a soft acrylic resin, acrylic rubber, and rubber-acrylic graft type core-shell polymer, or styrene-elastomer copolymers. Furthermore, additives that improve impact resistance and stress whitening resistance described in JP-B-60-17406, JP-B-3-39095 and the like are also preferably used.

上記基材フィルムにおいては、これらの添加剤を添加する場合、添加剤の総量は、基材フィルムに対して50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることが好ましい。
これらの添加剤により、フィルムの脆性が改良され、フィルムの耐折試験(180度折り曲げ時の割れ評価など)が大幅に改善する。
また、低ヘイズを達成するためには、上記添加物の屈折率は基材フィルムと略同一の屈折率を持つ事が好ましく、屈折率差は0.5以下が好ましく、0.3以下がより好ましい。
In the said base film, when adding these additives, it is preferable that the total amount of an additive is 50 mass% or less with respect to a base film, and it is preferable that it is 30 mass% or less.
These additives improve the brittleness of the film and greatly improve the folding resistance test of the film (e.g., crack evaluation when bent 180 degrees).
In order to achieve low haze, the refractive index of the additive preferably has substantially the same refractive index as the base film, and the refractive index difference is preferably 0.5 or less, more preferably 0.3 or less. preferable.

<基材フィルムの特性>
(基材フィルムの厚さ)
上記基材フィルムの膜厚は、5〜100μmが好ましく、10〜80μmがより好ましく、15〜70μmが特に好ましく、20〜60μmがより特に好ましい。膜厚を上記の範囲に制御することで、第2層を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラを小さくすることができる。
<Characteristics of base film>
(Base film thickness)
The film thickness of the substrate film is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, particularly preferably 15 to 70 μm, and particularly preferably 20 to 60 μm. By controlling the film thickness within the above range, it is possible to reduce the environment in which the liquid crystal display device is placed after the second layer is stacked, that is, the unevenness of the panel due to temperature and humidity changes.

(基材フィルムの透湿度)
上記基材フィルムの透湿度は、JIS Z−0208をもとに、40℃、相対湿度90%の条件において測定される。
上記基材フィルムの透湿度は、300g/m/day以下であることが好ましく、250g/m/day以下であることがより好ましく、200g/m/day以下であることが更に好ましく、150g/m/day以下であることが特に好ましい。基材フィルムの透湿度を上記範囲に制御することで、第1層及び第2層を積層した本発明の光学フィルムを搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、光漏れを抑制できる。
(Water vapor permeability of base film)
The moisture permeability of the base film is measured under conditions of 40 ° C. and 90% relative humidity based on JIS Z-0208.
The moisture permeability of the substrate film is preferably 300 g / m 2 / day or less, more preferably 250 g / m 2 / day or less, still more preferably 200 g / m 2 / day or less, It is especially preferable that it is 150 g / m 2 / day or less. By controlling the moisture permeability of the base film within the above range, the liquid crystal display device equipped with the optical film of the present invention in which the first layer and the second layer are stacked is subjected to normal temperature, high humidity and high temperature and high humidity environment over time. Liquid crystal cell warpage and light leakage can be suppressed.

(基材フィルムの単位膜厚当たりの透湿度)
第2層の(単位膜厚当たりの透湿度)で説明したように、基材フィルム10μmの透湿度は以下の式で与えられる。
(10μm)=J×d/10 [g/m/day]
(ここで、d[μm]は基材フィルムの膜厚であり、Jは基材フィルムの透湿度である。)
基材フィルムの膜厚が10μmに対する透湿度は50〜2000g/m/dayが好ましく、80〜1500g/m/dayがより好ましく、100〜1000g/m/dayがより好ましく、150〜800g/m/dayが特に好ましい。
(透湿度は、JIS Z−0208の手法で、40℃、相対湿度90%で24時間経過後の値である。)
下限値以上で充分な低透湿効果が得られ、上限値以下でカールを抑止できる。
(Moisture permeability per unit film thickness of base film)
As described in the second layer (moisture permeability per unit film thickness), the moisture permeability of the base film 10 μm is given by the following equation.
C s (10 μm) = J s × d s / 10 [g / m 2 / day]
(Here, d s [μm] is the film thickness of the base film, and J s is the moisture permeability of the base film.)
Moisture permeability is preferably 50~2000g / m 2 / day film thickness of the substrate film for 10 [mu] m, more preferably 80~1500g / m 2 / day, more preferably 100~1000g / m 2 / day, 150~800g / M 2 / day is particularly preferred.
(The moisture permeability is a value after 24 hours at 40 ° C. and 90% relative humidity by the method of JIS Z-0208.)
A sufficient low moisture permeability effect is obtained above the lower limit, and curling can be suppressed below the upper limit.

(基材フィルムの酸素透過係数)
透湿度を低減するためには、フィルム中の水の拡散を抑える事が好ましく、すなわちフィルムの自由体積を下げる事が好ましい。一般的にフィルムの自由体積はフィルムの酸素透過係数と相関する。
上記基材フィルムの酸素透過係数は、100cc・mm/(m・day・atm)以下が好ましく、30cc・mm/(m・day・atm)以下がより好ましい。
(Oxygen permeability coefficient of base film)
In order to reduce moisture permeability, it is preferable to suppress the diffusion of water in the film, that is, it is preferable to reduce the free volume of the film. In general, the free volume of the film correlates with the oxygen permeability coefficient of the film.
The oxygen permeability coefficient of the base film is preferably 100 cc · mm / (m 2 · day · atm) or less, and more preferably 30 cc · mm / (m 2 · day · atm) or less.

(基材フィルムの平衡含水率)
上記基材フィルムの含水率(平衡含水率)は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性熱可塑性との接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、25℃、相対湿度80%における含水率が、0〜4質量%であることが好ましい。0〜2.5質量%であることがより好ましく、0〜1.5質量%であることが更に好ましい。平衡含水率が4質量%以下であれば、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなり過ぎず、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の光漏れを抑止の点からも好ましい。
含水率の測定は、フィルム試料7mm×35mmを水分測定器、試料乾燥装置“CA−03”及び“VA−05”{共に三菱化学(株)製}にて、カールフィッシャー法により水分量(g)を求めた後、水分量(g)を試料質量(g)で除して行うことができる。
(Equilibrium moisture content of base film)
The water content (equilibrium water content) of the base film is 25, regardless of the film thickness, so as not to impair the adhesion with water-soluble thermoplastics such as polyvinyl alcohol when used as a protective film for polarizing plates. It is preferable that the moisture content in 0 degreeC and 80% of relative humidity is 0-4 mass%. It is more preferably 0 to 2.5% by mass, and still more preferably 0 to 1.5% by mass. If the equilibrium moisture content is 4% by mass or less, the dependence of retardation on humidity changes does not increase too much, and the liquid crystal display device also has the effect of suppressing light leakage after normal temperature, high humidity and high temperature and high humidity environments. preferable.
The moisture content was measured using a film sample 7 mm × 35 mm with a moisture meter, a sample drying apparatus “CA-03” and “VA-05” (both manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) by the Karl Fischer method. ) Can be obtained by dividing the moisture content (g) by the sample mass (g).

(基材フィルムの寸度変化)
上記基材フィルムの寸度安定性は、60℃、相対湿度90%の条件下に24時間静置した場合(高湿)の寸度変化率、及び80℃、DRY環境(相対湿度5%以下)の条件下に24時間静置した場合(高温)の寸度変化率が、いずれも0.5%以下であることが好ましい。より好ましくは0.3%以下であり、更に好ましくは0.15%以下である。
(Dimensional change of base film)
The dimensional stability of the base film is as follows: dimensional change rate after standing for 24 hours under conditions of 60 ° C. and relative humidity 90% (high humidity), and 80 ° C., DRY environment (relative humidity 5% or less) ) When it is allowed to stand for 24 hours under the conditions (high temperature), it is preferable that the dimensional change rate is 0.5% or less. More preferably, it is 0.3% or less, More preferably, it is 0.15% or less.

<基材フィルムの製造方法>
上記基材フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂及び溶剤を含む高分子溶液を支持体上に流延して高分子膜(上記基材フィルム)を形成する工程、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程を含むことが好ましい。すなわち、上記基材フィルムは、上記熱可塑性樹脂及び溶剤を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなること、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることが好ましく、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることがより好ましい。
<Method for producing base film>
The method for producing the base film includes a step of casting a polymer solution containing a thermoplastic resin and a solvent on a support to form a polymer film (the base film), or a process for melting a thermoplastic resin. It is preferable to include a step of forming a base film by forming a film. That is, the base film is preferably formed by casting a polymer solution containing the thermoplastic resin and a solvent on a support, or by melt-forming a thermoplastic resin. More preferably, a thermoplastic resin is melt-formed.

(表面処理)
基材フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、基材フィルムと第1層やそれ以外の層(例えば、偏光子、下塗層及びバック層)との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、10−3〜20Torrの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報(公技番号 2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて30頁〜32頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
(surface treatment)
The base film can achieve improved adhesion between the base film and the first layer or other layers (for example, a polarizer, an undercoat layer, and a back layer) by optionally performing a surface treatment. . For example, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. The glow discharge treatment here may be low-temperature plasma that occurs in a low pressure gas of 10 −3 to 20 Torr, and plasma treatment under atmospheric pressure is also preferable. A plasma-excitable gas is a gas that is plasma-excited under the above conditions, and includes chlorofluorocarbons such as argon, helium, neon, krypton, xenon, nitrogen, carbon dioxide, tetrafluoromethane, and mixtures thereof. It is done. Details of these are described in detail on pages 30 to 32 in the Japan Institute of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention), and are preferably used in the present invention. be able to.

