JP2015518657A - パルス状co2出力−パルス成形および電力制御 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- レーザ出力パルスの形態においてレーザ出力を提供するためのガス放電レーザを動作させる方法であって、前記レーザは、無線周波電力供給源(RFPS)によって給電される、離間されたガス放電電極とともに、前記放電電極間に形成されるレーザ共振器を含み、
前記方法は、
前記レーザ共振器を励起するために、前記RFPSから前記ガス放電電極に第1のRFパルス列を送達するステップであって、前記列中の各パルスは、複数のサイクルのRFエネルギーを含み、前記第1のRFパルス列内のRFパルスは、前記第1のRFパルス列が単一RFパルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第1のRFパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第1のRFパルス列による励起に応答して、第1のレーザ出力パルスを送達する、ステップ
を含む、方法。 - 前記第1のRFパルス列は、第1の持続時間を有する初期パルスに続いて、前記第1の持続時間より短い第2の持続時間を有する複数のパルスを含む、請求項1に記載の方法。
- その前記第1の列中のRFパルスは全て、同一の持続時間を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のRFパルス列の送達に続いて、前記レーザ共振器を励起させるために、前記RFPSから前記ガス放電電極に第2のRFパルス列を送達するステップであって、前記第2の列中の各パルスは、複数のサイクルのRFエネルギーを含み、前記第2のRFパルス列中のRFパルスは、前記第2のRFパルス列が、単一RFパルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第2のRFパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、前記第1の単一レーザ出力パルスの送達に続いて、前記レーザ共振器は、前記第2のRFパルス列による励起に応答して、第2のレーザ出力パルスを送達し、その前記第2の列中のRFパルスの持続時間および数のうちの1つは、前記第1および第2のレーザ出力パルスがほぼ等しい電力を有するように選択される、ステップ
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記第1および第2のRFパルス列は、ほぼ同一の持続時間を有する、請求項4に記載の方法。
- 前記第1および第2のRFパルス列は、同一のパルス数をその中に有する、請求項5に記載の方法。
- その前記第1の列中のRFパルスは、第1の持続時間を有し、その前記第2の列中のRFパルスは、第2の持続時間を有し、前記第2の持続時間は、前記第1の持続時間より長い、請求項6に記載の方法。
- 前記第1のRFパルス列は、第1の持続時間を有する初期パルスに続き、それぞれ、第2の持続時間を有する複数のパルスを含み、第2のRFパルス列は、第3の持続時間を有する初期パルスに続き、それぞれ、第4の持続時間を有する複数のパルスを含み、前記第3の持続時間は、前記第1の持続時間より長く、前記第4の持続時間は、前記第2の持続時間より長い、請求項6に記載の方法。
- その前記第1および第2の列中のRFパルスの持続時間は、同一であり、その前記第2の列中のパルス数は、その前記第1の列中のパルス数より多い、請求項5に記載の方法。
- その前記第2の列中のRFパルスの数または持続時間の選択は、前記第1のレーザ出力パルスの終了と前記第2のレーザ出力パルスの開始との間の時間に依存する、請求項4に記載の方法。
- ガス放電レーザ装置であって、
離間された放電電極と、
前記放電電極間に延在するレーザ共振器と、
前記レーザ共振器を励起するために、前記放電電極に接続された無線周波電力供給源(RFPS)と、
前記RFPSに接続された電子回路であって、前記電子回路は、第1のコマンドパルスを受信し、前記コマンドパルスを第1のコマンドパルス列に変換し、前記第1のコマンドパルス列を前記RFPSに送達し、それによって、前記RFPSに、第1の励起パルス列が単一RF励起パルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第1の励起パルス列に応答するほど十分に短い前記RF励起パルス間の時間的間隔を伴って、対応する第1のRF励起パルス列を前記レーザ共振器に送達させるように構成および配列され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第1のRF励起パルス列による励起に応答して、第1の単一レーザ出力パルスを送達する、電子回路と
を備える、装置。 - 前記電子回路はさらに、前記第1のコマンドパルスの受信に続いて、第2のコマンドパルスを受信し、前記第1のコマンドパルスの終了と前記第2のコマンドパルスの開始との間の時間を判定し、前記第2のコマンドパルスを第2のコマンドパルス列に変換し、前記第2のコマンドパルス列を前記RFPSに送達し、それによって、前記RFPSに、第2の励起パルス列が、単一RF励起パルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第2の励起パルス列に応答するほど十分に短い前記RF励起パルス間の時間的間隔を伴って、対応する第2のRF励起パルス列を前記レーザ共振器に送達させるように構成および配列され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第2のRF励起パルス列による励起に応答して、第2の単一レーザ出力パルスを送達し、前記第2のコマンドパルス列中と、それに対応して、前記第2のRF励起パルス列中のパルスの数および持続時間のうちの1つは、前記第1のコマンドパルスの終了と前記第2のコマンドパルスの開始との間の前記判定された時間に基づいて、前記第1および第2のレーザ出力パルスが、ほぼ等しい電力を有するように選択される、請求項11に記載の装置。
- ガスレーザを動作させる方法であって、前記レーザは、電極間でガスを励起させるために、無線周波(RF)電力供給源に接続された電極を含み、
前記方法は、
第1のレーザパルスを産生するために、コマンドを生成するステップと、
