JP2015518382A

JP2015518382A - レーザ光縮瞳を使用して視力を改善するためのデバイス及び方法

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Publication number: JP2015518382A
Application number: JP2014558907A
Authority: JP
Inventors: ヒッケンボサム，アダム，エル．
Original assignee: スルーフォーカスオプティクス，エルエルシー
Priority date: 2012-02-25
Filing date: 2013-02-22
Publication date: 2015-07-02
Anticipated expiration: 2033-02-22
Also published as: KR102080336B1; CN104968308B; WO2013126838A2; EP2816965B1; WO2013126838A3; US9345549B2; EP2816965A4; KR20140144687A; JP2017104597A; CA2874220C; JP6114761B2; CN104968308A; CA2874220A1; EP2816965A2; ES2833281T3; US20130226161A1

Abstract

眼科レーザシステムを使用して視力を改善させるためのシステム及び方法が提供される。患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンが取得される。レーザ照射光ビームが複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従って整列される。レーザ照射光ビームが患者の複数の空間的に分布する虹彩組織に所定のパターンで送出される。空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部が、レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出することによって焼灼され、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる。【選択図】図１

Description

本願は、２０１２年２月２５日出願の米国仮出願第６１／６０３２８１号に対する優先権を主張し、その出願は参照によりその全体が本明細書に組込まれる。

開示の実施形態は、一般に、人間の目の異常を処置するためのシステム及び方法に関し、詳細には、レーザ光縮瞳を使用して視力を改善するためのデバイス及び方法に関する。

老眼が発症する前、人間の目の中の生来の光学水晶体は、観察者から変動する距離にある物体を観察者の網膜上に合焦させ、観察者の脳により視覚解釈させるため、その焦点長を変える（例えば、被写界深度及び焦点面を変化させる）能力を有する。年齢が高くなり、その結果老眼が発症するのに伴い、目の水晶体は、焦点を変え、焦点距離の制限された範囲外にある物体を明瞭に観察する能力を進行的に失う。この、目の水晶体が年齢と共にその焦点長を変更することができないことにより、一定の焦点距離外で、視覚の質が不十分となる。更に、目の低次収差及び高次収差（種々のタイプの屈折矯正手術の一般的な副作用）は、特に低照度において視覚の質を低下させる可能性があり、視覚の質の低下は、グレア、ハロ、又はコントラスト感度の低下の症状として現れ得る。

このような視覚の質の喪失の悪影響を改善するための現行の処置方法として、高次収差による微光視力の喪失についての短期的な薬理学的処置（例えば、縮瞳薬の使用）並びに明瞭な視力の範囲を改善するために、人間の目の水晶体の焦点距離を変更しようと試みる視力矯正手術がある。医療縮瞳薬の使用は、一般に、効能が減少し、有害な副作用の可能性があるため、短期的解決策としてのみ使用される。視力矯正手術は、一般に、年齢と共に生じる老眼の作用を元に戻すのには不適切であることがわかってきた。

老眼を患う患者の焦点外れによるぼけを低減することによって近方視力を改善し、収差（高次収差を含む）によって引き起される視覚症状、特に屈折矯正手術によって引き起される視覚症状を有する個人の視覚性能を同様に改善するための方法及びシステムが開示される。記載の方法及びシステムは、手術介入によって（水晶体又は毛様体筋に対する処置等によって）人間の目の生来の合焦能力を変更することなく、また、長期的な医療処置についての必要性なしで、これらの改善を実現する。したがって、開示される実施形態は、瞳孔を散大させる虹彩の能力を低減するために、特定の虹彩組織を特定の所定のパターンで焼灼する（例えば、レーザ光ビームを使用して加熱及び／又は処置する）ことによって、患者の瞳孔の径を恒久的に縮小することによって老眼を患う患者の視力を改善する必要性に対処する。瞳孔の径を低減させる開示されるアプローチは、従来のアプローチの制限なしで、焦点外れによるぼけ及び視覚収差を低減させる。

一部の実施形態によれば、視力を改善する方法は眼科レーザシステムによって実施される。方法は、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得することを含む。方法は、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従ってレーザ照射光ビームを整列させることを更に含む。方法はまた、レーザ照射光ビームを患者の目の所望の場所に所定のパターンで送出することを含む。方法は、レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼する（例えば、加熱及び／又は処置する）ことであって、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、焼灼することを更に含む。

本開示の一部の実施形態に係る眼科レーザシステムのブロック図である。従来技術による人間の目の断面解剖図である。従来技術による、種々の長さ（例えば、虹彩筋の収縮の程度）を有する人間の虹彩であって、それによって、様々な程度に瞳孔を散大させる、人間の虹彩の断面図である。従来技術による、虹彩筋の収縮の種々の程度を有する人間の虹彩であって、それによって、（例えば、周囲光の強度に応答して）様々な程度に瞳孔を散大させる、人間の虹彩の正面図である。本開示の一部の実施形態に係る、眼科レーザシステムを示すブロック図である。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略半径方向の所定のパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略半径方向の所定のパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略円周方向の所定のパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略円周方向の所定のパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の（例えば、２重同心配置の）略円周方向の所定のパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の（例えば、２重同心配置の）略円周方向の所定のパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略半径方向のパターンと略円周方向のパターンの組合せを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略円形の所定のスポットパターンを示す。本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織に送出するための位置の略半径方向のパターン、略円周方向のパターン、及び略円形のスポットパターンの組合せを示す。本開示の一部の実施形態に係る、眼科レーザシステムにおいて実施される視力を改善させる方法を示すフローチャートである。

同じ参照符号は、図面全体にわたって対応する構成要素を指す。

各種要素の説明に、用語「第１(first)」、「第２(second)」等が本明細書で使用されるが、これらの要素がこれらの用語によって限定されるべきでないことも理解されるであろう。これらの用語は、１つの要素を別の要素から区別するためにのみ使用される。例えば、「第１の位置(first position)」の全ての発生が一貫して再命名され、第２の位置の全ての発生が一貫して再命名される限り、第１の位置が第２の位置と呼ばれてもよく、同様に、第２の位置が第１の位置と呼ばれてもよい。第１の位置及び第２の位置は両方の位置であるが、同じ位置ではない。

本明細書で使用される用語は、特定の実施形態のみを記載するためのものであり、特許請求の範囲を限定するものであることを意図されない。実施形態の説明及び添付特許請求の範囲で使用されるように、単数形「ある(a)」、「ある(an)」、及び「その(the)」は、文脈が別途明確に指示しないかぎり、複数形も含むことを意図される。本明細書で使用される用語「及び／又は(and/or)」が、関連して挙げる項目の１つ以上の項目の任意のもの及び考えられる全ての組合せを指し包含することも理解されるであろう。用語「備える(comprises)」及び／又は「備える(comprising)」が、本明細書で「使用されると、述べた特徴、整数、ステップ、操作、要素、及び／又はコンポーネントの存在を指定するが、１つ以上の他の特徴、整数、ステップ、操作、要素、コンポーネント、及び／又はその群の存在又は追加を排除しないことが更に理解されるであろう。

本明細書に記載するように、用語「もし(if)」は、記載の前提条件記載の前提条件が真である、「ときに(when)」か、「であると(upon)」か、「と判定することに応答して(in response to determining)」か、「という判定に従って(in accordance with a determination)」か、又は「ことを検出することに応答して(in response to detecting)」を文脈に応じて意味すると解釈されることができる。同様に、「［記載の前提条件が真であることが］判定される場合(if it is determined［that a stated condition precedent is true］)」か、「［記載の前提条件が真である］場合(if ［a stated condition precedent is true］)」か、又は「［記載の前提条件が真である］とき(when ［a stated condition precedent is true］)」との文言は、記載の前提条件である、「と判定すると(upon determining)」か、「と判定することに応答して(in response to determining)」か、「という判定に従って(in accordance with a determination)」か、「ことを検出すると(upon detecting)」か、又は、「ことを検出することに応答して(in response to detecting)」を文脈に応じて意味すると解釈されることができる。

ここで、その例が添付図面に示される種々の実施形態に対して参照が詳細に行われる。以下の詳細な説明では、本発明及び記載の実施形態の完全な理解を提供するために、多数の特定の詳細が記載される。しかし、本発明は、これらの特定の詳細なしで実施されることができる。場合によっては、公知の方法、プロシージャ、構成要素及び回路は、実施形態の態様を不必要に曖昧にしないために詳細には記載されていない。

図１は、本開示の一部の実施形態に係る眼科レーザシステム１００のブロック図を含む。

図１に示すように、眼科レーザシステム１００は、レーザ光源１０２、レーザアライメント及びコントロールモジュール１０４、及び任意選択で、光検知及び調節モジュール１０６を備える。レーザ光源１０２の放射は、レーザ照射光ビーム１０８として収束可能である。