{機能層}
また本発明の光学フィルムは、上記第1層(密着層)と第2層(低透湿層)とを有するが、更に、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層(低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層)、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層、などが挙げられる。
上記機能層は、1層であってもよいし、複数層設けてもよい。上記機能層の積層方法は特に限定されない。
機能層は基材フィルムの第2層を設けた面に積層しても良い。この場合、機能層が第2層と接していても接していなくても良い。また、第2層を積層していない面に積層しても良い。複数の機能層を積層する場合一つの機能層を第2層上に積層し、もう一つの機能層を第2層が積層していない面に積層することもできる。なかでも第2層を積層後の本発明の光学フィルム上に、更に他の機能層を塗設して設けることが好ましい。
{Function layer}
The optical film of the present invention has the first layer (adhesion layer) and the second layer (low moisture-permeable layer), and a functional layer may be further laminated on at least one surface. The type of the functional layer is not particularly limited, but a hard coat layer, an antireflection layer (a layer having a adjusted refractive index such as a low refractive index layer, a medium refractive index layer, or a high refractive index layer), an antiglare layer, an antistatic layer, Examples include an ultraviolet absorbing layer.
The functional layer may be a single layer or a plurality of layers. The method for laminating the functional layers is not particularly limited.
The functional layer may be laminated on the surface of the base film provided with the second layer. In this case, the functional layer may or may not be in contact with the second layer. Moreover, you may laminate | stack on the surface which has not laminated | stacked the 2nd layer. When laminating a plurality of functional layers, one functional layer may be laminated on the second layer, and the other functional layer may be laminated on the surface where the second layer is not laminated. In particular, it is preferable to coat and provide another functional layer on the optical film of the present invention after the second layer is laminated.

{光学フィルムの特性}
(光学フィルムの膜厚)
本発明の光学フィルムの膜厚(基材フィルムに第1層及び第2層を積層した後の総膜厚)は、5〜100μmが好ましく、10〜80μmがより好ましく、15〜75μmが特に好ましい。
{Characteristics of optical film}
(Optical film thickness)
The film thickness of the optical film of the present invention (total film thickness after laminating the first layer and the second layer on the base film) is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, and particularly preferably 15 to 75 μm. .

[光学フィルムの層構成]
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの一方の面上に、第1層、第2層をこの順に有し、偏光板保護フィルムでありかつ、液晶表示装置の表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムが表面フィルムの場合、ハードコート層が積層されていることが好ましい。この場合の好ましい層構成を以下に示す。
[Layer structure of optical film]
The optical film of the present invention preferably has a first layer and a second layer in this order on one surface of the base film, is a polarizing plate protective film, and is a surface film of a liquid crystal display device. When the optical film of the present invention is a surface film, it is preferable that a hard coat layer is laminated. A preferred layer structure in this case is shown below.

基材フィルム/第1層(密着層)/第2層(低透湿層)/ハードコート層
第2層(低透湿層)/第1層(密着層)/基材フィルム/ハードコート層
基材フィルム/第1層(密着層)/第2層(低透湿層)/ハードコート層/反射防止層
第2層(低透湿層)/第1層(密着層)/基材フィルム/ハードコート層/反射防止層
基材フィルム/第1層(密着層)/第2層(低透湿層)/ハードコート層/反射防止層/防汚層
Base film / first layer (adhesion layer) / second layer (low moisture permeability layer) / hard coat layer second layer (low moisture permeability layer) / first layer (adhesion layer) / base film / hard coat layer Base film / first layer (adhesion layer) / second layer (low moisture permeability layer) / hard coat layer / antireflection layer second layer (low moisture permeability layer) / first layer (adhesion layer) / base film / Hard coat layer / Antireflection layer Base film / first layer (adhesion layer) / second layer (low moisture permeability layer) / hard coat layer / antireflection layer / antifouling layer

[ハードコート層]
本発明の光学フィルムには、機能層としてハードコート層を設けることも好ましい。
本明細書において、ハードコート層とは、上記層を形成することで透明支持体の鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度(JIS K−5400)はH以上が好ましく、更に好ましくは2H以上であり、最も好ましくは3H以上である。
ハードコート層の厚みは、0.4〜35μmが好ましく、更に好ましくは1〜30μmであり、最も好ましくは1.5〜20μmである。
本発明においてハードコート層は1層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
本発明の光学フィルムのハードコート層の表面は平坦であって凹凸があっても構わない。また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。
[Hard coat layer]
It is also preferable to provide a hard coat layer as a functional layer in the optical film of the present invention.
In the present specification, the hard coat layer refers to a layer in which the pencil hardness of the transparent support is increased by forming the above layer. Practically, the pencil hardness (JIS K-5400) after laminating the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher.
The thickness of the hard coat layer is preferably 0.4 to 35 μm, more preferably 1 to 30 μm, and most preferably 1.5 to 20 μm.
In the present invention, the hard coat layer may be a single layer or a plurality of layers. When there are a plurality of hard coat layers, it is preferable that the total film thickness of all the hard coat layers is in the upper range.
The surface of the hard coat layer of the optical film of the present invention may be flat and uneven. Further, if necessary, the hard coat layer may contain translucent particles for imparting surface irregularities and internal scattering.

[ハードコート層形成材料物]
本発明において、ハードコート層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、重合開始剤、必要に応じて、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン系化合物、溶剤を含有する組成物を、支持体上に直接又は他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。以下各成分について説明する。
[Hard coat layer forming material]
In the present invention, the hard coat layer supports a composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a polymerization initiator, and, if necessary, translucent particles, a fluorine-containing or silicone compound, and a solvent. It can be formed by coating, drying and curing directly on the body or via another layer. Each component will be described below.

[エチレン性不飽和二重結合を有する化合物]
本発明において使用することができるハードコート層形成用組成物にはエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を2つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。上記重合性不飽和基を2つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は3つ以上であることがより好ましい。これらモノマーは、1又は2官能のモノマーと3官能以上のモノマーを併用して用いることもできる。
[Compound having an ethylenically unsaturated double bond]
The composition for forming a hard coat layer that can be used in the present invention can contain a compound having an ethylenically unsaturated double bond. The compound having an ethylenically unsaturated double bond can function as a binder, and is preferably a polyfunctional monomer having two or more polymerizable unsaturated groups. The polyfunctional monomer having two or more polymerizable unsaturated groups can function as a curing agent, and the strength and scratch resistance of the coating film can be improved. The number of polymerizable unsaturated groups is more preferably 3 or more. These monomers can be used in combination of a monofunctional or bifunctional monomer and a trifunctional or higher monomer.

エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましい。特に好ましくは下記の1分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。 Examples of the compound having an ethylenically unsaturated double bond include a compound having a polymerizable functional group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group and -C (O) OCH═CH 2 is preferred. Particularly preferably, a compound containing three or more (meth) acryloyl groups in one molecule described below can be used.

重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   Specific examples of the compound having a polymerizable unsaturated bond include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, and (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohol. , (Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and the like.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified Tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, etc. Can be mentioned.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業(株)社製NKエステル A−TMMT、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開2009−98658号公報の段落[0114]〜[0122]に記載されており、本発明においても同様である。   Commercially available polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group can be used, such as NK ester A-TMMT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Can be mentioned. The polyfunctional monomer is described in paragraphs [0114] to [0122] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはOH−、SH−、−NH−、CHO−、CHN−などが挙げられ、ウレタン(メタ)アクリレート類や水酸基を有する(メタ)アクリレート類が好ましい。市販されている(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業(株)社製NKオリゴ U4HA、同NKエステルA−TMM−3、日本化薬(株)製KAYARAD PET−30等を挙げることができる。   The compound having an ethylenically unsaturated double bond is a compound having a hydrogen-bonding substituent, adhesion to the support, low curl, fluorine-containing or silicone compound fixing point described later. To preferred. The hydrogen-bonding substituent refers to a substituent in which an atom having a large electronegativity such as nitrogen, oxygen, sulfur, or halogen and a hydrogen bond are covalently bonded. Specifically, OH—, SH—, — NH-, CHO-, CHN- and the like can be mentioned, and urethane (meth) acrylates and (meth) acrylates having a hydroxyl group are preferable. Commercially available polyfunctional acrylates having a (meth) acryloyl group can also be used. Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Oligo U4HA, NK Ester A-TMM-3, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD PET-30 etc. can be mentioned.

ハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の無機成分を除いた全固形分に対して、50質量%以上が好ましく、60〜99質量%がより好ましく、70〜99質量%が更に好ましく、80〜99質量%が特に好ましい。   The content of the compound having an ethylenically unsaturated double bond in the composition for forming a hard coat layer provides a sufficient polymerization rate and imparts hardness and the like. 50 mass% or more is preferable with respect to the total solid content except, 60-99 mass% is more preferable, 70-99 mass% is still more preferable, 80-99 mass% is especially preferable.

ハードコート層形成用組成物としては、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、ハードコート層に低透湿性を付与することができる。ハードコート性を高めるために、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を2以上有する化合物を用いることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物はハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物中、1〜90質量%が好ましく、2〜80質量%がより好ましく、5〜70質量%が特に好ましい。
As the composition for forming a hard coat layer, it is also preferable to use a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule. By using such a compound, low moisture permeability can be imparted to the hard coat layer. In order to improve the hard coat property, it is more preferable to use a compound having two or more cyclic aliphatic hydrocarbons and ethylenically unsaturated double bonds in the molecule.
When the composition for forming a hard coat layer contains a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, it has a cycloaliphatic hydrocarbon and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule. 1-90 mass% is preferable in a compound which has an ethylenically unsaturated double bond in the composition for hard-coat layer formation, 2-80 mass% is more preferable, and 5-70 mass% is especially preferable.

ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、更に5官能以上の(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。
ハードコート層形成用組成物が更に、5官能以上の(メタ)アクリレートを含有する場合、5官能以上の(メタ)アクリレートは、ハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物中、1〜70質量%が好ましく、2〜60質量%がより好ましく、5〜50質量%が特に好ましい。
When the composition for forming a hard coat layer contains a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon and an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, it is preferable to further contain a (meth) acrylate having 5 or more functional groups.
When the composition for forming a hard coat layer further contains a (meth) acrylate having 5 or more functional groups, the (meth) acrylate having 5 or more functional groups has an ethylenically unsaturated double bond in the composition for forming a hard coat layer. In the compound which has, 1-70 mass% is preferable, 2-60 mass% is more preferable, and 5-50 mass% is especially preferable.

[透光性粒子]
本発明においては、ハードコート層に透光性粒子を含有させることで、ハードコート層表面に凹凸形状を付与したり、内部ヘイズを付与することもできる。
[Translucent particles]
In this invention, an uneven | corrugated shape can also be provided to the hard-coat layer surface by making a hard-coat layer contain translucent particle | grains, or an internal haze can also be provided.

ハードコート層に用いることができる透光性粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)、シリカ粒子(屈折率1.46)、アルミナ粒子(屈折率1.63)、ジルコニア粒子、チタニア粒子、又は中空や細孔を有する粒子等が挙げられる。   Translucent particles that can be used in the hard coat layer include polymethyl methacrylate particles (refractive index 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index 1.54), melamine resin particles ( Refractive index 1.57), polycarbonate particles (refractive index 1.57), polystyrene particles (refractive index 1.60), cross-linked polystyrene particles (refractive index 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index 1.60), Examples include benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (refractive index 1.68), silica particles (refractive index 1.46), alumina particles (refractive index 1.63), zirconia particles, titania particles, or particles having hollow or pores. It is done.

なかでも架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の光学フィルムのハードコート層に好適な表面凹凸、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全ヘイズを達成することができる。   Of these, crosslinked poly ((meth) acrylate) particles and crosslinked poly (acryl-styrene) particles are preferably used, and the refractive index of the binder is adjusted according to the refractive index of each light-transmitting particle selected from these particles. By adjusting, surface irregularities, surface haze, internal haze, and total haze suitable for the hard coat layer of the optical film of the present invention can be achieved.

バインダー(透光性樹脂)の屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.65である。
また、透光性粒子と、ハードコート層のバインダーとの屈折率の差(「透光性粒子の屈折率」−「上記透光性粒子を除くハードコート層の屈折率」)は、絶対値として、好ましくは0.05未満であり、より好ましくは0.001〜0.030、更に好ましくは0.001〜0.020である。ハードコート層中の透光性粒子とバインダーとの屈折率の差を0.05未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、光学異方性層の透過光の偏光を解消するなどの悪化作用が無く好ましい。
The refractive index of the binder (translucent resin) is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65.
In addition, the difference in refractive index between the translucent particles and the binder of the hard coat layer (“refractive index of the translucent particles” − “refractive index of the hard coat layer excluding the translucent particles”) is an absolute value. As for it, Preferably it is less than 0.05, More preferably, it is 0.001-0.030, More preferably, it is 0.001-0.020. When the difference in refractive index between the light-transmitting particles and the binder in the hard coat layer is less than 0.05, the light refraction angle by the light-transmitting particles decreases, the scattered light does not spread to a wide angle, and the optical anisotropy There is no adverse effect such as depolarization of the transmitted light of the layer, which is preferable.

上記の粒子とバインダーの屈折率差を実現するためには、透光性粒子の屈折率を調節しても、バインダーの屈折率を調節してもよい。
好ましい第1の態様としては、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダー(硬化後の屈折率が1.50〜1.53)とアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート/スチレン重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましい。低屈折率であるアクリル成分と高屈折率であるスチレン成分の組成比を調節することで、透光性粒子とバインダーとの屈折率差を0.05未満にすることが容易である。アクリル成分とスチレン成分の比率は質量比で50/50〜100/0が好ましく、更に好ましくは60/40〜100/0であり、最も好ましくは65/35〜90/10である。架橋ポリ(メタ)アクリレート/スチレン重合体からなる透光性粒子の屈折率としては、1.49〜1.55が好ましく、更に好ましくは1.50〜1.54であり、最も好ましくは1.51〜1.53である。
好ましい第2の態様としては、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダーに対して、1〜100nmの平均粒子サイズの無機微粒子を併用することで、モノマーと無機微粒子からなるバインダーの屈折率を調節し、既存の透光性粒子との屈折率差を調節するものである。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物、具体例としては、SiO、ZrO、TiO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITO等が挙げられる。好ましくは、SiO、ZrO、Alなどが挙げられる。これら無機粒子は、モノマーの総量に対して1〜90質量%の範囲で混合して用いることができ、好ましくは5〜65質量%である。
ここで、上記透光性粒子を除くハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。上記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶剤の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶剤中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶剤の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
In order to realize the difference in refractive index between the particles and the binder, the refractive index of the light-transmitting particles may be adjusted, or the refractive index of the binder may be adjusted.
As a preferable first embodiment, a binder having a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer as a main component (a refractive index after curing is 1.50 to 1.53) and an acrylic content of 50 to 100 mass percent is used. It is preferable to use a combination of translucent particles made of poly (meth) acrylate / styrene polymer. By adjusting the composition ratio of the acrylic component having a low refractive index and the styrene component having a high refractive index, it is easy to make the difference in refractive index between the translucent particles and the binder less than 0.05. The ratio of the acrylic component to the styrene component is preferably 50/50 to 100/0, more preferably 60/40 to 100/0, and most preferably 65/35 to 90/10 in terms of mass ratio. The refractive index of the light-transmitting particles comprising the crosslinked poly (meth) acrylate / styrene polymer is preferably 1.49 to 1.55, more preferably 1.50 to 1.54, and most preferably 1. 51 to 1.53.
As a preferred second embodiment, a binder composed of a monomer and inorganic fine particles is obtained by using inorganic fine particles having an average particle size of 1 to 100 nm in combination with a binder mainly composed of a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer. The refractive index difference is adjusted to adjust the refractive index difference from the existing light-transmitting particles. The inorganic particles include oxides of at least one metal selected from silicon, zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. Specific examples include SiO 2 , ZrO 2 , TiO 2 , and Al 2 O. 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and the like. Preferably, such SiO 2, ZrO 2, Al 2 O 3 and the like. These inorganic particles can be used by mixing in the range of 1 to 90% by mass with respect to the total amount of monomers, and preferably 5 to 65% by mass.
Here, the refractive index of the hard coat layer excluding the translucent particles can be quantitatively evaluated by directly measuring with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the translucent particles is measured by measuring the turbidity by dispersing an equal amount of the translucent particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two kinds of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.

透光性粒子の平均粒径は、1.0〜12μmが好ましく、より好ましくは3.0〜12μm、更に好ましくは4.0〜10.0μm、最も好ましくは4.5〜8μmである。屈折率差及び粒子サイズを上記範囲に設定することで、光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプレイの文字ボケ、コントラスト低下を引き起こしにくい。添加する層の膜厚を厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じにくい点で、12μm以下が好ましい。更に上記範囲内にすることは、塗工時の塗布量を抑えられ、乾燥が速く、乾燥ムラ等の面状欠陥を生じにくい点でも好ましい。   The average particle diameter of the translucent particles is preferably 1.0 to 12 μm, more preferably 3.0 to 12 μm, still more preferably 4.0 to 10.0 μm, and most preferably 4.5 to 8 μm. By setting the refractive index difference and the particle size within the above ranges, the light scattering angle distribution does not spread to a wide angle, and it is difficult to cause blurring of characters on the display and a decrease in contrast. It is not necessary to increase the thickness of the layer to be added, and 12 μm or less is preferable because it is difficult to cause problems such as curling and cost increase. Furthermore, it is preferable that the amount falls within the above range from the viewpoint that the coating amount during coating can be suppressed, drying is quick, and surface defects such as drying unevenness are unlikely to occur.

透光性粒子の平均粒径の測定方法は、粒子の平均粒径を測る測定方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とできる。   The measuring method of the average particle diameter of the translucent particles can be any measuring method as long as it is a measuring method for measuring the average particle diameter of the particles, but preferably a transmission electron microscope (magnification of 500,000 to 2,000,000 times) The particles are observed by observing 100 particles, and the average value can be obtained as the average particle diameter.

透光性粒子の形状は特に限定されないが、真球状粒子の他に、異形粒子(例えば、非真球状粒子)といった形状の異なる透光性粒子を併用して用いてもよい。特に非真球状粒子の短軸をハードコート層の法線方向にそろえると、真球粒子に比べ、粒子径が小さなものが使用できるようになる。   The shape of the translucent particles is not particularly limited, but in addition to the spherical particles, translucent particles having different shapes such as irregularly shaped particles (for example, non-spherical particles) may be used in combination. In particular, when the minor axes of non-spherical particles are aligned in the normal direction of the hard coat layer, particles having a smaller particle diameter than the true spherical particles can be used.

上記透光性粒子は、ハードコート層全固形分中に0.1〜40質量%含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは1〜30質量%、更に好ましくは1〜20質量%、である。透光性粒子の配合比を上記範囲にすることで内部ヘイズを好ましい範囲に制御することができる。   The translucent particles are preferably blended so as to be contained in an amount of 0.1 to 40% by mass in the total solid content of the hard coat layer. More preferably, it is 1-30 mass%, More preferably, it is 1-20 mass%. The internal haze can be controlled within a preferable range by adjusting the blending ratio of the translucent particles within the above range.

また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは10〜2500mg/m、より好ましくは30〜2000mg/m、更に好ましくは100〜1500mg/mである。 Moreover, the application amount of translucent particles is preferably 10 to 2500 mg / m 2 , more preferably 30 to 2000 mg / m 2 , and still more preferably 100 to 1500 mg / m 2 .