第1のレーザパルスを産生するための前記コマンドに応答して、RF電力の第1のエンベロープを前記電極に送達し、前記第1のエンベロープは、第1のパルス列を含み、前記列中の各パルスは、複数のサイクルのRFエネルギーを含む、ステップと、
第2のレーザパルスを産生するためのコマンドを生成するステップと、
第2のレーザパルスを産生するための前記コマンドに応答して、RF電力の第2のエンベロープを前記電極に送達し、前記第1および第2のエンベロープは、ほぼ同一の持続時間を有し、前記第2のエンベロープは、第2のパルス列を含み、前記列中の各パルスは、複数のサイクルのRFエネルギーを含み、前記第2のレーザパルスを産生するための前記第1のレーザパルスの終了と前記第2のコマンドの開始との間の時間が、所定の周期より短い場合、前記第2のレーザパルス中のエネルギーが、前記第1のレーザパルス中のエネルギーにより密接に一致するように、前記第2のパルス列中のパルスのデューティサイクルを増加させるステップと
を含む、方法。 - 前記第2のパルス列中のデューティサイクルは、前記第1のレーザパルスの終了と前記第2のレーザパルスを産生するための第2のコマンドの生成との間の時間に逆比例する量だけ増加される、請求項13に記載の方法。
- 前記所定の周期は、前記第1および第2のパルス列中のデューティサイクルが不変のままである場合、前記第2のレーザパルスは、依然として、前記第1のレーザパルスとほぼ同一のエネルギーを有するであろう、最短時間に対応する、請求項13に記載の方法。
- 前記第2のパルス列のデューティサイクルは、前記第2のパルス列中のパルス数を増加させることによって増加される、請求項13に記載の方法。
- 前記第2のパルス列のデューティサイクルは、前記第2のパルス列中のパルスの長さを増加させることによって増加される、請求項13に記載の方法。
- 各パルス列中の前記第1のパルスは、前記列中のパルスの残りより長い、請求項13に記載の方法。
- 前記レーザパルスは、孔をワークピース内に穿孔するために使用される、請求項13に記載の方法。
- 前記レーザパルスは、ビア孔を印刷基板内に穿孔するために使用される、請求項13に記載の方法。
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US8995052B1 (en) * | 2013-09-09 | 2015-03-31 | Coherent Kaiserslautern GmbH | Multi-stage MOPA with first-pulse suppression |
KR102251810B1 (ko) | 2014-09-30 | 2021-05-13 | 삼성전자주식회사 | 메모리 장치, 메모리 시스템 및 메모리 장치에 대한 제어 방법 |
US9450369B2 (en) * | 2014-11-26 | 2016-09-20 | Convergent Dental, Inc. | Systems and methods for supplying power to and cooling dental laser systems |
US20160204566A1 (en) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | Coherent, Inc. | Gas-discharge laser power and energy control |
CN108141949B (zh) * | 2015-10-12 | 2019-11-12 | 通快激光与系统工程有限公司 | 高频激励脉冲产生等离子或激光脉冲方法设备和控制单元 |
DE102016212927B3 (de) * | 2016-07-14 | 2017-09-07 | Trumpf Laser Gmbh | Laser-Taktsignalgenerator |
CN109157747A (zh) * | 2017-10-30 | 2019-01-08 | 武汉奇致激光技术股份有限公司 | 一种强脉冲光治疗机的脉冲串输出控制方法 |
WO2019145930A2 (en) | 2018-01-29 | 2019-08-01 | IDEA machine development design AND production ltd. | Compact coaxial laser |
US11081855B2 (en) * | 2018-06-18 | 2021-08-03 | Coherent, Inc. | Laser-MOPA with burst-mode control |
US11067809B1 (en) * | 2019-07-29 | 2021-07-20 | Facebook Technologies, Llc | Systems and methods for minimizing external light leakage from artificial-reality displays |
CN113231750B (zh) * | 2021-03-18 | 2022-07-19 | 武汉大学 | 一种脉冲激光打孔系统及打孔方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57186378A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-16 | Mitsubishi Electric Corp | Laser device |
JPH06114582A (ja) * | 1992-10-06 | 1994-04-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | メッキ鋼板のパルスレーザ照射方法 |
JP2005103625A (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Co2レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
JP2010516476A (ja) * | 2007-01-26 | 2010-05-20 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 材料加工のためのパルス列を生成する方法及びシステム |