眼科レーザシステム１００は、少なくとも１つのプロセッサ（例えば、レーザアライメント及びコントロールモジュール１０４内か、光検知及び調節モジュール１０６内か、或いは、両方から離間して又は両方の中の）、メモリ（例えば、レーザアライメント及びコントロールモジュール１０４内か、光検知及び調節モジュール１０６内か、或いは、両方から離間して又は両方の中の）、及び、メモリに記憶され、少なくとも１つのプロセッサによって実行可能な少なくとも１つのプログラムを含み、少なくとも１つのプログラムは、眼科レーザシステム１００において視力を改善するための１以上の操作を実施する命令を含む。

１以上の操作は、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得することを含む。したがって、一部の実施形態では、眼科レーザシステム１００（例えば、レーザアライメント及びコントロールモジュール１０４）は、（例えば、以下の図４Ａ〜４Ｂ、図５Ａ〜５Ｂ、図６Ａ〜６Ｂ、図７、図８、及び図９を参照して説明するように）レーザ光源１０２からのレーザ光ビームが患者の虹彩上でそれに沿って的を絞られる複数の位置を含む所定のパターン（例えば、メモリに記憶された）を取出すかまたは生成する。複数の位置は、患者の目の空間的に分布する虹彩組織（例えば、複数の位置及び所定のパターン）に沿って起こる。

１以上の操作は、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従ってレーザ照射光ビームを整列させることを含む。一部の実施形態では、オプションの光検知及び調節モジュール１０６は、患者の虹彩組織上でレーザ光ビームのアライメントを判定又は誘導する患者固有のパラメータを決定する。こうした実施形態では、光検知及び調節モジュール１０６は、個々の患者の目のサイズ、虹彩径、組織透明度、瞳孔散大の程度、目及び／又は虹彩組織からレーザ光源までの距離などを決定（例えば、測定及び／又は推定）する。光検知及び調節モジュール１０６は、任意選択で、レーザアライメント及びコントロールモジュール１０４にフィードバック信号を提供して、光検知及び調節モジュール１０６によって決定されたパラメータ基づく、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従う患者の虹彩上へのレーザ照射光ビームのアライメントを誘導する。光検知及び調節モジュール１０６は、任意選択で、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置上にレーザ光ビームの光路を収束させ誘導する。

１以上の操作は、レーザ照射光ビーム１０８を患者の目の表面上に所定のパターンで送出することと、レーザ照射光ビーム１０８を所定のパターンで送出することによって、空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼する（例えば、加熱する及び／又は所定の温度まで処置する）ことであって、虹彩組織のサブセットを犠牲にし、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、焼灼することとを更に含む。一部の実施形態では、患者の虹彩内の特定の筋肉（例えば、散大筋）を弱化させるか又は犠牲にすることによって、それぞれの筋肉の収縮するキャパシティ又は能力が減少し、筋肉が、長さを短縮する（又は収縮する）能力を制限させられる。

一部の実施形態では、レーザ光源１０２は、パルスレーザであり、レーザ照射光ビーム１０８は、１００フェムト秒〜１００ミリ秒の平均持続時間の光パルスのシーケンスを含む。

一部の実施形態では、レーザ光源１０２は、パルスレーザであり、レーザ照射光ビーム１０８は、複数の光パルスのシーケンスを含み、２ヘルツ〜１００キロヘルツである複数の光パルスの２つの連続する光パルス間の平均繰返しレートを有する。一部の実施形態では、緩徐レーザ（例えば、緩徐パルス繰返しレートを有するレーザ）が使用されて、内側虹彩又は間質組織に的を絞り、間質組織内でコラーゲンの収縮を引き起こすように組織を加熱する。一部の実施形態では、高速レーザ（例えば図４Ａ〜４Ｂに示す所定のパターンと連携して使用される、例えば高い繰返しレートを有するレーザ）が使用されて、虹彩の長さの実質的な部分に的を絞り、それによって、間質組織内のコラーゲンを切除する（例えば、犠牲にする）。

一部の実施形態では、レーザ照射光ビーム１０８は、５３０ナノメートル〜１７００ナノメートルの波長のレーザ光を含む。

一部の実施形態では、１以上のレーザパラメータが、取得される所定のパターンに従って取得される。一部の実施形態では、レーザ光ビームの波長、レーザ光ビームのパルスのパルス繰返しレート、レーザ光ビームのパルスのパルス持続時間の１つ以上について、空間的に分布する虹彩組織の処置の持続時間は、（例えば、図５Ａ〜５Ｂを参照して更に記載する）略円周方向の所定のパターンと比較して、（図４Ａ〜４Ｂを参照して更に記載する）略半径方向の所定のパターンについて異なり、また、（図８を参照して更に記載する）略円形の所定のスポット処置パターンについて異なる。一部の実施形態では、レーザパラメータの組合せが使用されて、略半径方向の所定のパターン、略円周方向の所定のパターン、及び略円形の所定のスポット処置パターンの１つ以上のそれぞれの組合せ（例えば、図７及び図９を参照して説明する）によって特徴付けられる所定のパターンを達成する。一部の実施形態では、所定のパターンは虹彩の周りの閉じた形状である。こうした閉じた形状の例は、略半径方向の所定のパターン、略円周方向の所定のパターン、及び略円形の所定のスポット処置パターンの１以上のそれぞれの組合せを含むが、それに限定されない。しかし、本開示はそのように制限されない。一部の実施形態では、所定のパターンは、虹彩の周りの開放した形状であり、こうした実施形態では、所定のパターンが、虹彩に関して目の周辺の全てに達しないことを意味する。実際には、一部の実施形態では、形状は、瞳孔に関して目の周辺の９０％未満、８０％未満、７０％未満、６０％未満、５０％未満、又は４０％未満を横切る。こうした実施形態では、所定のパターンは、瞳孔に関して目の周辺の９０％未満、８０％未満、７０％未満、６０％未満、５０％未満、又は４０％未満を横切る、略半径方向の所定のパターン、略円周方向の所定のパターン、及び略円形の所定のスポット処置パターンである。一部の実施形態では、所定のパターンは、略半径方向の所定のパターン、略円周方向の所定のパターン、及び略円形の所定のスポット処置パターンの１つ以上のそれぞれの組合せであるが、瞳孔から放射状に延びる(radiate)目の１、２、３、４、５、６、７、又は８、或いはそれより多い数の部分を覆わない。図２Ａは、人間の目の断面解剖図を示す。図２Ａに示すように、人間の目は、強膜及び角膜；虹彩（前側）及び脈絡膜（後側）の３層；並びに網膜を有する。虹彩は、前面視で見ることができる目の着色した環状部分である。瞳孔は、光が眼の後領域に入ることを可能にする、虹彩の中央の暗い開口である。瞳孔開口のサイズは、目に入る光の強さを決定する。瞳孔開口のサイズは、図２Ｂ〜２Ｃを参照して以下で説明するように、虹彩筋の収縮の程度によって左右される。目の水晶体は、毛様体筋によって水晶体の焦点長を変更することによる「調節(accommodation)」として知られるプロセスを通して瞳孔を通して入る光を収束させる。視力障害（例えば、近視又はマイオピア或いは遠視又はハイパーメトロピア或いは老眼）は、到来する光を網膜上に収束させる目の生来の能力を増大させるために１以上の水晶体を使用することによって、又は、毛様体筋又は目の生来の水晶体に的を絞ることによって目の生来の「調節」機能を変更又は修正することによって頻繁に矯正される。

代替的に、本明細書で提示される「調節」に作用しない視力改善法は、瞳孔開口の程度に影響を及ぼす虹彩組織に作用する(affect)ことによって散大する瞳孔の能力を低減することに的を絞る。こうした視力矯正方法は、周辺光及び迷走光が瞳孔に入るのを防止し、それによって、光学収差を低減し、目の生来の「調節」に影響を及ぼすことなく視力を改善する。開示の方法は、生来の目の水晶体の機能に影響を及ぼすことなく（例えば、目の生来の「調節」プロセスに影響を及ぼすことなく）、老眼を呈する患者(patient’s presenting with presbyopia)について焦点深度を増加させるのに役立つことになる。したがって、開示の方法は老眼を呈する患者の、近い距離における視力を改善するのに役立つことになる。

一部の実施形態では、眼科レーザシステムは、レーザを備え、レーザの放射は、レーザ照射光ビームとして収束可能であり、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを形成する。眼科レーザシステムは、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従ってレーザ照射光ビームを整列させるためのアライメント機構を更に備える。眼科レーザシステムはまた、患者の目の表面に前記レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出するための送出機構であって、それによって、レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、送出機構を備える。一部の実施形態では、レーザは、パルス駆動される連続波レーザである。

一部の実施形態では、光増幅システムは、光増幅器を備え、光増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能であり、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを形成する。光増幅システムは、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従って前記放出ビームを整列させるためのアライメント機構を更に備える。光増幅システムは、患者の目の表面に前記放出ビームを所定のパターンで送出するための送出機構であって、それによって、放出ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、送出機構を更に備える。一部の実施形態では、レーザは、レーザ又は光子発生器である。

