JP2015532611A - 粗大粒結晶化金属カルコゲニド膜、非晶質粒子のコロイド溶液および調製方法 - Google Patents

粗大粒結晶化金属カルコゲニド膜、非晶質粒子のコロイド溶液および調製方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、特にCu2ZnSnS4(CZTS)の金属カルコゲニド非晶質ナノ粒子のコロイド水溶液またはコロイド含水アルコール溶液を調製する方法と、得られたコロイド溶液とに関する。本発明はまた、特に本発明に従ったコロイド水溶液またはコロイド含水アルコール溶液から得られたCZTSの、粗大粒の結晶化半導体性金属カルコゲニドの膜を製造する方法に関する。前記膜は、固体光起電力装置に実装される基材上に堆積された吸収層として有用である。

Description

本発明は、基材上に堆積した粗大粒を有する結晶化した金属カルコゲニドの膜または連続薄層を製造する方法に関する。
より具体的には、本発明は、吸収層として、膜またはいわゆる金属カルコゲニド層を備えた固体光起電力装置に関する。
さらにより具体的には、本発明に従った金属カルコゲニド層は、特に、少なくとも、
−1つの光透過性導電層、例えばTCO(透明導電性酸化物)タイプの、いわゆる前部接点層と、
−1つの絶縁透明化合物層、例えばZnOまたはZnMg1−xの層と、
−例えばCdS、In、Zn(S,O,OH)のようなn型半導体の1つの緩衝層と、
−1つのいわゆるp型の吸収層と、
−1つの導電性材料の層、例えばモリブデン(Mo)、金(Au)、グラファイト(C)、ニッケル(Ni)またはさらにアルミニウム(Al)、銀(Ag)またはインジウム(In)の金属層などの、いわゆる後部接点層とを備えた、サブストレート型またはスーパーストレート型の固体光起電力装置上において、吸収層として用いられる。
サブストレート型といわれる固体光起電力装置において、上記の層は、
−前記前部接点層に対して付与され、よって前記装置の前面(太陽が当たる側)を形成する金属グリッドと、
−前記後部接点層に対して付与されたガラスまたは鋼鉄の層とによって完成する。
スーパーストレート型といわれる固体光起電力装置において、上記の層は、前記前部接点層に対して付与され、前記装置の前面(太陽が当たる側)を形成するガラス層によって完成する。
サブストレート型またはスーパーストレート型の構造を備えた固体光起電力装置は、当業者には周知である。例えば、それらの装置は、非特許文献1の序文に記載されている。
本発明はまた、本発明に従った金属カルコゲニドの非晶質ナノ粒子のコロイド水溶液を調製する方法、得られたコロイド溶液、および粗大粒を有する金属カルコゲニドの膜を製造するためのその使用にも関する。
本記載において、「コロイド溶液」または「コロイド」とは、寸法が2〜500nmにわたる粒子の均質分散液を指し、2nm未満では、いわゆる「コロイド溶液」ではない液体溶液が得られるものと解される。そのような均質分散体の安定化は、固体相および液体相の両者の遅い分離による。
「非晶質ナノ粒子からなる材料」とは、結晶化した粒子を全く含有しないか、またはほとんど含有しないことを意味する、すなわち、X線(XRD技術)の回折による回折ピークが存在しないことを特徴とする。
さらに、より具体的には、本発明は式M−Cの金属カルコゲニドに関する。前記式中、
−Mは、Cu、Zn、Sn、Ge、SbおよびBi、好ましくはCu、Zn、SnおよびSbのうちから選択される1つ以上の同一または異なる金属元素を表わし、
−Cは、S、SeおよびTeのうちから選択される1つ以上の同一または異なるカルコゲニド元素を表わす。
金属カルコゲニドに基づく最も高い光起電力変換率は20%を超え、それらは、今日、吸収層としてCuIn1−x、GaSe型の層を備えた光電池によって得られる。
しかしながら、インジウム(In)およびガリウム(Ga)は地球上においてあまり豊富ではなく、従って大量生産には費用を要する。テルル化カドミウムCdTeは、高収率(>17%)を有する光起電力装置を得る可能性を与える金属カルコゲニドのうちの別のよく知られた例である。しかしながら、Cdの毒性だけでなく、カドミウムおよびテルルの存在量が比較的少ないことも問題である。
上記で定義した金属カルコゲニド化合物M−Cでは、上記に列挙した金属Mは豊富に存在し、かつ非毒性であるため、比較的高い収率を有する安価な光起電力装置の吸収層の製造のために特に興味深い。
本発明は、より具体的には、CuZnSnS(CZTS)型、並びにそれらの誘導体CuZn(Sn1−y、Ge)(S1−x、Se(CZTGSSeとして知られている)、SnS、SbおよびCuZn(Sn1−y、Sb)(S1−x、Seおよび/またはCuSb(S,Se)の吸収層に関する。
光電池用の金属カルコゲニド層は、従来、同時蒸着(CIGSe)、閉鎖空間における昇華(CdTe)、またはさらにスパッタリング(CZTSSe)などの真空蒸着法によって得られる。しかしながら、真空技術に関連する生産費用および保守費用は一般に高く、それにより大衆市場向けの用途における該技術の使用が制限される。また、化学蒸着法は、堆積を連続的に、かつ広い表面において行うために該方法を複雑かつ高価にする真空技術に依存している。
従って、これらの制限を回避するためには、例えば化学浴中における堆積、電気化学的堆積、噴霧、印刷またはテープキャスティングのような周囲圧力における堆積方法が望ましい。化学浴中における堆積は、一般に、活性層に望ましい厚さ(約1マイクロメートル)に対して低い堆積速度と、低い化学収量と、(さらに広い表面上における)厚み均一性との間における妥協と、該技術を光起電活性層の製造に適さなくする多少の制御された不純物の含有を伴う(後のアニーリングを必要とする)低い結晶品質を有する材料の形成とを特徴とする。同様に、電気化学的堆積は、連続的な堆積を可能にせず、広い表面に対する均一性の制御に対して問題を生じ、これは比較的遅い堆積速度を与える。
従って、例えば、噴霧もしくは印刷により堆積されるか、またはスラリーで、例えばテープキャスティングによって堆積される溶液に基づいた堆積方法によって活性光起電力層の堆積を行うことが望ましい。すべての場合において、大気圧における、潜在的に連続し、かつ大きな表面に対する堆積技術は、多かれ少なかれ濃縮されたコロイド溶液または液体溶液に基づく。
液体溶液と比較して、コロイド溶液は特定の利点を有する。液体溶液において、有用な種(銅、錫、硫黄、など)は、例えば、イオン形態(例、Cu)で、またはイオン結合型錯体(例、Cu(CHCN) 、Cu(NH)n]2+、Sn(OH)2−など)として、溶媒中に溶解されている。「コロイド」とも称されるコロイド溶液において、固体粒子は懸濁液中に存在し、かつ有用な化学種からなり、これらの粒子の大きさは1mm未満であり、典型的には、数十ナノメートルのオーダーである。
液体溶液と比較すると、コロイド溶液の第1の利点は、液体部分から(ろ過または沈降/遠心分離によって)、有用な固形部分、すなわち粒子を分離することができ、よって、コロイドをその不純物から、および前記コロイドを製造するために用いられ得る化学反応にて起こり得る副産物、および残渣から、濯ぐことができることである。第2の利点は、有用な化学種が既に、所望の最終組成に等しいか、またはそれに近い化学量論組成/化学組成を有して、原子スケールにおいて固体で、集まっているということである。これは、混合が不十分になりがちな液体溶液に対して、最終組成のより良好な制御を保証する。コロイド溶液の第3の利点は、該溶液が様々な方法によって緻密層を形成するための出発溶液として用いられ得るということであり、前記ナノ粒子は、多かれ少なかれ多孔性の材料を生成する(従って、バッテリー用電極、触媒用などのような種々の用途に用いられる)ように乾燥および焼結させられるか、または他の場合には、基材上における噴霧またはテープキャスティングにより堆積を可能にする分散液中に再分散され得る。さらに、それらの表面特性を変更するためにナノ多孔質基材の内側に粒子を堆積させることも可能である。例えば、これは、例えば金属カルコゲニドのいわゆるコロイド溶液中にナノ多孔質TiO基材を浸漬することによる、光起電力装置のナノ結晶TiO(n半導体)のナノ多孔質膜の場合である。
CZTSSe膜に基づくセルの最良の光起電力性能は、前記膜が液体とコロイドとの間のハイブリッド経路を介する方法によって製造される場合に得られる(非特許文献2)。しかしながら、このチームによって用いられたヒドラジン溶媒は、非常に有毒であり、かつ空気中において非常に可燃性でもある。これは工業的用途に適合しない使用上の注意を必要とする。燃焼の危険性を低減するために、ヒドラジンはまた水を添加することによって50%に希釈された。これは前記性能を9.6%から8.2%にわずかに低減する結果を有した。これにもかかわらず、ヒドラジンに関連する毒性および使用上の注意は依然として残る。
文献において比較的十分に立証された別の方法は、「前駆体のホットインジェクションによる」といわれる方法である(特許文献1)。この方法は、またヒトおよび/または環境に対して有毒または危険であるオレイルアミン溶媒、またはアルキルアミンもしくはアルキルホスフィン(TOPO)タイプの他の溶媒中に溶解した金属前駆体(粉末形態の塩)間において、高温(220℃〜300℃)で、数時間にわたって化学反応を行うことと、カルコゲンを含有する溶液をホットインジェクションすることとからなる。例えば、金属硫黄、セレン、または硫黄に基づく塩は、典型的にはトリオクチルホスフィン(TriOctylPhOsphine:TOPO)オキシド中に溶解される。トリオクチルホスフィンオキシドは、粘膜、上気道、目、および皮膚の組織に対して非常に破壊的である。ホットインジェクション(180〜280℃で2〜60分)の別法(特許文献2)において、硫黄粉末の溶解のために用いられたオクタデシルアミン有機溶媒は、目、皮膚および水媒体に対して、可燃性であり、爆発性であり、非常に危険な溶媒である。それ故、より具体的には、本発明は金属にカルコゲニドコロイド溶液を調製する方法に関する。
一般に、当業者には、シリコンのような無機結晶性半導体、III−V半導体(AsGa、AlGaAsなど)または金属カルコゲニドCdTe、CIGSまたはCZTSに基づく光起電力装置の活性吸収層が小さな粒からなる場合には低い光起電力性能が得られ、より良好な光電池は粗大粒を有する連続層から形成されることが認識されている。典型的には、所望の粒径は、それ自体が約1マイクロメートルのオーダーである層の厚さのオーダーである。
