JP2015513774A - 走査x線ビームを発生させるための電磁走査装置 - Google Patents
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Abstract
透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置。電子ビームは、開口から出射する電磁波が、電子ビームの角度走査に応答して、走査平面内のある角度の範囲にわたって走査するように、電子ビームに応答して電磁波を放射する凹面アノード上の一連の特定の位置への入射である。X線ビームが、電子ビームが衝突するアノードの側の後方半球内の1つ以上の出射開口を介して、装置から抽出される。本発明の種々の実施形態によると、透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置が、提供される。本装置は、伝搬方向によって特徴付けられる電子ビームを生成する源と、電子ビームを受け取り、電子ビームに応答して電磁波を放出するアノードとを有する。
Description
本願は、米国仮特許出願第61/607,232号(2012年3月6日出願)の優先権を主張し、その出願は、参照によって本明細書に援用される。
(技術分野)
本発明は、走査X線放射源に関し、より具体的には、凹面標的表面に対する帯電粒子のビームの電磁走査によって、走査X線ビームを発生させる装置に関する。
本発明は、走査X線放射源に関し、より具体的には、凹面標的表面に対する帯電粒子のビームの電磁走査によって、走査X線ビームを発生させる装置に関する。
(背景技術)
アノード上に電子のペンシルビームを電磁的に走査することによって発生させられる走査X線ビームが、長年想定されているが、利用可能な市販のシステムは、未だ存在しない。その方法は全て、図1に例示され、米国特許第6,282,260号(Grodzins「Unilateral Hand−Held X−ray Inspection Apparatus」)(参照することによって本明細書に組み込まれる)に説明されている、いわゆる伝送配列を使用するものである。カソード18によって放出される電子のビーム20は、標的22、典型的には、アノード(以下ではそのように称される)に向かって加速される。電子ビーム20は、ビーム14の向きが変動され得るように、アノード22に対して走査され得る。本例では、発生させられたX線は、薄い、典型的には、高Zアノードから円錐形封入体内に出射し、円錐の頂点における開口からのみ出射する。電子ビームを走査することによって生成される走査X線ビームの他の例は、以下に列挙される。全例において、X線は、前方半球内で発散する。
アノード上に電子のペンシルビームを電磁的に走査することによって発生させられる走査X線ビームが、長年想定されているが、利用可能な市販のシステムは、未だ存在しない。その方法は全て、図1に例示され、米国特許第6,282,260号(Grodzins「Unilateral Hand−Held X−ray Inspection Apparatus」)(参照することによって本明細書に組み込まれる)に説明されている、いわゆる伝送配列を使用するものである。カソード18によって放出される電子のビーム20は、標的22、典型的には、アノード(以下ではそのように称される)に向かって加速される。電子ビーム20は、ビーム14の向きが変動され得るように、アノード22に対して走査され得る。本例では、発生させられたX線は、薄い、典型的には、高Zアノードから円錐形封入体内に出射し、円錐の頂点における開口からのみ出射する。電子ビームを走査することによって生成される走査X線ビームの他の例は、以下に列挙される。全例において、X線は、前方半球内で発散する。
前方方向における制動放射放出に基づいた幾何学形状を伴う電磁的に操向されたX線ビームの他の構成は、例えば、米国特許第6,421,420号(Grodzins「Method and Apparatus for Generating Sequential Beams of Penetrating Radiation」)および米国特許第6,542,574号(Grodzins「System for Inspecting the Contens of a Container」)に説明され、両特許とも、参照することによって本明細書に組み込まれる。
本発明の種々の実施形態によると、透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置が、提供される。本装置は、伝搬方向によって特徴付けられる電子ビームを生成する源と、電子ビームを受け取り、電子ビームに応答して電磁波を放出するアノードとを有する。本装置はまた、電子がアノード上の一連の規定された位置に衝突するように、電子ビームの伝搬方向を指向する電磁ビーム指向器と、開口から出射する電磁波のビームの方向が、電子ビームの角度走査に応答して、走査平面内の角度の範囲にわたって走査するように、アノードの一連の特定の位置から電磁波を放出する出射開口とを有し、走査平面は、少なくとも45度、電子ビームの伝搬方向から変位される。