一部の実施形態では、光増幅システムは、光増幅器を備え、光増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能である。光増幅システムは、少なくとも１つのプロセッサと、メモリと、メモリに記憶され、少なくとも１つのプロセッサによって実行可能な少なくとも１つのプログラムとを更に備え、少なくとも１つのプログラムは、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する命令と、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従って前記放出ビームを整列させる命令と、患者の目の表面に前記放出ビームを所定のパターンで送出する命令と、放出ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる命令とを含む。

一部の実施形態では、音響増幅システムは、音響増幅器を備え、音響増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能であり、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを形成する。音響増幅システムは、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従って前記放出ビームを整列させるためのアライメント機構と、患者の目の表面に前記放出ビームを所定のパターンで送出するための送出機構であって、それによって、放出ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、送出機構とを更に備える。一部の実施形態では、音響増幅器は超音波エネルギー発生器である。

一部の実施形態では、音響増幅システムは、音響増幅器であって、音響増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能である、音響増幅器と、少なくとも１つのプロセッサと、メモリと、メモリに記憶され、少なくとも１つのプロセッサによって実行可能な少なくとも１つのプログラムとを備え、少なくとも１つのプログラムは、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する命令と、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従って放射ビームを整列させる命令と、患者の目の表面に前記放射ビームを所定のパターンで送出する命令と、放射ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる命令とを含む。

本明細書で開示されるシステム（例えば、眼科レーザシステム、光増幅システム、音響増幅システムなど）の１つ以上が、任意選択で、（例えば、所定のパターンをメモリから取得するのではなく）所定のパターンの１以上を含むように作製されることが理解されるであろう。上記に代えて、又は上記に加えて、本明細書に記載するシステムの１つ以上は、所定のパターンの１つ以上をメモリから取出すか又は所定のパターンの１以上を生成するように構成される。

図２Ｂは、虹彩筋の種々の長さ及び種々の収縮の程度による人間の虹彩であって、それによって、様々な程度に瞳孔を散大させる、人間の虹彩の断面図を示す。図２Ｃは、虹彩筋の種々の長さ及び種々の収縮の程度による人間の虹彩であって、（例えば、周囲光の強度に応答して）様々な程度に瞳孔を散大させる、人間の虹彩の正面図を示す。

図１で説明するように、眼科レーザシステム１００は、レーザ光ビーム１０８（図１）を、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織上に収束させる。一部の実施形態では、複数の空間的に分布する虹彩組織は、虹彩間質組織（図２に示す）、虹彩散大筋組織（図２Ｂ〜２Ｃ）、虹彩縁組織（図２Ｂ）、又はその任意の組合せの１つを含む。

一部の実施形態では、（例えば、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置の）所定のパターンは、略半径方向のパターンを含む。一部の実施形態では、レーザ光ビームは、虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋組織に収束され、虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋組織を焼灼する（例えば、加熱する、犠牲にする、かつ／又は切除する）。一部の実施形態では、間質内のコラーゲンの収縮を生成するために、間質は、レーザ光ビームによって標的にされる。一部の実施形態では、散大筋の弱化を引き起すために、散大筋は、レーザ光ビームによって切除されるか又は作用される。

一部の実施形態では、（例えば、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置の）所定のパターンは、略円周方向のパターンを含む。一部の実施形態では、円周方向のパターンは、（例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、例えば、括約筋の外部でかつ隣接する）虹彩の内周に沿って（例えば、近位に）画定又は形成される。こうした実施形態では、レーザ光ビームは、（例えば、虹彩縁、又は、例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、括約筋の外部でかつ隣接する組織に近い）虹彩組織に収束され、虹彩組織を焼灼する（例えば、加熱する、切除する、かつ／又は犠牲にする）。一部の実施形態では、円周方向のパターンは、（例えば、虹彩根部に近い）虹彩の外周に沿って（例えば、近位に）画定又は形成される。こうした実施形態では、レーザ光ビームは、虹彩散大筋組織に収束され、虹彩散大筋組織を焼灼する（例えば、加熱する、切除する、かつ／又は犠牲にする）。一部の実施形態では、円周方向のパターンは、任意の閉じた形態のパターン又は実質的に閉じた形態のパターンであり、そのパターンは、弧状縁を含み、レーザ又は手術ツール等の他の切除器具によって切除部が作られる、２以上の位置、３以上の位置、４以上の位置、５以上の位置、又は６以上の位置をパターンの周りに画定する。

一部の実施形態では、（例えば、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置の）所定のパターンは、略円形のスポットパターンを含む。一部の実施形態では、略円形のスポットパターンは、（例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、例えば、括約筋の外部でかつ隣接する）虹彩の内周に沿って（例えば、近位に）画定又は形成される。こうした実施形態では、レーザ光ビームは、（例えば、虹彩縁、又は、例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、括約筋の外部でかつ隣接する組織に近い）虹彩組織に収束され、虹彩組織を焼灼する（例えば、加熱する、切除する、かつ／又は犠牲にする）。

一部の実施形態では、（例えば、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置の）所定のパターンは、略半径方向のパターン、略円周方向のパターン、及び略円形のスポットパターンの２つ以上の組合せを含む。こうした実施形態では、レーザ光ビームは、虹彩散大筋、（例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、例えば、括約筋の外部でかつ隣接する）虹彩縁組織、及び虹彩間質組織の１以上に収束され、それを焼灼する（例えば、加熱する、切除する、かつ／又は犠牲にする）。

図１及び図２Ａ〜２Ｃが、代表的でかつ例証的であるに過ぎず、人間の目及びその一部の解剖学的に正確な表示であることを意図されないことが理解されるであろう。

図３は、本開示の一実施形態に係る、眼科レーザシステム１００を示すブロック図である。眼科レーザシステム１００は、通常、メモリ３１０に記憶されたモジュール、プログラム、及び／又は命令を実行し、それによって、処理操作を実施するための１つ以上の中央処理ユニット（ＣＰＵ）３０２と、１つ以上のネットワーク或いは他の通信インタフェース３０４と、メモリ３１０と、これらのコンポーネントを相互接続するための１つ以上の通信バス３０９を含む。通信バス３０９は、任意選択で、システムコンポーネント間を相互接続し、システムコンポーネント間の通信を制御する回路要素（チップセットと呼ばれることがある）を含む。眼科レーザシステム１００は、任意選択で、ディスプレイデバイス３０６及び入力デバイス３０８を備えるユーザインタフェース３０５を含むことができる。レーザ３７４は、患者の虹彩の表面上に向けられるレーザ光ビームを生成するために使用される１つ以上のディスクリートレーザ光源（例えば、１つ以上の波長のパルスレーザ出力を有する）を含む。光学調節要素３７０は、任意選択で、レーザ３７４によって生成されるレーザ光ビームを収束させ、整列させ、調節するための、光学組立体及びコンポーネントを含む。メモリ３１０は、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、ＤＤＲ、ＲＡＭ、又は他のランダムアクセス固体メモリデバイス等の高速ランダムアクセスメモリを含み、また、１つ以上の磁気ディスク記憶デバイス、光ディスク記憶デバイス、フラッシュメモリデバイス、又は他の不揮発性固体記憶デバイス等の不揮発性メモリを含むことができる。メモリ３１０は、任意選択で、ＣＰＵ３０２から遠隔に配置される１つ以上の記憶デバイスを含むことができる。メモリ３１０、又は代替的に、メモリ３１０内の不揮発性メモリデバイスは、非一時的なコンピュータ可読億媒体を備える。一部の実施形態では、メモリ３１０又はメモリ３１０のコンピュータ可読億媒体は、以下のプログラム、モジュール、及びデータ構造、又はそのサブセットを記憶する。
・種々の基本システムサービスを処理し、ハードウェア依存タスクを実施するためのオペレーティングシステム３１２、
・１つ以上の通信ネットワークインタフェース３０９（有線又は無線）、並びに、インターネット、他のワイドエリアネットワーク、ローカルエリアネットワーク、メトロポリタンエリアネットワーク等のような１つ以上の通信ネットワークを介して、眼科レーザシステム１００を他のコンピュータに接続するために使用されるネットワーク通信モジュール３１４、
・ユーザインタフェースモジュール３１６であって、ユーザインタフェース３０５の１つ以上の入力デバイス３０８を介してユーザからコマンドを受信し、ユーザインタフェースオブジェクト、患者の虹彩又は患者の目の他の部分の視覚表示、及び／又は、患者の虹彩の視覚表示上に重ね合わされる所定のパターンの１つ以上の所定のパターンの表示をディスプレイデバイス３０６内で生成し、任意選択で、患者の虹彩の特定の部分上へのレーザ光ビームのアライメントを容易にする、ユーザインタフェースモジュール３１６、
・レーザアライメントモジュール３１８であって、選択された所定のパターンに従ってレーザ光ビームを整列させるコマンドを提供し、任意選択で、所定のパターンを特徴とする空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置に沿ってレーザ光ビームを誘導する、レーザアライメントモジュール３１８、
・レーザ送出モジュール３２０であって、患者の虹彩に入射するよう光学調節要素３７０を通して任意選択で向けられるレーザ光ビームを生成するようレーザ３７４を動作させるコントロール命令及びコマンドを含む、レーザ送出モジュール３２０、
・所定のパターン３２２であって、視力処置又は視力改善のために、レーザビームがそれに沿って（例えば、レーザアライメントモジュール３１８によって）整列される、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置に対応する（例えば、所定のパターンのデータベースに記憶される）所定のパターンの複数のセットを含む、所定のパターン３２２、
・パラメータ（例えば、レーザ光の波長、平均パルス持続時間、平均パルス繰返しレート、平均処置時間、組織の平均処置温度又は温度増加範囲、レーザピークパワー、エーザパルスエネルギー等）のセットであり、任意選択で、視力処置又は視力改善のために、所定のパターン３２２からの選択された所定のパターンに従って選択されるレーザパラメータ３２４、
・個々の患者に固有のパラメータ（例えば、虹彩寸法−虹彩の内側及び外周並びに虹彩厚み、瞳孔散大の程度、瞳孔径、レーザ光源からの処理エリアの距離など）のセットであり、任意選択で、視力処置又は視力改善のために使用される所定のパターン及びレーザパラメータを決定するために使用される患者パラメータ３２６。