他方では、前記コロイド合成法は大半において結晶化粒子の製造に関することに留意され得る。提示された議論は、概して、より高い純度、または他の場合には、より低い多孔性層を得ること、または他の場合には、(まだ層を形成する前の)原子スケールにおける粒子の元素組成、従って最終層の元素組成のさらにより良好な制御である。最後に、結晶性粒子が所望の結晶相を既に組み込んでいるので、目的とされる最終結晶層は結晶性粒子からより容易に得られるであろう。しかしながら、結晶化金属カルコゲニド粒子のコロイド溶液を製造するこれらの方法は、配位子の添加を必要とし、次に結晶成長は200℃以上において熱により活性化される。これは、時間及び費用を要する方法である。さらに、それにもかかわらず、これらの結晶性金属カルコゲニドナノ粒子のコロイド溶液から製造された膜は、一般に、約400〜600℃のオーダーのより高温にて付加的な熱処理に供されなければならない。これは、高密度化させ、凝集させ、結晶の大きさを、好ましくは膜の総厚に近い粒径に、典型的には約1マイクロメートルのオーダーの粒径に増大させるためである。200℃での合成中に加熱する必要なく、粒子のコロイド合成を行うことは、少なくとも経済的に(より少ない熱収支)有利であろう。
水の存在下における最初のコロイド合成の研究は、特にCu、Zn2+、Sn4+、Sb3+、In3+カチオンの金属イオン種の加水分解および/または酸化の問題をすぐに示した。
水性媒体における加水分解および酸化の問題を効率的に低減するための当業者に公知の技術は、溶液中のイオン種を配位子で保護することからなる。
特許文献3および特許文献4には、結晶性銅カルコゲニドナノ粒子のコロイド溶液の合成法が記載されている。前記方法において、金属およびカルコゲン前駆体溶液は、pHを調節し、金属イオン種の加水分解および/または酸化を回避するために酸性媒体中において配位子を付与される。本願において「配位子」とは、それが共有結合によって1つ以上の金属中心原子またはイオンに結合することを可能にする化学的機能を有するイオンまたは分子からなる配位種を指す。特許文献3において、銅カルコゲニドナノ粒子は、前駆体溶液の反応混合物から、数時間撹拌し、任意で100℃以上に加熱することにより、生成される。特許文献4において、水およびコロイド水溶液の適用は、金属イオン種の、特にCu、Zn2+、Sn4+、Sb3+カチオンの加水分解および/または酸化の問題を避けるために回避される。これらの特許文献4および特許文献3の双方において、配位子の役割はまた、形成されたナノ粒子の凝集を回避することであり、そのような凝集は沈殿につながり、従ってコロイドの不安定性をもたらす。有機配位子の付与は粒子間の電気輸送特性にとって不利益であることが示された。
特許文献5において、配位子は、アミン基、チオール基または有機酸基を含む有機分子である。これらの有機配位子は、図3に示すような(かつ本発明に従った非晶質ナノ粒子のコロイド溶液ではない)結晶化ナノ粒子のコロイド溶液を得る目的で、金属前駆体とカルコゲニド前駆体との間の反応の速度を遅くするために前記金属と錯体を形成することを目的としている。得られたコロイド溶液はあまり安定しておらず、得られた前記コロイド溶液中における配位子の存在は、前記方法をあまり容易ではなく(加熱が必要)、より長く、より高価にし、さらに基材上における前記コロイド溶液の堆積およびアニーリング後に得られた結晶化カルコゲニド膜において、配位子の分解からの炭素または酸化物の残留物は、該残留物が結晶化を妨げ、かつ/または粗大粒の形成を制限し、かつ/または膜の光起電力特性に不利益である電気的不具合を生じる不純物を生成するので、不都合である。
特許文献5において、アセトニトリルは配位子として述べられておらず、配位子の所与の定義に対応していないが、その調製後のコロイド溶液の調剤溶媒として述べられている。
1997年/2000年のシュルツ(Schulz)ら(非特許文献3)、特許文献6および2012年のチャン(Zhang)ら(非特許文献4)の刊行物において、光起電力装置の半導体性吸収膜を生成するための非晶質またはわずかに結晶化したナノ粒子からなる金属カルコゲニドのコロイド溶液を調製する方法が記載されている。これらの刊行物の双方において、コロイド金属カルコゲニド溶液は、前記金属Mの第1の前駆体溶液と、前記カルコゲンの第2の前駆体溶液との混合物から形成される。上記のシュルツらの文献では、金属カルコゲニドCuInGaSe(CIGS)のコロイド溶液はより具体的に調製されている。上記のチャンらの文献では、金属カルコゲニドCuZnSn(S,Se)(CZTSSe)が、ピリジンおよびメタノールの有機溶媒中における前駆体溶液から調製されている。より具体的には、この方法において、問題は、典型的には、金属前駆体塩、すなわちCuI、CdI、ZnI、SnI、InI、GaIなどのヨウ化物をピリジン中に溶解させ、他方では(NaTe、NaSeまたはNaSなどのナトリウムまたはカリウムの)カルコゲニド前駆体塩をメタノール中に溶解させることである。これらの溶液の双方は、次に、公開された事例に従って(これは結晶化ナノ粒子のコロイド合成の方法の通常の事例なので、ホットインジェクションによらず)、−78℃または−42℃で、さらにまたは−0℃で、金属/ピリジン溶液に硫黄/メタノール溶液を導入することによって混合され、次に前記混合物は数分間にわたって室温に戻され、その間に不安定なコロイドは自然に沈殿する。
従って、(薄層を形成する前の)初期のコロイド溶液は結晶化していない(非晶質)か、またはわずかに結晶化したナノ粒子のコロイド非水性溶液であった。
これらの刊行物において適用された条件下において、水が、粒子の表面に付着した水によるメタノールまたはアセトニトリルのイオン交換によって、コロイドの不安定化、凝集および分解を引き起こし、それが次に堆積した層に酸素を導入し、それらの光起電力性能を劣化させることが提唱されている。
上記の1997/2000年のシュルツらの引例および2012年のチャンらの引例において、前駆体の溶液の混合による非晶質ナノ粒子のコロイド溶液の合成は、低温条件(−178℃、−42℃、または0℃)下で行われる。前記低温条件は制約および費用を意味し、これらの温度に適合するが比較的有毒な有機溶媒、特にメタノールおよび/またはピリジンの使用を強いる。
これらの温度条件は、関連する溶媒中において関連する金属カルコゲニドコロイドを安定させる要件によって与えられると思われる。さらに上記の1997/2000年のシュルツらの引例および2012年のチャンらの引例において、非晶質粒子またはわずかに結晶化した粒子からなるこれらのコロイド溶液からの堆積によって得られた基材上に堆積した薄層膜は、高温におけるアニーリングの後でさえ、高品質の光起電力性能を得ることが不可能である小さな粒径を特徴とする。具体的には、特許文献6(シュルツら)において、噴霧による堆積後に得られた小さな粒を有するCIGS層はあまりにも大きな空隙率を有し、様々な熱処理にもかかわらず、高密度化することができなかった。実際に、多くのアニーリングの試行にもかかわらず、得られたCIGS膜は常に、光起電力用途向けの高品質層の基準に対応しない小粒からなる中間層を常に含んでいた。実際に、CIGSセルの低い光起電力性能は、この中間の多孔性の小粒層の高い直列抵抗によるものとされた。
従って、メタノール/ピリジン混合物から生じた非晶質ナノ粒子からの1997年/2000年のシュルツらの文献に記載された方法の欠点は、それが高収率光起電力装置の製造に必要とされる粗大粒を有する稠密なCIGS層を生成する可能性を与えないということである。
上記の2012年のチャンらの文献において、金属カルコゲニドナノ粒子のコロイド溶液の堆積によって得られた膜は、比較的大きなサイズ(80nm)のナノ粒子を有し、アニーリング後の基材上では粗大粒を示さなかった。他方では、2012年のチャンらの文献において、著者らは、金属カルコゲニドが硫黄SとセレンSeとの組み合わせではなく、単に硫黄を含む場合にはコロイド溶液を得ることに成功しなかった。上記の2012年のチャンらの文献において、NaSおよびNaSeの双方を含有するメタノールの溶液は強固に凝集した非晶質固体コロイドの形成をもたらし、前記コロイドにおいて、著者は、CZTSSe(CuZnSn(S,Se))の80nmの大きさを有する丸い粒子を識別している。モリブデン上における堆積、およびその後の高密度化アニーリング後、550℃におけるアニーリングを窒素下でのみ行った場合には、(XRD分析によれば)膜の結晶分解のために、わずかな光起電力の結果(0.0002%)が得られた。550℃のアニーリングが、分解を回避するであろう錫の添加を伴う窒素下で行なわれた場合には、2.2%の光起電力の結果が得られる。高温(550℃)での熱処理工程後におけるCZTSSe結晶の存在を証明するX線回折スペクトルを除いて、膜粒の大きさについての表示は与えられていない。
国際出願WO2008/021604A2号 中国特許第CN102108540号 国際出願第WO2011/066205号 国際出願第WO2011/146791号 国際出願第WO2011/0662205号 国際出願第WO99/37832号
「Thin film solar cells;fabrication,characterization and applications」、ジェフ ポートマンズ(Jef Poortmans)およびウラジミール アーヒポフ(Vladimir Arkhipov)編集、ウィリー2007、ISBN 13 9780470 09126−5(頁xxivの序文) トドロフ(Todorov)ら、Thin solid Films、第519巻、第21号(2011年)、第7378〜81頁 シュルツ(Schulz)ら、Photovoltaics Program Review、AIPプレス編集、ニューヨーク、1997年 チャン(Zhang)ら、Applied Physics Express 5、2012年、012301)
従って、本発明の第1の目的は、実施するのに迅速かつ経済的である金属カルコゲニドナノ粒子のコロイド溶液を調製するための新規な方法、特に100℃以上で何時間も加熱することを必要とせず、かつ0℃以下に冷却することを必要としない、室温においてコロイド溶液の調製を可能にする方法を提供することにある。
従って、本発明の別の目的は、有毒溶媒の適用を伴わないか、または低温の反応温度、具体的には0℃以下の温度を必要としない、上記で定義した式M−Cの金属カルコゲニドコロイド溶液の調製を可能にする方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、粗大粒を有する金属カルコゲニド結晶を得ることが可能であるコロイド溶液から得られる膜を製造する方法を提供することにある。前記膜は基材上に堆積され、該膜を含む光起電力装置に高い光起電力性能を与えるのに有用である。
従って本発明の目的は、より具体的には、室温および大気圧で行なわれ、危険かつ/または有毒な溶媒の適用、または上記で定義した共有結合による配位子の付与を伴わず、かつ/またはコロイド溶液を調製する際に前駆体溶液中に酸を添加することのない、上記で定義した式M−Cの金属カルコゲニドのコロイド溶液を調製する方法を提供することにある。
