JP2015536731A - Ｘ線ビーム透過プロファイル成形器の並進移動 - Google Patents

Abstract

イメージングシステム３００は、スキャンの間、検査領域３０６の方向に進む放射線を放出する放射線源３０８と、検査領域をはさんで放射線源の反対側に位置する検出器アレイ３１６と、を有し、検出器アレイは、スキャンの間、検査領域を横切る放射線を検出し、検出した放射線を表す信号を生成する。放射線源と検査領域との間に位置するビーム成形器３１８は、検査領域を横切る放射線ビームのフラックス強度プロファイルを規定する。ビーム成形器は、その上に入射するＸ線を減衰させる複数のＸ線減衰素子３２６を有し、複数のＸ線減衰素子は、Ｘ線を減衰されないまま通過させる複数の材料フリーな領域でインタリーブされている。Ｘ線の透過率は、ビーム成形器の端部領域と比べてビーム成形器の中央領域に近いほど大きくなる。ビーム成形器移動手段３２８は、スキャンの少なくとも１の取得間隔の間、ビーム成形器を並進させる。

Description

本発明は、概して、減衰及び非減衰領域を有し、少なくとも１の取得間隔の間に透過フラックスプロファイルを成形するように構成されるＸ線ビーム成形器を並進させることに関し、特にコンピュータトモグラフィ（ＣＴ）に対する応用に関して記述される。しかしながら、本発明は、例えばＸ線のような他のイメージングモダリティにも受け入れられる。

ＣＴスキャナは、検査領域の方向に焦点スポットからの放射線を放出するＸ線管を有する。線源コリメータは、焦点スポットと検査領域との間で配置され、予め決められた幾何学的形状（例えば、扇形、円錐形、その他）を有するビームを生成するように、放出された放射線をコリメートする。コリメートされたビームは、検査領域及びその中の対象又は被検体の一部を横切る（これは、対象又は被検体の放射線濃度の関数としてビームを減衰させる）、検査領域をはさんでＸ線管の反対側に配置された検出器アレイを照射する。検出器は、検出された放射線を表す投影データを生成する。投影データは、それを表すボリュメトリック画像データが生成するように再構成される。ボリュメトリック画像データは、それを表す１又は複数の画像を生成するように処理されることができる。

プレ患者放射フィルタ（多くの場合その形状によりボウタイフィルタと呼ばれる）が、空間的に放出された放射線を減衰させて透過プロファイルを成形するために、焦点スポットとコリメータとの間に位置付けられる。

図１は、焦点スポット１０４、線源コリメータ１０６、Ｘ線ビーム１０８、検出器アレイ１１０、検査領域１１２、及びその中の被検体又は対象１１４と共にボウタイフィルタ１０２の例を概略的に示している。その形状により、ボウタイフィルタ１０２は、空気のみを横切るビーム１０８の領域を重くフィルタリングし、被検体１１４を横切るビーム１０８の領域を軽くフィルタリングし、それらの領域の間の遷移部分のフィルタリングの程度を変化させる。図２は、ビーム角の関数として、結果として得られる透過プロファイル２００を例示的に示す。

ｙ軸２０２が透過を表し、ｘ軸２０４がビーム角を表す。プロファイル２００は、フィルタ１０２の厚さに関して変化することに注意されたい。

残念なことに、ボウタイフィルタ１０２は、より高いエネルギーの線よりもより低いエネルギーの光線を優先的にフィルタリングし、それによって、フィルタ１０２に入射するビームに対して、フィルタ１０２を出射するビームのＸ線スペクトルを変える。これは、ビームハードニングと呼ばれる。従って、被検体又は対象を走査するために使用されるビームのＸ線スペクトルは、最適な及び／又は所望のＸ線スペクトルでないことがあり、これは画像品質を劣化させうる。更に、ボウタイフィルタ１０２フィルタは、不所望の散乱をもたらすことがあり、それは画像品質を劣化させ、患者線量を増大させうる。少なくとも上述したことに関して、ビーム成形装置の他の構成の未だ解決されていないニーズがある。