前述した要素のそれぞれは、上記のメモリデバイスの１以上に記憶されることができ、上述した機能を実施するための命令のセットに対応する。前述したモジュール又はプログラム（すなわち、命令のセット）は、別個のソフトウェアプログラム、プロシージャ、又はモジュールとして実装される必要はなく、したがって、これらのモジュールの種々のサブセットは、種々の実施形態において、結合されるか、又はそうでなければ、再配置されることができる。一部の実施形態では、メモリ３１０は、先に特定されたモジュール及びデータ構造のサブセットを記憶することができる。更に、メモリ３１０は、上述されない更なるモジュール及びデータ構造のサブセットを記憶することができる。

図３は「眼科レーザシステム(ophthalmological laser system)」を示すが、図３は、本明細書に記載する実施形態の構造略図であるというより、サーバのセット内で存在することができる種々の特徴の機能説明であることを意図される。実際には、また、当業者によって認識されるように、別々に示される項目は組合されることができ、一部の項目は離れていることができる。例えば、図３において別々に示される一部の項目は単一サーバ上で実装されることができ、単一項目は１以上のサーバによって実装されることができる。眼科レーザシステムを実装するために使用されるサーバの実際の数及びサーバ間で特徴がどのように割当てられるかは、実装ごとに変動することになる。

図４Ａ〜４Ｂは、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための位置の略半径方向の所定のパターンを示す。

したがって、一部の実施形態では、所定のパターンは略半径方向のパターンである。複数の位置は、Ｎ個の位置（例えば、図４Ａに示すように、位置４０２−ａ，４０２−ｂ，４０２−ｃなど（Ｎ＝８）、図４Ｂに示すように、位置４０４−ａ，４０４−ｂ，４０４−ｃなど（Ｎ＝１６））を含み、Ｎ個の位置のそれぞれは、瞳孔に近位の虹彩の内周から（例えば、虹彩縁から；図２Ｂを参照して説明したように、例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、括約筋の外部でかつ隣接する）瞳孔に遠位の虹彩の外周（図２Ｂを参照して説明したように、例えば虹彩根部）に配向する。Ｎ個の位置は、第１の位置（例えば、図４Ａの位置４０２−ａ；図４Ｂの位置４０４−ａ）、及び、第１の位置に隣接し、第１の位置から予め規定された角度間隔だけ離れた第２の位置（例えば、図４Ａの位置４０２−ｂ；図４Ｂの位置４０４−ｂ）を含む（例えば、位置４０２−ａ及び４０２−ｂは、図４Ａに示すように、約４５°の予め規定された角度間隔α_１だけ離れている；位置４０４−ａ及び４０４−ｂは、図４Ｂに示すように、約２２．５°の予め規定された角度間隔α_２だけ離れている）。一部の実施形態では、複数の位置の各位置は、レーザ光ビームを使用する患者の虹彩上の処置ゾーン（例えば、切除部）に対応する。

一部の実施形態では、予め規定された角度間隔は、１０°〜５０°の値を有し、Ｎは、４〜３６の値の正の整数である。一部の実施形態では、複数の位置（例えば、切除部又は処置ゾーン）の平均長は、１ｍｍ〜３ｍｍの値を有する。一部の実施形態では、複数の位置（例えば、切除部又は処置ゾーン）の平均厚さは、１０ミクロン〜２００ミクロンの値を有する。一部の実施形態では、レーザ光ビームは、複数の位置に収束され、それによって、虹彩間質組織のかき傷を引き起こす。

図５Ａ〜５Ｂは、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための位置の略円周方向の所定のパターンを示す。

図５Ａに示すように、略円周方向の所定のパターンは、虹彩の内周に近位に形成される。一部の実施形態では、所定のパターンは略円周方向の所定のパターンである。複数の位置は、Ｎ個の位置（例えば、図５Ａに示すように、位置５０２−ａ，５０２−ｂ，５０２−ｃなど（Ｎ＝１６））を含み、Ｎ個の位置のそれぞれは、虹彩の内周から測定される虹彩の半径に沿った第１の所定の距離（例えば、図５Ａに示す距離ｄ_１）に存在する。Ｎ個の位置は共に、虹彩の内周に対して実質的に同心でかつ近位である（例えば、虹彩縁に近い；図２Ｂを参照して説明したように、例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、括約筋の外部でかつ隣接する）略円周方向の所定のパターンを形成する。Ｎ個の位置は、第１の位置（例えば、図５Ａの位置５０２−ａ）、及び、第１の位置に隣接する第２の位置（例えば、図５Ｂの位置５０２−ｂ）を含み、第１の位置の中心は、第２の位置の中心から所定の間隔（例えば、図５Ａに示す間隔値ｘ_１）だけ円周方向のパターンに沿って離れている。一部の実施形態では、複数の位置の各位置は、レーザ光ビームを使用する患者の虹彩上の処置ゾーン（例えば、切除部）に対応する。瞳孔の中心から測定される虹彩からの位置のそれぞれについての距離の或る量の変動が、所定のパターンを使用するときに起こる場合があること、及び、こうした変動が本開示の範囲内であることが認識されるであろう。場合によっては、こうした変動は意図的であり、場合によっては、こうした変動は、被検者の目の特徴部の対称性の不完全性により、場合によっては、こうした変動は、目に切除を適用する装置の精度及び正確さによって生じる。場合によっては、こうした変動は、先に特定した要因の任意の組合せに対して、又は、他の理由で生じる。

一部の実施形態では、第１の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、所定の間隔は５０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、第１の位置の平均長（例えば、図５Ａの位置５０２−ｃの長さｌ_１）は２５マイクロメートル〜２００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である。一部の実施形態では、レーザ光ビームは、複数の位置に収束され、それによって、散大筋の弱化及び後間質のかき傷を引き起こす。

一部の実施形態では、図５Ａを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光ビームの波長は５００ナノメートル〜１７００ナノメートルの値を有する。一部の実施形態では、レーザ光ビームの波長は５３２ナノメートル〜１０６４ナノメートルの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ａを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザパルスの平均持続時間は０．１ミリ秒〜２０ミリ秒の値を有する。一部の実施形態では、レーザパルスの平均持続時間は０．５ミリ秒〜２０ミリ秒の値を有する。

一部の実施形態では、図５Ａを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザパルスの平均繰返しレート（例えば、繰返し又はパルス駆動の周波数）は、０．５ヘルツ〜８００キロヘルツの値を有する。一部の実施形態では、レーザパルスの平均繰返しレート（例えば、繰返し又はパルス駆動の周波数）は、２０ヘルツ〜６０キロヘルツの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ａを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザピークパワーは、５ミリワット〜１０００ミリワットの値を有する。一部の実施形態では、レーザピークパワーは、１００ミリワット〜３００ミリワットの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ａを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源は、５マイクロジュール〜７５００マイクロジュールの値を有する平均レーザパルスエネルギーを有するパルスレーザである。一部の実施形態では、平均レーザパルスエネルギーは、２００マイクロジュール〜１０００マイクロジュールの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ａを参照して説明する所定のパターンの場合、平均レーザパワーは１ミリワット〜５００ミリワットの値を有する。一部の実施形態では、平均レーザパワーは１０ミリワット〜５０ミリワットである。

