JP2015523566A - プロセッサとモノシリックアーキテクチャの構造とした磁気抵抗性素子とを有するステアリングトルク角度センサ - Google Patents

プロセッサとモノシリックアーキテクチャの構造とした磁気抵抗性素子とを有するステアリングトルク角度センサ Download PDF

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Abstract

車のステアリング組立体内にて磁界の角度を測定する電子デバイスである。該電子デバイスは、外周を有する半導体ダイと、ダイに形成され、かつ半導体ダイの外周付近に配置された磁気抵抗性感知素子と、ダイに形成された処理回路とを含む。該処理回路は、磁気抵抗性感知素子と電気的に接続され、かつ磁界の角度とステアリングトルクとの少なくとも一方を表示する信号を発生させる構造とされている。不電導性材料が半導体ダイを封入している。電気コネクタがダイと電気的に接続され、かつ不電導性材料を通して半導体ダイを封入する。電気コネクタは、プリント回路板と電気的に接続する構造とされている。半導体ダイは、パッケージ体の外周の近くに配置され、磁気抵抗性感知素子要素をパッケージ体の外周付近に配置する。

Description

[0001]発明は、2012年8月3日に出願した米国特許出願第13/566022号及び2012年6月15日に出願した米国仮特許出願第61/660491号による優先権を主張するものであり、上記の出願の内容は、共に、参考として引用し、本明細書に含めてある。
[0002]本発明は、運転者のステアリング入力を検出するため、車のステアリングシステムにて使用されるセンサに関する。特に、本発明は、磁界の角度の変化を検出する設計とされた車のステアリングシステムのセンサに関する。
[0003]回転する構成要素の動きを検出する設計とされたセンサは一般に、周知である。例えば、ホール効果センサを使用してシャフト及びホイールの速度及び方向を感知することができる。乗用車及び同様の車にて、ステアリング入力を感知することのできるセンサもまた一般に知られている。例えば、1)入力シャフト(例えば、ステアリングハンドルと接続された)と、出力シャフト(例えば、車の車輪を動かし又はステアするため使用されるラック又はその他の要素と接続された)と、3)2つのシャフトを接続するコンプライアントシャフト又はトーションバーとを有するステアリングシステムにおいて、磁界の角度の変化を感知し、かつ入力トルクを決定することが可能である。特に、磁石が一方のシャフトに配置され、磁気感知素子(磁気抵抗性感知素子のような)が他方のシャフトに取り付けられている。トーションバーは、既知のばね定数及び捩れ剛性を有している。出力シャフトに対する入力シャフトの回転動作は、磁石と磁気感知素子との間にて相対的な角度の変位を生じさせる。次に、既知の磁気原理を使用して、角度の変位を測定する。特に、角度の変位は、入力トルクに加わるトルクに比例する。このようにして、磁気感知素子によって提供された情報からステアリングトルクを求めることができる。
ステアリングトルクに関する情報を提供することのできるセンサは利用可能であるが、これらのセンサは、完全に満足しえるものではない。多くの従来の設計において、磁界の角度の変化を感知し、かつ入力トルクを表示する出力を発生させることのできるセンサを形成するためには、多数のデバイスを使用しなければならない。例えば、当該発明者が知るセンサは、磁気感知素子(例えば、磁気感知の専門家が設計した回路)と、プロセッサ(例えば、半導体及び集積回路の製造の専門家が設計した特定用途向け集積回路)とを含む。これらの2つのセンサは、回路板上に搭載され、かつ回路板と線接続され、次に、導性トレースにより互いに接続する。
[0005]比較的最近、処理構成要素と磁気感知素子とを一つのパッケージに組み込んだパッケージ型集積回路が製造されている。しかし、これらのデバイスは、ホール効果センサを使用することが多い。一般に、ホール効果センサは、磁界の大きさのみを測定をする。その結果、磁界の角度を測定しようとするためには、多数のホール効果センサを使用しなければならない。このため、利用可能な集積回路は一般に、少なくとも2つのホール効果センサを含み、これらのホール効果センサは、通常、多数のホール効果感知素子を備えている。更に、既知の単一パッケージデバイスは、通常、ホール効果感知素子をパッケージ本体の中央の対称の位置に配置する。
[0006]