ここに記述される見地は、上述した問題及びその他に対処する。

１つの見地において、イメージングシステムは、スキャン中、検査領域の方向に進む放射線を放出する放射線源と、検査領域をはさんで放射線源の反対側に位置し、スキャン中、検査領域を横切る放射線を検出し、検出した放射線を表す信号を生成する検出器アレイと、を有する。放射線源と検査領域との間に位置するビーム成形器が、検査領域を横切る放射線ビームのフラックス強度プロファイルを規定する。ビーム成形器は、複数のＸ線減衰素子を有し、複数のＸ線減衰素子は、その上に入射するＸ線を減衰させ、Ｘ線を減衰させないまま通過させる複数の材料フリーな領域によってインタリーブされる。Ｘ線の透過率は、ビーム成形器の端部領域と比べて、ビーム成形器の中央領域に近いほど大きくなる。ビーム成形器移動手段は、スキャンの少なくとも１の取得間隔の間、ビーム成形器を並進させる。

別の見地において、方法は、スキャン中、検査領域の方向にＸ線を放出することを含む。方法は更に、放射線ビームの強度プロファイルを規定するために、ビーム成形器によって、放出されたビームをフィルタリングすることを含む。ビーム成形器は、その上に入射するＸ線を減衰させる複数のＸ線減衰素子を有し、複数のＸ線減衰素子は、その上に入射するＸ線を減衰させ、Ｘ線を減衰させないまま通過させる複数の材料フリーな領域によってインタリーブされる。Ｘ線の透過率は、ビーム成形器の端部領域と比べて、ビーム成形器の中央領域に近いほど大きくなる。方法は更に、スキャンの少なくとも１の取得間隔の間、ビーム成形器を並進させることを含む。方法は、更に、スキャン中に検査領域を横切る放射線を検出し、検出した放射線を表す信号を生成することを含む。

別の見地において、方法は、少なくとも１の取得間隔の間、ビーム成形器を並進させることを含み、これは、少なくとも１の取得間隔にわたってビーム成形器の減衰を拡散させ、ビーム成形器を並進させない場合と比べて、検出器アレイにわたって一様なフラックス強度プロファイルを生成する。

本発明は、さまざまな構成要素及び構成要素の取り合わせ並びにさまざまなステップ及びステップの取り合わせの形をとることができる。図面は、好適な実施形態を例示する目的でのみ示されており、本発明を制限するものとして解釈されるべきでない。

ＣＴスキャナ用の放射線ビームの透過プロファイルを成形するための従来のアプローチを概略的に示す図。 図１の従来技術のアプローチを使用して成形される透過プロファイルを示す図。 ビーム成形器及びビーム成形器移動手段を有する例示のイメージングシステムを概略的に示す図。 例示のビーム成形器を概略的に示す図。 別の例示のビーム成形器を概略的に示す図。 取得間隔の間、第１のロケーションにある並進ビーム成形器を概略的に示す図。 取得間隔の間、次のロケーションにある図６の並進ビーム成形器を概略的に示す図。 取得間隔の間、最後のロケーションにある図６の並進ビーム成形器を概略的に示す図。 ビーム成形器が並進されない場合の例示のフラックスプロファイルを示す図。 ビーム成形器が並進される場合の例示のフラックスプロファイルを示す図。 ビーム成形器移動手段の例示の構成を概略的に示す図。 ビーム成形器移動手段の別の例示の構成を概略的に示す図。 ビーム成形器移動手段の別の例示の構成を概略的に示す図。 ビーム成形器移動手段の別の例示の構成を概略的に示す図。 ビーム成形器移動手段の別の例示の構成を概略的に示す図。 例示の方法を示す図。