本開示の一部の実施形態で使用されるレーザパラメータ並びに動作条件及び範囲の更なる例は、以下に記載するようなものである。
・１００〜２５，０００（例えば、１０００〜５０００）のレーザ機械加工される特徴部の数、
・３０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの後虹彩の個々のレーザ特徴部の径（例えば、２５マイクロメートル〜１００マイクロメートルの径）、
・５０マイクロメートル〜２００マイクロメートル（例えば、７５マイクロメートル〜１２５マイクロメートル）の特徴部厚さ、
・１％〜２０％（例えば、約５％）の処置される虹彩エリアの割合、
・２０秒〜１００秒（例えば、３０秒〜６０秒）の臨床レーザ曝射時間、及び／又は、
・０．３ＮＡ〜０．６ＮＡ（例えば、０．４ＮＡ〜０．５ＮＡ）の収束条件（例えば、スポットサイズ）。

図５Ｂに示すように、略円周方向の所定のパターンは、虹彩の外周に近位に形成される。一部の実施形態では、所定のパターンは略円周方向の所定のパターンである。複数の位置は、Ｎ個の位置（例えば、図５Ａに示すように、位置５０２−ａ，５０２−ｂ，５０２−ｃなど（Ｎ＝１６））を含み、Ｎ個の位置のそれぞれは、虹彩の外周から測定される虹彩の半径に沿った第２の所定の距離（例えば、図５Ｂに示す距離ｄ_２）に存在する。Ｎ個の位置は共に、虹彩の外周（例えば、図２Ｂを参照して説明する虹彩根部）に対して実質的に同心でかつ近位である略円周方向の所定のパターンを形成する。Ｎ個の位置は、第１の位置（例えば、図５Ｂの位置５０４−ａ）、及び、第１の位置に隣接する第２の位置（例えば、図５Ｂの位置５０４−ｂ）を含み、第１の位置の中心は、第２の位置の中心から所定の間隔（例えば、図５Ｂに示す間隔値ｘ_２）だけ円周方向のパターンに沿って離れている。一部の実施形態では、複数の位置の各位置は、レーザ光ビームを使用する患者の虹彩上の処置ゾーン（例えば、切除部）に対応する。

一部の実施形態では、第２の所定の距離は０〜１．５ミリメートルの値を有し、所定の間隔は５０マイクロメートル〜１ミリメートルの値を有し、第１の位置の平均長（例えば、位置５０４−ｃの長さｌ_２、図５Ｂ）は２５マイクロメートル〜５００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である。一部の実施形態では、レーザ光ビームは、複数の位置に収束され、それによって、散大筋の弱化及び後間質のかき傷を引き起こす。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光ビームの波長は７７０ナノメートル〜１７００ナノメートルの値を有する。一部の実施形態では、レーザ光ビームの波長は１０００ナノメートル〜１３５０ナノメートルの値を有する。

一部の実施形態では、レーザ光ビームは、第１のセッション中に所定のパターンのＮ個の位置の第１の部分について、また、第１のセッション後の或る時刻の第２のセッション中に所定のパターンのＮ個の位置の第２の部分について使用され、第１のセッションと第２のセッションとの間の時間は、５分以上、１時間以上、１日以上、又は１週間以上である。

一部の実施形態では、レーザ光ビームは、第１のセッション中に所定のパターンのＮ個の位置のそれぞれについて、また、第１のセッション後の或る時刻の第２のセッション中に所定のパターンのＮ個の位置の全て又は一部分について使用され、第１のセッションと第２のセッションとの間の時間は、５分以上、１時間以上、１日以上、又は１週間以上である。

一部の実施形態では、レーザ光ビームは、第１のセッション中に所定のパターンのＮ個の位置の一部分について、また、第１のセッション後の或る時刻の第２のセッション中に所定のパターンのＮ個の位置の全て又は一部分について使用され、第１のセッションと第２のセッションとの間の時間は、５分以上、１時間以上、１日以上、又は１週間以上である。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザパルスの平均持続時間は１００フェムト秒〜１０００フェムト秒の値を有する。一部の実施形態では、レーザパルスの平均持続時間は１５０フェムト秒〜６００フェムト秒の値を有する。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザパルスの平均繰返しレート（例えば、繰返し又はパルス駆動の周波数）は、１ヘルツ〜１００キロヘルツの値を有する。一部の実施形態では、レーザパルスの平均繰返しレート（例えば、繰返し又はパルス駆動の周波数）は、１０ヘルツ〜２５キロヘルツの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザピークパワーは、１０メガワット〜１００メガワットの値を有する。一部の実施形態では、レーザピークパワーは、１００メガワットの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、平均レーザパルスエネルギーは、５マイクロジュール〜１００マイクロジュールの値を有する。一部の実施形態では、平均レーザパルスエネルギーは、１０マイクロジュール〜５０マイクロジュールの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、平均レーザパワーは１００ミリワット〜５０００ミリワットの値を有する。一部の実施形態では、平均レーザパワーは１０００ミリワットの値を有する。

一部の実施形態では、図５Ｂを参照して説明する所定のパターンの場合、患者の虹彩上に送出されるレーザショットの平均数は、１００，０００〜２千万である。一部の実施形態では、患者の虹彩上に送出されるレーザショットの平均数は、５００，０００〜２百万である。

レーザパラメータ並びに動作条件及び範囲の更なる例として、以下が挙げられる。
・レーザ機械加工される後特徴部の数５０〜３００（例えば、一部の実施形態では、レーザ機械加工される後特徴部の数は１００である）、
・後虹彩のレーザ機械加工される個々の特徴部のサイズ、５０〜２００マイクロメートル径（例えば、径が１００マイクロメートル）の特徴部、
・処置される虹彩組織の深さ：５０〜２００マイクロメートル深さの特徴部（例えば、１００マイクロメートル深さの特徴部）、
・処置される虹彩エリアの割合：１〜２０％、
・臨床レーザ曝射時間：３０〜１２０秒（例えば、６０秒）、
・収束条件（例えば、スポットサイズ）：０．３〜０．６ＮＡ（例えば、０．４〜０．５ＮＡ）、及び／又は、
・スキャニングパターンにおける連続するレーザショットの間隔値：１〜１０マイクロメートル、好ましくは３〜６マイクロメートル。

図６Ａ〜６Ｂは、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための位置の（例えば、２重同心配置の）略円周方向の所定のパターンを示す。

一部の実施形態では、所定のパターンは略円周方向の所定のパターンである。複数の位置は、（ｉ）Ｍ個の第１の位置の組（例えば、図６Ａに示すように、位置６０２−ａ，６０２−ｂなど（Ｍ＝１６）；図６Ｂに示すように、位置６０６−ａ，６０６−ｂなど（Ｍ＝８））及びＰ個の第２の位置の組（例えば、図６Ａに示すように、位置６０４−ａ，６０４−ｂなど（Ｐ＝１６）；図６Ｂに示すように、位置６０８−ａ，６０８−ｂなど（Ｐ＝８））を含む。

Ｍ個の第１の位置の組の各位置は、虹彩の内周から測定される虹彩の半径に沿った第１の所定の距離（例えば、図６Ａに示す距離ｄ_１）で起こり、Ｍ個の第１の位置の組は、虹彩の内周に対して実質的に同心でかつ近位である（例えば、虹彩縁に近い；図２Ｂを参照して説明したように、例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、括約筋の外部でかつ隣接する）略円周方向のパターンの第１の部分を形成する。

Ｐ個の第２の位置の組の各位置は、虹彩の外周から測定される虹彩の半径に沿った第２の所定の距離（例えば、図６Ａに示す距離ｄ_２）で起こり、Ｐ個の第２の位置の組は、虹彩の外周に対して実質的に同心でかつ近位である（例えば、図２Ｂを参照して説明したように、虹彩根部に近い）略円周方向のパターンの第２の部分を形成する。一部の実施形態では、複数の位置の各位置は、レーザ光ビームを使用する患者の虹彩上の処置ゾーン（例えば、切除部）に対応する。

一部の実施形態では、第１の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、第２の所定の距離は０〜１．５ミリメートルの値を有し、Ｍ及びＰは４〜２０の値の正の整数である。

図６Ａは、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための（例えば、位置が同じ半径方向ベクトルに沿って両方の同心配置で設置される２重同心配置の）位置の略円周方向の所定のパターンを示す。

一部の実施形態では、Ｍ個の第１の位置の組は、（ｉ）瞳孔の中心から虹彩の外周に向かって測定される第１の半径方向ベクトル（図６Ａのベクトルｖ_１）に沿って配置される、中心を有する第１の位置（例えば、図６Ａの位置６０２−ａ）、及び、（ｉｉ）瞳孔の中心から虹彩の外周に向かって測定される第２の半径方向ベクトル（図６Ａのベクトルｖ_２）に沿って配置される、Ｍ個の第１の位置の組の間で第１の位置に隣接する第２の位置（例えば、図６Ａの位置６０２−ｂ）を含む。Ｐ個の第２の位置の組は、（ｉ）第１の半径方向ベクトル（図６Ａのベクトルｖ_１）に沿った第３の位置（例えば、図６Ａの位置６０４−ａ）及び（ｉｉ）第２の半径方向ベクトル（図６Ａのベクトルｖ_２）に沿った、第３の位置に隣接する第４の位置（例えば、図６Ａの位置６０４−ｂ）を含む。