これらの現在の設計と相違して、本発明の実施の形態は、特に、プロセッサ(特定用途向け集積回路(「ASIC」のような)と、磁気抵抗性(「MR」)感知素子とを含むステアリングトルクセンサを提供する。ASIC及びMR感知素子は、単一の半導体ダイの一部である(すなわち、ASIC及びMR感知素子は、モノシリックデバイスを形成する)。ダイは、作用可能な外周を有し、MR感知素子は、ダイの作用可能な外周とほぼ同一面に配置される。好ましくは、ダイは、1つ又はより多くの電気コネクタ(例えば、リードフレーム)と線接続される。コネクタはダイと接続され、コネクタ及びダイは、絶縁性材料(プラスチックのような)内に封入され、又は「パッケージ化」されて集積デバイスを形成し、該デバイスは、プリント回路板にサーフェスマウントすることができる。ダイは、集積デバイスの外周付近に配置され、集積回路に近接して配置された磁石の近くに、MR感知素子を配置する。幾つかの実施の形態において、MR感知素子は、磁石により生成された飽和磁界(例えば、25KA/m)内に配置すべき集積回路内に配置される。
[0007]別の実施の形態において、本発明は、車のステアリング組立体内にて磁界の角度を測定する電子デバイスを提供する。電子デバイスは、ある外周を有する半導体ダイを含む。磁気抵抗性感知素子がダイ内に形成され、かつ半導体ダイの外周の近くに配置される。また、該ダイには、処理回路も形成される。該処理回路は、磁気抵抗性感知素子と電気的に接続され、かつ磁界の角度及びステアリングトルクの少なくとも一方を表示する信号を発生させる構造とされている。不電導性材料が半導体ダイを封入する。電気コネクタがダイと電気的に接続され、かつ不電導性材料を通して半導性ダイを封入する。電気コネクタは、プリント回路板と電気的に接続し得る構造とされている。
[0008]更に別の実施の形態において、本発明は、車のステアリング組立体の第1のシャフトと第2のシャフトとの間の相対的な角度を測定するセンサ組立体を提供する。該センサ組立体は、第1のシャフトに連結された磁石と、前の段にて説明した電子デバイスとを含む。該電子デバイスは、電子デバイス内に含めた磁気抵抗性感知素子が磁石に近接するように第2のシャフトに連結されている。
[0009]更に別の実施の形態において、本発明は、車のステアリング組立体内にて磁界の角度を測定するセンサ組立体を提供する。該センサ組立体は、段[0007にて説明した第1の電子デバイスと、段[0008にて説明した第2の電子デバイスとを含む。第2の電子デバイスは、プリント回路板上にて第1の電子デバイスに隣接する位置に配置されている。
[0010]本発明のその他の特徴は、詳細な説明及び添付図面を検討することにより、明らかにあるであろう。
ステアリングシャフトのトルクを測定するトルク角度センサ組立体を含む車のステアリング組立体の斜視図である。 図1のトルク角度センサ組立体の正面斜視図である。 図3aは、図1のトルク角度センサ組立体を概略図的に示す。図3bは、本発明の第1の実施の形態による図1のトルク角度組立体に含めた電子デバイスを概略図に示す。図3cは、本発明の別の実施の形態による図1のトルク角度組立体に含めた電子デバイスを概略図に示す。図3dは、図3bの電子デバイスの側面図である。図3eは、図3bの電子デバイスの端面図である。 図1のトルク角度センサ組立体の磁石により生成された磁界を概略図的に示す。 2つの磁気感知素子を有する電子デバイスの形態とされた本発明の代替的な実施の形態を概略図的に示す。 2つの電子デバイスが磁石に近接する位置に配置された、トルク角度センサ組立体の1つの構造を概略図的に示す。
[0021]発明の任意の実施の形態を詳細に説明する前に、本発明の適用は、以下の説明に記載し又は添付図面に示した構成要素の構造及び配置の詳細に限定されるものではないことを理解すべきである。本発明は、その他の実施の形態が可能であり、また、いろいろな仕方にて実施し又は実行することができる。
[0022]図1は、車のステアリング組立体10を示す。組立体10は、入力シャフト12と、出力シャフト14とを含む。入力シャフト12は、ステアリングハンドル(図示せず)と接続し、出力シャフト14は、車の車輪を動かし又はステアするため使用されるラック又はギアボックス(図示せず)と接続する。入力シャフト12は、トーションバー(図示せず)により出力シャフト14に連結されている。トーションバーは、出力シャフト12と同軸状に整合されており、既知の捩れ剛性又はばね定数を有している。トーションバーは、荷重を入力シャフト12から出力シャフトシフ14に伝達する。特に、トーションバーは、撓み又は捻って入力シャフト12に加えられたトルクの量に比例して、入力シャフト12が出力シャフト14に対して相対的な角度変位をすることを許容する。出力シャフト14に対する入力シャフト12の相対的な回転変位の相違は、ステアリングハンドルに加えられるトルクの大きさに比例する。
[0023]トルク角度センサ組立体16は、トーションバーの第1の端部と、第2の端部との間の相対的角度を測定することにより、ステアリングシャフトのトルクを測定する。特に、図3に示したように、センサ組立体16は、トーションバーの第1の端部と接続された入力シャフト12の軸端部に装着されたリング形状の磁石18を含む。このため、磁石18は、入力シャフト12及びトーションバーの第1の端部と共に回転する。