図３は、コンピュータトモグラフィ（ＣＴ）スキャナのようなイメージングシステム３００を示す。イメージングシステム３００は、静止ガントリ３０２と、静止ガントリ３０２によって回転可能に支持される回転ガントリ３０４と、を有する。回転ガントリ３０４は、長手軸又はｚ軸を中心に検査領域３０６のまわりを回転する。

Ｘ線管のような放射線源３０８が、回転ガントリ３０４によって支持され、検査領域３０６のまわりを回転ガントリ３０４と共に回転する。放射線源３０８は、線源３０８のアノード（図示せず）の焦点スポット３１２から、検査領域３０６の方向を含む本質的に全方向に放射線ビーム３１０を放出する。

線源コリメータ３１４が、扇形、円錐形、くさび形又は検査領域３０６を横切る他の形状の３１０を含む関心のある予め決められた幾何学的形状に、ビーム３１０をコリメートする。

放射線感受性検出器アレイ３１６は、検査領域３０６をはさんで放射線源３０８の反対側に位置する。検出器アレイ３１６は、検査領域３０６を横切る放射線を検出し及び検出した放射線を表す投影データを生成する検出器ピクセルの１次元（１Ｄ）又は２次元（２Ｄ）アレイを含む。

ビーム成形器３１８は、焦点スポット３１２と検査領域３０６との間に、例えば線源３０８のビームポートに配置され、かかるビームポートは、焦点スポット３１２とコリメータ３１４との間にあって、従来のＣＴスキャナＸ線管の焦点スポット３１２のすぐ近くに位置し、及び／又は他の場所にある。図示されるビーム成形器３１８は、ビーム３１０の透過プロファイルを成形するように構成される。これは、透過がビーム３１０の中心光線３２２に近いほど大きくなり、光線３２２から離れて外側の光線３２４に向かう方向に減少するように、ビームを成形することを含む。

透過は、例えばｘ方向に沿って１次元に、又は例えばｘ−ｚ平面のような複数次元において、（線形に又は非線形に、決定論的に又は局所的にランダムに、しかし全体として規定された態様で）変化する。１つの例において、ビーム成形器３１８は、材料フリーな領域によってインタリーブされる複数の減衰素子３２６を有する。減衰素子３２６は、その上に入射する光線を完全に又はほぼ減衰させ、材料フリーな領域を通って進む光線は、減衰されずに進む。ビーム成形器３１８は、図１に示されるボウタイフィルタのような従来のボウタイフィルタの位置で、又はそれと組み合わされて使用されることができる。

図４及び図５は、ビーム成形器３１８の非限定的な例を示す。他の構成もここで企図されることが理解されるべきである。図４及び図５は共に、焦点スポット３１２から検出器アレイ３１６の方向にビーム成形器３１８を見た上面図を示す。

図４において、ビーム成形器３１８は、その上に入射するＸ線を完全に又はほぼ減衰させる高Ｚ材料を含むロッド形状の減衰素子３２６の２次元アレイを有する。ロッド形状の減衰素子３２６は、外側の光線が通過するビーム成形器３１８の外側の領域４０４が、中心光線が通過するビーム成形器３１８の中央領域４０６よりも、ロッド３２６のより大きな密度を有するように構成される。

その結果、ビーム成形器３１８は、透過が、ビームの中心光線３２２（図３）に近いほど大きく、中心光線から離れる方向に外側の光線３２４（図３）に向かって減少するように、放出される放射線の透過プロファイルを成形する。このビーム成形器は、「X-Ray Beam Transmission Profile Shaper」というタイトルの国際出願番号PCT/IB2012/052814号（２０１２年６月５日出願、出願人Koninklijke Philips Electronics N.V.）の明細書に詳しく記述されており、その内容は全体が参照によってここに盛り込まれるものとする。