図６Ｂは、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための（例えば、位置がインターリーブされた半径方向ベクトルに沿って２つの同心配置で設置される２重同心配置の）位置の略円周方向の所定のパターンを示す。

一部の実施形態では、Ｍ個の第１の位置の組は、（ｉ）瞳孔の中心から虹彩の外周に向かって測定される第１の半径方向ベクトル（図６Ｂのベクトルｖ_１）に沿って配置される、中心を有する第１の位置（例えば、図６Ｂの位置６０６−ａ）、及び、（ｉｉ）瞳孔の中心から虹彩の外周に向かって測定される第２の半径方向ベクトル（図６Ｂのベクトルｖ_２）に沿って配置される、Ｍ個の第１の位置の組の間で第１の位置に隣接する第２の位置（例えば、位置６０６−ｂ）を含む。Ｐ個の第２の位置の組は、（ｉ）第３の半径方向ベクトル（図６Ｂのベクトルｖ_３）に沿った第３の位置（例えば図６Ｂの位置６０８−ａ）及び（ｉｉ）第４の半径方向ベクトル（図６Ｂのベクトルｖ_４）に沿った、第３の位置に隣接する第４の位置（例えば、図６Ｂの位置６０８−ｂ）を含む。第３の半径方向ベクトルは、第１の半径方向ベクトルと第２の半径方向ベクトルとの間に配置され（例えば、図６Ｂのｖ_３はｖ_１とｖ_２との間に配置される）、第２の半径方向ベクトルは、第３の半径方向ベクトルと第４の半径方向ベクトルとの間に配置される（例えば、図６Ｂのｖ_２はｖ_３とｖ_４との間に配置される）。

図７は、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための位置の略半径方向のパターン（例えば、図４Ａ〜４Ｂを参照して説明される）と略円周方向のパターン（例えば、図５Ａ〜５Ｂを参照して説明される）の組合せを示す。

図８は、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための位置の略円形の所定のスポットパターンを示す。

一部の実施形態では、所定のパターンは、略円形の所定のスポットパターンである。複数の位置は、Ｎ個の位置（例えば、図８に示すように、位置８０２−ａ，８０２−ｂ，８０２−ｃなど（Ｎ＝１６））を含み、Ｎ個の位置のそれぞれは、虹彩の内周から測定される虹彩の半径に沿った第３の所定の距離（例えば、図８に示す距離ｄ_３）に存在する。Ｎ個の位置は共に、虹彩の内周に対して実質的に同心でかつ近位である（例えば、虹彩縁に近い；図２Ｂを参照して説明したように、例えば虹彩間質組織及び／又は虹彩散大筋を標的にする、括約筋の外部でかつ隣接する）略円形のスポットパターンを形成する。Ｎ個の位置は、第１のスポット位置（例えば、図８の位置８０２−ａ）、及び、第１のスポット位置に隣接する第２のスポット位置（例えば、図８の位置８０２−ｂ）を含み、第１のスポット位置の中心は、第２のスポット位置の中心から所定の間隔（例えば、図８に示す間隔値ｘ_１）だけ円周方向のパターンに沿って離れている。一部の実施形態では、複数の位置の各位置は、レーザ光ビームを使用する患者の虹彩上の処置ゾーン（例えば、切除部）に対応する。

一部の実施形態では、第３の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、所定の間隔０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、第１のスポット位置の平均径は１０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である。一部の実施形態では、レーザ光ビームは、複数の位置に収束され、それによって、間質内のコラーゲンの収縮及び後虹彩上での散大筋を弱化させる。

一部の実施形態では、一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光ビームの波長は５３２ナノメートル〜１１００ナノメートルの値を有する。一部の実施形態では、レーザ光ビームの波長は９００ナノメートル〜１０６４ナノメートルの値を有する。

一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザパルスの平均持続時間は１０ミリ秒〜１００ミリ秒の値を有する。一部の実施形態では、レーザパルスの平均持続時間は４０ミリ秒〜６０ミリ秒の値を有する。

一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザパルスの平均繰返しレート（例えば、繰返し又はパルス駆動の周波数）は、２ヘルツ〜４０キロヘルツの値を有する。一部の実施形態では、レーザパルスの平均繰返しレート（例えば、繰返し又はパルス駆動の周波数）は、５ヘルツ〜１５キロヘルツの値を有する。

一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、レーザピークパワーは、０．５ワット〜６ワットの値を有する。一部の実施形態では、レーザピークパワーは、４ワット〜６ワットの値を有する。

一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、レーザ光源はパルスレーザであり、平均レーザパルスエネルギーは、５ミリジュール〜２５０ミリジュールの値を有する。一部の実施形態では、平均レーザパルスエネルギーは、８０ミリジュール〜１２０ミリジュールの値を有する。

一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、平均レーザパワーは０．２ワット〜１ワットの値を有する。一部の実施形態では、平均レーザパワーは０．４ワット〜０．６ワットの値を有する。

一部の実施形態では、図８を参照して説明する所定のパターンの場合、患者の虹彩上に送出されるレーザショットの平均数は、１００〜１０００である。一部の実施形態では、患者の虹彩上に送出されるレーザショットの平均数は、２００〜３００である。

レーザパラメータ並びに動作条件及び範囲の更なる例として、以下が挙げられる。
・処置される虹彩の割合：１〜２０％（例えば、５〜１０％）、
・総合臨床処置時間：１５〜１２０秒（例えば、４０〜６０秒）、
・組織温度の目標とする増加：１０〜６０℃（例えば、目標とする増加３５〜４５℃）、及び／又は、
・処置ゾーンのスポットサイズ：０〜３５０マイクロメートル（例えば、１５０〜２６０マイクロメートル）。

図９は、本開示の一部の実施形態に係る、レーザ光ビームを患者の目の虹彩組織の１以上の虹彩組織上に送出するための位置の略半径方向のパターン（例えば、図４Ａ〜４Ｂを参照して説明する）、略円周方向のパターン（例えば、図５Ａ〜５Ｂを参照して説明する）、及び略円形のスポットパターン（例えば、図８を参照して説明する）の組合せを示す。

図１０は、本開示の特定の実施形態に係る、眼科レーザシステムにおいて実施される視力を改善させる方法１０００を示すフローチャートである。方法１０００は、コンピュータ可読記憶媒体に記憶され、１つ以上のサーバの１つ以上のプロセッサによって実行される命令によって支配されることができる。図１０に示す操作のそれぞれは、コンピュータメモリ又はコンピュータ可読記憶媒体に記憶される命令に対応することができる。コンピュータ可読記憶媒体は、磁気又は光ディスク記憶媒体、フラッシュメモリ等の固体記憶デバイス、或いは１つ以上の他の不揮発性メモリデバイスを含むことができる。コンピュータ可読記憶媒体上に記憶されるコンピュータ可読命令は、ソースコード、アセンブリ言語コード、オブジェクトコード、或いは、１つ以上のプロセッサによって解釈される他の命令フォーマット内にある。

眼科レーザシステム１００は、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する（例えば、取出すかつ／又は生成する）（１００２）。例えば、眼科レーザシステム１００は、例えば、図４Ａ〜４Ｂを参照して説明する略半径方向のパターン、例えば、図５Ａ〜５Ｂ及び図６Ａ〜６Ｂを参照して説明する略円周方向のパターン、図７を参照して説明する略半径方向のパターンと略円周方向のパターンの組合せ、図８を参照して説明する略円形のスポットパターン、図９を参照して説明する略半径方向のパターン、略円周方向のパターン、及び略円形のスポットパターンの組合せを取得する。所定のパターンは、複数の空間的に分布する虹彩組織（例えば、虹彩縁組織、虹彩間質組織、虹彩散大筋組織；図２Ｂを参照して説明する）に沿った（図４Ａ〜４Ｂ、図５Ａ〜５Ｂ、図６Ａ〜６Ｂ、及び図７〜９を参照して説明する）対応する複数の位置によって特徴付けられる。

眼科レーザシステム１００は、複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置のうちの１以上の位置に従ってレーザ照射光ビームを整列させる（１００４）。一部の実施形態では、眼科レーザシステム１００は、取得された所定のパターンに従って１以上のレーザパラメータ（例えば、レーザ光の波長、レーザパルスの平均持続時間、ラーザパルスの平均パルス繰返しレート、レーザパルスの処置又は送出時間など；図１、図５Ａ〜５Ｂ、及び図８を参照して説明する）を取得する（１００６）。換言すれば、一部の実施形態では、レーザパラメータの１以上は所定のパターンに従って選択され、レーザパラメータの異なるセットは、異なる対応する所定のパターンについて選択される。所定のパターンの組合せ（例えば、図７に示す略半径方向のパターンと略円周方向のパターンの組合せ、又は、図９に示す略半径方向のパターン、略円周方向のパターン、及び略円形のスポットパターンの組合せ）が使用される場合、レーザパラメータの対応する組合せは、所定のパターンの選択された組合せに従って使用される。