<透光性粒子調製、分級法>
透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」(大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社)130頁及び146頁から147頁の記載、「合成高分子」1巻、p.246〜290、同3巻、p.1〜108等に記載の方法、及び特許第2543503号明細書、同第3508304号明細書、同第2746275号明細書、同第3521560号明細書、同第3580320号明細書、特開平10−1561号公報、特開平7−2908号公報、特開平5−297506号公報、特開2002−145919号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
<Translucent particle preparation, classification method>
Examples of the method for producing the translucent particles include a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, a soap-free emulsion polymerization method, a dispersion polymerization method, a seed polymerization method, and the like, and any method may be used. These production methods are described in, for example, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu and Masaaki Kinoshita, Chemical Dojinsha), pages 130 and 146 to 147, “Synthetic Polymers”, Vol. 246-290, 3rd volume, p. 1 to 108, etc., and Japanese Patent Nos. 2543503, 3508304, 2746275, 3521560, 3580320, and Japanese Patent Laid-Open No. 10-1561. Reference can be made to methods described in JP-A No. 7-2908, JP-A No. 5-297506, JP-A No. 2002-145919, and the like.

透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。粒子径の均一さを表すCV値は15%以下が好ましく、より好ましくは13%以下、更に好ましくは10%以下である。更に平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、更に好ましくは0.01%以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
The particle size distribution of the translucent particles is preferably monodisperse particles in terms of haze value and diffusibility control, and uniformity of the coated surface. The CV value representing the uniformity of the particle diameter is preferably 15% or less, more preferably 13% or less, and still more preferably 10% or less. Further, when a particle having a particle size of 20% or more than the average particle size is defined as a coarse particle, the proportion of the coarse particle is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1% or less. Yes, more preferably 0.01% or less. Particles having such a particle size distribution are also effective means of classification after preparation or synthesis reaction, and particles having a desired distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification. .
It is preferable to use a method such as an air classification method, a centrifugal classification method, a sedimentation classification method, a filtration classification method, or an electrostatic classification method for classification.

[増粘剤]
塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いることができる。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味する。
[Thickener]
A thickener can be used to adjust the viscosity of the coating solution.
The term “thickener” as used herein means one that increases the viscosity of the liquid by adding it.

このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトンジオール
ポリ−ε−カプロラクトントリオール
ポリビニルアセテート
ポリ(エチレンアジペート)
ポリ(1,4−ブチレンアジペート)
ポリ(1,4−ブチレングルタレート)
ポリ(1,4−ブチレンスクシネート)
ポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)
ポリ(エチレンテレフタレート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレングルタレート)
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)
ポリ(ネオペンチルグリコール セバケート)
ポリ(1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(1,3−プロピレン グルタレート)
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
Examples of such thickeners include, but are not limited to:
Poly-ε-caprolactone poly-ε-caprolactone diol poly-ε-caprolactone triol polyvinyl acetate poly (ethylene adipate)
Poly (1,4-butylene adipate)
Poly (1,4-butylene glutarate)
Poly (1,4-butylene succinate)
Poly (1,4-butylene terephthalate)
polyethylene terephthalate)
Poly (2-methyl-1,3-propylene adipate)
Poly (2-methyl-1,3-propylene glutarate)
Poly (neopentyl glycol adipate)
Poly (neopentyl glycol sebacate)
Poly (1,3-propylene adipate)
Poly (1,3-propylene glutarate)
Polyvinyl butyral polyvinyl formal polyvinyl acetal polyvinyl propanal polyvinyl hexanal polyvinyl pyrrolidone polyacrylic ester polymethacrylic acid ester cellulose acetate cellulose propionate cellulose acetate butyrate

この他にも特開平8−325491号公報記載のスメクタイト、マイカ、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイトなどの層状化合物及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−219136エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。チキソトロピー性付与剤としては、0.3μm以下の粒径の層状化合物を有機化処理したものが特に好ましい。0.1μm以下の粒径のものが更に好ましい。層状化合物の粒径は、長軸の長さで考えることができる。通常、紫外線硬化型樹脂100質量部に対して、1〜10質量部程度とするのが好適である。   In addition, known viscosities such as layered compounds such as smectite, mica, bentonite, silica and montmorillonite described in JP-A-8-325491, and sodium polyacrylate, JP-A-10-219136 ethylcellulose, polyacrylic acid, organic clay, etc. A regulator or a thixotropic agent can be used. As the thixotropic agent, those obtained by organically treating a layered compound having a particle size of 0.3 μm or less are particularly preferable. A particle size of 0.1 μm or less is more preferable. The particle size of the layered compound can be considered as the length of the long axis. Usually, it is suitable to set it as about 1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of ultraviolet curable resin.

[光重合開始剤]
ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を含有させることが好ましい。第2層で説明した光重合開始剤をハードコート層形成用組成物でも好ましく用いることができる。
[Photopolymerization initiator]
The hard coat layer forming composition preferably contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator described in the second layer can also be preferably used in the composition for forming a hard coat layer.

ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   The content of the photopolymerization initiator in the composition for forming the hard coat layer is sufficiently high to polymerize the polymerizable compound contained in the composition for forming the hard coat layer and is small enough not to increase the starting point excessively. From the reason that the amount is set, the amount is preferably 0.5 to 8% by mass, and more preferably 1 to 5% by mass with respect to the total solid content in the composition for forming a hard coat layer.

〔紫外線吸収剤〕
本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示装置部材に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、UV硬化を阻害しない範囲でハードコート層に紫外線吸収剤を含有することで、光学フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
[Ultraviolet absorber]
The optical film of the present invention is used for a polarizing plate or a liquid crystal display device member, but from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate, liquid crystal, or the like, the hard coat layer contains an ultraviolet absorber in a range that does not inhibit UV curing. Thus, ultraviolet absorption can be imparted to the optical film.

[溶剤]
本発明の光学フィルムにハードコート層を積層する場合、ハードコート層形成用の組成物には、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[solvent]
When laminating a hard coat layer on the optical film of the present invention, the composition for forming the hard coat layer may contain a solvent. Various solvents can be used as the solvent in consideration of the solubility of the monomer, the dispersibility of the light-transmitting particles, the drying property at the time of coating, and the like. Examples of such organic solvents include dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole, dimethyl carbonate, carbonic acid. Methyl ethyl, diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, Methyl propionate, ethyl propionate, γ-ptyrolactone, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-metho Siethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, methyl acetoacetate and other methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, cyclohexyl Alcohol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, ethyl carbitol, butyl carbitol , Hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, benzene, tolu Examples thereof include ene and xylene, and these can be used alone or in combination of two or more.

ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は20〜80質量%の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは30〜75質量%であり、更に好ましくは40〜70質量%である。   It is preferable to use a solvent so that the solid content of the composition for forming a hard coat layer is in the range of 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, and still more preferably 40 to 70% by mass. It is.

[反射防止層]
上記のようにハードコート層上に反射防止層を積層することも本発明の好ましい態様の一つである。本発明では公知の反射防止層を好ましく用いることができる、中でもUV硬化型の反射防止層が好ましい。
反射防止層は1層構成の膜厚λ/4の低反射率層でも多層構成でも良いが、1層構成の膜厚λ/4の低反射率層が特に好ましい。本発明で好ましく使用することが出来る低屈折材料に関し、以下に説明するが本発明は以下に限定されるものではない。
[Antireflection layer]
Lamination of the antireflection layer on the hard coat layer as described above is one of the preferred embodiments of the present invention. In the present invention, a known antireflection layer can be preferably used. Among them, a UV curable antireflection layer is preferable.
The antireflection layer may be either a low-reflectance layer having a single-layer thickness λ / 4 or a multilayer structure, but a low-reflectance layer having a single-layer thickness λ / 4 is particularly preferable. The low refractive material that can be preferably used in the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

[低屈折率層の材料]
以下に反射防止層に含まれる低屈折率層の材料について説明する。
[Material for low refractive index layer]
The material of the low refractive index layer contained in the antireflection layer will be described below.

[無機微粒子]
低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から、低屈折率層に無機微粒子を用いることが好ましい。上記無機微粒子は、平均粒子サイズが5〜120nmであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
[Inorganic fine particles]
From the viewpoint of lowering the refractive index and improving scratch resistance, it is preferable to use inorganic fine particles in the low refractive index layer. The inorganic fine particles are not particularly limited as long as the average particle size is 5 to 120 nm, but inorganic low refractive index particles are preferable from the viewpoint of lowering the refractive index.

無機微粒子としては、低屈折率であることからフッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。これら無機粒子のサイズ(1次粒径)は、5〜120nmが好ましく、より好ましくは10〜100nm、20〜100nm、最も好ましくは30〜90nmである。   Examples of the inorganic fine particles include magnesium fluoride and silica fine particles because of their low refractive index. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost. The size (primary particle size) of these inorganic particles is preferably 5 to 120 nm, more preferably 10 to 100 nm, 20 to 100 nm, and most preferably 30 to 90 nm.

無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。また、後述の中空シリカ微粒子を用いた場合は粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の充分な低下が見込めない。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。   If the particle size of the inorganic fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the particle size is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. Further, when hollow silica fine particles described later are used, if the particle size is too small, the ratio of the cavity portion is reduced and a sufficient decrease in the refractive index cannot be expected. The inorganic fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but may be indefinite.

無機微粒子の塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。少なすぎると、充分な低屈折率化が見込めなかったり、耐擦傷性の改良効果が減ったりし、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。 The coating amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, a sufficiently low refractive index cannot be expected or the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance and integration such as black tightening Reflectivity deteriorates.

(多孔質又は中空の微粒子)
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは10〜80%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
(Porous or hollow fine particles)
In order to reduce the refractive index, it is preferable to use fine particles having a porous or hollow structure. It is particularly preferable to use hollow structure silica particles. The porosity of these particles is preferably 10 to 80%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%. It is preferable that the void ratio of the hollow fine particles be in the above range from the viewpoint of lowering the refractive index and maintaining the durability of the particles.