図５において、ビーム成形器３１８は、その上に入射するＸ線を完全に又はほぼ減衰させる高Ｚ材料を有する細長いストリップ形状の減衰素子３２６の１次元アレイを有する。細長いストリップの形状の減衰素子３２６は、ｚ軸に沿って互いに平行に配置され、より外側の光線が通過する外側の領域５０４ではより狭い間隙を有し、間隙は、中心光線が通過する中央領域５０６に近づくほど広くなる。

その結果、ビーム成形器３１８は、透過がビームの中心光線に近いほど大きくなり、中心光線から離れて外側の光線に向かう方向に低減していくように、放出される放射線の透過プロファイルを成形する。ビーム成形器は、「Radiation Beam intensity Profile Shaper」というタイトルの米国特許出願第60/503,141号（２０１２年６月２０日出願、Koninklijke Philips Electronics N.V.に譲渡された）により詳しく記述されており、その内容は全体が参照によってここに盛り込まれるものとする。

非限定的な例として図４のビーム成形器及び図５のビーム成形器の組み合わせを含むビーム成形器の他の構成が更に企図される。これは、矩形以外の形状を有するビーム成形器を有する。ビーム成形器３１８の別の例は、Mattsonによる米国特許4,672,648号明細書に記述されている。

図３に戻って、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８を制御可能に震動させるように構成される。１つの非限定的な例において、これは、減衰素子３２６が取得間隔の間並進するように取得間隔の間少なくともｘ方向にビーム成形器３１８を並進させることを含む。ビーム成形器３１８は、付加的に（同時に又は逐次的に）又は代替として、ｚ方向に並進することもできる。変形例において、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８を震動させるようにビーム成形器３１８を制御可能に振動させる。

図５のビーム成形器に関する上述の例は、図６、図７及び図８に示されている。図６は、取得間隔の開始時の、第１のロケーションにおける減衰素子３２６の組を示す。図７において、減衰素子３２６の組は、約１／４周期並進しており、すなわち減衰素子３２６の組の１つの減衰素子の１／２の幅に等しい距離並進した。図８において、減衰素子３２６の組は、取得間隔の終了時にあり、約１／２周期並進した。

図６、図７及び図８において、減衰素子３２６は、等しい幅及びそれらの間の等しい間隔を有する。他の実施形態において、減衰素子３２６の少なくとも２つが、それぞれ異なる幅を有してもよく、及び／又は減衰素子３２６の少なくとも２つのペアが、それらの間の異なる間隔を有してもよい。更に、取得間隔の間、少なくとも１の減衰素子３２６が、１／２周期より短い時間並進することができ、及び／又は少なくとも１の減衰素子３２６が、１／２周期より長い時間並進することができる。

例えば、減衰素子３２６は、取得間隔当たり１周期、又は取得間隔当たり２、３、４周期のように複数周期の頻度で並進されることができる。このような並進移動は、取得中、一方向（直前の及び／又は次の取得間隔と同じ方向又は反対の方向でありうる）においてのみビーム成形器３１８を移動させることによって、又は少なくとも１の取得間隔の間ビーム成形器３１８を往復運動させることによって、生成されることができる。

このような並進移動がない場合、例えば図５のビーム成形器に関連して、透過なし及びフル透過の交互する領域がありえ、これは、検出器アレイ３１６上にストライプの照射強度をもたらしうる。これは、図９のフラックスプロファイルに示されており、黒色領域９０２は、減衰素子３２６に対応し、白色領域９０４は、減衰素子の間の間隙に対応する。

しかしながら、ここに記述されるようにビーム成形器３１８を並進させることによって、減衰素子３２６は、取得間隔にわたって拡散され、例えば減衰を平滑化し又はぼかすことによって、ストライプを低減する。これは、図１０のフラックスプロファイルに示されており、グレースケールの揺らぎによって示されるように、フラックスプロファイル図９と比べて、検出器アレイ３１６にわたってより滑らかなフラックス強度を有する。並進移動は更に、ビーム散乱を低減し、シェーディングアーチファクトを低減することができ、更に、システムの固有振動に対処することを容易にすることができる。