最後に、本発明の目的は、金属カルコゲニドの非晶質ナノ粒子の安定したコロイド溶液を提供することにあり、前記溶液は、前記溶液が大気圧および室温で堆積され、次いで低粗度の表面状態を有する粗大粒の形態にある結晶化した金属カルコゲニド膜を得るために基材上でアニーリングされることにより高密度化されることを可能にする。
本発明によれば、上記で定義した式M−Cの金属カルコゲニドのコロイド溶液の調製について、以下で定義するコロイド水溶液またはコロイド含水アルコール(hydro alcoolique colloidale)溶液を調製し、後に定義される粗大粒を有した結晶化した半導体性金属カルコゲニドナノ粒子の膜を作製する方法の適用を可能にする方法の適用のための条件と引き換えに、コロイドを分解することなく、水性媒体中において作用することが可能であることが発見された。
これを行うために、本発明は、式M−Cの金属カルコゲニドの非晶質ナノ粒子のコロイド水溶液、コロイドアルコール溶液、またはコロイド含水アルコール溶液の室温における準即時の調製のための方法であって、前記式中、
−Mは、Cu、Zn、Sn、Ge、SbおよびBi、好ましくはCu、Zn、SnおよびSbのうちから選択される同一または異なる1つ以上の第1の金属を表わし、
−Cは、S、SeおよびTeのうちから選択される同一または異なる1つ以上のカルコゲニド元素を表わし、
0℃〜50℃、好ましくは20℃〜40℃の温度において以下の連続的工程、すなわち、
a)溶液中の1つ以上のカルコゲニド塩C以外の、前記第1の金属Mの前駆体の第1の溶液が、純粋なアセトニトリルからなる溶媒、または水および/またはメタノール以外の好ましくはエタノールであるアルコールと混合された溶媒中で調製される工程と、
b)1つ以上の第1の金属M以外の1つ以上の第2の金属のカルコゲニド塩からなるカルコゲニドCの前駆体の第2の水溶液、アルコール溶液または含水アルコール溶液が調製される工程であって、前記第2の溶液のアルコールは、メタノール以外であり、好ましくはエタノールである工程と、
c)前記前駆体の第1の溶液および第2の溶液の双方は、粗製コロイド溶液が準即時的に得られるまで、大気圧および室温において混合される工程であって、前記粗製コロイド溶液は30nm未満、好ましくは3〜20nmの大きさを有する一次非晶質ナノ粒子(nanoparticules amorphes primaires)を含む工程と、
d)上澄み液を除去した後に固形残留物を得るために、工程c)の前記コロイド溶液から、好ましくは遠心分離によって、固形部分が分離される工程と、
e)工程d)において得られた固形残留物は、コロイド溶液を形成するために該固形残留物上に水溶液またはアルコール溶液または含水アルコール溶液を注ぐことによって濯がれる工程であって、前記水性コロイド溶液またはアルコールコロイド溶液または含水アルコールコロイド溶液のアルコールは、メタノール以外であり、好ましくはエタノールである工程と、
f)上澄み液を除去した後に濯がれた固形残留物を湿ったペーストとして得るために、工程e)の前記コロイド溶液から、好ましくは遠心分離によって、再び固形部分が分離される工程と、
g)工程f)からの前記湿ったペーストが、水溶液、アルコール溶液または含水アルコール溶液を含む、好ましくはそれらの溶液からなる、分散溶媒中に再分散される工程であって、前記アルコール溶液または含水アルコール溶液のアルコールは、必要により非毒性アルコールであり、特にメタノール以外のアルコールである工程とが実施されることを特徴とする。
本発明によれば、前記コロイド溶液を調製する方法において、予備調製は、特に工程a)、b)において任意の配位子を添加することなく、室温で行われるか、またはそれぞれ異なる溶媒によるMの塩およびCの塩に基づいた前駆体の2つの独立した溶液の低減された加熱を要して行われ、低減された温度、特に室温、かつ大気圧下におけるそれらの混合物は工程a)〜c)において定義した通りである。
工程c)において得られるナノ粒子の最小の大きさは、濯ぎ工程d)〜g)を、反応の副生成物並びに合成溶媒のアセトニトリルおよび他の残留不純物の除去に対してより効率的にする。
本願において「配位子」とは、前記第1の金属Mと結合し、かつ/または錯体を形成することができる(分子C以外の)有機分子、特にアミン(−NH)基、チオール(−SH)基、アミド基、またはチオアミド基のうちから選択される少なくとも1つの基で置換された有機分子、特に−CONHまたは−CSNH、および/または有機酸基(カルボン酸基−COOHなど)またはリン酸基、特に−POを指す。
いかなる配位子も追加することなく得られた室温にて安定であるコロイド溶液は、得ることが容易であり、かつ適用することが容易であるのみならず、さらに残留不純物の含有が少ない。これは、後に記載するようなコロイド溶液の堆積およびアニーリングの後に得られる膜の品質の向上に寄与する。具体的には、これは、より良好な光起電力性能を備える粗大粒およびより高い均質性を有する結晶化した連続膜を得ることに寄与する。
好ましくは、工程g)において、水溶液、アルコール溶液、または含水アルコール溶液の状態にある分散溶媒が適用され、前記アルコール溶液または含水アルコール溶液のアルコールは水の沸点より低い沸点を有する非毒性アルコールであり、好ましくはエタノールまたはプロパノールであり、さらに好ましくは水/エタノール混合物の状態にある。
これらの分散溶媒は、非晶質ナノ粒子の分散についてのそれらの特性(濃度、コロイドの安定性、粘度、非毒性)に対して選択され、少なくとも24時間以内に室温で自然に沈殿しない、小寸法の非晶質ナノ粒子を有する液体の均質かつ安定したコロイドを形成する可能性を与え、この後に記載するように不純物を有さない連続した均質膜を得るために、最適な条件(粘度、蒸気圧および蒸発温度)下で噴霧することによって堆積され得る。
この後に記載するように基材上におけるコロイド溶液の噴霧およびアニーリングによる堆積によって膜を製造する方法では、前記基材のホットプレート上におけるコロイド溶液の接触の間に、前記溶媒の蒸発が起こるので、水の沸点より低い沸点を有するアルコールが有利であり、また、前記膜内の前記アルコールから生じる残留炭素汚染の危険性を排除するために、前記アルコールが水の前に蒸発することは好ましいと思われる。
水の沸点より低いそれらの沸点(および水のそれより大きな蒸気圧)に加えて、それらの水中における全体の混和性のために、エタノールおよびプロパノールが好ましい。
前記溶液の調製、並びに工程a)〜c)の混合中に用いられる室温は、0℃〜50℃、好ましくは20℃〜40℃からなる温度として定義される。
従って、本発明に従ったコロイド溶液を調製するこの方法は、
−低温、特に室温、かつ大気圧において行なわれる点、
−準即時的であり、均質かつ安定したコロイドを提供する点、
−有毒な溶媒および/または共有結合を有する有機配位子の不在下において、酸を添加することなく、水性溶媒の適用を可能にする点、
−適用される溶媒および前駆体のために、pHを調節することなく、pHが2未満の酸性pHで自己制御される点、および、
−アセトニトリルは危険または有毒な溶媒ではなく、酸化に対する金属カチオンの原子の保護を可能にすることにより、配位子とは異なり共有結合に関与することなく、前駆体および/または形成された粒子の加水分解に対する保護配位子の役割を果たす点において特に有利である。
典型的には1分未満、さらに5秒未満の時間間隔で行なわれる工程c)における反応の迅速さは、任意の錯形成性配位子の不在および結合する前記金属(liant ledit metal)の結果である。
工程c)における前駆体のこの反応の迅速さは、非晶質ナノ粒子およびよりサイズの小さい非晶質ナノ粒子を得ることに寄与し、前記ナノ粒子は他のものを犠牲にして成長するための時間を有さない。
他方では、ナノ粒子の高い濃度および小さいサイズは、工程c)において得られるナノ粒子のコロイドにより優れた安定性を与え、後者は前記ナノ粒子のコロイドは室温で少なくとも2日間にわたって安定している。
得られた前記コロイド溶液は、基材上における非晶質金属カルコゲニドナノ粒子の層の堆積およびアニーリングの後に、本発明の目的に従った粗大粒を有する結晶性金属カルコゲニドの膜を得る可能性をさらに与える。
コロイド合成中における本発明に従った水性溶媒、アルコール溶媒、または含水アルコール溶媒の使用の別の利点は、カルコゲニド前駆体塩のより容易な溶解、すなわちより濃厚な濃度、特に、NaSHまたはNaSの塩の場合には5M(モル/リットル)を超える濃度での溶解を可能にするということである。よって得られたコロイドはさらに濃縮されてもよい。同様に、反応副生成物はより容易に溶解され、水性濯ぎ溶媒または含水アルコール濯ぎ溶媒によるより少数回のすすぎ工程によって除去される。
他の好ましい、より具体的な特徴によれば、
−工程a)において、前記第1の金属Mの前記塩はハロゲン化物であり、好ましくは塩化物であり、
−工程b)において、第2の金属(M以外の)の前記カルコゲニドは、アルカリ塩、アルカリ土類塩、好ましくはナトリウム塩またはカリウム塩、好ましくはNaSまたはNaSHである。
先の刊行物において、金属ハロゲン化物塩または金属前駆体Mは、多くの場合、ヨウ化物の形態にあり、該ヨウ化物は適用される有機溶媒中において塩化物より良好に溶解する。しかしながら、本発明に従った塩化物前駆体の特に水性媒体または含水アルコール媒体中における適用は、塩化物塩がより入手し易く(かつそれほど高価でなく)、かつ前記塩化物前駆体から生じるコロイド状CZTSは、ヨウ化物前駆体によるものよりも安定しているので有利である。
さらに好ましくは、MはCu、ZnおよびSnの三成分混合物であり、かつCはSであり、好ましくは、工程c)において、CuZnSnSの非晶質ナノ粒子が得られる。
セレンは吸収層のバンドギャップを低下させるので、セレン(Se)を含まないカルコゲンSのみを含有する金属カルコゲニドを適用することは有利である。いったん、前記金属カルコゲニドが光起電力装置に適用されると、Sのみを有するカルコゲニド金属は、(文献によれば0.6ボルトを超える)より大きな光起電力電圧を得る可能性を与える。
別の実施形態において、M−CはSbおよびSnSから選択される。
さらなる実施形態において、M−Cは、CuSbS、CuSn(S,Se)、CuZn(Sn,Sb)S、CuBiSおよびCuSnSのうちから選択される。
他の有利な特定の特徴によれば、
−工程a)において、前記第1の溶液はCuCl、ZnClおよびSnClを含有して実施され、
−工程b)において、NaSHの前記第2の水溶液は、好ましくは5Mを超える濃度で実施され、
−工程c)において、CuZnSnSの非晶質ナノ粒子は特に3〜20nmの大きさを有するものが得られる。