多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、1.10〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.15〜1.35、最も好ましくは1.15〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。   When the porous or hollow particles are silica, the refractive index of the fine particles is preferably 1.10 to 1.40, more preferably 1.15 to 1.35, and most preferably 1.15 to 1.30. is there. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the silica particles.

また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。   Further, two or more kinds of hollow silica having different particle average particle sizes can be used in combination. Here, the average particle diameter of the hollow silica can be determined from an electron micrograph.

本発明において中空シリカの比表面積は、20〜300m/gが好ましく、更に好ましくは30〜120m/g、最も好ましくは40〜90m/gである。表面積は窒素を用いBET法で求めることができる。 The specific surface area of the hollow silica in the present invention is preferably from 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30~120m 2 / g, most preferably 40~90m 2 / g. The surface area can be determined by the BET method using nitrogen.

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、30nm以上150nm以下、更に好ましくは35nm以上100nm以下、最も好ましくは40nm以上80nm以下である。   In the present invention, silica particles having no voids can be used in combination with hollow silica. The preferred particle size of silica without voids is 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and most preferably 40 nm to 80 nm.

[無機微粒子の表面処理方法]
また、本発明においては無機微粒子は常法によりシランカップリング剤等により表面処理して用いることができる。
特に、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。無機微粒子の表面の処理方法については、特開2008−242314号公報の段落番号[0046]〜[0076]に記載されており、上記文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶剤、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
[Inorganic fine particle surface treatment method]
Further, in the present invention, inorganic fine particles can be used after being surface-treated with a silane coupling agent or the like by a conventional method.
In particular, in order to improve dispersibility in the binder for forming a low refractive index layer, the surface of the inorganic fine particles is preferably treated with a hydrolyzate of an organosilane compound and / or a partial condensate thereof. In this case, it is more preferable to use either an acid catalyst or a metal chelate compound or both. The method for treating the surface of the inorganic fine particles is described in paragraphs [0046] to [0076] of JP-A-2008-242314. The organosilane compound, the siloxane compound, and the solvent for the surface treatment described in the above document In addition, a surface treatment catalyst, a metal chelate compound, and the like can be suitably used in the present invention.

低屈折率層には、(b2)重合性不飽和基を有する含フッ素又は非含フッ素モノマーを用いることができる。非含フッ素モノマーについては、ハードコート層で使用できるとして説明したエチレン性不飽和二重結合を有する化合物も用いることが好ましい。含フッ素のモノマーとしては、下記一般式(1)で表され、フッ素を35質量%以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が500よりも小さい含フッ素多官能モノマー(d)を用いることが好ましい。
一般式(1): Rf{−(L)−Y}
(一般式(1)中、Rfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含むn価の基を表し、nは3以上の整数を表す。Lは単結合又は二価の連結基を表し、mは0又は1を表す。Yは重合性不飽和基を表す。)
Rfは酸素原子及び水素原子の少なくともいずれかを含んでも良い。また、Rfは鎖状(直鎖又は分岐)又は環状である。
For the low refractive index layer, (b2) a fluorine-containing or non-fluorine-containing monomer having a polymerizable unsaturated group can be used. As for the non-fluorinated monomer, it is also preferable to use a compound having an ethylenically unsaturated double bond described as being usable in the hard coat layer. As the fluorine-containing monomer, a fluorine-containing polyfunctional monomer (d) represented by the following general formula (1), containing 35% by mass or more of fluorine and having a calculated value of all cross-linking molecular weights smaller than 500 is used. Is preferred.
General formula (1): Rf 2 {-(L) m -Y} n
(In General Formula (1), Rf 2 represents an n-valent group containing at least a carbon atom and a fluorine atom, n represents an integer of 3 or more, L represents a single bond or a divalent linking group, and m represents Represents 0 or 1. Y represents a polymerizable unsaturated group.)
Rf 2 may contain at least one of an oxygen atom and a hydrogen atom. Further, Rf 2 is a chain (straight or branched) or cyclic.

Yは、不飽和結合を形成する2つの炭素原子を含む基であることが好ましく、ラジカル重合性の基であることがより好ましく、(メタ)アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及び−C(O)OCH=CHから選ばれるものが特に好ましい。これらの中でも、重合性の観点から、より好ましいのは、ラジカル重合性を有する(メタ)アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及びC(O)OCH=CHである。 Y is preferably a group containing two carbon atoms forming an unsaturated bond, more preferably a radical polymerizable group, a (meth) acryloyl group, an allyl group, an α-fluoroacryloyl group, and Those selected from —C (O) OCH═CH 2 are particularly preferred. Among these, from the viewpoint of polymerizability, (meth) acryloyl group, allyl group, α-fluoroacryloyl group, and C (O) OCH═CH 2 having radical polymerizability are more preferable.

Lは二価の連結基を表し、詳しくは、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数6〜10のアリーレン基、−O−、−S−、−N(R)−、炭素数1〜10のアルキレン基と−O−、−S−又はN(R)−を組み合わせて得られる基、炭素数6〜10のアリーレン基と−O−、−S−又はN(R)−を組み合わせて得られる基を表す。Rは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す。Lがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Lで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
一般式(1)で表される化合物の具体例は、特開2010−152311号公報[0121]〜[0163]段落に記載されている。
L represents a divalent linking group, specifically, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, -O-, -S-, -N (R)-, 1 to carbon atoms. A group obtained by combining 10 alkylene group and —O—, —S— or N (R) —, a combination of an arylene group having 6 to 10 carbon atoms and —O—, —S— or N (R) —. Represents the resulting group. R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. When L represents an alkylene group or an arylene group, the alkylene group and the arylene group represented by L are preferably substituted with a halogen atom, and preferably substituted with a fluorine atom.
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) are described in paragraphs [0121] to [0163] of JP2010-15211A.

[光学異方性層]
本発明の光学フィルムに光学異方性層を設けることもできる。光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。
上記のように本発明の光学フィルムは液晶表示装置のハードコート層が積層された表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムがハードコート層と光学異方性層の両方を有する場合、光学異方性層は基材フィルムを介してハードコート層が積層されていない面に形成されていることが好ましい。
[Optically anisotropic layer]
An optically anisotropic layer can also be provided on the optical film of the present invention. The optically anisotropic layer may be an optically anisotropic layer in which a film having a constant retardation is uniformly formed in the plane, and the direction of the slow axis and the magnitude of the retardation are different from each other. It may be an optically anisotropic layer having a pattern in which retardation regions are regularly arranged in a plane.
As described above, the optical film of the present invention is preferably a surface film on which a hard coat layer of a liquid crystal display device is laminated. When the optical film of the present invention has both a hard coat layer and an optically anisotropic layer, the optically anisotropic layer is preferably formed on a surface on which the hard coat layer is not laminated via a base film. .

本発明の光学フィルムがこのような態様を有する場合、第1層及び第2層は、基材フィルムに対してはハードコート層と同じ側に積層されていても良いし、ハードコート層と反対側に設けられても良いし、基材フィルムの両面に積層されていても良い。
第1層及び第2層が基材フィルムに対してハードコート層と同じ側に積層されている場合の好ましい層構成は、上記のハードコート層を積層する場合の好ましい層構成を用いることができる。
一方、第1層及び第2層が基材フィルムに対してハードコート層と光学異方性層と同じ側に積層されている場合、第1層及び第2層は基材フィルムと光学異方性層の間に積層されていても良いし、基材フィルム、光学異方性層、第1層、第2層の順に積層されていても良い。
When the optical film of the present invention has such an aspect, the first layer and the second layer may be laminated on the same side as the hard coat layer with respect to the base film, or opposite to the hard coat layer. It may be provided on the side or may be laminated on both sides of the base film.
As the preferred layer configuration when the first layer and the second layer are laminated on the same side as the hard coat layer with respect to the base film, the preferred layer configuration when laminating the above hard coat layer can be used. .
On the other hand, when the first layer and the second layer are laminated on the same side as the hard coat layer and the optically anisotropic layer with respect to the base film, the first layer and the second layer are optically anisotropic with the base film. May be laminated between the conductive layers, or may be laminated in the order of the base film, the optically anisotropic layer, the first layer, and the second layer.

光学異方性層は各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、本発明では重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が好ましい。その場合、光学異方性層と基材フィルムの間に光学異方性層と接して配向膜が形成されていることも好ましい態様である。   The optically anisotropic layer can be selected from materials and production conditions according to various uses, but in the present invention, an optically anisotropic layer using a polymerizable liquid crystalline compound is preferable. In that case, it is also a preferred embodiment that an alignment film is formed between the optically anisotropic layer and the substrate film in contact with the optically anisotropic layer.

面内均一に形成された光学異方性層を有する好ましい例として、光学異方性層がλ/4膜である態様が挙げられ、特にアクティブ方式の3D液晶表示装置の部材として有用である。λ/4膜の光学異方性層とハードコート層が、基材フィルムを介して反対の面に積層した態様として特開2012−098721号公報、特開2012−127982号公報に記載されており、本発明の光学フィルムで、このような態様を好ましく用いることができる。   A preferred example having an optically anisotropic layer formed uniformly in the plane is an embodiment in which the optically anisotropic layer is a λ / 4 film, and is particularly useful as a member of an active 3D liquid crystal display device. As an aspect in which an optically anisotropic layer and a hard coat layer of a λ / 4 film are laminated on opposite surfaces through a base film, they are described in JP2012-098772A and JP20121277982A. Such an embodiment can be preferably used in the optical film of the present invention.

