JP2015535090A - リソグラフィ用センサシステム - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2012年10月17日出願の米国仮出願第61/715,167号の利益を主張し、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
本明細書に記載のセンサシステムを用いて、基板を保持する基板テーブルに対するパターニングデバイスの位置を測定することであって、パターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することと、
測定位置に基づいて基板テーブルによって保持された基板上のターゲット部分をパターニングデバイスに整列させることと、
パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影してパターニングデバイスから基板へパターンを転写することと、を含むパターン転写方法が提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTa又はWTbと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (18)
- 物理量を測定するセンサシステムであって、前記システムが、異なる空間位置での並列の測定を可能にする複数の検出器を有する並列検出装置を含み、前記複数の検出器が1つの雑音源を共用し、前記センサシステムが、前記複数の検出器が各々、前記物理量の関数としての信号を出力するように構成され、前記センサシステムが、少なくとも1つの検出器が、前記共用された雑音源から生成される雑音に対して残りの1つ以上の検出器とは異なった応答をするように構成された、センサシステム。
- 前記複数の検出器が、前記物理量の関数としての周期的に変動する信号を出力し、少なくとも1つの検出器からの前記周期的に変動する信号の周期及び/又は位相が前記残りの1つ以上の検出器と異なる、請求項1に記載のセンサシステム。
- 前記残りの1つ以上の検出器と周期及び/又は位相が異なる前記少なくとも1つの検出器の前記周期的に変動する信号のために、前記少なくとも1つの検出器が、前記共用された雑音源から生成される雑音に対して異なった応答をする、請求項2に記載のセンサシステム。
- 前記少なくとも1つの検出器の前記周期的に変動する信号の位相が前記残りの1つ以上の検出器と異なり、前記位相差が実質的に180度である、請求項2又は請求項3に記載のセンサシステム。
- 前記少なくとも1つの検出器の前記周期的に変動する信号の位相が前記残りの1つ以上の検出器と異なり、前記位相差が実質的に90度である、請求項2又は請求項3に記載のセンサシステム。
- 前記少なくとも1つの検出器の前記周期的に変動する信号の周期が前記残りの1つ以上の検出器と異なり、前記周期間の比率が少なくとも2である、請求項2〜5のいずれかに記載のセンサシステム。
- 各検出器が、
測定ビームを提供する放射出力と、
前記測定ビームを変調する入力格子と、
光学システムを通過した前記被変調測定ビームの波面の複数の重なり合い及び干渉する複写を生成する検出格子と、
前記波面の重なり合い及び干渉する複写の像を捕捉する前記検出格子から離間して配置されたカメラと
を備え、
前記周期的に変動する信号の周期及び/又は位相の差が、前記入力及び/又は検出格子の差によって引き起こされる、請求項2〜6のいずれかに記載のセンサシステム。 - 少なくとも2方向の物理量を測定するセンサシステムであって、前記システムが、異なる空間位置での並列の測定を可能にする複数の検出器を有する並列検出装置を含み、前記複数の検出器が1つの雑音源を共用し、各検出器が一度に前記少なくとも2方向のうち1つの方向に測定を行なうように構成され、前記センサシステムが、前記複数の検出器が各々、前記物理量の関数としての信号を出力するように構成され、前記センサシステムが、並列測定中に、少なくとも1つの検出器が、同時に、前記残りの1つ以上の検出器とは異なる方向に測定を行なうように構成された、センサシステム。
- 前記複数の検出器が、前記物理量の関数としての周期的に変動する信号を出力する、請求項8に記載のセンサシステム。
- 各検出器が、
測定ビームを提供する放射出力と、
前記測定ビームを変調する入力格子と、
光学システムを通過した前記被変調測定ビームの波面の複数の重なり合い及び干渉する複写を生成する検出格子と、
前記波面の重なり合い及び干渉する複写の像を捕捉する前記検出格子から離間して配置されたカメラと
を備え、
前記測定方向が、前記入力及び/又は検出格子によって決定される、請求項8又は請求項9に記載のセンサシステム。 - 前記複数の検出器が、前記雑音源として同じ前記放射出力を共用し、及び/又は同じ前記カメラを共用する、請求項1〜10のいずれかに記載のセンサシステム。
- 請求項1〜11のいずれかに記載のセンサシステムと、アクチュエータと、前記複数の検出器の前記出力に基づいて前記アクチュエータに駆動信号を提供するように構成された制御ユニットとを備える、制御システム。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の前記センサシステムを備え、前記複数の検出器及び前記アクチュエータが、前記雑音源から生成される雑音による前記複数の検出器の前記出力の信号変動を前記アクチュエータが追跡できないか又は完璧には追跡できないように構成された、請求項12に記載の制御システム。
- 請求項1〜11のいずれかに記載のセンサシステムを備える、リソグラフィ装置。
- 前記センサシステムの各検出器が、
測定ビームを提供する放射出力と、
前記測定ビームを変調し、被変調測定ビームを形成する入力格子と、
前記被変調測定ビームの波面の複数の重なり合い及び干渉する複写を生成する検出格子と、
前記波面の前記重なり合い及び干渉する複写の像を捕捉する前記検出格子から離間して配置されたカメラと、を備え、
前記リソグラフィ装置が、
前記複数の検出器の前記入力格子を備えるパターニングデバイスを支持する支持体と、
前記基板を保持し、前記複数の検出器の前記検出格子と前記カメラとを備える基板テーブルと、
前記被変調測定ビームを前記基板テーブル上の前記それぞれの検出格子上に投影する投影システムと、をさらに備え、
前記センサシステムによって測定される前記物理量が、前記基板テーブルに対する前記入力格子の位置である、請求項14に記載のリソグラフィ装置。 - 前記支持体を位置決めする第1のポジショナ及び/又は前記基板テーブルを位置決めする第2のポジショナを備え、前記リソグラフィ装置が、前記複数の検出器の前記出力に基づいて、前記第1及び/又は第2のポジショナに駆動信号を提供する制御ユニットを備える、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1〜11のいずれかに記載のセンサシステムを用いて、基板を保持する基板テーブルに対するパターニングデバイスの位置を測定することであって、前記パターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することと、
前記測定位置に基づいて前記基板テーブルによって保持された基板上のターゲット部分をパターニングデバイスに整列させることと、
前記パターン付放射ビームを前記基板の前記ターゲット部分上に投影して前記パターニングデバイスから前記基板へパターンを転写することと、を含む、パターン転写方法。 - 前記パターニングデバイスが、前記検出器当たり1つの格子を備え、前記パターニングデバイスの前記位置が、前記パターニングデバイスの前記格子を測定ビームで照明して被変調測定ビームを形成することと、前記被変調測定ビームを前記基板テーブル上に提供された検出格子上に投影して前記被変調測定ビームの波面の複数の重なり合い及び干渉する複写を生成することと、前記波面の前記重なり合い及び干渉する複写の像を捕捉することと、前記捕捉した像から前記基板テーブルに対する前記パターニングデバイスの前記位置を計算することとによって測定される、請求項17に記載のパターン転写方法。
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