NaSHまたはKSHなどのカルコゲニドのヒドロ硫化物塩の適用の別の有利な効果は、金属塩化物とのそれらの反応が、それによって得られるコロイド溶液の酸性度を強めるという点にある。これはOHイオンによって可能な加水分解によりナノ粒子が分解する危険性を低減する。よって、例えば酸を添加することからなる付加的な工程によるpH調整が不要となり、該方法はより容易となり、従って有利である。
他の特定の特徴によれば、
−工程b)において、カルコゲニドの前駆体の前記第2の水溶液は、溶媒として水のみを含有する溶液の状態にあり、
−工程a)において、金属Mの前駆体の前記第1の溶液の溶媒は、好ましくは少なくとも50/50のアセトニトリル/水の比率で、水と混合されたアセトニトリルの状態にあり、好ましくは純粋なアセトニトリルであり、
−コロイドを濯ぐための工程f)および工程g)は、遠心分離、およびその後の水性溶媒、アルコール溶媒、または含水アルコール溶媒中における再分散によって、1回または数回繰り返され、
−用いられる水および溶媒は、いかなる酸素も含有しないガス、好ましくは中性ガス、さらに好ましくは窒素を注入/バブリングすることによって、予め脱酸素されており、工程c)の混合物は真空チャンバ内、または酸素を有さない、好ましくは中性ガス、さらに好ましくは窒素を有する大気を含むチャンバ内で形成される。この後者の特徴は、前駆体溶液中およびコロイド溶液中の金属カチオンの酸化および/または加水分解を回避する可能性を与える。
本出願において、「酸素を有さない大気」とは1ppm未満(百万分率)の酸素含有量を意味する。
本発明はまた、本発明に従ったコロイド溶液を調製するための方法によって得られる、30nm未満、好ましくは3〜20nmの大きさを有する一次ナノ粒子を含む非晶質ナノ粒子の、水溶液、アルコール溶液、または含水アルコール溶液を含むいわゆる分散溶媒中で調剤されたコロイド溶液またはインクを提供する。前記溶液のアルコールは、特にメタノール以外の非毒性アルコールである。
より具体的には、前記コロイド溶液は、非晶質ナノ粒子の水溶液、アルコール溶液、または含水アルコール溶液の状態にある分散溶媒中に分散された前記ナノ粒子の状態にあり、前記溶液の前記アルコールは水の沸点より低い沸点を有し、前記分散溶媒は、好ましくは水/エタノール混合物の状態にある。
さらにより具体的には、前記コロイド溶液は上記に定義したような有機配位子を含まない。「一次ナノ粒子(nanoparticules primaires)」とは、本願において、いくつかの一次ナノ粒子が一緒になったよりサイズの大きい凝集体の形態にある、それらの可能な二次凝集(agregation ulterieure)の前に得られるようなナノ粒子を意味する。
本発明の水性溶媒および/またはアルコールの溶媒中に分散されたよりサイズの小さい一次ナノ粒子を得ることは、後述する製造方法において、第1段階でいかなる配位子も添加することなく安定したコロイドを得るためだけでなく、第2段階でいかなる有機配位子の残留不純物も有することなく、粗大結晶粒を有する均質膜を得るためにも有利である。
本発明は、本発明に従ったコロイド溶液によって、少なくとも前記膜の厚さの半分に等しい大きさを有する粗大結晶粒を有する金属カルコゲニドの多結晶膜を製造する方法を提供する。前記膜は基材を形成する層をなす1つ以上の材料上に堆積されており、前記金属カルコゲニドは式M−Cであり、前記式中、
−Mは、Cu、Zn、Sn、Ge、SbおよびBi、好ましくはCu、Zn、SnおよびSbのうちから選択される同一または異なる1つ以上の金属元素を表わし、
−Cは、S、SeおよびTeのうちから選択される同一または異なる1つ以上のカルコゲニド元素を表わし、
以下の連続工程、すなわち、
1)本発明に従った前記水性コロイド溶液、アルコールコロイド溶液、または含水アルコールコロイド溶液から前記基材上に金属カルコゲニドの非晶質ナノ粒子の層が堆積される工程と、
2)0.2〜5μm、好ましくは約1μmの厚さにわたって、前記金属カルコゲニドの層の高密度化およびナノ粒子の結晶化を得るために、前記金属カルコゲニドの層の熱処理が少なくとも300℃、好ましくは少なくとも450℃の温度で行われる工程とが実施される。
以下の実施例3および実施例4において、噴霧および熱処理による堆積後に、粗大粒を有し、かつモリブデン基材上に付着した、結晶性CZTS層の連続した稠密な(亀裂または穴のない)膜を生成するための好ましい分散溶媒は水−エタノール混合物であることが示される。
より具体的には、本発明に従った膜を製造する方法において、
−工程1)において、前記水性コロイド溶液は、いわゆる基材上で0.5〜15μm、好ましくは約3μmの厚さを有する前記コロイド溶液の層を形成するために、大気圧において、少なくとも100℃にされた基材温度で、いかなる酸素も含まないガス、好ましくは中性ガス、さらに好ましくは窒素からなるキャリヤガスによって噴霧され、
−工程1)および2)は、真空チャンバ内、または酸素を含まないガス、好ましくは中性ガス、さらに好ましくは窒素で充填されたチャンバ内において実施される。
有利には、前記基材は、固体光起電力装置においてp型半導体吸収層によって被覆されることを意図した基材である。
より具体的には、前記基材は、好ましくは、サブストレート型の固体光起電力装置に有用であるモリブデンからなる、いわゆる後部接点層によって被覆されたガラスまたは鋼鉄層からなる。
さらにより具体的には、前記基材は、スーパーストレート型の光起電力装置における吸収層によって被覆されることを意図した基材であり、前記基材は、少なくとも、
−透明な前部接点導電層と、
−好ましくは透明な絶縁化合物層と、
−n型半導体の緩衝層と
によって連続的に被覆されたガラス層からなる。
n型半導体の前記緩衝層は、p型の前記吸収層とのp−n接合部であり、前記緩衝層は、例えばCdS、InまたはZn(S,O,OH)からなる。
本発明はまた、本発明に従った膜を製造するための方法によって得られた基材上に連続的に堆積された、少なくとも前記膜の厚さの半分に等しい大きさの粗大結晶粒を有する結晶化した金属カルコゲニドの膜も提供する。
より具体的には、前記膜は、少なくとも20×20μmの表面積に対して、膜の厚さeの半分未満、好ましくは0.2×e未満、さらに好ましくは0.15×e未満の、ISO25178規格に従ったピークの算術平均高さによる表面粗さSaを有する。
本発明に従った方法によって得られた膜のこの低表面粗さ特性は、前記膜の隣り合った双方の層の間において直接的な接触を回避するという点で、新規であり、かつ有利である。前記層のこの連続特性は光起電力装置の電気的な短絡を回避するのに有利である。
さらにより具体的には、前記膜は、0.1〜5μm、好ましくは約1μmの厚さを有するケステライト結晶形態にある金属カルコゲニドCuZnSnS(CZTS)からなる。
従って、乾燥したコロイド溶液の薄層が結晶化しているか、または非晶質であるかを判定するために、X線回折法が適用される(例えばルネ ギュネブレティエール(Rene Guinebretiere)の書籍、第2版、ラボアジエ、パリ、ISBN 2−7462−1238−2を参照されたい)。
粒子の大きさは、走査型電子顕微鏡(SEM)または透過型電子顕微鏡(TEM)による電子顕微鏡によって測定される。
X線回折技術(例えばθ−2θモードにおける)もまた、回折ピークの積分幅から結晶子の大きさの測定を可能にする。これについて、材料は回折線を有するものでなければならない(結晶性でなければならない)が、また結晶子は十分に小さく、約50nmまたは100nm未満のオーダーのものでなければならない。それを超えると、前記技術はXRD設備の物理的な限界のために不適当である。
従って、数十ナノメートルのスケールの非晶質/わずかに結晶化したナノ粒子の大きさを測定するためには、透過型電子顕微鏡(TEM)が好ましい。(例えば、ウィリアムズ(Williams)およびカーター(Carter)による書籍、Transmission Electron Microscopy、第I巻、第II巻、第III巻、および第IV巻、スプリンガー版、1996年、ISBN 978−0−306−45324−3を参照されたい)。
結晶膜のモルホロジーは、その起伏の寸法、特にその粒の大きさとその粗さとによって特徴付けられ、それらは顕微鏡(光学顕微鏡、原子間力顕微鏡、SEMまたはTEM電子顕微鏡、など)によって観察される。
粗大粒を有する結晶化膜の場合には、1マイクロメートルのオーダーの粒径を測定するために選択される技術は、走査型電子顕微鏡(SEM)である(例えば書籍「Microscopie Electronique a Balayage et Microanalyses」(Scanning Electron Microscopy and Microanalyses)、編集者 ブリセット(Brisset)、EDPサイエンス、ISBN 978−7598−0082−7、2008年参照)。
膜の表面粗さの測定は、アジレント テク(Agilent Tech.)(米国)シリーズ5100からのモデルAFM/SPMの原子間力顕微鏡(AFM)およびローカル走査プローブ顕微鏡(SPM)によって実施した。
本発明はまた、本発明に従って基材上に堆積された前記膜からなる吸収層を備える光起電力装置も提供する。
より具体的には、本発明に従った光起電力装置は、以下の連続的に積層された層、すなわち、
−後部電気接点層として用いられる薄い導電性モリブデン層で被覆された、好ましくはナトリウム石灰ガラスの、基材と、
−本質的にCZTSからなる前記薄い吸収材料層と、
−緩衝層であって、好ましくは硫化カドミウムCdSまたは硫化インジウムInなどのn型半導体、またはさらにZn(S、O、OH)のような酸硫化物合金に基づいて形成された層と、
−導電性透明層であって、好ましくは錫をドープした酸化インジウム(ITO)またはアルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)の透明導電性層で被覆された、好ましくは第1のいわゆる固有(ドープされていない)ZnO層からなる導電性透明層と、
−前記透明層上に堆積される前の電気接点面の(アルミニウム、ニッケル、および/または銀の)金属グリッドと、
を備える。
本発明の他の特徴および利点は、以下の図を参照して続く詳細な例示的実施形態を考慮すると明らかになるであろう。