眼科レーザシステム１００は、患者の目の表面にレーザ照射光ビームを所定のパターンで送出する（１００８）。

眼科レーザシステム１００は、レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出することによって空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し（１０１０）（例えば、予め規定された温度まで加熱する、かつ／又は、処置する）（例えば、虹彩組織のサブセットが加熱する、収縮する、切除される、又は犠牲になるようにさせ）、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる。

上記の説明を、説明のために、特定の実施形態を参照して記載した。しかし、上記の例証的な議論は、網羅的であること、又は、開示される厳密な形態に本発明を限定することを意図するものではない。上記教示を考慮して,多くの変更及び変形が可能である。実施形態は、本発明の原理及びその実用的な用途を最もよく説明するために選択及び説明され、それによって、当業者が、企図される特定の用途に適する種々の変更によって本発明及び種々の実施形態を最もよく利用することを可能にする。

Claims

眼科レーザシステムであって、
レーザの放射がレーザ照射光ビームとして収束可能であるレーザと、
少なくとも１つのプロセッサと、
メモリと、
前記メモリに記憶され、前記少なくとも１つのプロセッサによって実行可能な少なくとも１つのプログラムとを備え、前記少なくとも１つのプログラムは、
患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する命令と、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従って前記レーザ照射光ビームを整列させる命令と、
前記患者の目の表面に前記レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出する命令と、
前記レーザ照射光ビームを所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる命令とを含む眼科システム。
前記レーザはパルスレーザであり、前記レーザ照射光ビームは１００フェムト秒〜１００ミリ秒の平均持続時間の光パルスのシーケンスを含む請求項１に記載の眼科システム。
前記レーザはパルスレーザであり、前記レーザ照射光ビームは、複数の光パルスのシーケンスを含み、０．５ヘルツ〜１００キロヘルツである前記複数の光パルスの２つの連続する光パルス間の平均繰返しレートを有する請求項１に記載の眼科システム。
前記レーザ照射光ビームは５００ナノメートル〜１７００ナノメートルの波長のレーザ光を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記取得される所定のパターンは、１以上のレーザパラメータを更に規定し、前記レーザ照射光ビームを送出する命令は、前記１以上のレーザパラメータに従って前記レーザ照射光ビームを送出する請求項１〜４のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記複数の空間的に分布する虹彩組織は、虹彩間質組織、虹彩散大筋組織、虹彩縁組織、又はその任意の組合せの１つ以上を備える請求項１〜５のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記所定のパターンは、実質的に半径方向のパターン、略円周方向のパターン、略円形のスポットパターン、又はその任意の組合せの１つ以上を含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記所定のパターンは、実質的に半径方向のパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記瞳孔に近位の前記虹彩の前記内周から前記瞳孔に遠位の前記虹彩の前記外周に半径方向を向き、
前記Ｎ個の位置は、第１の位置及び第２の位置を含み、前記第２の位置は、前記第１の位置に隣接し、前記第１の位置から予め規定された角度間隔だけ離れている請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記予め規定された角度間隔は１０°〜５０°の値であり、Ｎは４〜３６の値の正の整数である請求項８に記載の眼科システム。
前記所定のパターンは、略円周方向のパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記虹彩の内周から測定される前記虹彩の半径に沿って第１の所定の距離に存在し、
前記Ｎ個の位置は、前記略円周方向のパターンを共に形成し、前記略円周方向のパターンは、前記虹彩の前記内周と略同心でかつ前記内周に近く、
前記Ｎ個の位置は、第１の位置及び前記第１の位置に隣接する第２の位置を含み、前記第１の位置の中心は、前記第２の位置の中心から、前記円周方向パターンに沿った所定の間隔だけ離れている請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記第１の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、前記所定の間隔は５０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、前記第１の位置の平均長は２５マイクロメートル〜２００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である請求項１０に記載の眼科システム。
前記所定のパターンは、略円周方向のパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記虹彩の前記外周から測定される前記虹彩の半径に沿って第２の所定の距離に存在し、
前記Ｎ個の位置は、前記略円周方向のパターンを共に形成し、前記略円周方向のパターンは、前記虹彩の前記外周と略同心でかつ前記外周に近く、
前記Ｎ個の位置は、第１の位置及び前記第１の位置に隣接する第２の位置を含み、前記第１の位置の中心は、前記第２の位置の中心から、前記円周方向パターンに沿った所定の間隔だけ離れている請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記第２の所定の距離は０〜１．５ミリメートルの値を有し、前記所定の間隔は５０マイクロメートル〜１ミリメートルの値を有し、前記第１の位置の平均長は２５マイクロメートル〜５００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である請求項１２に記載の眼科システム。
前記所定のパターンは、略円形のスポットパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記虹彩の前記内周から測定される前記虹彩の半径に沿って第３の所定の距離に存在し、
前記Ｎ個の位置は、前記略円形のスポットパターンを共に形成し、前記略円形のスポットパターンは、前記虹彩の前記内周と略同心でかつ前記内周に近く、
前記Ｎ個の位置は、第１のスポット位置及び第２のスポット位置を含み、前記第２のスポット位置は、前記第１のスポット位置に隣接し、前記第１のスポット位置の中心は、前記第２のスポット位置の中心から、前記円周方向パターンに沿った所定の間隔だけ離れている請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記第３の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、前記所定の間隔は０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、前記第１のスポット位置の平均径は１０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である請求項１４に記載の眼科システム。
前記所定のパターンは、略円周方向のパターンであり、
前記複数の位置は（ｉ）Ｍ個の第１の位置の組及び（ｉｉ）Ｐ個の第２の位置の組を備え、
前記Ｍ個の第１の位置の組の各位置は、前記虹彩の前記内周から測定される前記虹彩の前記半径に沿って第１の所定の距離に存在し、前記Ｍ個の第１の位置の組は、前記略円周方向のパターンの第１の部分を形成し、前記第１の部分は、前記虹彩の前記内周と略同心でかつ前記内周に近く、
前記Ｐ個の第２の位置の組の各位置は、前記虹彩の前記外周から測定される前記虹彩の前記半径に沿って第２の所定の距離に存在し、前記Ｐ個の第２の位置の組は、前記略円周方向のパターンの第２の部分を形成し、前記第２の部分は、前記虹彩の前記外周と略同心でかつ前記外周に近い請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科システム。
前記Ｍ個の第１の位置の組は、（ｉ）前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第１の半径方向ベクトルに沿って配置される中心を有する第１の位置、及び、（ｉｉ）前記Ｍ個の第１の位置の組の間で前記第１の位置に隣接し、前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第２の半径方向ベクトルに沿って配置される第２の位置を含み、
前記Ｐ個の第２の位置の組は、前記第１の半径方向ベクトルに沿った第３の位置及び前記第２の半径方向ベクトルに沿って前記第３の位置に隣接する第４の位置を含む請求項１６に記載の眼科システム。
前記Ｍ個の第１の位置の組は、（ｉ）前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第１の半径方向ベクトルに沿って配置される中心を有する第１の位置、及び、（ｉｉ）前記Ｍ個の第１の位置の組の間で前記第１の位置に隣接し、前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第２の半径方向ベクトルに沿って配置される第２の位置を含み、
前記Ｐ個の第２の位置の組は、（ｉ）第３の半径方向ベクトルに沿った第３の位置及び（ｉｉ）前記第４の半径方向ベクトルに沿って前記第３の位置に隣接する第４の位置を含み、
前記第３の半径方向ベクトルは前記第１の半径方向ベクトルと前記第２の半径方向ベクトルとの間に配置され、
前記第２の半径方向ベクトルは前記第３の半径方向ベクトルと前記第４の半径方向ベクトルとの間に配置される請求項１６に記載の眼科システム。
前記第１の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、前記第２の所定の距離は０〜１．５ミリメートルの値を有し、Ｍ及びＰは４〜２０の値の正の整数である請求項１６に記載の眼科システム。
コンピュータによって実行されるために構成される１以上のプログラムを記憶する非一時的コンピュータ可読記憶媒体であって、前記１以上のプログラムは、
患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する命令と、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従ってレーザ照射光ビームを整列させる命令と、
前記レーザ照射光ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出する命令と、
前記レーザ照射光ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる命令とを含む非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
眼科レーザシステムにおいて実施される視力を改善させる方法であって、
患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得することと、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従ってレーザ照射光ビームを整列させることと、
前記レーザ照射光ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出することと、
前記レーザ照射光ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼することであって、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、焼灼することとを含む方法。
眼科レーザシステムであって、
レーザであって、レーザの放射はレーザ照射光ビームとして収束可能であり、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを形成する、レーザと、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従って前記レーザ照射光ビームを整列させるためのアライメント機構と、