[0024]トルク角度センサ組立体16は、また、電子デバイス20も含む。該電子デバイス20は、磁石18に対し静止状態に配置されている。このため、トーションバーが捻ったとき、磁石18は、デバイス20に対し回転する。幾つかの実施の形態において、センサ組立体16は、トーションバーの第2の端部と接続された出力シャフト14の軸端部と接続されている。その他の実施の形態において、電子デバイス20は、トーションバーに対して同心状に配置されているが、トーションバー又は出力シャフト14とは接続されていない。
[0025]図3aに概略図的に示したように、電子デバイス20は、外周21を有しており、また、外周32を有する半導体ダイ30を含む。プロセッサ(特定用途向け集積回路(「ASIC」)33のような)がダイ30に形成されている。幾つかの実施の形態において、プロセッサ33は、ダイ30の作用可能な領域34内に形成され、また、幾つかの実施の形態において、全体的な作用可能な領域34を使い切る。また、外周36を有する磁気抵抗性(「MR」)感知素子35もダイ30に形成されている。図3aに図示したように、幾つかの実施の形態において、MR感知素子35は、プロセッサ33の頂部に配置され、かつプロセッサ33と電気的に接続されている(例えば、ダイ30に形成された接続部を介して)。幾つかの実の形態において、MR感知素子25は、プロセッサ33の頂部の小さい領域に追加の層(例えば、金属層)を追加することにより形成される。
[0026]幾つかの実の形態において、MR感知素子35は、異方性磁気抵抗性(「AMR」)角度センサを含む。その他の実施の形態において、MR磁気感知素子35は、巨大磁気抵抗(「GMR」)角度センサ又はトンネル磁気抵抗(「TMR」)角度センサを含む。MR感知素子35は、角度(又は方向)及び(又は)強さ(又は大きさ)のような、磁石18により生成された磁界の1つ又はより多くの特徴を測定する構造とされている。
[0027]プロセッサ33は、MR感知素子35からの信号又はデータを磁石18により生成された磁界の角度に関する情報を形成するため使用できるアナログアナ信号に調整する構造とされている。幾つかの実施の形態において、プロセッサ33は、磁界の角度に関する情報を入力シャフト12に加えられるトルクに変換する構造ともされている。プロセッサトルク33は、また、所定の通信プロトコル(例えば、アナログ信号プロトコル、バルス幅変調信号プロトコル、単一エッジニブル伝送信号プロトコル又はその他の電圧利用又は電流変調デジタル通信プロトコル)に従って磁界の角度情報(又はトルク情報)を通信する回路も含んでいる。
[0028]電気コネクタ又はピン38がダイ30と電気的に接続されており、これらは、ダイ30をプリント回路版39上に取り付けることを許容する。(図1及び図2参照)。半導体ダイ30及び電気コネクタ38は、プラスチックのような、不電導性材料内に封入されて、電子デバイス20の外周21の少なくとも一部分を規定するモノシリックパッケージ体40を形成する。しかし、コネクタ38は不電導性材料を貫通する。8ピン式のパッージ体が図面に図示されているが、より少ないか又はより多くのコネクタ38を有するその他のパッケージ体40も使用可能であることを理解すべきである。
[0029]図3aに示したように、MR感知素子35は、ダイ30の外周32の近くに配置され、ダイ30は、電子デバイス20の外周21の近くに配置され、このことは、MR感知素子35が電子デバイス20の外周21の近くに配置されることになる。この位置において、MR感知素子35は、外周32の一部分41の近くに配置され、また、外周21の一部分42の近くに配置され、これらの部分の各々は、磁石18の最も近い位置に又はそれに近接して配置されている。図3に示したように、この位置において、MR感知素子35は、デバイス20の外周21に対して偏心した位置に配置され、かつセンサ組立体16の作動中、磁石18の近くの位置に配置される。
[0030]特に、幾つかの実施の形態において、MR感知素子35は、MR感知素子35の外周26の一部分がダイ30の作用可能な領域34(例えば、プロセッサにより規定される)とほぼ同一面であるように配置される。ダイ30の作用可能な領域34は、ダイ30の外周32からわずかな距離だけずらしてあり、製造中、ダイ30を切断することを許容する。ダイ30の作用可能な領域34とダイ30の物理的な外周32との間のこのわずかなわがずれは、半導体ダイの製造中、具合良く設定され、幾つかの実施の形態において、約0.5mmから約0.1mmの範囲にある。その他の実施の形態において、MR感知素子35は、ダイの物理的な外周32とほぼ同一面に配置される。
[0031]また、幾つかの実施の形態において、MR感知素子35の中心は、電子デバイス20の外周21から約1.75mmの位置に配置され(すなわち、一部分42)、また、幾つかの実施の形態において、電子デバイス20の外周から約1.0mm以下の位置に配置される(すなわち、一部分44)。しかし、以下に説明するように、MR感知素子を外部の磁石の近くに配置する一体型パッケージ体を提供しつつ、電子デバイス20のその他の寸法及び構造とすることが可能である。