実施例1に従った水/アセトニトリル混合物中で調製された粗製CZTSコロイドのTEM観察写真であって、STEM検出器を用いた測定による写真(図1A)。 実施例1に従った水/アセトニトリル混合物中で調製された粗製CZTSコロイドのTEM観察写真であって、より高いTEM倍率における写真(図1B)。 乾燥粉末について電子回折EDによって得られた回折スペクトルの写真。 SEM型顕微鏡によって得られたコロイド形態にあるCZTSナノ粒子の写真(図2A)。 基材上に噴霧によって堆積された膜として堆積した後の前記CZTSナノ粒子の写真(図2B)。これらの写真は、モリブデンによって被覆されたガラス基材上における膜の製造の様々な工程において測定された、電子顕微鏡によって得られた(図2Bおよび図2C)。 前記膜の525℃でのアニーリング後の写真(図2C)。これらの写真は、モリブデンによって被覆されたガラス基材上における膜の製造の様々な工程において測定された、電子顕微鏡によって得られた(図2Bおよび図2C)。 図2A(曲線a)、図2B(曲線b)および図2C(曲線c)のナノ粒子の層において測定されたX線回折スペクトル。縦軸におけるCps(「カウント数/秒」)値は線形目盛(「Lin」)に従っている。 525℃の結晶化アニーリング後における、実施例4に従ったCZTS膜の表面の電子顕微鏡観察によって得られた写真であって、純粋なエタノール溶媒中に分散され、75°Cで噴霧することによって堆積されたものの写真(図4A)。 525℃の結晶化アニーリング後における、実施例4に従ったCZTS膜の表面の電子顕微鏡観察によって得られた写真であって、TEP溶媒および300℃で噴霧したものの写真(図4B)。 525℃の結晶化アニーリング後における、実施例4に従ったCZTS膜の表面の電子顕微鏡観察によって得られた写真であって、DMSO溶媒および300℃で噴霧したものの写真(図4C)。 525℃の結晶化アニーリング後における、実施例4に従ったCZTS膜の表面の電子顕微鏡観察によって得られた写真であって、水溶媒および300℃で噴霧したものの写真(図4D)。 実施例7(活性表面積=0.25cm)に従ったMoサブストレート構造における光電池CuZnSnSのソーラーシミュレータ(100mW/cm)下における特有の電流−電圧曲線を表わす図。
実施例1:CZTSコロイドの調製。
Cu−Zn−Sn−Sナノ粒子のコロイドは、水/アセトニトリル中における金属塩CuCl、ZnCl、SnCl・5HOの混合物をNaSHの水溶液と室温かつ不活性窒素雰囲気下で、下記式の全反応に従って、反応させることによって製造した。
この反応系は、反応の副生物、例えばNaClまたはHClが水に可溶性であり、一方、ナノ粒子は固体であり、コロイドとして分散されるという意味において、適している。
NaSHの水溶液(0.12M)は、50mLの瓶中において、0.56グラムの水和NaSH粉末(供給者オールドリッチ(Aldrich)、製品16,152,7)を秤量し、窒素による30分間のバブリングによって予め脱酸素した50mLの脱イオン水を添加することによって調製される。次に、この硫黄前駆体NaSHの水溶液を栓で密封してから保存する。
水/アセトニトリル中における銅−亜鉛−錫(CZT)金属塩化物の溶液は、窒素グローブボックス内において、
1)469mgの銅前駆体粉末:CuCl(供給者オールドリッチ224332)、415mgの亜鉛前駆体粉末:ZnCl(供給者オールドリッチ208086)、および893mgの錫前駆体粉末:水和SnCl(オールドリッチ244678)を秤量し、次に、
2)10mLの無水アセトニトリル(オールドリッチ271004)を添加し、
3)超音波による数分間の溶解および混合の後に、黄緑色の溶液が1mol/L(Cu+Zn+Sn)の濃度で得られ、該溶液を次にアセトニトリル中で5倍に希釈し(1対4の体積比)、次にそれ自体を水で2倍に希釈し(体積1対1)、それにより0.1mol/Lの濃度を得ることによって調製される。
コロイド合成反応は、10mLの金属前駆体CZT(0.1M)の溶液中に10mLのNaSH溶液(0.12M)を注ぐことによって実施される。周囲圧力および温度で行なわれるこの合成は、非常に迅速であり、上記に示した全反応に従って、コロイド状CZTS溶液を生じる。
この粗製コロイドのpHは、金属元素または粒子の加水分解を回避するのに好都合な非常に強く顕著な酸性度を規定するpH=0.3に相当すると測定された。
この粗製コロイドを透過型電子顕微鏡によって分析した。EDX(エネルギー分散型X線分光法)検出器、STEM BF(走査透過電子顕微鏡明視野(Scanning Transmission Electron Microscope Bright Field))および広角HAADF(High Angular Annular Dark Field(高角度環状暗視野))を有するSTEM DF(表面透過型電子顕微鏡暗視野(Surface Transmission Electron Microscope Dark Field))を装備したJEOL(日本)のモデル2100 FEG 200kVを用いる。
これについて、ニッケルグリッド上の炭素膜からなる試料ホルダを希釈していないコロイド中に浸漬し、TEM真空チャンバに導入する前に、単に周囲空気中で乾燥させた。図1Aによれば、乾燥したコロイドは、一次ナノ粒子の凝集体を形成し、その特有の大きさは2〜5nmであり、非晶質粒子に特有の丸味を帯びた形状を有する。多数の領域におけるEDX測定によって行われた平均元素分析は、これらの乾燥した粒子が大多数のCu、Zn、Sn、S元素と、不純物としてClとを含有することを示している。より大きなTEM倍率(図1B)によると、すなわち、入射電子のビームを集中させることにより、特定の結晶面は、TEM観察中に、前記ビーム下において起こり得る結晶化のために、観察可能であると思われる。図1Cの実施例によって図示される電子回折分析は、ケステライトCuZnSnS(CZTS)の既知の結晶構造に適合する原子間距離によって特徴付けられる原子回折面に対応する、拡散した回折リングの存在を示している。従って、TEM下で観測された粗製コロイドは、非晶性であるか、または起こり得るケステライト構造にわずかに結晶化している(具体的には高倍率を有するTEM観察中における結晶化による)ように見える。
組成(TEM EDX)の分析は下記の通りである。
次に、この粗製コロイドを遠沈管に注いでから、6,000rpm(ヘティヒ ツェントリフーゲン アーゲー(Hettich Zentrifugen AG)のユニバーサル遠心機16)、すなわち重力に対する表示で3,700Gの加速で、5分間にわたって遠心分離する。これは、固形物部分と液体部分との分離を可能にする。透明な上方の液体部分(上澄み液)を酸液体廃棄物の瓶に注ぐことによって除去する。次に、より下方の固形物部分を、20mLの水を添加することによって濯ぐ。テフロン(登録商標)で被覆された磁気撹拌子(d’un barreau magnetique)を導入した後、この溶液をマグネットプレート上に配置し、約200rpmで5分間にわたって磁気撹拌しながら混合する。9,000rpm(すなわち8,400G)で10分間にわたって新たな遠心分離を行った後に、上澄み液を除去する。この濯ぎ工程は、NaCl、HClおよび他の過剰イオン種などの反応生成物を除去することを目的としている。本発明者らは、真空乾燥の前後に秤量することによって、下方の湿った固体残留物部分が、約100mgの乾燥材料(CZTS)と、500mgの液体とからなるスラリーを形成すると判断した。
次に、このスラリーを、水/エタノール混合物(5mL/5mL)中に再分散させ、次いで、磁気撹拌によって、室温で5分間にわたって混合した。得られたコロイドは数日間にわたって安定しており、噴霧/霧化による堆積に用いられ得る。
次に、この濯がれたコロイド中に懸濁した粒子を、粗製コロイド(図1A)のTEM測定について前述したのと同じニッケルグリッド上の炭素膜による手順を用いることにより、TEM顕微鏡(図2A)によって分析した。図2AのSTEM DF検出器による顕微鏡観察は、凝集した、典型的には2〜7nmの類似した大きさを有する丸味を帯びた形状の一次ナノ粒子を示している。EDX分析(図示せず)は、Cu、Zn、SnおよびS元素が大多数として存在するが、塩素元素は不在であることを示しており、これは濯ぎの効果を表している。高解像度TEM分析および電子回折は電子ビーム下における結晶化のために信頼性が低いので、結晶学的特性は、室温で2.5×2.5cmのガラス板上にざっと塗った濯がれた粗製コロイド(しかし再分散されていない)からのスラリーに対するX線回折によって測定した。
前記X線回折測定は、0.04のピッチで10°から70°まで走査した2θ回折角スペクトルを得るために、ブルカー(Bruker) AXS D8シリーズ2型の回折計において、グレージングモード(入射角を1°に設定)で、銅輝線Kαに対応するX線源と、円弧上を移動可能な検出器とを用いることによって行なった。
図3の曲線A(より下方のスペクトル)は、図2Aの湿ったスラリーのX線の回折スペクトルを示している。このスペクトルは明確な回折ピークを示していないが、2つの非常に広幅な隆起を示している。前記隆起について、2θ=28.4°および2θ=47.3°の位置は、粉末結晶性物質について測定されたX線回折基準スペクトルからのケステライト結晶構造の2つの主要ピーク(112)および(220)/(204)の位置にそれぞれ対応し得る。よって、前記濯がれたコロイドを構成し、次いで周囲空気中で乾燥させられた粒子は、図1Aおよび図1BのTEM観察(粗製コロイド)、または図2AのTEM観察(濯がれて再調整または再分散されたコロイド)と一致して、大半において非晶質であるか、またはわずかに結晶化している。
前記粗製コロイドの固体ナノ粒子、および濯がれてから再分散されたコロイドの固体ナノ粒子の双方は、Cu、Zn、SnおよびS元素からなる、ナノメートルの大きさ(2〜7nm)の非晶性の結晶構造(structure cristalline amorphe)、またはごくわずかに結晶化した構造を特徴とする。
実施例2:濃縮CZTSの粗製コロイドの調製。
モル/リットル(またはM)で示されたCZTSコロイドの濃度は、単位体積当たりのCZTS化合物の分子数(CuZnSnSまたはスズ原子の数に相当)として定義される。上記の実施例1において、粗製コロイドの濃度は0.0125Mである。本実施例では、CZTSコロイドの濃度は、約100mg/mLに相当する0.25Mにされた。当業者には、テープキャスティングによって堆積され得るわずかに希釈されたスラリーの典型的な濃度に対応する値が分かるであろう。これは、コロイド合成方法の多用途性を示す。
この代替案では、NaSHの水溶液(6M)は、4mLの溶液に対して、2.24gのNaSHを秤量することにより調製する。アセトニトリル中における銅−亜鉛−錫(CZT)金属塩化物の溶液は、5mLの溶液に対して、188mgのCuCl、166mgのZnCl、および357mgのSnCl水和物を秤量することにより調製する。第1段階において前記金属前駆体の溶液中に11mLの脱イオン・脱酸素水を注ぎ、次いで第2段階において4mLのNaSH溶液を注ぐことによって合成を行う。
それにより形成されたCZTS化合物の粗製コロイドは濃縮され(0.25M)、さらに上記の実施例1で示した濯ぎ工程において水を添加した後に強い安定性を有する。
実施例3:モリブデンで被覆されたガラス基材上における結晶化CZTS膜の調製。