WO2011046804A2 (en) * | 2009-10-13 | 2011-04-21 | Coherent, Inc. | Digital pulse-width-modulation control of a radio frequency power supply for pulsed laser |
JP2011210704A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-10-20 | Komatsu Ltd | 極端紫外光生成装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4539685A (en) | 1982-09-02 | 1985-09-03 | United Technologies Corporation | Passively Q-switched laser having a variable pulse rate |
US5345168A (en) | 1993-02-01 | 1994-09-06 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Burst-by-burst laser frequency monitor |
US6463086B1 (en) * | 1999-02-10 | 2002-10-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
WO2002090037A1 (en) | 2001-05-09 | 2002-11-14 | Electro Scientific Industries, Inc. | Micromachining with high-energy, intra-cavity q-switched co2 laser pulses |
JP3619493B2 (ja) * | 2001-12-19 | 2005-02-09 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工のパルス安定化方法 |
JP2004153442A (ja) | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Sony Corp | 光送信装置、光受信装置および光通信システム、並びにその送・受信方法 |
CN1323649C (zh) * | 2003-01-09 | 2007-07-04 | 盖拉斯医疗有限公司 | 电外科发生器 |
US7508850B2 (en) * | 2004-09-02 | 2009-03-24 | Coherent, Inc. | Apparatus for modifying CO2 slab laser pulses |
US7292616B2 (en) * | 2005-02-09 | 2007-11-06 | Ultratech, Inc. | CO2 laser stabilization systems and methods |
US20070086495A1 (en) * | 2005-08-12 | 2007-04-19 | Sprague Randall B | Method and apparatus for stable laser drive |
US7817686B2 (en) | 2008-03-27 | 2010-10-19 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser micromachining using programmable pulse shapes |
US8391329B2 (en) * | 2009-01-26 | 2013-03-05 | Coherent, Inc. | Gas laser discharge pre-ionization using a simmer-discharge |
US8116346B2 (en) * | 2010-01-22 | 2012-02-14 | Coherent, Inc. | CO2 laser output power control during warm-up |
-
2012
- 2012-05-09 US US13/467,890 patent/US8687661B2/en active Active
-
2013
- 2013-04-05 CN CN201380019811.XA patent/CN104488147B/zh active Active
- 2013-04-05 DE DE112013002021.1T patent/DE112013002021B4/de active Active
- 2013-04-05 GB GB1420217.0A patent/GB2515981B/en active Active
- 2013-04-05 KR KR1020147030522A patent/KR101519516B1/ko active IP Right Grant
- 2013-04-05 JP JP2015505816A patent/JP6041977B2/ja active Active
- 2013-04-05 WO PCT/US2013/035530 patent/WO2013154949A2/en active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57186378A (en) * | 1981-05-11 | 1982-11-16 | Mitsubishi Electric Corp | Laser device |
JPH06114582A (ja) * | 1992-10-06 | 1994-04-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | メッキ鋼板のパルスレーザ照射方法 |
JP2005103625A (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Co2レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
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