JP2016015518A5 - 表示装置の作製方法 - Google Patents
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Claims (5)
- 固定基板上に分離層を介して樹脂基板を形成する工程と、
前記樹脂基板上に半導体素子及びＥＬ素子を形成する工程と、
レーザー光を照射することにより、前記固定基板を剥離する工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法（但し、剥離する工程において分離層を溶剤中で溶解することは除く）。 - 固定基板上に有機物層を介して樹脂基板を形成する工程と、
前記樹脂基板上に半導体素子及びＥＬ素子を形成する工程と、
レーザー光を照射することにより、前記固定基板を剥離する工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法（但し、剥離工程において有機物層を溶剤中で溶解することは除く）。 - 固定基板上に分離層を介してポリイミド層を形成する工程と、
前記ポリイミド層上に半導体素子及びＥＬ素子を形成する工程と、
レーザー光を照射することにより、前記固定基板を剥離する工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法（但し、剥離する工程において分離層を溶剤中で溶解することは除く）。 - 固定基板上に有機物層を介してポリイミド層を形成する工程と、
前記ポリイミド層上に半導体素子及びＥＬ素子を形成する工程と、
レーザー光を照射することにより、前記固定基板を剥離する工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法（但し、剥離する工程において有機物層を溶剤中で溶解することは除く）。 - 固定基板上に有機物層を介してポリイミド層を形成する工程と、
前記ポリイミド層上に半導体素子及びＥＬ素子を形成する工程と、
前記固定基板を通してレーザー光を照射することにより、前記固定基板を剥離する工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
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