他の実施形態によると、電子ビームを生成する源と、源から見て凹面表面を有するアノードであって、電子ビームを受け取り、電磁波を放出するアノードとを有する、透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置が、提供される。電磁ビーム指向器は、電子ビームをアノード上の一連の規定された位置に指向し、電磁波は、電子ビームの角度走査に応答して走査される方向に出射開口を介して放出される。
前述の実施形態のいずれかでは、電磁ビーム指向器は、電子ビーム平面内の電子ビームを走査してもよい。出射開口は、特定の実施形態では、電子ビーム平面内にあるが、他の実施形態では、電子ビーム平面外にあってもよい。
本発明のさらなる実施形態では、装置は、複数の出射開口を有してもよい。電磁ビーム指向器は、電子ビーム平面を横断する側方平面に電子ビームを切り替えるように適合されてもよい。本装置は、複数のアノードを有してもよく、フィルタが、1つ以上の出射開口内に配置されてもよい。
本発明の前述の特徴は、付随の図を参照しながら、以下の詳細な説明を参照することによってより容易に理解される。
(本発明の実施形態の詳細な説明)
ここで、図2を参照して説明される本発明の実施形態によると、反射幾何学形状が、走査X線ビーム217を発生させるために採用される。カソード源203から導出された電子201は、以下に説明されるように、時間とともに変動される伝搬方向によって特徴付けられる電子ビーム303内でアノード205に向かって加速される。
ここで、図2を参照して説明される本発明の実施形態によると、反射幾何学形状が、走査X線ビーム217を発生させるために採用される。カソード源203から導出された電子201は、以下に説明されるように、時間とともに変動される伝搬方向によって特徴付けられる電子ビーム303内でアノード205に向かって加速される。
図2に描写される本発明の実施形態では、アノード205は、源203から見て円形弧のような凹面表面を有する。しかしながら、アノード205は、本発明の範囲内の任意の形状を有してもよいことを理解されたい。アノード205における制動放射プロセスによって発生させられるX線207は、後方半球209内に放出され、その半球内の開口211から出射する。本発明は、限定ではなく、発見的問題解決法の便宜上、X線放射の観点から本明細書に説明されるが、説明される制動放射プロセスにおいて導出されるいかなる透過性放射も、本発明の範囲内であることを理解されたい。図2、図3、および図4の図面に示される反射配列は、多目的であり、図1に表される先行技術の伝送幾何学形状に勝るいくつかの利点を有する。
示される走査磁石(本明細書では、走査磁石213または別様に「掃引磁石」と称され得る)等の電磁ビーム指向器213とアノード205との間の半径方向距離Rの球状表面を有する本発明の実施形態(図2に示される)は、平面アノードの場合に要求されるように全ての点において電子の均一な焦点スポット215を生じさせる際、平面アノードの場合に別様に遭遇される複雑性を排除する。しかしながら、他の用途では、平坦または他の形状のアノードが、好ましくあり得る。
電子ビーム303の電子がアノード205に衝突する焦点スポット215は、掃引X線ビーム217の原焦点であり、その焦点スポット215の寸法はまた、掃引角度θelに依存しない。掃引X線ビーム217は、本明細書では、「反射走査X線ビーム」と称され得る。本発明の特定の実施形態では、電磁ビーム指向器213は、「電子ビーム平面」と称され得る平面(図2では、ページの平面)において、電子ビーム303を掃引する。
アノード205の弧の全ての点から出射開口211までのほぼ一定の距離Dは、標的(図示せず)を横断する均一な掃引X線ビーム217を生成する。
走査電子ビーム220および走査X線ビーム217は、同程度の体積を占有し、それによって、従来の幾何学形状よりも、全体的システムのサイズが小さくなり得、遮蔽が軽くなり得る。
走査電子ビーム220の「平面」および走査X線ビーム217の平面は、わずか数mm厚にされてもよい。(本明細書で使用される場合、用語「平面」とは、掃引ビームの経路の時間積分を表すために使用され得る。ビームが1次元ではないが、有限断面を有する限り、用語「平面」は、有限厚を有するが、厚さは、ほとんど説明目的のために無視され得る。)X線ビーム217が掃引する平面は、本明細書では、「走査平面」と称される。
掃引磁石213は、電子源203およびアノード205を封入する、真空筐体235内の真空空間230外に配置されてもよい。出射開口211を位置決めするための有意な許容範囲が存在する。図3は、出射開口301が掃引電子ビーム303を含む平面からオフセットされる一例を示す。角度300は、電子ビーム303とX線ビーム307が発せられる方向との間の角度を指す。本発明の範囲内では、角度300は、45°を上回る角度を含む。
本発明の実施形態によると、電子集束および磁気掃引は、所望の掃引パターンが、事前にプログラムされ、またはオペレータコマンド下で変更され得るように、プロセッサ305の制御下にある。例えば、X線ビーム307の角度掃引は、電子ビーム303の角度掃引を変更することによって、容易に変更されることができる。
標的上の全X線束が、走査角度が変更される場合に一定のままである真の集束系は、開口のサイズを適切に変更しながら、アノード205から出射開口301までの距離Dを変更することによって実装されることができる。