前記レーザ照射光ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出するための送出機構であって、それによって、前記レーザ照射光ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、送出機構とを備える眼科レーザシステム。
前記レーザは、垂直キャビティ面発光レーザである請求項２２に記載の眼科レーザシステム。
前記レーザは、パルス駆動される連続波レーザである請求項２２に記載の眼科レーザシステム。
光増幅システムであって、
光増幅器であって、光増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能であり、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを形成する、光増幅器と、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従って前記放出ビームを整列させるためのアライメント機構と、
前記放出ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出するための送出機構であって、それによって、前記放出ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、送出機構とを備える光増幅システム。
前記光増幅器はレーザ又は光子発生器である請求項２５に記載の光増幅システム。
前記光増幅器はパルスレーザであり、前記放出ビームは、１００フェムト秒〜１００ミリ秒の平均持続時間の光パルスのシーケンスを含む請求項２５に記載の光増幅システム。
前記光増幅器はパルスレーザであり、前記放出ビームは、複数の光パルスのシーケンスを含み、前記複数の光パルスの２つの連続する光パルス間の平均繰返しレートは０．５ヘルツ〜１００キロヘルツである請求項２５に記載の光増幅システム。
前記放出ビームは５００ナノメートル〜１７００ナノメートルの波長のレーザ光を含む請求項２５に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、前記放出ビームの特性を決定した１以上のレーザパラメータによって更に規定される請求項２５〜２９のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記複数の空間的に分布する虹彩組織は、虹彩間質組織、虹彩散大筋組織、虹彩縁組織、又はその任意の組合せの１つ以上を備える請求項２５〜３０のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、実質的に半径方向のパターン、略円周方向のパターン、略円形のスポットパターン、又はその任意の組合せの１つ以上を含む請求項２５〜３１のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、実質的に半径方向のパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記瞳孔に近位の前記虹彩の前記内周から前記瞳孔に遠位の前記虹彩の前記外周に半径方向を向き、
前記Ｎ個の位置は、第１の位置及び第２の位置を含み、前記第２の位置は、前記第１の位置に隣接し、前記第１の位置から予め規定された角度間隔だけ離れている請求項２５〜３１のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記予め規定された角度間隔は１０°〜５０°の値であり、Ｎは４〜３６の値の正の整数である請求項３３に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、略円周方向のパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記虹彩の内周から測定される前記虹彩の半径に沿って第１の所定の距離に存在し、
前記Ｎ個の位置は、前記略円周方向のパターンを共に形成し、前記略円周方向のパターンは、前記虹彩の前記内周と略同心でかつ前記内周に近く、
前記Ｎ個の位置は、第１の位置及び前記第１の位置に隣接する第２の位置を含み、前記第１の位置の中心は、前記第２の位置の中心から、前記円周方向パターンに沿った所定の間隔だけ離れている請求項２５〜３１のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記第１の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、前記所定の間隔は５０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、前記第１の位置の平均長は２５マイクロメートル〜２００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である請求項３５に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、略円周方向のパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記虹彩の前記外周から測定される前記虹彩の半径に沿って第２の所定の距離に存在し、
前記Ｎ個の位置は、前記略円周方向のパターンを共に形成し、前記略円周方向のパターンは、前記虹彩の前記外周と略同心でかつ前記外周に近く、
前記Ｎ個の位置は、第１の位置及び前記第１の位置に隣接する第２の位置を含み、前記第１の位置の中心は、前記第２の位置の中心から、前記円周方向パターンに沿った所定の間隔だけ離れている請求項２５〜３１のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記第２の所定の距離は０〜１．５ミリメートルの値を有し、前記所定の間隔は５０マイクロメートル〜１ミリメートルの値を有し、前記第１の位置の平均長は２５マイクロメートル〜５００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である請求項３７に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、略円形のスポットパターンであり、
前記複数の位置はＮ個の位置を含み、前記Ｎ個の位置のそれぞれは、前記虹彩の前記内周から測定される前記虹彩の半径に沿って第３の所定の距離に存在し、
前記Ｎ個の位置は、前記略円形のスポットパターンを共に形成し、前記略円形のスポットパターンは、前記虹彩の前記内周と略同心でかつ前記内周に近く、
前記Ｎ個の位置は、第１のスポット位置及び第２のスポット位置を含み、前記第２のスポット位置は前記第１のスポット位置に隣接し、前記第１のスポット位置の中心は、前記第２のスポット位置の中心から、前記円周方向パターンに沿った所定の間隔だけ離れている請求項２５〜３１のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記第３の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、前記所定の間隔は０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、前記第１のスポット位置の平均半径は１０マイクロメートル〜３００マイクロメートルの値を有し、Ｎは４〜２０の値の正の整数である請求項３９に記載の光増幅システム。
前記所定のパターンは、略円周方向のパターンであり、
前記複数の位置は（ｉ）Ｍ個の第１の位置の組及び（ｉｉ）Ｐ個の第２の位置の組を備え、
前記Ｍ個の第１の位置の組の各位置は、前記虹彩の前記内周から測定される前記虹彩の前記半径に沿って第１の所定の距離に存在し、前記Ｍ個の第１の位置の組は、前記略円周方向のパターンの第１の部分を形成し、前記第１の部分は、前記虹彩の前記内周と略同心でかつ前記内周に近く、
前記Ｐ個の第２の位置の組の各位置は、前記虹彩の前記外周から測定される前記虹彩の前記半径に沿って第２の所定の距離に存在し、前記Ｐ個の第２の位置の組は、前記略円周方向のパターンの第２の部分を形成し、前記第２の部分は、前記虹彩の前記外周と略同心でかつ前記外周に近い請求項２５〜３１のいずれか１項に記載の光増幅システム。
前記Ｍ個の第１の位置の組は、（ｉ）前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第１の半径方向ベクトルに沿って配置される中心を有する第１の位置、及び、（ｉｉ）前記Ｍ個の第１の位置の組の間で前記第１の位置に隣接し、前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第２の半径方向ベクトルに沿って配置される第２の位置を含み、
前記Ｐ個の第２の位置の組は、前記第１の半径方向ベクトルに沿った第３の位置及び前記第２の半径方向ベクトルに沿って前記第３の位置に隣接する第４の位置を含む請求項４１に記載の光増幅システム。
前記Ｍ個の第１の位置の組は、（ｉ）前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第１の半径方向ベクトルに沿って配置される中心を有する第１の位置、及び、（ｉｉ）前記Ｍ個の第１の位置の組の間で前記第１の位置に隣接し、前記瞳孔の中心から前記虹彩の前記外周に向かって測定される第２の半径方向ベクトルに沿って配置される第２の位置を含み、
前記Ｐ個の第２の位置の組は、（ｉ）前記第３の半径方向ベクトルに沿った第３の位置及び、（ｉｉ）前記第４の半径方向ベクトルに沿って前記第３の位置に隣接する第４の位置を含み、
前記第３の半径方向ベクトルは前記第１の半径方向ベクトルと前記第２の半径方向ベクトルとの間に配置され、
前記第２の半径方向ベクトルは前記第３の半径方向ベクトルと前記第４の半径方向ベクトルとの間に配置される請求項４１に記載の光増幅システム。
前記第１の所定の距離は０．７５ミリメートル〜１．５ミリメートルの値を有し、前記第２の所定の距離は０〜１．５ミリメートルの値を有し、Ｍ及びＰは４〜２０の値の正の整数である請求項４１に記載の光増幅システム。
光増幅システムであって、
光増幅器であって、光増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能である、光増幅器と、
少なくとも１つのプロセッサと、
メモリと、
前記メモリに記憶され、前記少なくとも１つのプロセッサによって実行可能な少なくとも１つのプログラムとを備え、前記少なくとも１つのプログラムは、
患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する命令と、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従って前記放出ビームを整列させる命令と、
前記放出ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出する命令と、
前記放出ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる命令とを含む光増幅システム。
音響増幅システムであって、
音響増幅器であって、音響増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能であり、患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを形成する、音響増幅器と、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従って前記放出ビームを整列させるためのアライメント機構と、
前記放出ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出するための送出機構であって、それによって、前記放出ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる、送出機構とを備える音響増幅システム。
前記音響増幅器は超音波エネルギー発生器である請求項４６に記載の音響増幅システム。
音響増幅システムであって、
音響増幅器であって、音響増幅器の放出は、放出ビームとして収束可能である、音響増幅器と、
少なくとも１つのプロセッサと、
メモリと、
前記メモリに記憶され、前記少なくとも１つのプロセッサによって実行可能な少なくとも１つのプログラムとを備え、前記少なくとも１つのプログラムは、
患者の目の複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った複数の位置によって特徴付けられる所定のパターンを取得する命令と、
前記複数の空間的に分布する虹彩組織に沿った前記複数の位置のうちの１以上に従って前記放射ビームを整列させる命令と、
前記放射ビームを前記患者の目の表面上で前記所定のパターンで送出する命令と、
前記放射ビームを前記所定のパターンで送出することによって前記空間的に分布する虹彩組織の少なくとも一部を焼灼し、それによって、目の瞳孔の径を恒久的に縮小させる命令とを含む音響増幅システム。