JP2015509615A - 偏光フィルター用帯電防止保護シールドとしての導電性ポリマー層 - Google Patents

Abstract

本発明は、少なくとも１つの偏光子層、導電性ポリマーを含む少なくとも１つの導体層を含む層構造およびそれらの製造プロセスに関し、ここで、少なくとも１つの導体層は１０−４〜５ＯＯΩ／□の範囲の表面抵抗を有する。【選択図】図２

Description

本発明は、偏光フィルターの分野で用いられ、特に電磁放射線から偏光フィルターを遮蔽するための層構造に関する。遮蔽は、一方では、偏光フィルターの安定性を増加し、他方では、偏光フィルターの性質を改善し得る。さらに、本発明は、偏光フィルターの遮蔽として用いられうる層構造の製造プロセス、および本発明に係る層構造を有する装置に関する。

種々の使用のための偏光フィルターは、先行技術から公知である。したがって、偏光フィルターは、イメージの作製用のいくつかのスクリーンに用いられる。偏光子は、とりわけ、液晶を伴うスクリーン（「液晶ディスプレイ」（ＬＣＤスクリーン）とも呼ばれる）または他のディスプレイ媒体（「有機発光素子」（ＯＬＥＤ）など）において用いられる。本願明細書において、偏光子は、様々な電場に曝されてよい。一方では、ディスプレイ媒体のようなものは、例えば、太陽光、極端な温度およびその機器の周辺にある他の電気機器からの電場などの環境の影響に曝される。他方、電磁放射線は、装置の筐体内の電子部品に起因して媒体内でも生じる。このことは、種々の要素、とりわけ、偏光子の望ましくない帯電をもたらし、偏光イメージの作製における妨害の原因となる。画質の劣化はこのようにして生じる。内側から外へ向かう電磁放射線は、ＬＣＤディスプレイの操作によってのみ生じるかもしれず、それに対して、外部成分は保護されなければならない。

先行技術において、簡単な導体層は、種々の目的、とりわけ、装置の帯電防止遮蔽のためによく用いられる。したがって、例えば、特許文献１において、インジウム酸化スズコーティング（ＩＴＯ）は、ＬＣＤスクリーン用の電極として用いられる。導電金属酸化物層を有する偏光子の直接的なコーティングを構想するインジウム酸化スズコーティングを使用するプロセスは開示されている。当該金属酸化物層は噴霧またはスパッタリングなどの関連するプロセスにより塗布される。これは、しばしば極めて高い欠陥率となる。金属酸化物層は偏光子のガラス層に直接用いられるので、もはやさらに加工し得ないまたは高価で複雑なプロセスによって、金属酸化物層から再び解放されなければならない高価なベースユニットの多くの廃棄物が発生する。

特許文献２は、ＬＣＤスクリーン用に構想されるような偏光子用帯電防止保護物を開示している。このため、１０^３〜１０^１２Ω／□の抵抗値を有する導電性ポリマーの層が提供される。しかしながら、このコーティングの欠点は、その高い抵抗であり、高い電流密度の電磁放射線を伝導することができない。

米国特許出願公開２０１１／０３１０３３３ 米国特許出願公開２００７／０１７２５８７

それゆえ、本発明の目的は、先行技術からある欠点のうちの少なくとも１つを緩和または少なくとも部分的に克服することである。特に、偏光子の抵抗の改善を達成することである。

さらなる目的は、偏光子の光透過の改善を達成することである。特に、外部からの影響（例えば、光または他の電磁放射線）により影響される偏光子の性質を減少することである。

さらなる目的は、環境や装置からの電磁放射線の遮蔽の改善を達成することである。

よりさらなる目的は、スクリーンに組み込まれたとき、輝度の増加を達成する偏光子を提供することである。

さらに本発明の目的は、高価でない代替品（例えば、偏光子のＩＴＯコーティングに対する）を表す偏光子を有する装置の製造プロセスを提供することである。

上記目的のうちの少なくとも１つを達成するための寄与は、独立請求項の特徴部を有する本発明によりなされる。有利に進んだ本発明の発展は、個別にまたは所望の組み合わせにおいて理解され得、従属請求項に記載されている。

第１の態様において、本発明は、
ａ）少なくとも１つの偏光子層、
ｂ）導電性ポリマーを含む少なくとも１つの導体層、
を含む層構造に関し、少なくとも１つの導体層は、１０^−４〜５００Ω／□、好ましくは５×１０^−４〜５００Ω／□、特に好ましくは１０^−３〜５００Ω／□または１０^−３〜４００Ω／□、好ましくは５×１０^−２〜３００Ω／□、特に好ましくは１０〜２５０Ω／□の表面抵抗を有する。

本発明において、少なくとも１つの偏光子層および少なくとも１つの導体層は、少なくとも部分的に重なっているのが好ましい。少なくとも１つの偏光子層および少なくとも１つの導体層の面積の少なくとも２０％、好ましくは少なくとも５０％および特に好ましくは少なくとも７０％が重なっているのが好ましい。重なる部分において、上述の２つの層は、隣接または１以上の層によって分離されて存在もし得る。