ここで、上から見た図4の断面図を参照すると、電子走査平面の両側に1つずつの2つの(または、それ以上の)類似走査X線ビーム401および403が、伝送または散乱X線の立体撮像のために同時に使用されることができる。本発明の他の実施形態によると、電子ビーム303は、加えて、側方平面(図2〜図4に示される断面の平面)に切り替えられてもよい。ビーム303を側方に切り替え、かつ、アノード205によって放出されるX線の経路内にX線不透過性要素410を配置することによって、X線放出は、ビーム401と403との間で時間的に交互されてもよい。
加えて、本発明のさらなる実施形態によると、複数のアノードが提供されてもよく、それによって、電子ビーム303がそれぞれのアノード上に留まる期間の間、別個のスペクトル特性を提供する。開口421および423は、それぞれのビーム401および403(または、その一部)のエネルギースペクトルが調整され得るように、フィルタを含んでもよい(または、代替として、フィルタは、それぞれのX線ビームの他の部分内に提供されてもよい)。
X線規定開口301(例えば、図3に示される)は、変更可能フィルタおよびX線シャッタとともに、真空230内にあるか、または、好ましい実施形態では、真空230の外に置かれてもよい。
発見的問題解決法の便宜上、本発明は、限定ではないが、平面におけるX線のペンシルビームの走査の観点から、本明細書に説明される。本発明はまた、例えば、ラスタ方式において、または別様に、2次元走査に適用されることもできる。好ましい2次元実施形態では、アノード205は、中空球体の一区画である。
図2において概して番号200によって指定される片側走査システムは、数百keVまで及ぶX線を用いてトラックを走査する大型システムから、100keV未満のビームを用いて走査する手持式システムまで、広範囲の用途に適用されることができる。数百keVを下回る電子エネルギーの場合、制動放射角度分布は、本質的に、電子範囲と比較して、標的の最も密な部分から判断して、等方性である。モデル計算では、着目エネルギー範囲内において、180o(後方)方向におけるX線強度が、実際、90oにおけるX線強度を上回ることが示されている。
本発明の説明される実施形態は、単に、例示であることが意図され、多数の変形例および修正が、当業者に明白となる。そのような変形例および修正は全て、添付の特許請求の範囲において定義される本発明の範囲内であると意図される。
本明細書に提示される例は、方法作用またはシステム要素の特定の組み合わせを伴うが、それらの作用およびそれらの要素は、X線検出の同一の目的を達成する他の方法で組み合わせられてもよいことを理解されたい。加えて、単一デバイス特徴は、特許請求の範囲の別個に列挙された要素の要件を充足し得る。本明細書に説明される本発明の実施形態は、単に、例示であることが意図され、変形例および修正が、当業者に明白となる。そのような変形例および修正は全て、任意の添付の特許請求の範囲に定義される本発明の範囲内であると意図される。
(項目1)
透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置であって、前記装置は
a.伝搬方向によって特徴付けられる電子ビームを生成する源と、
b.前記電子ビームを受け取り、前記電子ビームに応答して電磁波を放出するアノードと、
c.電子が前記アノード上の一連の規定された位置に衝突するように、前記電子ビームの伝搬方向を指向する電磁ビーム指向器と、
d.前記アノードの一連の特定の位置からの電磁波を放出する出射開口であって、前記開口から出射する電磁波のビームの方向は、前記電子ビームの角度走査に応答して、走査平面内の角度の範囲にわたって走査する、出射開口と
を備え、前記走査平面は、少なくとも45度、前記電子ビームの伝搬方向から変位されている、装置。
(項目2)
透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置であって、前記装置は、
a.電子ビームを生成する源と、
b.前記源から見て凹面表面を有するアノードであって、前記アノードは、前記電子ビームを受け取り、前記電子ビームに応答して電磁波を放出する、アノードと、
c.前記電子ビームを前記アノード上の一連の規定された位置に指向する電磁ビーム指向器と、
d.前記アノード上の一連の特定の位置において放出される電磁波を放出する出射開口であって、前記開口から出射する電磁波のビームは、前記電子ビームの角度走査に応答して、走査される、出射開口と
を備える、装置。
(項目3)
前記電磁ビーム指向器は、電子ビーム平面内の電子ビームを掃引するように適合されている、項目1または2に記載の装置。
(項目4)
前記出射開口は、前記電子ビーム平面内にある、項目3に記載の装置。
(項目5)
前記出射開口は、前記電子ビーム平面外にある、項目3に記載の装置。
(項目6)
複数の出射開口をさらに備える、項目3に記載の装置。
(項目7)
前記電磁ビーム指向器はさらに、前記電子ビーム平面を横断する側方平面内に前記電子ビームを切り替えるように適合されている、項目1または2に記載の装置。
(項目8)
複数のアノードをさらに備える、項目1または2に記載の装置。