一方、パターンを形成した光学異方性層の好ましい例としては、パターン型のλ/4膜が挙げられ、特許4825934号公報、特許4887463号公報に記載された態様を、本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
また、特表2012−517024号公報(WO2010/090429号公報)に記載された光配向膜とパターン露光を組み合わせた態様も本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
On the other hand, as a preferable example of the optically anisotropic layer in which a pattern is formed, a pattern type λ / 4 film can be mentioned. It can be preferably used.
Moreover, the aspect which combined the photo-alignment film and pattern exposure described in the Japanese translations of PCT publication No. 2012-517024 gazette (WO2010 / 090429 gazette) can also be preferably used with the optical film of this invention.

[光学異方性層を有する時の光学フィルムの層構成]
本発明の光学フィルムが光学異方性層を有する場合の好ましい層構成を以下に示す。
[Layer structure of optical film having optically anisotropic layer]
A preferred layer structure when the optical film of the present invention has an optically anisotropic layer is shown below.

光学異方性層/基材フィルム/第1層(密着層)/第2層(低透湿層)/ハードコート層
光学異方性層/第2層(低透湿層)/第1層(密着層)/基材フィルム/ハードコート層
光学異方性層/基材フィルム/第1層(密着層)/第2層(低透湿層)/ハードコート層/反射防止層
光学異方性層/第2層(低透湿層)/第1層(密着層)/基材フィルム/ハードコート層/反射防止層
Optically anisotropic layer / base film / first layer (adhesion layer) / second layer (low moisture permeable layer) / hard coat layer optically anisotropic layer / second layer (low moisture permeable layer) / first layer (Adhesion layer) / Base film / Hard coat layer Optical anisotropic layer / Base film / First layer (Adhesion layer) / Second layer (low moisture permeability layer) / Hard coat layer / Antireflection layer Optical anisotropic Layer / second layer (low moisture permeability layer) / first layer (adhesion layer) / base film / hard coat layer / antireflection layer

光学異方性層を有する場合、光学異方性が不飽和重合性基等の硬化性基を有する液晶化合物から形成されることが好ましく、液晶層の下層に配向膜が形成されていることが好ましい。本発明では配向膜がラジカル重合性化合物を含む硬化性組成物から形成されることも好ましく、その場合特に以下の層構成が好ましい。   In the case of having an optically anisotropic layer, the optical anisotropy is preferably formed from a liquid crystal compound having a curable group such as an unsaturated polymerizable group, and an alignment film is formed under the liquid crystal layer. preferable. In the present invention, the alignment film is also preferably formed from a curable composition containing a radical polymerizable compound, and in that case, the following layer structure is particularly preferable.

光学異方性層/第2層(低透湿層)/第1層(密着層)/基材フィルム/ハードコート層
光学異方性層/第2層(低透湿層)/第1層(密着層)/基材フィルム/ハードコート層/反射防止層
Optically anisotropic layer / second layer (low moisture permeability layer) / first layer (adhesion layer) / base film / hard coat layer optically anisotropic layer / second layer (low moisture permeability layer) / first layer (Adhesion layer) / Base film / Hard coat layer / Antireflection layer

[光学フィルムの製造方法]
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材フィルムと、第1層と、第2層とをこの順に有する光学フィルムの製造方法であって、基材フィルム上に、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して、弾性率が1.0〜5.0GPaである第1層を形成する工程と、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して第2層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法である。
[Method for producing optical film]
The method for producing an optical film of the present invention is a method for producing an optical film having a base film, a first layer, and a second layer in this order, and an ethylenically unsaturated double bond is formed on the base film. A step of applying a curable composition for forming a first layer containing a compound having a viscosity and curing to form a first layer having an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa, and a cyclic aliphatic hydrocarbon group And applying a curable composition for forming a second layer containing at least one of a compound having an ethylenically unsaturated double bond and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond. And a step of forming the second layer.

第1層形成用硬化性組成物及び第2層形成用硬化性組成物の塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許2681294号明細書、特開2006−122889号公報参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。   As a coating method of the curable composition for forming the first layer and the curable composition for forming the second layer, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, and a gravure coating method And die coating method. A micro gravure coating method, a wire bar coating method, and a die coating method (see US Pat. No. 2,681,294 and JP-A-2006-122889) are more preferable, and a die coating method is particularly preferable.

第1層形成用硬化性組成物及び第2層形成用硬化性組成物は、塗布された後、溶剤を乾燥するために乾燥ゾーンで加熱乾燥されることが好ましい。その際の乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。   The curable composition for forming the first layer and the curable composition for forming the second layer are preferably heated and dried in a drying zone in order to dry the solvent after being applied. In this case, the temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is relatively low temperature, and the second half is preferably relatively high temperature. However, it is preferably below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize.

溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線照射により各層を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することが好ましい。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm〜1000mJ/cmの照射量の紫外線を照射して塗膜を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度0.01%〜5%が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で2%以下が好ましい。紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。また、硬化反応を促進するために、硬化時に温度を高めることもでき、25〜100℃が好ましく、更に好ましくは30〜80℃、最も好ましくは40〜70℃である。 After the solvent drying zone, it is preferable to pass the zone through which the layers are cured by ionizing radiation irradiation on the web to cure the coating film. For example, if the coating film is ultraviolet-curable, preferably to cure the coating by an irradiation amount of 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 by an ultraviolet lamp. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation. Further, when it is necessary to purge nitrogen gas or the like to lower the oxygen concentration in order to promote surface hardening, the oxygen concentration is preferably 0.01% to 5%, and the distribution in the width direction is 2% or less in terms of oxygen concentration. Is preferred. In the case of ultraviolet irradiation, ultraviolet rays emitted from light such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, etc. can be used. Moreover, in order to accelerate | stimulate hardening reaction, temperature can also be raised at the time of hardening, 25-100 degreeC is preferable, More preferably, it is 30-80 degreeC, Most preferably, it is 40-70 degreeC.

[偏光板]
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも1枚含むことを特徴とする。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平6−94915号公報、特開平6−118232号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。また上記のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は第2層を積層した面でも良いし、第2層を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に上記偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention includes a polarizer and at least one optical film of the present invention as a protective film for the polarizer.
The optical film of the present invention can be used as a protective film for a polarizing plate. When using as a protective film for polarizing plates, the production method of a polarizing plate is not specifically limited, It can produce by a general method. There is a method in which the obtained optical film is treated with an alkali and bonded to both sides of a polarizer prepared by immersing and stretching a polyvinyl alcohol film in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. Instead of alkali treatment, easy adhesion processing as described in JP-A-6-94915 and JP-A-6-118232 may be performed. Moreover, you may perform the above surface treatments. The bonding surface of the optical film with the polarizer may be a surface on which the second layer is laminated, or a surface on which the second layer is not laminated.
Examples of the adhesive used to bond the protective film treated surface and the polarizer include polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, vinyl latexes such as butyl acrylate, and the like.
The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film for protecting both surfaces of the polarizer, and further composed of a protective film bonded to one surface of the polarizing plate and a separate film bonded to the other surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the adhesive layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate.

[液晶表示装置]
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、上記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする。
[Liquid Crystal Display]
The liquid crystal display device of the present invention includes a liquid crystal cell and the polarizing plate of the present invention disposed in at least one of the liquid crystal cells, so that the optical film of the present invention contained in the polarizing plate is the outermost layer. It is arranged.

(一般的な液晶表示装置の構成)
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて上記液晶セルと上記偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは(透明電極層の接着に用いる)アンダーコート層(下塗り層)を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に50μm〜2mmの厚さを有する。
(General liquid crystal display device configuration)
The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell having a liquid crystal supported between two electrode substrates, two polarizing plates disposed on both sides thereof, and, if necessary, between the liquid crystal cell and the polarizing plate. At least one optical compensation film is arranged.
The liquid crystal layer of the liquid crystal cell is usually formed by sealing liquid crystal in a space formed by sandwiching a spacer between two substrates. The transparent electrode layer is formed on the substrate as a transparent film containing a conductive substance. The liquid crystal cell may further be provided with a gas barrier layer, a hard coat layer, or an undercoat layer (undercoat layer) (used for adhesion of the transparent electrode layer). These layers are usually provided on the substrate. The substrate of the liquid crystal cell generally has a thickness of 50 μm to 2 mm.

液晶表示装置には通常2枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板用保護フィルムは、2枚の偏光板のいずれの保護フィルムとして用いることができるが、各偏光板の2枚の保護フィルムのうち、偏光子に対して液晶セルの外側に配置される保護フィルムとして用いられることが好ましい。
2枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、2枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、2枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。
In a liquid crystal display device, a substrate including a liquid crystal cell is usually disposed between two polarizing plates. The protective film for polarizing plates to which the optical film of the present invention is applied is a protective film for any of the two polarizing plates. Although it can be used, it is preferable to use as a protective film arrange | positioned outside a liquid crystal cell with respect to a polarizer among two protective films of each polarizing plate.
Of the two polarizing plates, it is particularly preferable to dispose the optical film of the present invention as a viewing-side protective film of the viewing-side polarizing plate.
Moreover, after arranging the optical film of the present invention as the protective film on the viewing side of the viewing side polarizing plate of the two polarizing plates, the present invention is also applied to the backlight side protective film of the backlight side polarizing plate. It is also a preferable aspect to dispose an optical film, suppress expansion and contraction of the polarizer contained in the two polarizing plates, and prevent warping of the panel.

(液晶表示装置の種類)
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Super Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)、ECB(Electrically Controlled Birefringence)、及びHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
(Types of liquid crystal display devices)
The film of the present invention can be used for liquid crystal cells in various display modes. TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), AFLC (Anti-Ferroly Liquid Liquid Crystal), OCB (Optically QuantNW). Various display modes such as ECB (Electrically Controlled Birefringence) and HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. In addition, a display mode in which the above display mode is oriented and divided has been proposed. The optical film of the present invention is effective in any display mode liquid crystal display device. Further, it is effective in any of a transmissive type, a reflective type, and a transflective liquid crystal display device.

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. The materials, reagents, amounts and ratios of substances, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the following examples.

