JP5718124B2 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
前記第一の高周波電力を時間変調するためのパルスの設定された繰り返し周波数における第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と前記繰り返し周波数における前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲内の値である第二のデジタル値を前記D/Aコンバータによりそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換する制御部とをさらに備え、前記第一の高周波電源は、前記制御部より送信された前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換するA/Dコンバータと、前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記A/Dコンバータにより変換された第一のデジタル値または前記A/Dコンバータにより変換された第二のデジタル値を選択する信号処理部と、前記信号処理部により選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスを発生させるパルス発生器と、を具備することを特徴とするプラズマ処理装置である。
前記第二の高周波電力を時間変調するためのパルスの設定された繰り返し周波数における第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と前記繰り返し周波数における前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲内の値である第二のデジタル値を前記D/Aコンバータによりそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換する制御部とをさらに備え、前記第二の高周波電源は、前記制御部より送信された前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換するA/Dコンバータと、前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記A/Dコンバータにより変換された第一のデジタル値または前記A/Dコンバータにより変換された第二のデジタル値を選択する信号処理部と、前記信号処理部により選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスを発生させるパルス発生器と、を具備することを特徴とするプラズマ処理装置である。
また、試料がプラズマ処理される真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記真空容器内に配置され前記試料を載置する試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源とを備えるプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法において、前記第二の高周波電力を時間変調するためのパルスの繰り返し周波数における制御範囲を第一の制御範囲と前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲に分割し、設定された前記繰り返し周波数の前記第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と設定された前記繰り返し周波数の前記第二の制御範囲の値である第二のデジタル値をそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換して前記第二の高周波電源に送信し、前記第二の高周波電源に送信された第一のアナログ値と第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換し、前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記変換された第一のデジタル値または前記変換された第二のデジタル値を選択し、前記選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスにより前記第二の高周波電力を時間変調しながら前記試料をプラズマ処理することを特徴とするプラズマ処理方法である。
Claims (8)
- 試料がプラズマ処理される真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記真空容器内に配置され前記試料を載置する試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、デジタル信号をアナログ信号に変換するD/Aコンバータとを備えるプラズマ処理装置において、
前記第一の高周波電力を時間変調するためのパルスの設定された繰り返し周波数における第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と前記繰り返し周波数における前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲内の値である第二のデジタル値を前記D/Aコンバータによりそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換する制御部とをさらに備え、
前記第一の高周波電源は、前記制御部より送信された前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換するA/Dコンバータと、前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記A/Dコンバータにより変換された第一のデジタル値または前記A/Dコンバータにより変換された第二のデジタル値を選択する信号処理部と、前記信号処理部により選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスを発生させるパルス発生器と、を具備することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記制御部は、前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値を異なるタイミングで周期的に前記A/Dコンバータへ送信し、
前記信号処理部は、前記選択するための信号に基づいて前記A/Dコンバータから送信されたデジタル値を受信するタイミングと前記異なるタイミングのいずれかとを同期させることにより、前記第一のデジタル値または前記第二のデジタル値を選択することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 試料がプラズマ処理される真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記真空容器内に配置され前記試料を載置する試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、デジタル信号をアナログ信号に変換するD/Aコンバータとを備えるプラズマ処理装置において、
前記第二の高周波電力を時間変調するためのパルスの設定された繰り返し周波数における第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と前記繰り返し周波数における前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲内の値である第二のデジタル値を前記D/Aコンバータによりそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換する制御部とをさらに備え、
前記第二の高周波電源は、前記制御部より送信された前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換するA/Dコンバータと、前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記A/Dコンバータにより変換された第一のデジタル値または前記A/Dコンバータにより変換された第二のデジタル値を選択する信号処理部と、前記信号処理部により選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスを発生させるパルス発生器と、を具備することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項3に記載のプラズマ処理装置において、
前記制御部は、前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値を異なるタイミングで周期的に前記A/Dコンバータへ送信し、
前記信号処理部は、前記選択するための信号に基づいて前記A/Dコンバータから送信されたデジタル値を受信するタイミングと前記異なるタイミングのいずれかとを同期させることにより、前記第一のデジタル値または前記第二のデジタル値を選択することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 試料がプラズマ処理される真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記真空容器内に配置され前記試料を載置する試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源とを備えるプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法において、
前記第一の高周波電力を時間変調するためのパルスの繰り返し周波数における制御範囲を第一の制御範囲と前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲に分割し、
設定された前記繰り返し周波数の前記第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と設定された前記繰り返し周波数の前記第二の制御範囲の値である第二のデジタル値をそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換して前記第一の高周波電源に送信し、
前記第一の高周波電源に送信された第一のアナログ値と第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換し、
前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記変換された第一のデジタル値または前記変換された第二のデジタル値を選択し、
前記選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスにより前記第一の高周波電力を時間変調しながら前記試料をプラズマ処理することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項5に記載のプラズマ処理方法において、
前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値を異なるタイミングで周期的に送信し、
前記選択するための信号に基づいてデジタル値に変換された値を受信するタイミングと前記タイミングのいずれかとを同期させることにより、前記第一のデジタル値または前記第二のデジタル値を選択することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 試料がプラズマ処理される真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記真空容器内に配置され前記試料を載置する試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源とを備えるプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法において、
前記第二の高周波電力を時間変調するためのパルスの繰り返し周波数における制御範囲を第一の制御範囲と前記第一の制御範囲より制御範囲が広い第二の制御範囲に分割し、
設定された前記繰り返し周波数の前記第一の制御範囲内の値である第一のデジタル値と設定された前記繰り返し周波数の前記第二の制御範囲の値である第二のデジタル値をそれぞれ第一のアナログ値と第二のアナログ値に変換して前記第二の高周波電源に送信し、
前記第二の高周波電源に送信された第一のアナログ値と第二のアナログ値をそれぞれ前記第一のデジタル値と前記第二のデジタル値に変換し、
前記第一の制御範囲または前記第二の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記変換された第一のデジタル値または前記変換された第二のデジタル値を選択し、
前記選択された第一のデジタル値または第二のデジタル値に対応する繰り返し周波数のパルスにより前記第二の高周波電力を時間変調しながら前記試料をプラズマ処理することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項7に記載のプラズマ処理方法において、
前記第一のアナログ値と前記第二のアナログ値を異なるタイミングで周期的に送信し、
前記選択するための信号に基づいてデジタル値に変換された値を受信するタイミングと前記タイミングのいずれかとを同期させることにより、前記第一のデジタル値または前記第二のデジタル値を選択することを特徴とするプラズマ処理方法。
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