(項目9)
前記出射開口内に配置されたフィルタをさらに備える、項目1または2に記載の装置。
(項目1)
透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置であって、前記装置は
a.伝搬方向によって特徴付けられる電子ビームを生成する源と、
b.前記電子ビームを受け取り、前記電子ビームに応答して電磁波を放出するアノードと、
c.電子が前記アノード上の一連の規定された位置に衝突するように、前記電子ビームの伝搬方向を指向する電磁ビーム指向器と、
d.前記アノードの一連の特定の位置からの電磁波を放出する出射開口であって、前記開口から出射する電磁波のビームの方向は、前記電子ビームの角度走査に応答して、走査平面内の角度の範囲にわたって走査する、出射開口と
を備え、前記走査平面は、少なくとも45度、前記電子ビームの伝搬方向から変位されている、装置。
(項目2)
透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置であって、前記装置は、
a.電子ビームを生成する源と、
b.前記源から見て凹面表面を有するアノードであって、前記アノードは、前記電子ビームを受け取り、前記電子ビームに応答して電磁波を放出する、アノードと、
c.前記電子ビームを前記アノード上の一連の規定された位置に指向する電磁ビーム指向器と、
d.前記アノード上の一連の特定の位置において放出される電磁波を放出する出射開口であって、前記開口から出射する電磁波のビームは、前記電子ビームの角度走査に応答して、走査される、出射開口と
を備える、装置。
(項目3)
前記電磁ビーム指向器は、電子ビーム平面内の電子ビームを掃引するように適合されている、項目1または2に記載の装置。
(項目4)
前記出射開口は、前記電子ビーム平面内にある、項目3に記載の装置。
(項目5)
前記出射開口は、前記電子ビーム平面外にある、項目3に記載の装置。
(項目6)
複数の出射開口をさらに備える、項目3に記載の装置。
(項目7)
前記電磁ビーム指向器はさらに、前記電子ビーム平面を横断する側方平面内に前記電子ビームを切り替えるように適合されている、項目1または2に記載の装置。
(項目8)
複数のアノードをさらに備える、項目1または2に記載の装置。
(項目9)
前記出射開口内に配置されたフィルタをさらに備える、項目1または2に記載の装置。
Claims (9)
- 透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置であって、前記装置は
a.伝搬方向によって特徴付けられる電子ビームを生成する源と、
b.前記電子ビームを受け取り、前記電子ビームに応答して、前記電子ビームと実質的に反対の方向に電磁波を放出するアノードと、
c.電子が前記アノード上の一連の規定された位置に衝突するように、前記電子ビームの伝搬方向を指向する電磁ビーム指向器と、
d.前記アノードの一連の特定の位置からの電磁波を放出する出射開口であって、前記開口から出射する電磁波のビームの方向は、前記電子ビームの角度走査に応答して、走査平面内の角度の範囲にわたって走査する、出射開口と
を備え、前記走査平面は、少なくとも45度、前記電子ビームの伝搬方向から変位されている、装置。 - 透過性電磁放射の走査ビームを発生させるための装置であって、前記装置は、
a.電子ビームを生成する源と、
b.前記源から見て凹面表面を有するアノードであって、前記アノードは、前記電子ビームを受け取り、前記電子ビームに応答して、前記電子ビームと実質的に反対の方向に電磁波を放出する、アノードと、
c.前記電子ビームを前記アノード上の一連の規定された位置に指向する電磁ビーム指向器と、
d.前記アノード上の一連の特定の位置において放出される電磁波を放出する出射開口であって、前記開口から出射する電磁波のビームは、前記電子ビームの角度走査に応答して、角度の範囲にわたって走査される、出射開口と
を備える、装置。 - 前記電磁ビーム指向器は、電子ビーム平面内の電子ビームを掃引するように適合されている、請求項1または2に記載の装置。
- 前記出射開口は、前記電子ビーム平面内にある、請求項3に記載の装置。
- 前記出射開口は、前記電子ビーム平面外にある、請求項3に記載の装置。
- 複数の出射開口をさらに備える、請求項3に記載の装置。
- 前記電磁ビーム指向器はさらに、前記電子ビーム平面を横断する側方平面内に前記電子ビームを切り替えるように適合されている、請求項1または2に記載の装置。
- 複数のアノードをさらに備える、請求項1または2に記載の装置。
- 前記出射開口内に配置されたフィルタをさらに備える、請求項1または2に記載の装置。
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JP2018528586A (ja) * | 2015-09-10 | 2018-09-27 | アメリカン サイエンス アンド エンジニアリング, インコーポレイテッドAmerican Science and Engineering, Inc. | 行間適応電磁x線走査を用いた後方散乱特性評価 |
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