図３に戻って、寝台のような支持体３３０が、検査領域３０６において被検体を支持し、スキャニングの前、間、及び／又は後に、ｘ、ｙ及び／又はｚ軸に関して被検体を位置付けるために使用されることができる。

再構成器３３２は、投影データを再構成し、検査領域３０６及びその中の対象タ又は被検体を表す３次元（３Ｄ）ボリュメトリック画像データを生成する。結果的に得られるボリュメトリック画像データは、１又は複数の画像を生成するために、画像プロセッサ等によって処理されることができる。

汎用コンピューティングシステムは、オペレーターコンソール３３４として機能し、ディスプレイのような出力装置、キーボード、マウスのような入力装置、及び／又はその他を有する。コンソール３３４上に常駐するソフトウェアは、例えば操作者がスキャニングを開始することを可能にするように、操作者がシステム３００の動作を制御することを可能にする。

図１１、図１２、図１３、図１４及び図１５は、ビーム成形器３１８に関連するビーム成形器移動手段３２８の非限定的な例を示す。以下の例は非限定的であり、他の構成がここで企図されることが理解されるべきである。

図１１において、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８の各端部１１０４にモータ１１０２を有する。モータ１１０２は、ビーム成形器３１８の端部１１０４に機械的に固定されるシャフト１１０６を有し、シャフト１１０６を駆動し、それにより、ここに記述されるように本例ではｘ方向に沿ってビーム成形器３１８を往復並進させる。図示されるモータ１１０２は、超音波圧電モータである。しかしながら、他のモータもここで企図される。

同様に、図１２において、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８の各端部１２００にモータ１２０２を有する。モータ１２０２は、ビーム成形器３１８の側面１２０６に機械的に固定されるアーム１２０４を駆動し、それにより、ここに記述されるように本例ではｘ方向に沿ってビーム成形器３１８を往復並進させる。図示されるモータ１２０２は、リニアモータである。しかしながら、高速サーボ及び／又は他のモータのような他のモータもここで企図される。

図１３において、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８の各側面１３０４に圧電又は振動コンポーネント１３０２を有する。圧電コンポーネント１３０２は、ビーム成形器３１８を振動させることによって、ビーム成形器３１８を並進させる。この例において、ビーム成形器は、図１１及び図１２の並進方向を横切るｚ方向に並進する。

図１４において、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８の角部にブラケット１４０２を有する。この実施形態において、ビーム成形器移動手段３２８は、ｘ／ｙ軸及び／又はｚ軸に沿って、同時に及び／又は個別に、ビーム成形器を並進させるために使用されることができる。図１１、図１２及び／又は図１３の作動機構及び／又は他の作動機構が、ブラケット１４０２を動かすために使用されることもできる。

図１５において、ビーム成形器移動手段３２８は、ビーム成形器３１８を並進させるために２又はそれ以上のコンポーネントが使用される図１１−図１４とは異なり、ビーム成形器３１８を並進させるための単一のコンポーネント１５０２を有する。

図１１−図１５の例は非限定的であり、説明の目的で示されており、図１１−図１５の組み合わせ及び／又は他のアプローチを含む他の構成がここで企図されることが理解されるべきである。

例えば、図１１及び図１２において、２つのモータ１１０２及び１２０２が、ビーム成形器３１８を並進させるために協働的に使用される。しかしながら、変形例において、ただ１つのモータ１１０２又は１２０２が使用され、他のモータは、並進移動を支援する受動素子（例えばバネ）と置き換えられる。同様に、図１３において、コンポーネント１３０２の一方が、並進移動を支援する受動素子と置き換えられることができる。更に、図１５は、ただ１つのコンポーネント１５０２を示す。しかしながら、別の実施形態において、他端に、１又は複数の側面に、１又は複数の角部等に位置する１又は複数の支援素子が含められることもできる。