[0032]特に、図3bには、電子デバイス20の1つの形態が示されている。図3bに示すように、MR感知素子35の中心は、部分42から約0.5mm以下の位置に配置されている。部分42は、また、部分44から約1.25mmの位置に配置されている。この位置において、MR感知素子35の中心から部分44までの距離は、約1.75mm以下である。この位置において、MR感知素子35と磁石18との間の半径方向距離は最小とされ、MR感知素子35は、磁石18が回転するとき、磁石18に近い位置に配置される。図3cに示したその他の実施の形態において、MR感知素子15の中心は、部分44から1.0mm以下の位置に配置される。
[0033]図4に示したように、磁石18は、分極され、磁石18が感知素子35に対して回転するとき、MR感知素子35における磁界の角度が変化するようにされる。特に、MR感知素子35は、通常、1つ又はより多くのブリッジの形態に配置された幾つかの磁気抵抗性素子にて出来ている。抵抗性素子の抵抗、従って、抵抗性ブリッジの出力は、感知素子35にて磁界の角度が変化するとき、変化する。このため、MR感知素子35の出力は、磁石18が電子デバイスの20に対して回転するとき、変化する。
[0034]モノシリックパッケージ体40は、感知性能を向上させ、かつセンサの組立体16の組み立てコストを低減する。特に、パッケージ体40は、センサ組立体16の組み立てステップ数を少なくする。例えば、MR感知素子35及びプロセッサ33を別々に設置する2つのステップに代えて、パッケージ体40を設置する1回のステップとする。更に、MR感知素子35及びプロセッサ33を未被覆のダイとして別々に設置するとき、これらは、プリント回路板39と線接続され、このことは、クリーンルームの環境の必要性のため、比較的高コストの工程である。これと相違して、パッケージ体40は、より低廉である従来のサーフェスマウント技術を使用して設置する。更に、その他の構成要素は、プリント回路板39にサーフェスマウントされる。このため、モノシリックパッケージ体40を回路板39上に設置するためには、既存のサーフェスマウント組み立てステップにサーフェスマウント構成要素を設置する1つの追加的なステップを追加するだけでよい。従って、プロセッサ33に対して従来から使用されていた未被覆のダイと比較して、パッケージ体40がより高コストに製造される場合でさえ、一体化したパッケージ体の低廉な組み立てコスト及びより短い工程時間は、センサ組立体16の全体的なコストを低減することになる。
[0035]更に、MR感知素子35を磁石18に最も近いダイ30の外周32付近に(例えば、部分42)及び磁石に最も近いデバイス20の外周21の付近に(例えば、部分44)設置することにより、MR感知素子35は、磁石18の表面に可能な限り近い位置に配置される。この位置において、MR感知素子35は、磁石18によって生成された磁界の強い部分内に配置され、このことは、感知素子35がより磁界の角度のより正確な測定値を得ることを可能にする。
[0036]更に、感知素子35及びプロセッサ33を単一のダイ30に一体化することは、温度差の効果を軽減することになる。特に、MR感知素子35が温度に関して偏奇することは、プロセッサ33により補償することができる。
[0037]幾つかの実施の形態において、上述した電子デバイス20は、2つのMR感知素子35を含むことができることを理解すべきである。例えば、図5には、トルクセンサ組立体16の1つの代替的な電子デバイス20が概略図的に示されている。該電子デバイス20は、第1のダイ30aに形成された第1のMR感知素子35aと、第2のダイ30bに形成された第2のMR感知素子35bとを含む。プロセッサ(1つ又はより多くのASICのような)33a、33bがダイ30a、30bの各々に形成されている。
[0038]図5に示したように、感知素子35a、35bの双方は、それぞれのダイ30a、30bの外周32付近にて(すなわち、部分42a、42b)に配置されており、ダイ30a、30bは、デバイス20の外周21の付近に(すなわち、部分44)に配置されている(すなわち、部分44)。幾つかの実施の形態において、ダイ30a、30bは、図5に示したように、デバイス20にて横に並べて配置されている。その他の実施の形態において、ダイ30a、30bは、互いに積み重ねられ、かつ単一のパッケージ体に配置することができる。MR感知素子35a、35b及びダイ30a、30bのその他の形態も可能である。
