JP2015526749A - シリカ修飾フッ化物の広角度反射防止コーティング - Google Patents
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Abstract
Description
(1)DUVにおいて作動するレンズ表面のために必要である、広い入射角にわたって0.5%未満の反射率、この広角度AR性能は、大きいシステム処理量を保証するためのものである;
(2)コーティングは、環境物質が下側のフッ化物層に侵入し、光学性能を低下させることを防止する;および
(3)コーティング表面は環境物質に対して化学的に非反応性である。
本開示のコーティングは、高屈折率のMF2化学種および低屈折率の化学種を含む二元金属フッ化物コーティングと、SiO2、または、0.2質量%〜4.5質量%(2000ppm〜45,000ppm)のFをキャッピング層に含有するF−SiO2のキャッピング層または最終層とからなる。1つの実施形態において、F含有量が5000ppm〜10,000ppmのFの範囲である。
(1)DUVにおいて作動するレンズ表面のために必要である、広い入射角にわたって0.5%未満の反射率、この広角度AR性能は、大きいシステム処理量を保証するためのものである;
(2)コーティングは、環境物質が下側のフッ化物層に侵入し、光学性能を低下させることを防止する;および
(3)コーティング表面は環境物質に対して化学的に非反応性である。
1.酸化物−フッ化物ハイブリッド型ARコーティングは広角度の分光性能をもたらさない。図3は、酸化物−フッ化物ハイブリッド型ARコーティング30の分光反射率を標準的な2層フッ化物ARコーティング32と一緒に入射角の関数として例示するグラフである。この標準的な2層フッ化物ARコーティングは、CaF2基体に蒸着される第1層としての1×4分の1波長のGdF3と、それに続く、第2層としての1×4分の1波長のAlF3とからなる。酸化物−フッ化物ハイブリッド型ARコーティングは、さらなる半波長のシリカのキャッピング層をこの標準的な2層フッ化物ARコーティングの上に有する。反射率が0.5%未満である入射角の広さが、193nmの波長において、標準的なコーティングについての36°から、ハイブリッド型コーティングについての22°にまで縮小する。
2.酸化物−フッ化物ハイブリッド型ARコーティングは、標準的なフッ化物ARコーティングと比較されたとき、コーティング厚さ減少に対してより敏感である。図4は、2%の厚さ減少を有する酸化物−フッ化物ハイブリッド型ARコーティング40の分光反射率変化を例示するグラフである(曲線42)。反射率が0.5%未満である入射角の広さが、193nmの波長において23°から14°にまで縮小する。比較のために、図5では、2%の厚さ減少を有する標準的な2層フッ化物AR50コーティングの分光反射率変化がプロットされる(曲線52)。反射率が0.5%未満である入射角の広さが、36°から33°にまで縮小する。
1.環境物質が下側のフッ化物層に侵入し得ることがより少なくなるようにするために、適切な物理的キャッピングを提供すること;
2.表面が環境物質に対して化学的に不活性であるようにするために表面化学修飾を提供すること;
3.大きいシステム処理量を保証するために広角度AR性能を維持すること;
4.光学性能を、汚染が生じたときには表面清浄を可能にすることによって回復させること;
5.コーティングされた光学素子の取り扱いおよび取り付けのための適切な表面保護を提供すること。
図5に示される比較のために、同じ量の厚さ減少を有する標準的なフッ化物ARコーティングの角度広さの92%の低下が考慮される。
1.第1の工程は、キャッピング層の厚さを半波長(約60nm)から25nm未満にまで減らすことである。
2.第2の工程は、4分の1波長のフッ化物ARを非4分の1波長のフッ化物ARにより置き換えることである。
3.第3の工程は、薄いシリカ層を、下側のフッ化物層のさらなる吸収を導入することなく高密度化することである。薄いシリカ層の高密度化プロセスには、高温蒸着、逆マスク技術、および、in situプラズマイオン処理または蒸着後プラズマイオン処理が含まれる28。
1.環境物質が下側のフッ化物層に侵入し得ることがより少なくなるようにするために、適切な物理的キャッピングを提供すること;上部表面の汚染物を適切な清浄化方法により取り除くことができる。
2.表面が環境物質に対して化学的に不活性であるようにするために表面化学修飾を提供すること;
3.大きいシステム処理量を保証するために広角度AR性能を維持すること;
4.コーティングされた光学素子の取り扱いおよび取り付けのための適切な表面保護を提供すること。
Claims (10)
- 高屈折率の金属フッ化物物質を含む第1の層であって、4分の1波長未満の厚さを有する第1の層、
低屈折率の金属フッ化物物質を含む第2の層、4分の1波長未満の厚さを有する第2の層、ならびに、
SiO2およびF−SiO2からなる群から選択される第3の層、
を含み、
前記第3の層の厚さが5.0nm〜25nmの間である、
レーザー光学品のための光学コーティング。 - 前記第1の層および前記第2の層のうちの少なくとも1つの厚さが、0.9×4分の1波長未満であるか、または、0.9×4分の1波長に等しい、請求項1に記載の光学コーティング。
- 前記高屈折率物質が、GdF3およびLaF3からなる群から選択され、かつ、前記低屈折率物質が、AlF3およびMgF3からなる群から選択される、請求項1に記載の光学コーティング。
- CaF2、SiO2およびF−SiO2からなる群から選択される基体、および
前記基体上に配置される光学コーティング、
を含む光学素子において、前記光学コーティングが、
高屈折率の金属フッ化物物質を含む第1の層であって、4分の1波長未満の厚さを有する第1の層、
低屈折率の金属フッ化物物質を含む第2の層であって、4分の1波長未満の厚さを有する第2の層、ならびに、
SiO2およびF−SiO2からなる群から選択される第3の層、
を含み、
前記第3の層の厚さが5.0nm〜25nmの間である、光学素子。 - 前記高屈折率物質が、GdF3およびLaF3からなる群から選択され、かつ、前記低屈折率物質が、AlF3およびMgF3からなる群から選択される、請求項4に記載の光学素子。
- ミラー、レンズ、レーザー窓またはプリズムを含む、請求項4に記載の光学素子。
- 前記基体が、0.5質量%〜4.5質量%のFを含有するF−SiO2基体を含む、請求項4に記載の光学素子。
- コーティングを表面に有する光学素子を作製する方法において、
高屈折率の金属フッ化物物質を含む第1の層であって、4分の1波長未満の厚さを有する第1の層を施す工程、
低屈折率の金属フッ化物物質を含む第2の層であって、4分の1波長未満の厚さを有する第2の層を施す工程、
SiO2およびF−SiO2からなる群から選択される第3の層を、300℃以上の温度での真空蒸着を使用して施す工程、ならびに、
前記第3の層を、in−situプラズマイオン処理または蒸着後プラズマイオン処理を使用して処理する工程、
を含み、
前記第3の層の厚さが5.0nm〜25nmの間である、方法。 - 前記高屈折率物質が、GdF3およびLaF3からなる群から選択され、かつ、前記低屈折率物質が、AlF3およびMgF3からなる群から選択される、請求項8に記載の方法。
- 前記基体が、0.5質量%〜4.5質量%のFを含有するF−SiO2基体を含む、請求項8に記載の方法。
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