[実施例1]
〔第1層形成用硬化性組成物の調製〕
以下に示す組成で、第1層形成用硬化性組成物を調製した。
MEK 16.90質量部
MIBK 59.16質量部
酢酸メチル 8.45質量部
A−TMMT(新中村化学工業(株)社製NKエステル) 14.24質量部
バイロンUR−1510(ポリエステルウレタン[東洋紡(株)製])
0.77質量部
Irg127(イルカギュア127)[BASF社製] 0.46質量部
[Example 1]
[Preparation of curable composition for forming first layer]
A curable composition for forming a first layer was prepared with the composition shown below.
MEK 16.90 parts by mass MIBK 59.16 parts by mass Methyl acetate 8.45 parts by mass A-TMMT (NK ester manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 14.24 parts by mass Byron UR-1510 (polyester urethane [Toyobo ( Product)])
0.77 parts by mass Irg127 (Irquagua 127) [manufactured by BASF] 0.46 parts by mass

〔第2層形成用硬化性組成物の調製〕
以下に示す組成で、第2層形成用硬化性組成物を調製した。
MEK 13.50質量部
MIBK 37.50質量部
A−DCP:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート[新中村化学工業(株)製]
53.35質量部
Irg907(イルカギュア907)[BASF社製] 1.65質量部
[Preparation of curable composition for forming second layer]
A curable composition for forming the second layer was prepared with the composition shown below.
MEK 13.50 parts by mass MIBK 37.50 parts by mass A-DCP: tricyclodecane dimethanol diacrylate [manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
53.35 parts by mass Irg907 (Ilquagua 907) [manufactured by BASF Corp.] 1.65 parts by mass

〔光学フィルムの作製〕
基材フィルムとしてフジタックTD60(富士フイルム(株)製、幅1,340mm、厚さ60μm)をロール形態から巻き出して、特開2006−122889号公報実施例1記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度30m/分の条件で、上記第1層形成用硬化性組成物を塗布し、60℃で150秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約1.0体積%で出力160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量70mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。第1層の膜厚は0.3μmになるよう塗布量を調整した。得られた第1層について、ナノインデンテーション弾性率(Er)を測定した。ナノインデンテーション弾性率(Er)の測定は、フィッシャー社製超微小硬さ試験システムピコデンターを用いて測定した。測定には、圧子としてベルコビッチ型圧子(先端稜角142.3°)と呼ばれる三角錘型ダイヤモンド製圧子を用いた。三角錘型ダイヤモンド製圧子を試料表面に直角に当て、徐々に荷重を印加し、最大荷重到達後に荷重を0にまで徐々に戻した。この時の最大荷重Pを圧子接触部の投影面積Aで除した値P/Aをナノインデンテーション硬度(H)として算出した。ナノインデンテーション弾性率(Er)は、除荷曲線の傾きSとしたとき、下記式を用いて算出した。
Er=(S×√π)/(2√A)(πは円周率)
原理の詳細は、Handbook of Micro/NanoTribology(BharatBhushan編CRC)に記載されている。
次に、特開2006−122889号公報の実施例1記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度30m/分の条件で、上記第1層の上に、上記第2層形成用硬化性組成物を塗布し、60℃で150秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約1.0体積%で出力160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量280mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。第2層の膜厚は10μmになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを実施例1とした。
[Production of optical film]
A die coating method using a slot die described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-122889 by unwinding Fujitac TD60 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., width 1,340 mm, thickness 60 μm) as a base film. Then, the curable composition for forming the first layer was applied under the condition of a conveyance speed of 30 m / min, and dried at 60 ° C. for 150 seconds. Thereafter, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) having an oxygen concentration of about 1.0% by volume under nitrogen purge and an output of 160 W / cm, an ultraviolet ray having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 70 mJ / cm 2 . Was applied to cure the coating layer and wound up. The coating amount was adjusted so that the film thickness of the first layer was 0.3 μm. About the obtained 1st layer, the nanoindentation elastic modulus (Er) was measured. The nanoindentation elastic modulus (Er) was measured using an ultra-micro hardness test system picodenter manufactured by Fischer. For the measurement, a triangular pyramid type diamond indenter called a Belkovic indenter (tip ridge angle 142.3 °) was used as an indenter. A triangular pyramid-shaped diamond indenter was applied to the sample surface at a right angle, a load was gradually applied, and the load was gradually returned to 0 after reaching the maximum load. A value P / A obtained by dividing the maximum load P at this time by the projected area A of the indenter contact portion was calculated as nanoindentation hardness (H). The nanoindentation elastic modulus (Er) was calculated using the following formula, assuming the slope S of the unloading curve.
Er = (S × √π) / (2√A) (π is the circumference)
Details of the principle are described in Handbook of Micro / NanoTribology (CRC edited by BharatBhushan).
Next, the second layer-forming curability is formed on the first layer by the die coating method using the slot die described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-122889 on the condition of a conveyance speed of 30 m / min. The composition was applied and dried at 60 ° C. for 150 seconds. Thereafter, an ultraviolet ray having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 280 mJ / cm 2 using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) with an oxygen concentration of about 1.0% by volume under a nitrogen purge and an output of 160 W / cm. Was applied to cure the coating layer and wound up. The coating amount was adjusted so that the thickness of the second layer was 10 μm.
The obtained optical film was taken as Example 1.

<実施例2〜27、比較例1〜7の作製>
上記実施例1の作製において、第1層形成用硬化性組成物及び第2層形成用硬化性組成物の組成を下記表1に記載のようにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜27及び比較例6〜7の光学フィルムを作製した。また、第1層を形成せず、第2層形成用硬化性組成物の組成を下記表1に記載のようにして、比較例1〜5の光学フィルムを作製した。なお、実施例9及び比較例3の第2層形成用硬化性組成物中には、ロジン(KR−614[荒川化学工業(株)製])を添加した。
<Preparation of Examples 2-27 and Comparative Examples 1-7>
In the production of Example 1 above, except that the composition of the curable composition for forming the first layer and the curable composition for forming the second layer was as described in Table 1 below, Optical films of Examples 2 to 27 and Comparative Examples 6 to 7 were produced. Moreover, the 1st layer was not formed but the composition of the curable composition for 2nd layer formation was made into the composition of the following Table 1, and the optical film of Comparative Examples 1-5 was produced. In addition, in the curable composition for forming the second layer of Example 9 and Comparative Example 3, rosin (KR-614 [manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.]) was added.

使用した材料を以下に示す。
・A−TMMT:NKエステル[新中村化学工業(株)製]
(分子量: 352、アクリル当量: 88)
・ATM−4E:NKエステル[新中村化学工業(株)製]
(分子量: 529、アクリル当量: 132)
・A−200:NKエステル[新中村化学工業(株)製]
(分子量: 308、アクリル当量: 154)
・UV−1700B:ウレタンアクリレート [日本合成化学(株)製]
(分子量:2000、アクリル当量: 200)
・バイロンUR−1510:ポリエステルウレタン[東洋紡(株)製]
・カネエースM210:MMA−BAコアシェル[(株)カネカ製]
・クラリティLA2140E:MMA−BAブロック[(株)クラレ製]
・Irg127(イルカギュア127):重合開始剤[BASF社製]
・A−DCP:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート[新中村化学工業(株)製]
・DCP:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート[新中村化学工業(株)製]
・AD−DA:1,3−アダマンタンジオールジアクリレート[新中村化学工業(株)製]
・Irg907(イルカギュア907):重合開始剤[BASF社製]
・KR−614:パインクリスタル[荒川化学工業(株)製]
The materials used are shown below.
-A-TMMT: NK ester [manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
(Molecular weight: 352, acrylic equivalent: 88)
ATM-4E: NK ester [made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
(Molecular weight: 529, acrylic equivalent: 132)
-A-200: NK ester [made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
(Molecular weight: 308, acrylic equivalent: 154)
UV-1700B: urethane acrylate [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.]
(Molecular weight: 2000, acrylic equivalent: 200)
・ Byron UR-1510: Polyester urethane [manufactured by Toyobo Co., Ltd.]
Kane Ace M210: MMA-BA core shell [manufactured by Kaneka Corporation]
-Clarity LA2140E: MMA-BA block [manufactured by Kuraray Co., Ltd.]
Irg127 (Irquagua 127): polymerization initiator [manufactured by BASF]
A-DCP: Tricyclodecane dimethanol diacrylate [manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
DCP: tricyclodecane dimethanol dimethacrylate [manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
AD-DA: 1,3-adamantanediol diacrylate [manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]
・ Irg907 (Irquagua 907): Polymerization initiator [manufactured by BASF]
KR-614: Pine Crystal [Arakawa Chemical Industries, Ltd.]

[光学フィルムの評価]
作製した各実施例及び比較例の光学フィルムについて、下記の物性測定と評価を行った。結果は下記表1に示す。
[Evaluation of optical film]
About the produced optical film of each Example and a comparative example, the following physical-property measurement and evaluation were performed. The results are shown in Table 1 below.

(a)光学フィルム及び第2層の透湿度(40℃90%相対湿度での透湿度)
各実施例及び比較例の光学フィルム試料70mmφを40℃、相対湿度90%でそれぞれ24時間調湿し、JIS Z−0208記載の方法により、光学フィルムの透湿度を測定した。
また、各実施例及び比較例の各光学フィルムの基材フィルム及び第1層の透湿度を測定し、基材フィルム及び第1層の透湿度と、光学フィルムの透湿度から、明細書中で前述した式(1)を用いて、第2層の透湿度を算出した。
(A) Moisture permeability of optical film and second layer (moisture permeability at 40 ° C. and 90% relative humidity)
The 70 mmφ optical film samples of each Example and Comparative Example were each conditioned at 40 ° C. and 90% relative humidity for 24 hours, and the moisture permeability of the optical film was measured by the method described in JIS Z-0208.
Further, the moisture permeability of the base film and the first layer of each optical film of each example and comparative example is measured, and from the moisture permeability of the base film and the first layer and the moisture permeability of the optical film, in the specification The moisture permeability of the second layer was calculated using the formula (1) described above.

