JP2016027667A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料(ウエハ112)をプラズマ処理する処理室104と、処理室内にプラズマを生成するためのプラズマ生成用高周波電源(電磁波発生用電源109)と、試料が載置された試料台載置用電極111に高周波バイアス電力を供給する高周波バイアス電源114と、プラズマ生成用高周波電源の出力を変調するための第一のパルスと高周波バイアス電源の出力を変調するための第二のパルスを生成するパルス発生ユニット121と、プラズマ処理を行うための制御を行う制御部120とを備える。パルス発生ユニットは、制御部から送信されたパルス遅延時間に基づいて同期した第一のパルスと第二のパルスを生成し、パルス遅延時間は、第二のパルスを第一のパルスに対して遅らせる時間である。
【選択図】図1
Description
14の出力立ち上りタイミングを図4のパルス遅延時間202の時間だけ遅らせたパルス情報を、制御部120からパルス発生ユニット121に設定することで、高周波バイアス電源出力のVppを安定させるためのオン・オフのタイミング調整を容易に実施することができる。つまり、パルス遅延時間202は、高周波バイアス電源114の出力のVppが安定する時間とする。
102・・・シャワープレート
103・・・誘電体窓
104・・・処理室
105・・・ガス供給装置
106・・・真空排気装置
107・・・導波管
109・・・電磁波発生用電源
110・・・磁場発生コイル
111・・・試料載置用電極
112・・・ウエハ
113・・・マッチング回路
114・・・高周波バイアス電源
115・・・高周波フィルター
116・・・直流電源
117・・・排気用開閉バルブ
118・・・排気速度可変バルブ
119・・・オシロスコープ
120・・・制御部
121・・・パルス発生ユニット
122・・・第一のパルスカウンタ
123・・・第二のパルスカウンタ
124・・・制御ユニット
201・・・マイクロ波出力遅れ時間
202・・・パルス遅延時間
301・・・プラズマ発光の安定時間
302・・・安定したプラズマの発光レベル
401・・・パルス変調モード移行遅延時間
402・・・連続出力モード移行遅延時間
Claims (3)
- 試料がプラズマ処理される処理室と、前記処理室内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置された試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記第一の高周波電力を変調するための第一のパルスと前記第二の高周波電力を変調するための第二のパルスを生成するパルス発生ユニットと、前記パルス発生ユニットを制御する制御部とを備えるプラズマ処理装置において、
前記第一の高周波電源の出力を連続出力させる連続出力モードから前記第一の高周波電源の出力をパルス変調させるパルス変調モードへ移行させるとともに前記第二の高周波電源の出力を連続出力させる連続出力モードから前記第二の高周波電源の出力をパルス変調させるパルス変調モードへ移行させる場合、前記制御部は、前記第二の高周波電源の出力を連続出力モードからパルス変調モードへ移行させた後、前記第一の高周波電源の出力を連続出力モードからパルス変調モードへ移行させる制御を行うことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 試料がプラズマ処理される処理室と、前記処理室内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置された試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記第一の高周波電力を変調するための第一のパルスと前記第二の高周波電力を変調するための第二のパルスを生成するパルス発生ユニットと、前記パルス発生ユニットを制御する制御部とを備えるプラズマ処理装置において、
前記第一の高周波電源の出力をパルス変調させるパルス変調モードから前記第一の高周波電源の出力を連続出力させる連続出力モードへ移行させるとともに前記第二の高周波電源の出力をパルス変調させるパルス変調モードから前記第二の高周波電源の出力を連続出力させる連続出力モードへ移行させる場合、前記制御部は、前記第一の高周波電源の出力をパルス変調モードから連続出力モードへ移行させた後、前記第二の高周波電源の出力をパルス変調モードから連続出力モードへ移行させる制御を行うことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一の高周波電源の出力をパルス変調させるパルス変調モードから前記第一の高周波電源の出力を連続出力させる連続出力モードへ移行させるとともに前記第二の高周波電源の出力をパルス変調させるパルス変調モードから前記第二の高周波電源の出力を連続出力させる連続出力モードへ移行させる場合、前記制御部は、前記第一の高周波電源の出力をパルス変調モードから連続出力モードへ移行させた後、前記第二の高周波電源の出力をパルス変調モードから連続出力モードへ移行させる制御を行うことを特徴とするプラズマ処理装置。
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