[0039]幾つかの実施の形態において、第1のMR感知素子35aは、第2のMR感知素子35bと異なる磁気性質を感知する。その他の実施の形態において、第1及び第2の感知素子35a、35bは、同一の磁気性質を感知する。この双方の実施の形態において、第1のMR感知素子35a及び第2のMR感知素子35bは、冗長型の感知システムを提供する。更に、独立型の回路(例えば、感知素子35a、35bに加えて、回路の故障をチェックする)を含む冗長型の感知システムを提供すべく、図6に示したシステム又は構造70を使用することができる。該構造70は、プリント回路板上にて横に並べて配置された(図6に示すように)2つの電子デバイス20を含む。これと代替的に、各パッケージ体40は、プリント回路板の対向する側部に配置してもよい。各パッケージ体40の出力を比較して(例えば、プロセッサ33により又は別個の処理構成要素又はシステムによって)、パッケージ体40の問題点又は故障を判別することができる。
[0040]このように、本発明は、特に、プロセッサと、単一のダイに含めたMR感知素子とを含むモノシリックパッケージ体を提供する。一体化したパッケージ体の構造は、組み立てコストを低減し、かつトルクの感知機能を向上させる。モノシリックパッケージ体及び該パッケージ体に含めた構成要素の形状及び構造は、概略図として提供したものであり、その他の形状及び構造とすることも可能であることを理解すべきである。例えば、幾つかの実施形態において、MR感知素子は、図面に示した円形の形状ではなく、矩形の形状を有する。
[0041]本発明の各種の特徴及び有利な点は、請求の範囲に記載されている。

Claims (35)

  1. 車のステアリング組立体内にて磁界の角度を測定する電子デバイスにおいて、
    外周を有する半導体ダイと、
    ダイに形成され、かつ半導体ダイの外周の付近に配置された磁気抵抗性感知素子と、
    ダイに形成され、かつ磁気抵抗性感知素子と電気的に接続された処理回路であって、磁界の角度とステアリングトルクとの少なくとも一方を表示する信号を発生させる構造とされた前記処理回路と、
    半導体ダイを封入し、かつ外周を有するパッケージ体を形成する不電導性材料と、
    ダイと接続され、半導体ダイを封入する不電導性材料を通過し、プリント回路板と電気的に接続する構造とされた電気コネクタとを備え、
    半導体ダイは、パッケージ体の外周の近くに配置され、磁気抵抗性感知素子をパッケージ体の外周の近くに配置するようにした、電子デバイス。
  2. 請求項1に記載の電子デバイスおいて、
    磁気抵抗性感知素子は、異方性磁気抵抗性角度センサを含む、電子デバイス。
  3. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子は、巨大磁気抵抗性角度センサと、トンネル磁気抵抗性角度センサとの少なくとも一方を含む、電子デバイス。
  4. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の外周は、半導体ダイの外周とほぼ同一面に配置される、電子デバイス。
  5. 請求項4に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  6. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の外周は、半導体ダイの作用可能な領域とほぼ同一面に配置される、電子デバイス。
  7. 請求項6に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  8. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の外周は、半導体ダイの外周から約0.5mmから約0.1mmの位置に配置される、電子デバイス。
  9. 請求項8に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  10. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  11. 請求項10に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子は、電子デバイスの外部に配置された磁石の最も近い位置に配置された、半導体ダイの外周の一部分の近くに配置される、電子デバイス。
  12. 請求項11に記載の電子デバイスにおいて、
    磁気抵抗性感知素子は、電子デバイスの外部に配置された磁石の最も近い位置に配置された、パッケージ体の外周の一部分の近くに配置される、電子デバイス。
  13. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    電気コネクタは、プリント回路板にサーフェスマウントされる構造とされる、電子デバイス。
  14. 請求項1に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の半導体ダイ上に形成され、かつ第2の半導体ダイの外周の近くに配置された第2の磁気抵抗性感知素子を更に備える、電子デバイス。
  15. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の半導体ダイ上に形成され、かつ第2の磁気抵抗性感知素子と電気的に接続された第2の処理回路を更に備え、該第2の処理回路は、磁界の角度と、ステアリングトルクとの少なくとも一方を表示する信号を発生させる構造とされた、電子デバイス。