図１１−図１５において、ビーム成形器３１８は、概して矩形の形状である。他の実施形態において、ビーム成形器３１８は、楕円形、円形、その他の形状でありうる。

図１６は、ここに記述される実施形態による例示の方法を示す。

ここに記述される方法の工程の順序は制限的ではない。従って、他の順序がここで企図される。更に、１又は複数の工程が省かれることができ、及び／又は１又は複数の付加の工程が含められることができる。

工程１６０２において、Ｘ線が、スキャンの取得間隔の間生成される。

工程１６０４において、Ｘ線が、ビーム成形器の方向に進む。

工程１６０６において、ビーム成形器は、中央領域に近いほど減衰の程度が小さく、中央領域から離れるほど減衰の程度が大きくなるように、ビーム成形器を横切るＸ線を減衰させる。

ここに記述されるように、ビーム成形器は、複数の減衰素子及び材料フリーな領域を有し、減衰素子は、その上に入射する光線を完全に又はほぼ減衰させ、材料フリーな領域を通って経路を進む光線は、減衰されないまま進み、減衰素子は、例えば、透過が、ビームの中心光線に近いほど大きくなり、光線から離れて外側の光線へ向かう方向に減少していくように、ビームの透過プロファイルを成形するように構成される。

工程１６０８において、処理１６０６と同時に、ビーム成形器は、予め決められた周波数で、ｘ／ｙ方向及び／又はｚ方向に、少なくとも１の方向に並進する。

上述したように、これは、取得間隔にわたって減衰を拡散させ、検出器アレイに入射するフラックスプロファイルにおけるストライプを低減し、ビーム散乱を低減し、及び／又はシェーディングアーチファクトを減らす。

工程１６１０において、ビーム成形器を出るビームは、コリメートされ、検査領域及びその中の被検体又は対象の一部を横切り、検出器アレイを照射し、検出器アレイは、入射ビームを検出し、検出したビームを表す信号を生成する。

工程１６１２において、スキャンが付加の取得間隔を含む場合、工程１６０２〜１６１０が繰り返される。そうでない場合、工程１６１４において、信号が、被検体又は対象のスキャンの一部を表すボリュメトリック画像データを生成するように、再構成される。

上述したものは、コンピュータ可読の記憶媒体上に符号化され又は埋め込まれることができるコンピュータ可読命令を通じて実現され、コンピュータ可読命令は、コンピュータプロセッサによって実行されるとき、記述された工程をプロセッサに実行させる。付加的に又は代替として、コンピュータ可読命令のうち少なくとも１つは、信号、搬送波又は他の一時媒体によって担持される。

本発明は、好適な実施形態に関して記述された。変形及び変更は、上述の詳細な説明を読み理解することにより当業者には思いつく。このような変形及び変更が添付の請求項又はそれらと等価なものの範囲内にある限り、本発明は、すべてのそれらの変形及び変更を含むものとして構成されることが意図される。

Claims (20)