結晶化膜CuZnSnSの組成、およびCu−Zn−Sn−Sの形態で記述されるアニーリング前の噴霧により堆積された非晶質膜の組成は、以下において従来の方法で識別される。
Cu−Zn−Sn−Sの非晶質層は、懸濁したナノ粒子から、700nmのモリブデン層で被覆された、1mmの厚さを有するナトリウム石灰ガラスによって形成されたMo/ガラス型の基材上における噴霧により堆積させた。
噴霧による堆積の本例では、上記の実施例1に従ったコロイドを調製し、次にそのコロイドを水/エタノール混合物(5mL/5mL)中で再分散させた。
噴霧工程は、窒素が充填され、精製ユニット(<1ppmのO、<10ppmのHO)を装備し、かつ試料の導入/取出しに用いられるエアロックを備えたグローブボックス(フランスのジャコメックス ソシエテ・パ・アクシオンス・シンプリフィエ(Jacomex S.A.S.)のステンレス鋼製のモデルGPコンセプトタイプT3)中で実施した。非晶質Cu−Zn−Sn−S膜は、基材の下に配置されたKタイプの熱電対に対する閉ループにおける改良された熱調整により、加熱板(フランスのVWR インターナショナル ソシエテ・パ・アクシオンス・シンプリフィエ(VWR international SAS)からの18×18cmの標準的なセラミックのモデル、品番444−0617)によって250℃の温度にされたMo/ガラス基材(2.5cm×2.5cm)上に堆積させた。X−Y直角座標ロボット(フランス国内ではニュー−マト フランス(New−Mat France)によって供給されているRCX222コントローラを備えたヤマハ型のFXYx 550×550)は、16cmを超える表面を、使用されるスプレーノズル(グラスケラー バーゼル アーゲー(Glasskeller Basel AG)からのホウケイ酸ガラスの試験管上の噴霧器フラスコ)によって掃引するために用いた。ノズルにコロイド溶液を注入するために、窒素圧の適用は間欠的に制御された。すなわち、0.3秒間にわたって開放し、次いで1.7秒の待ち時間、この2秒のサイクルを噴霧期間中に維持した。良好な膜は、約15cmのノズル−基材間距離、14L/分nの窒素キャリヤガスの平均流量、0.2バール(20kPa)のシリンダー窒素圧において得られた。10mg/mL濃度のコロイドの2分間にわたる(すなわち約2mLの体積の)噴霧による堆積によって、6±1μmの厚さが得られた。
それにより堆積した非晶質層Cu−Zn−Sn−Sのモルホロジーは、走査型電子顕微鏡SEM(EDXアナライザおよびソフトウェアパッケージNORANによるデータ処理を装備した日立株式会社のモデルS−4700)によって測定された。図2Bは、240℃における噴霧により堆積したCu−Zn−Sn−S膜の断面図である。この写真では、ガラス基板は、柱構造を有する多結晶モリブデンの700nmの層と、Cu−Zn−Sn−S膜とに被覆されて見え得る。この膜は多孔質であり、かつ凝集し、真空によって分離された微粒子からなることが分かる。
CZTSコロイドから噴霧堆積によって得られた膜の非晶性/わずかに結晶化した性質は、図3のスペクトル(中央の曲線b)によって示されるようなX線回折測定によって示された。前記スペクトルにおいても、明らかに検出可能な回折ピークはない。
粗大結晶粒を形成するために層を高密度化および結晶化するために用いたアニーリング工程は、窒素ガラスボックス(品番GTコンセプト、フランスのジャコメックス ソシエテ・パ・アクシオンス・シンプリフィエ(Jacomex SAS))内において行なった。次に、噴霧により堆積した膜をホットプレート(デトレフ制御ケースを有するチタンプレートのモデル、ハリー ゲスチグケイト ゲーエムベーハー(Harry Gestigkeit,GmbH))上に置き、窒素下で525℃のアニール温度まで徐々に加熱して1時間維持し、次いで1時間冷却した。図2Cは、アニーリング後に得られた膜の断面図を示しており、多結晶モリブデン層の上方において、1.8±0.2μmの厚さを有する多結晶膜は、所望の粗大粒(1〜2μm)、すなわち膜の厚さに近い粒の形成を伴う結晶化によってなされた膜の高密度化を呈している。
上記の膜の表面状態を分析し、その粗さSaをISO25178規格に従って測定した。平均粗さSaは、粗さプロファイルの縦軸の絶対値の算術平均として定義される。1.8μmの厚さを有する膜について以下の値:50×50μmの表面に対して313nm、20×20μmの表面に対して247nmが得られた。
実施例4:純粋な分散溶媒中で調剤したCZTSインクからの、モリブデンによって被覆されたガラス基板上における結晶化CZTS膜の調製。
本実施例では、CZTSコロイドは、水で濯ぎ、次いで遠心分離したスラリーを次に実施例3の50対50の水−エタノール混合物とは異なる分散溶媒中に混合したという点を除いて、実施例1に従って調製した。前記分散溶媒の中でも、特にTEP(トリエチルホスファート)(40Pa)またはDMSO(80Pa)の20℃における低い蒸気圧、または他の場合には水(2,330Pa)およびエタノール(5,850Pa)の高い蒸気圧について、それらの4つを本実施例に選択した。濃度は10g/Lに調節した。本発明に従ったグローブボックス内における噴霧による堆積後、得られたCZTS/Mo/ガラス試料を、次に窒素下において525℃で結晶化熱処理に供した。得られた試料の表面の画像を図4A〜図4Dに示す。
このCZTS膜は、X線回折スペクトル(図示せず)によって示されるように、結晶化したCZTS粒によって形成されている。しかしながら、A)エタノール、B)トリエチルホスファート(TEP)、またはC)ジメチルスルホキシド(DMSO)の場合には、基材への付着性は十分ではなく、基材の被覆レベルは完全でなく、また粒径は均質ではない。水溶媒(図4のDの場合)のみが、粗大結晶粒によるCZTS膜の高い被覆レベルと、モリブデン/ガラス基板上における良好な付着性との双方を得る可能性を与える。
本実施例は、水が好ましい純粋な分散溶媒であることを示している。実施例3および実施例4は、前記分散溶媒は、好ましくは水−エタノール混合物であることを示している。前記水−エタノール混合物は、使い易く、非毒性の豊富な溶媒であり、かつ噴霧による堆積およびそれに続く結晶化熱処理の後に、粗大粒を有し、かつモリブデン基材上に付着した、連続した稠密な(亀裂または穴のない)結晶性CZTS層を形成する可能性を与える。
実施例5:Sbコロイドの調製。
まず、18mLのアセトニトリルと2mLの水とを室温で混合し、次にその中に自発的に溶解する18mgのNaSH粉末(0.321ミリモル)を注入することによって、硫黄前駆体溶液を調製する。NaSHはアセトニトリル中では可溶ではないか、またはごく少量しか溶解しないので、溶解は水/アセトニトリル混合物の水部分において起こる。
次に、20mLの純粋なアセトニトリルの溶液中に4mg(0.214ミリモル)のSbCl粉末(オールドリッチ)を溶解することによって、10.7mol/Lの濃度を有するアンチモン金属前駆体溶液を調製する。SbCl塩の加水分解はこの溶解の間には認められない。
前記硫黄前駆体溶液を室温で前記金属溶液中に注ぐことによって、自発的な形成から数秒の内に生じる安定したコロイドの非晶質固体相Sbに特有の橙色の着色が直ちに観測される。このコロイドは遠心分離が困難である。これは、一次懸濁ナノ粒子の小さなサイズ/塊に関係するコロイドの優れた安定性を示す。実際には、次に透過型顕微鏡観察(TEM)による分析を行う:炭素膜を有する銅格子を、そのごく一部を収集するためにコロイド液体中に数秒間浸漬し、次いで周囲空気中で放置して乾燥させる。TEM下の観察結果は、凝集した小さな一次粒子を示し、その個々の大きさは約20ナノメートルである。元素分析TEM+EDXは、Sbの大部分の組成物、並びに(約1原子百分率のオーダーの)塩素化不純物の存在を示す。TEM電子ビーム下の電子回折によって結晶相を確認することはできず、これはコロイドの固体粒子が非晶質の硫化アンチモンSbからなることを示している。次に、アンチモン/アセトニトリルおよび硫黄/水溶液の双方の混合によるコロイド合成を全反応:2SbCl+3NaSH <=> Sb+3NaCl+3HClに従って行う。
上記の実施例の条件と同一条件下で調製した2つの硫黄および金属溶液を用いることにより、混合の順序を硫黄含有溶液に金属溶液を注ぐことによって反対にした。また、特徴的な橙色を有する非晶質コロイドSbの自発的な形成によって、橙色の着色が直ちに観測された。
実施例6:コロイドSnSの調製
錫0.05Mの金属溶液を50mLの容量を有するガラスびん中で調製する。前記ガラスびんには、最初に348mgの錫前駆体粉末(SnCl、無水物、フルカ(Fluka) 96529)を投入し、次に36mLのアセトニトリル溶媒を注ぐ。室温で数分間の超音波処理によって溶解を促進する。
上記の実施例におけるように、1.12gのNaSH粉末を秤量し、次にそれらの自発的な溶解を行うために100mLの脱イオンおよび脱酸素した純水を添加することによって、0.2Mの硫黄含有水溶液を調製する。
次に、例えば、36mLの0.05M金属スズ溶液に9mLの0.2M硫黄含有溶液を注ぐことにより、双方の溶液を室温で混合することによって、コロイド合成を行う。次に、黒色コロイドが全反応:SnCl+NaSH <=> SnS+NaCl+HClに従って自発的に形成される。このコロイドは周囲条件下で数日間にわたって安定している。上記により形成され、他の処理を行っていない(濯ぎ、遠心分離、再分散などのない)このコロイドのTEM観察を以下に示す。具体的には、元素分析TEM−EDXは、以下の組成(TEM EDX)に従って、組成は大部分が硫化スズであり、反応の残留不純物である塩素化不純物の存在を伴うことを示している。
形成された一次粒子は比較的小さく、3〜5nmのオーダーの特徴的な大きさを有する。次に、このコロイドは、濯がれ、次いで、薄層の堆積に用いられ得るスラリーまたはインクとして再調剤されるために用いられ得る。
実施例7:窒素雰囲気中でアニーリングしたCZTS層を用いて製造した薄層型の光起電力装置。
薄いCZTS層を、実施例3におけるように、ガラス基材、恐らくモリブデン上で調製して、N雰囲気下でアニーリングした。
粗大粒を有する結晶化した連続CZTS層上において、最新の通常の手順(例えば、ジー.ホーデス(G. Hodes)、Chemical Solution Deposition Of Semiconductor Films、ISBN 08247−0851−2、エム.デッカー インク(M. Dekker Inc.)参照)に従った化学浴中における堆積により、60℃で維持した脱イオン水、アンモニア(NH、4M)、硝酸カドミウム(Cd(NO、4mM)、およびチオ尿素(SC(NH、0.2M)の混合物中においてクエンチすることによって、約50nmのCdSの緩衝層を堆積させた。10分後、試料を脱イオン水中で濯ぎ、次いで窒素流下で乾燥させた。