層構造は、少なくとも１つの偏光子層が用いられる種々の使用のために構想され得る。好ましくは、本発明に係る層構造を用いる場合、層構造の偏光子層と接触する電磁波のビーム、好ましくは、可視光波長におけるビームは少なくとも１つの空間方向における範囲において変更される。

層構造は、その使用に適合される様々な形状および大きさを前提とし得る。層構造は、好ましくは、異なる化学組成または物理特性の少なくとも２つの層を含む構造を意味するものとして理解される。本発明において、層の異なる組成は、２つの異なる層を構成している材料が少なくとも１つの成分を違えていることを意味すると理解される。したがって、例えば、同じ化学組成を有するこれらの層が異なる厚さ、表面構造（でこぼこなど）、または密度を有する場合、層構造の２つの層は物理特性が異なる。

本発明において、層構造は、第三空間方向（厚さとも呼ばれる）においてより、第一空間方向（層構造の長さとも呼ばれる）、および第二空間方向（層構造の幅とも呼ばれる）においてかなりより大きな外延を有する幾何学的図形を有する。層構造において、長さおよび幅は、いずれの場合も、その層構造の厚さより５〜１０^９倍の大きさであり得る。層構造は、好ましくは平面構造を形成し得る。厚さより長さおよび幅の２つの空間方向においてかなりより大きな外延を伴う層構造は、平面構造と呼ばれ得る。したがって、本発明において、層構造の長さおよび幅の外延がいずれの場合も、層構造の厚さより１０〜１０^９倍大きい場合、層構造は、好ましくは平面構造と呼ばれる。層構造はいずれの場合もその個々の層に異なる配列を有する。例えば、層の１つ（例えば、偏光子層）は様々な幾何学的構造からなり得る。

層構造は、少なくとも１つの偏光子層（以下において偏光子とも呼ばれる）を含む。一般に、偏光子は、通常の直線偏光と定義される電磁波（しばしば、およそ３００〜８００ｎｍの範囲の可視波長にある光）を製造する機能を有する。電場および磁場の統合された波は電磁波と呼ばれる。自由空間において、電磁波の電気ベクトルおよび磁場ベクトルは、互いにかつ伝搬方向において垂直である。偏光は選択的な吸収または光線分割によって影響され得る。電磁波の２種類の偏光の間で原則的になされる定義は、以下において光とも称される。したがって、光を直線的に偏光する偏光子および光を環状に変更する他の偏光子がある。以下に詳細に記載する、直線的に偏光する偏光子の間で、複屈折または反射の二色性に基づき作動する偏光子の間で定義される。

例えば、二色性にもとづく二色性偏光子は、直線的に偏光された高度に非対称である２つの成分、つまり１つの成分（ｉ）を、他の成分（ｉｉ）より高い程度で吸収し、他の成分（ｉｉ）を、１つの成分（ｉ）より高い程度で伝達する。二色性結晶から構成される偏光子において、例えば、吸収は、光軸に対して偏光方向に依存する。これらの結晶をシンプルに回転させることにより、所望の偏光方向だけ通過する。このために用いられている結晶は、例えば、トルマリンである。そのような偏光子の代替品の形状は、平行な導線のグリッドを有するグリッド偏光子である。これにおいて、偏光成分は吸収されまたは導線と平行に反射される。対照的に、他の成分は、グリッドによってほんの少し変更され、実質的に邪魔されないグリッドを貫通し得る。他の代替品は埋め込まれたヨウ素微結晶を含む無色のポリビニルアルコールフィルム（ＰＶＡ）により提供される。整列した偏光は、最初のＰＶＡフィルムを回復し特定の方向にＰＶＡフィルムを伸ばす（「引出」とも称される）ことにより達成される。この意味で、長鎖炭化水素分子は少なくとも部分的に整列する。ヨウ素微結晶の連続的な導入において、ＰＶＡ分子にこれらを加え、順番に、ワイアグリッド偏光子中の金属グリッドのように作用する長い伝導性の鎖を形成する。ＰＶＡフィルムの代わりに、セルロース水和物のフィルムも用い得る。

用いられている材料の複屈折率に基づく作用を有する偏光子は一般的に偏光プリズムと呼ばれる。複屈折材料において、その屈折率は光の偏光に依存し、それにより異なる（直線）偏光の光は異なる屈折を起こす。互いに垂直に偏光される光の成分は、結果として材料を通り異なる進路を取り、この態様において分離され得る。従来用いられている複屈折偏光子の例は、ニコルプリズム、ロションプリズムおよびグラン・トムソンプリズムである。さらに、複屈折結晶の配列において主に異なる非常に多くのさらなる偏光プリズムがある。結果的に、当該配列は、特定の偏光のみ視野に達するかまたは異なる出口角における両方の光線が視野に達するかということになる。

非偏光は反射によっても偏光され得る。例えば、非偏光がブルースター角の下にあるガラスプレートに向かっていくとき、反射経路は直線に、かつ実際には光の入射平面に垂直に偏光される。ブルースター角は用いられるガラスの材料に依存する定数である。伝搬された成分は部分的に偏光されるだけである。しかしながら、もしこの光がブルースター角にあるいくつかのプレートを通過し得るとき、この成分も直線に偏光され得る。本発明の偏光平面は入射平面に平行である。