1. イメージングシステムであって、
   スキャン中、検査領域の方向にすすむ放射線を放出する放射線源と、
   前記検査領域をはさんで前記放射線源の反対側に位置するとともに、前記スキャン中、前記検査領域を横切る放射線を検出し、検出した放射線を表す信号を生成する検出器アレイと、
   前記放射線源と前記検査領域との間に位置するとともに、前記検査領域を横切る放射線ビームのフラックス強度プロファイルを規定するビーム成形器であって、その上に入射するＸ線を減衰させる複数のＸ線減衰素子を有し、前記複数のＸ線減衰素子は、Ｘ線を減衰されないまま通過させる複数の材料フリーな領域によってインタリーブされており、Ｘ線の透過率が、前記ビーム成形器の端部領域と比べて、前記ビーム成形器の中央領域に近づくほど大きくなる、ビーム成形器と、
   スキャンの少なくとも１の取得間隔の間、前記ビーム成形器を並進させるビーム成形器移動手段と、
   を有するイメージングシステム。
2. 前記ビーム成形器移動手段は、前記ビーム成形器の少なくとも１の端部に固定されて該端部に位置する少なくとも１の移動手段を有し、前記移動手段が並進移動を制御する、請求項１に記載のイメージングシステム。
3. 前記ビーム成形器移動手段は、前記ビーム成形器の少なくとも１の端部に位置し、前記ビーム成形器の少なくとも１の側面に固定される少なくとも１の移動手段を有し、前記移動手段が並進移動を制御する、請求項１に記載のイメージングシステム。
4. 前記ビーム成形器移動手段は、前記ビーム成形器の少なくとも１の側面に位置する少なくとも１の移動手段を有し、前記移動手段が並進移動を制御する、請求項１に記載のイメージングシステム。
5. 前記ビーム成形器移動手段は、少なくとも１の取得間隔の間、減衰素子の幅にほぼ等しい距離前記ビーム成形器を並進させる、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のイメージングシステム。
6. 前記ビーム成形器移動手段は、一方向に前記ビーム成形器を並進させる、請求項５に記載のイメージングシステム。
7. 前記ビーム成形器移動手段は、２以上の方向に前記ビーム成形器を並進させる、請求項５に記載のイメージングシステム。
8. 前記ビーム成形器移動手段は、同時に２以上の方向に前記ビーム成形器を並進させる、請求項７に記載のイメージングシステム。
9. 前記ビーム成形器移動手段は、少なくとも１の取得間隔の間、予め決められた頻度で前記ビーム成形器を往復並進させる、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のイメージングシステム。
10. 前記ビーム成形器移動手段は、前記ビーム成形器を制御可能に振動させることによって前記ビーム成形器を並進させる、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のイメージングシステム。
11. 前記ビーム成形器を並進させることは、前記少なくとも１の取得間隔の間、該取得間隔にわたって減衰を拡散させる、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のイメージングシステム。
12. 前記ビーム成形器を並進させることは、前記少なくとも１の取得間隔の間、前記検出器におけるフラックスプロファイルの強度揺らぎを低減する、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のイメージングシステム。
13. 前記ビーム成形器を並進させることは、前記少なくとも１の取得間隔の間、シェーディングアーチファクトを低減する、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のイメージングシステム。
14. スキャン中、検査領域の方向にＸ線を放出するステップと、
    ビーム成形器によって、放射線ビームの強度プロファイルを規定するように、前記放出されたビームをフィルタリングするステップであって、前記ビーム成形器が、その上に入射するＸ線を減衰させる複数のＸ線減衰素子を有し、前記複数のＸ線減衰素子は、Ｘ線を減衰されないまま通過させる複数の材料フリーな領域によってインタリーブされている、ステップと、
    前記スキャンの少なくとも１の取得間隔の間、前記ビーム成形器を並進させるステップと、
    前記スキャンの間、前記検査領域を横切る放射線を検出し、検出された放射線を表す信号を生成するステップと、
    を含む方法。
15. Ｘ線の透過率は、前記ビーム成形器の端部領域と比べて、前記ビーム成形器の中央領域に近いほど大きくなる、請求項１４に記載の方法。
16. 取得間隔の間、少なくともＸ線減衰素子の幅にほぼ等しい距離前記ビーム成形器を並進させる、請求項１４又は１５のいずれか１項に記載の方法。
17. 一方向に前記ビーム成形器を並進させる、請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
18. 同時に２以上の方向に前記ビーム成形器を並進させる、請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
19. 取得間隔の間、予め決められた頻度で前記ビーム成形器を往復並進させる、請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
20. 少なくとも１の取得間隔の間、ビーム成形器を並進させるステップを含み、それにより、前記少なくとも１の取得間隔にわたって前記ビーム成形器の減衰を拡散させて、前記ビーム成形器を並進させない場合と比べて、検出器アレイにわたって一様なフラックス強度プロファイルを生成する、方法。

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