(b)密着性評価
光学フィルムの第2層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを入れて合計100個の1cm×1cmの大きさの正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ“NO.31B”を圧着し、1分間放置した後に勢いよく剥離することにより、基材フィルムと塗布層の密着試験を行った。
上記密着試験後の剥がれの有無を目視で観察し、升内の1/4以上の面積が剥離しているものを剥離升とみなして、剥離升数をカウントし、下記の2段階評価を行った。
A:剥離升が0〜10升であったもの
B:剥離升が11〜100升であったもの
(B) Adhesion evaluation On the surface having the second layer of the optical film, 11 vertical and 11 horizontal cuts were made with a cutter knife in a grid pattern to make a total of 100 squares of 1 cm × 1 cm in size. The polyester film adhesive tape “NO.31B” manufactured by Nitto Denko Co., Ltd. was pressed, left for 1 minute, and then peeled off vigorously to conduct an adhesion test between the base film and the coating layer.
The presence or absence of peeling after the above adhesion test was visually observed, and a case where an area of 1/4 or more in the ridge was peeled was regarded as a peeling ridge, the number of peeling ridges was counted, and the following two-stage evaluation was performed. It was.
A: The peeling wrinkle was 0 to 10 mm B: The peeling wrinkle was 11 to 100 mm

(c)浮きの評価
浮きの評価方法について、図1〜3を参照して以下に説明する。
図1に示すように、光学フィルム1をトムソン刃(MIR−CI23:株式会社ナカヤマ製)を用いて、60mm×60mmの四角形に打ち抜き、評価用試料2を作製した。なお、打ち抜き方法は、第2層が形成されている側に刃を接触させ、基材フィルムの方向に向かって垂直に打ち抜いた。
その後、図2の破線で示すように、打ち抜いた評価用試料2の打ち抜き線の内側5mmを切片3として切り出し、その断面を図2の矢印の方向から1000倍の光学顕微鏡で観察した。
図3に示すように、浮きが発生している断面は、評価用試料2から切り出した切片3の端部において、基材フィルム上に形成された第1層Bから第2層Aが浮き上がり、空隙部が発生する。
本実施例においては、評価用試料2の4辺の任意の30箇所について、上記の方法で断面の観察を行い、評価用試料2から切り出した切片3の端部から第1層Bと第2層Aとの界面に沿って5μm以上の幅で空隙部が認められる場合を浮きありとみなし、浮きありと認定された断面の箇所を数え、下記の4段階の評価を行った。
A:浮きが0箇所であったもの
B:浮きが1箇所であったもの
C:浮きが2〜3箇所であったもの
D:浮きが4箇所以上であったもの
(C) Evaluation of floating The evaluation method of floating will be described below with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the optical film 1 was punched into a 60 mm × 60 mm square using a Thomson blade (MIR-CI23: manufactured by Nakayama Co., Ltd.) to prepare an evaluation sample 2. In the punching method, the blade was brought into contact with the side on which the second layer was formed, and punched vertically toward the direction of the base film.
Thereafter, as indicated by a broken line in FIG. 2, 5 mm inside the punched line of the evaluation sample 2 punched out was cut out as a section 3, and the cross section was observed with a 1000 × optical microscope from the direction of the arrow in FIG.
As shown in FIG. 3, in the cross section where the floating occurs, the second layer A is lifted from the first layer B formed on the base film at the end of the section 3 cut out from the evaluation sample 2. A void is generated.
In the present example, the cross section of the arbitrary 30 positions on the four sides of the evaluation sample 2 is observed by the above method, and the first layer B and the second layer 2 are formed from the end of the section 3 cut out from the evaluation sample 2. The case where a void portion was recognized with a width of 5 μm or more along the interface with the layer A was considered as floating, and the following four stages of evaluation were performed by counting the cross-sectional portions that were recognized as floating.
A: The float was 0 place B: The float was 1 place C: The float was 2-3 places D: The float was 4 places or more

Figure 2016033623
Figure 2016033623

上記表中の[wt%]は、組成物の全固形分に対する質量%を表す。   [Wt%] in the said table | surface represents the mass% with respect to the total solid of a composition.

表1に示すように、実施例1〜27は特定の組成物からなる第2層を形成したものであるので、光学フィルムの透湿度及び密着性の評価結果が優れたものとなった。また、特定の組成物からなる第1層を形成しており、第1層の弾性率が制御されているので、比較例2〜7と比較して、浮きの評価結果が良好なものとなった。   As shown in Table 1, since Examples 1-27 formed the 2nd layer which consists of a specific composition, the moisture permeability of an optical film and the evaluation result of adhesiveness were excellent. Moreover, since the 1st layer which consists of a specific composition is formed and the elasticity modulus of the 1st layer is controlled, compared with Comparative Examples 2-7, the evaluation result of a float becomes a favorable thing. It was.

1;光学フィルム
2;評価用試料
3;切片
A;第2層
B;第1層
1; Optical film 2; Sample 3 for evaluation; Section A; Second layer B; First layer

Claims (13)

基材フィルムと、第1層と、第2層とをこの順に有する光学フィルムであって、
前記第1層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が1.0〜5.0GPaである層であり、
前記第2層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルム。
An optical film having a base film, a first layer, and a second layer in this order,
The first layer is a layer formed by curing a curable composition for forming a first layer containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond and having an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa. ,
The second layer contains at least one of a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond. An optical film, which is a layer formed by curing a curable composition for formation.
前記第1層形成用硬化性組成物は、前記第1層形成用硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を30〜99質量%含有する、請求項1に記載の光学フィルム。   The first layer forming curable composition comprises 30 to 99 compounds having the ethylenically unsaturated double bond, when the total solid content of the first layer forming curable composition is 100% by mass. The optical film according to claim 1, which is contained by mass%. 前記第2層形成用硬化性組成物は、前記第2層形成用硬化性組成物の全固形分を100質量%とした場合に、前記環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを50〜99質量%含有する、請求項1又は2に記載の光学フィルム。   The curable composition for forming the second layer has the cyclic aliphatic hydrocarbon group and the ethylenically unsaturated double bond when the total solid content of the curable composition for forming the second layer is 100% by mass. The optical film of Claim 1 or 2 which contains 50-99 mass% of at least any one of the compound which has these, and the compound which has a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond. 前記第1層形成用硬化性組成物は、更に、エラストマーを含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the curable composition for forming a first layer further contains an elastomer. 前記エラストマーは、ポリウレタン系、アクリル系、又はポリスチレン系のエラストマーである、請求項4に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 4, wherein the elastomer is a polyurethane-based, acrylic-based, or polystyrene-based elastomer. 前記第1層形成用硬化性組成物に含有される前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子量が2000以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the compound having an ethylenically unsaturated double bond contained in the curable composition for forming a first layer has a molecular weight of 2000 or less. 前記第1層形成用硬化性組成物に含有される前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、アクリル当量が200以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 6, wherein the compound having an ethylenically unsaturated double bond contained in the curable composition for forming a first layer has an acrylic equivalent of 200 or less. . 前記第1層の膜厚は1.0μm未満である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the first layer has a thickness of less than 1.0 μm. 前記第2層形成用硬化性組成物は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を含有し、前記環状脂肪族炭化水素基が下記一般式(I)及び一般式(IV)の少なくとも1種で表される基である請求項1〜8のいずれか1項に記載の光学フィルム。
Figure 2016033623

一般式(I)中、L、及びL1は各々独立に二価以上の連結基を表し、nは1〜3の整数を表す。
Figure 2016033623

一般式(IV)中、L、及びL1は各々独立に単結合又は2価以上の連結基を表し、L2は水素原子、単結合又は2価以上の連結基を表す。
The curable composition for forming the second layer contains a compound having a cyclic aliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond, and the cyclic aliphatic hydrocarbon group is represented by the following general formula (I) and It is group represented by at least 1 sort (s) of Formula (IV), The optical film of any one of Claims 1-8.
Figure 2016033623

In general formula (I), L and L1 each independently represent a divalent or higher valent linking group, and n represents an integer of 1 to 3.
Figure 2016033623

In general formula (IV), L and L1 each independently represent a single bond or a divalent or higher linking group, and L2 represents a hydrogen atom, a single bond or a divalent or higher valent linking group.
前記第2層形成用硬化性組成物は、更にロジン化合物を含有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the curable composition for forming a second layer further contains a rosin compound. 偏光子と、前記偏光子の保護フィルムとして請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学フィルムとを少なくとも1枚含む偏光板。   The polarizing plate which contains at least 1 sheet of polarizer and the optical film of any one of Claims 1-10 as a protective film of the said polarizer. 液晶セルと、前記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された請求項11に記載の偏光板とを含み、前記光学フィルムが最表層となるように配置された液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal cell; and the polarizing plate according to claim 11 disposed on at least one surface of the liquid crystal cell, wherein the optical film is an outermost layer. 基材フィルムと、第1層と、第2層とをこの順に有する光学フィルムの製造方法であって、
前記基材フィルム上に、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第1層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して、弾性率が1.0〜5.0GPaである第1層を形成する工程と、
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第2層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して第2層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
A method for producing an optical film having a base film, a first layer, and a second layer in this order,
On the base film,
Applying a curable composition for forming a first layer containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond and curing to form a first layer having an elastic modulus of 1.0 to 5.0 GPa; ,
Curable composition for second layer formation containing at least one of a compound having a cycloaliphatic hydrocarbon group and an ethylenically unsaturated double bond and a compound having a fluorene ring and an ethylenically unsaturated double bond Applying and curing to form a second layer. An optical film manufacturing method comprising:
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