  16. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の外周は、第2の半導体ダイの外周とほぼ同一面に配置される、電子デバイス。
  17. 請求項16に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  18. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の外周は、第2の半導体ダイの作用可能な領域の外周に対してほぼ同一面に配置される、電子デバイス。
  19. 請求項18に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  20. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の外周は、第2の半導体ダイの外周から約0.5mmから約0.1mmの位置に配置される、電子デバイス。
  21. 請求項20に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  22. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、電子デバイス。
  23. 請求項22に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子は、電子デバイスの外部に配置された磁石の最も近い位置に配置された、第2の半導体ダイの一部分の近くに配置される、電子デバイス。
  24. 請求項23に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の磁気抵抗性感知素子は、電子デバイスの外部に配置された磁石の最も近い位置に配置されたパッケージ体の外周の一部分に配置される、電子デバイス。
  25. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の半導体ダイは、第1の半導体ダイに隣接する位置に配置される、電子デバイス。
  26. 請求項14に記載の電子デバイスにおいて、
    第2の半導体ダイは、第1の半導体ダイ上に積み重ねられる、電子デバイス。
  27. 車のステアリング組立体内にて磁界の角度を測定するセンサ組立体において、
    請求項1に記載の第1の電子デバイスと、
    請求項1に記載の第2の電子デバイスであって、プリント回路板上にて第1の電子デバイスに隣接する位置に配置された前記第2の電子デバイスとを備える、センサ組立体。
  28. 車のステアリング組立体の第1のシャフトと第2のシャフトとの間の相対的な角度を測定するセンサ組立体において、
    第1のシャフトに連結された磁石と、
    第2のシャフトに連結された、請求項1に記載の電子デバイスとを備え、
    磁気抵抗性感知素子は、磁石の最も近い位置に配置された半導体ダイの外周の一部分の近くに配置され、かつ磁石の最も近い位置に配置されたパッケージ体の外周の近くに配置される、センサ組立体。
  29. 請求項28に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子は、異方性磁気抵抗角度センサと、巨大磁気抵抗角度センサと、トンネル磁気抵抗角度センサとを含む、センサ組立体。
  30. 請求項29に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子の外周は、半導体ダイの外周とほぼ同一面に配置される、センサ組立体。
  31. 請求項30に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、センサ組立体。
  32. 請求項29に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子の外周は、半導体ダイの外周から約0.5mmから約0.1mmの位置に配置される、センサ組立体。
  33. 請求項32に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、センサ組立体。
  34. 請求項29に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子の外周は、半導体ダイの作用可能な領域の外周に対してほぼ同一面に配置される、センサ組立体。
  35. 請求項34に記載のセンサ組立体において、
    磁気抵抗性感知素子の中心は、パッケージ体の外周から約1.75mm以下の位置に配置される、センサ組立体。
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