この緩衝層上に、インターコヴァメックス(Intercovamex)からの市販装置H2を使用したマグネトロンスパッタリングによって、2つの光透過性層、すなわち約50nmのZnOの第1絶縁膜[135W RF、0.5Paのアルゴン]と、それに続く10質量%の錫でドープされた約250nmの酸化インジウム(ITO)の導電性透明層[70W RF、0.25Paのアルゴン]とを連続的に堆積させた。得られたITO層のシート抵抗は単位正方形当たり約30オームである。
次に、基材を各々0.5cm×0.5cmの四角形寸法を有する16個の電気的に絶縁されたセルに分割した。電流を集め、光起電力性能を測定するために、導電性ITO層上において銀を充填したラッカーを乾燥させることによって堆積させた0.5mmの銀の小さな点によって前面接点を形成した。また後部接点は、基材の端部でモリブデン上において直接得た。
光起電力収率(または光起電力効率)は、光照射下で測定される光起電力ダイオードの電流−電圧の電気特性から算出した。変換収率は、入射放射の電力に対する、最大電力点において装置によって供給される電力のパーセンテージである。すなわち、η=(最大電力点における電力)/(入射放射の電力)。この光起電力効率は電気的テストベンチによって測定され、それはAM1.5G基準に対応する1000W/mの照射を供給するソーラーシミュレータを用いる。前記測定ベンチは、様々な公認された公的研究所によって提供されるような、対照セルの既知の光電流に基づいて標準手順に従って較正した。
図5に示したように、この実施例に記載する予備収率は約1%のオーダーであり、短絡電流は約8mA/cmであり、開路電圧は約Voc=0.25Vであった。

Claims (15)

  1. 式M−Cの金属カルコゲニドの非晶質ナノ粒子のコロイド水溶液、コロイドアルコール溶液、またはコロイド含水アルコール溶液を調製する方法であって、前記式中、
    −Mは、Cu、Zn、Sn、Ge、SbおよびBi、好ましくはCu、Zn、SnおよびSbのうちから選択される同一または異なる1つ以上の第1の金属を表わし、
    −Cは、S、SeおよびTeのうちから選択される同一または異なる1つ以上のカルコゲニド元素を表わし、
    0℃〜50℃、好ましくは20℃〜40℃の温度において以下の連続的工程、すなわち、
    a)溶液中における1つまたはそれ以上のカルコゲニド塩C以外の前記第1の金属Mの前駆体の第1の溶液が、純粋なアセトニトリル、または、水およびメタノール以外の好ましくはエタノールであるアルコールのうちの少なくとも一方との混合物、の状態にある溶媒中において調製される工程と、
    b)1つまたはそれ以上の第1の金属M以外の第2の金属の1つまたはそれ以上のカルコゲニド塩の状態にあるカルコゲニドCの前駆体の第2の水溶液、アルコール溶液または含水アルコール溶液が調製される工程であって、前記第2の溶液のアルコールは、メタノール以外であり、好ましくはエタノールである工程と、
    c)前記前駆体の第1の溶液および第2の溶液の双方は、粗製コロイド溶液が準即時的に得られるまで、大気圧および室温において混合される工程であって、前記粗製コロイド溶液は30nm未満、好ましくは3〜20nmの大きさを有する一次非晶質ナノ粒子を含む工程と、
    d)上澄み液の除去後に固形残留物を得るために、工程c)の前記コロイド溶液から、好ましくは遠心分離によって、固形部分が分離される工程と、
    e)工程d)において得られた固形残留物が、コロイド溶液を形成するために該固形残留物上に水溶液またはアルコール溶液または含水アルコール溶液を注ぐことによって濯がれる工程であって、前記水性コロイド溶液またはアルコールコロイド溶液または含水アルコールコロイド溶液のアルコールは、メタノール以外であり、好ましくはエタノールである工程と、
    f)上澄み液の除去後に濯がれた固形残留物を湿ったペーストとして得るために、工程e)の前記コロイド溶液から、好ましくは遠心分離によって、固形部分が再度分離される工程と、
    g)工程f)からの前記湿ったペーストは、水溶液、アルコール溶液または含水アルコール溶液を含む、好ましくはそれらの溶液の状態にある、分散溶媒中に再分散される工程であって、前記アルコール溶液または含水アルコール溶液のアルコールは、含まれる場合には、非毒性アルコールである工程と、が行なわれることを特徴とする、方法。
  2. 工程g)において、前記分散溶媒は、水溶液、アルコール溶液、または含水アルコール溶液であり、前記アルコール溶液または含水アルコール溶液のアルコールは水の沸点より低い沸点を有する非毒性アルコールであり、好ましくはエタノールまたはプロパノールであり、さらに好ましくは水/エタノール混合物の状態にあることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 工程a)において、第1の金属Mの前記塩はハロゲン化物であり、好ましくは塩化物であり、
    工程b)において、前記第2の金属の前記カルコゲニド塩は、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、好ましくはナトリウム塩またはカリウム塩であることを特徴とする、請求項1または2に記載の調製方法。
  4. MはCu、ZnおよびSnの三成分混合物であり、かつCはSであり、工程c)において、CuZnSnSの非晶質ナノ粒子が得られることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の調製方法。
  5. 工程a)では、CuCl、ZnClおよびSnClを含有する前記第1の溶液が調製され、
    工程b)では、NaSHの前記第2の水溶液が、好ましくは5Mを超える濃度で調製され、
    工程c)では、CuZnSnSの非晶質ナノ粒子が得られることを特徴とする、請求項3または4に記載の調製方法。
  6. M−CはSnSおよびSbのうちから選択されることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の調製方法。
  7. 30nm未満、好ましくは3〜20nmの大きさの一次ナノ粒子を含む請求項1乃至6のいずれか1項に記載の方法によって得られた非晶質ナノ粒子の、水溶液、アルコール溶液または含水アルコール溶液を含む分散溶媒中のコロイド溶液、好ましくは含水アルコールコロイド溶液であって、前記溶液のアルコールは非毒性アルコールである、コロイド溶液。
  8. 前記コロイド溶液は、非晶質ナノ粒子の水溶液、アルコール溶液、または含水アルコール溶液の状態にある分散溶媒中に分散された前記ナノ粒子の状態にあり、前記溶液の前記アルコールは、水の沸点より低い沸点を有し、好ましくは、前記分散溶媒はエタノール、プロパノール、さらに好ましくは、水/エタノール混合物の状態にあることを特徴とする、請求項7に記載のコロイド溶液。
  9. 請求項7または8に記載のコロイド溶液によって、少なくとも膜の厚さの半分に等しい大きさの粗大結晶粒を有する多結晶性金属カルコゲニドの膜を製造する方法であって、前記膜は、基材を形成する1つまたはそれ以上の層状材料上に堆積されており、前記金属カルコゲニドは式M−Cのものであり、前記式中、
    −Mは、Cu、Zn、Sn、Ge、SbおよびBi、好ましくはCu、Zn、SnおよびSbのうちから選択される同一または異なる1つ以上の金属元素を表わし、
    −Cは、S、SeおよびTeから選択される同一または異なる1つ以上のカルコゲニド元素を表わし、
    以下の連続工程、すなわち、
    1)請求項7または8に記載の前記水性コロイド溶液、アルコールコロイド溶液、または含水アルコールコロイド溶液から前記基材上に金属カルコゲニドの非晶質ナノ粒子の層が堆積される工程と、
    2)0.2〜5ミクロン(μm)、好ましくは約1μmの厚さにわたって、前記金属カルコゲニドの層の高密度化およびナノ粒子の結晶化を得るために、前記金属カルコゲニドの層の熱処理が、少なくとも300℃、好ましくは少なくとも450℃の温度で実施される工程と、が行なわれる、方法。
  10. 工程1)において、前記水性コロイド溶液、アルコールコロイド溶液、または含水アルコールコロイド溶液は、前記基材上において、0.5〜15μm、好ましくは約3μmの厚さを有する前記コロイド溶液の層を形成するために、大気圧において、少なくとも100℃にされた基材温度で、無酸素ガス、好ましくは中性ガス、さらに好ましくは窒素からなるキャリヤガスによって噴霧され、
    工程1)および工程2)は、真空チャンバ内、または無酸素ガス、好ましくは中性ガス、さらに好ましくは窒素で充填されたチャンバ内において実施されることを特徴とする、請求項9に記載の製造方法。
  11. 前記基材は、固体光起電力装置においてp型半導体吸収層によって被覆されることを意図した基材であり、好ましくは、前記基材は、サブストレート型の固体光起電力装置に有用であるモリブデン層からなる、いわゆる後部接点層によって被覆されたガラスまたは鋼鉄層からなる、請求項9または10に記載の製造方法。
  12. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載の方法によって得られた、基材上に連続的に堆積された膜の厚さの少なくとも半分の大きさを有する粗大結晶粒を有する結晶化金属カルコゲニドの膜であって、好ましくは、前記膜は少なくとも20×20μmの表面積に対して、膜の厚さeの半分未満、好ましくは0.2×e未満、さらに好ましくは0.15×e未満の、ISO25178規格に従ったピークの算術平均高さによる表面粗さSaを有する、膜。
  13. 前記膜は、0.2〜5μm、好ましくは約1μmの厚さを有するケステライト結晶形態にあるCuZnSnS(CZTS)金属カルコゲニドからなることを特徴とする請求項12に記載の膜。
  14. 請求項12または13に記載の基材上に堆積された前記膜からなる吸収層を備えた光起電力装置。
  15. 連続的に積層された以下の層、すなわち、
    −後部電気接点層として用いられるモリブデンの薄い導電性層で被覆された、好ましくはナトリウム石灰ガラスの、基材と、
    −好ましくは本質的にCZTSからなる、吸収材料の前記膜と、
    −緩衝層であって、好ましくは硫化カドミウムCdSまたは硫化インジウムInのようなn型半導体、またはさらにZn(S、O、OH)のような酸硫化物合金に基づいて形成された層と、
    −導電性透明層であって、好ましくは、錫をドープした酸化インジウム(ITO)またはアルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)の透明導電性層で被覆された、いわゆる固有(ドープされていない)ZnO層の第1の層からなる層と、
    −前記透明層上に堆積された前面電気接点の(アルミニウム、ニッケル、および銀のうちの少なくとも1つの)金属グリッドと、を備えることを特徴とする、請求項14に記載の装置。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104028285A (zh) * 2014-05-17 2014-09-10 北京工业大学 Cu2ZnSnS4/La2Ti2O7异质结光催化复合材料的制备方法
FR3022074B1 (fr) 2014-06-05 2018-02-16 Imra Europe Sas Procede de preparation de couche mince d'absorbeur a base de sulfure(s) et seleniures(s) de cuivre, zinc et etain, couche mince recuite et dispositif photovoltaique obtenus.
US10888836B2 (en) * 2014-07-25 2021-01-12 Chemical and Metal Technologies LLC Extraction of target materials using CZTS sorbent
US10730012B2 (en) * 2014-07-25 2020-08-04 Chemical and Metal Technologies LLC Extraction of target materials using CZTS sorbent
WO2016089840A1 (en) * 2014-12-01 2016-06-09 The University Of Chicago Compositionally matched molecular solders for semiconductors
US9825214B1 (en) * 2016-06-22 2017-11-21 Mainstream Engineering Corporation Films and the like produced from particles by processing with electron beams, and a method for production thereof
WO2019066466A1 (ko) * 2017-09-29 2019-04-04 한국과학기술연구원 무기 고분자로 이루어진 비정질 나노구조체 및 그 제조방법
KR102432093B1 (ko) * 2017-10-20 2022-08-16 한국과학기술연구원 무기 고분자로 이루어진 비정질 나노구조체 및 그 제조방법
US11167262B2 (en) * 2017-09-29 2021-11-09 Korea Institute Of Science And Technology Amorphous nanostructure composed of inorganic polymer and method for manufacturing the same
KR102458627B1 (ko) * 2018-08-21 2022-10-25 한국과학기술연구원 비정질 나노구조체를 이용하여 제조된 프랙탈 형상의 합금 나노구조체 및 그 제조방법
KR102407233B1 (ko) * 2018-08-21 2022-06-10 한국과학기술연구원 지지체의 나노 사이즈 기공 내에 나노입자가 고르게 분산된 복합체 및 이의 제조방법
CN111474142B (zh) * 2020-05-21 2021-08-03 中南大学 一种利用近红外1550nm激光器检测微塑料浓度的方法
CN113321555A (zh) * 2021-07-05 2021-08-31 多农多收技术研究(江苏)有限公司 一种可以有效阻止粮食作物对土壤中镉吸收的药剂及方法
CN115108581B (zh) * 2022-07-05 2024-03-15 许昌学院 一种常温制备铜锌锡硫纳米晶的化学方法
CN115231608B (zh) * 2022-07-06 2024-03-15 许昌学院 一种常温制备多元硫化物纳米晶的化学方法
KR102671502B1 (ko) * 2022-11-28 2024-05-30 전남대학교산학협력단 이중 버퍼층을 구비하는 박막 태양전지 및 이의 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4645619A (en) * 1985-05-28 1987-02-24 Xerox Corporation Process for the preparation of colloidal dispersions of chalcogens and chalcogenide alloys
WO2011066205A1 (en) * 2009-11-25 2011-06-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous process for producing crystalline copper chalcogenide nanoparticles, the nanoparticles so-produced, and inks and coated substrates incorporating the nanoparticles

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6126740A (en) * 1995-09-29 2000-10-03 Midwest Research Institute Solution synthesis of mixed-metal chalcogenide nanoparticles and spray deposition of precursor films
JP2005032475A (ja) 2003-07-08 2005-02-03 Sharp Corp 有機色素を光増感剤とする半導体薄膜電極、それを用いた色素増感型光電変換素子および光電気化学太陽電池
US8895427B2 (en) 2008-09-04 2014-11-25 Kaneka Corporation Substrate having a transparent electrode and method for producing the same
CN102264630B (zh) * 2008-10-24 2016-10-19 生命科技公司 稳定的纳米粒子以及制造和使用这种粒子的方法
EP2430112B1 (en) * 2009-04-23 2018-09-12 The University of Chicago Materials and methods for the preparation of nanocomposites
US7972899B2 (en) 2009-07-30 2011-07-05 Sisom Thin Films Llc Method for fabricating copper-containing ternary and quaternary chalcogenide thin films
JP2013512306A (ja) * 2009-11-25 2013-04-11 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー CZTS/Se前駆体インクとCZTS/Se薄フィルムおよびCZTS/Se系光電池の製造方法
JP5454214B2 (ja) 2010-02-22 2014-03-26 Tdk株式会社 化合物半導体バッファ層の製造方法及び化合物半導体薄膜太陽電池の製造方法
WO2012000594A1 (en) 2010-06-29 2012-01-05 Merck Patent Gmbh Preparation of semiconductor films
US8617915B2 (en) * 2010-09-20 2013-12-31 International Business Machines Corporation Annealing thin films
US20130037110A1 (en) * 2011-08-10 2013-02-14 International Business Machines Corporation Particle-Based Precursor Formation Method and Photovoltaic Device Thereof
TWI460869B (zh) * 2011-12-30 2014-11-11 Ind Tech Res Inst 太陽能電池光吸收層之製法
FR3001467B1 (fr) * 2013-01-29 2016-05-13 Imra Europe Sas Procede de preparation de couche mince d'absorbeur a base de sulfure(s) de cuivre, zinc et etain, couche mince recuite et dispositif photovoltaique obtenu

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4645619A (en) * 1985-05-28 1987-02-24 Xerox Corporation Process for the preparation of colloidal dispersions of chalcogens and chalcogenide alloys
WO2011066205A1 (en) * 2009-11-25 2011-06-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous process for producing crystalline copper chalcogenide nanoparticles, the nanoparticles so-produced, and inks and coated substrates incorporating the nanoparticles
JP2013512311A (ja) * 2009-11-25 2013-04-11 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 結晶性銅カルコゲニドナノ粒子の水性製造方法、そのように製造されたナノ粒子、ならびにこれらのナノ粒子を組み込んだインクおよびコーテッド基板

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