円偏光の発生のため、垂直偏光成分と平行偏光成分との間に少なくとも９０°の位相差が設けられるのが好ましい。この目的のために、概して、遅延プレート中、１つの偏光成分は他の成分よりさらにゆっくり光学的異方性材料に伝搬される遅延プレートが用いられる。上記の位相差は、さらに、光学的に透明な材料、例えば、Ｆｒｅｓｎｅｌ平面六面体において正確に定義された反射により達成もされ得る。

層構造は、好ましくは、直線偏光を生じうる少なくとも１つの偏光子層または２つ以上の偏光子層も含む。偏光子層は、偏光作用を有する異なる材料のいくつかの層から構成され得る。したがって、偏光子層は、例えば、直線偏光材料または円偏光材料の１以上の層を含みうる。偏光子層はさらなる直線偏光材料または円偏光材料の１以上の層または２つの異なる偏光材料の少なくとも１つの層のそれぞれを有し得る。これらの材料は、例えば、異なる形状の偏光のため、例えばＰＶＡ、トルマリンまたはグリッド偏光子などで上記されている。

偏光子層は、好ましくは、錯化できるポリビニルアルコール（ＰＶＡ）もしくは他のポリマーまたはヨウ素を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）もしくは他のポリマーを含む。あるいはまたは加えて、非偏光が結晶構造を透過したとき、電磁波に対して偏光作用を与えるような結晶構造を偏光子層は含みうる。これらは、例えば結晶（例えばトルマリン）であり得る。

偏光子層は、好ましくは１〜１０，０００μｍ、特に好ましくは１０〜５，０００μｍおよび非常に特に好ましくは２０〜１，０００μｍの範囲の厚さを有する。

本発明に係る層構造は、さらに、導電性ポリマーを含む少なくとも１つの導体層を含む。少なくとも１つの導体層は、１０^−４〜５００Ω／□、好ましくは５×１０^−４〜５００Ω／□、特に好ましくは１０^−３〜５００Ω／□または１０^−３〜４００Ω／□、好ましくは５×１０^−２〜３００Ω／□、特に好ましくは１０〜２５０Ω／□の範囲の表面抵抗を有する。好ましくは、導体層は、５０〜１００ｗｔ％、特に好ましくは６０〜１００ｗｔ％、非常に特に好ましくは７０〜１００ｗｔ％の範囲の導電性ポリマーを含む。導体層は、さらにさらなる材料を含有し得る。当該さらなる材料は、さらなるポリマー、金属、セラミックおよびガラス、表面活性物質ならびにこれらの少なくとも２つからなる群から選択される。好ましくは、導体層中の導電性ポリマーは導電性ポリマーの分散体から形成され、好ましくは、分散体に基づいて、いずれの場合も０．１〜１０ｗｔ％および特に好ましくは０．５〜５ｗｔ％の導電性ポリマーの範囲の成分を有する。

導電性ポリマーに加えて、この分散体は、さらに追加成分の表面活性物質（イオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤、または接着促進剤（有機官能性シランまたはそれらの加水分解生成物（３−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランまたはオクチルトリエトキシシランなど）など）など）を含む。

これらの分散体は、追加成分として、伝導率を増加するさらなる添加剤（例えば、エーテル基を含有する化合物（例えば、テトラヒドロフランなど）、ラクトン基を含有する化合物（例えば、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンなど）、アミド基またはラクタム基を含有する化合物（カプロラクタム、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ν，Ν−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ−オクチルピロリドン、ピロリドンなど）、スルホンおよびスルホキシド（例えば、スルホラン（テトラメチレンスルホン）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）など）、糖または糖誘導体（例えば、スクロース、グルコース、フルクトース、ラクトース、糖アルコール（例えば、ソルビトール、マンニトール）など）、フラン誘導体（例えば、２−フランカルボン酸、３−フランカルボン酸など）および／またはジアルコールもしくはポリアルコール（例えば、エチレングリコール、グリセロール、ジエチレングリコールおよびトリエチレングリコールなど）など）を含む。テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、エチレングリコール、ジメチルスルホキシドまたはソルビトールは、特に好ましくは電気伝導率増幅添加剤として用いられる。

これらの分散体は、さらに、追加成分として、有機溶媒に溶解性または水溶性の有機結合剤（ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリビニル・ブチラール、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸エステル、ポリメタクリルアミド、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、シリコーン、エポキシ樹脂、スチレン／アクリル酸エステル、酢酸ビニル／アクリル酸エステルおよびエチレン／酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルアルコールまたはセルロース誘導体など）の１以上を含みうる。

分散体における高分子結合剤の成分は、いずれの場合も、分散体の総重量に基づき、０．１〜９０ｗｔ％、好ましくは０．５〜３０ｗｔ％および非常に特に好ましくは０．５〜１０ｗｔ％である。分散体に任意に含有されるそのような有機結合剤が、所定の温度で液体である場合、分散体としても任意に機能し得る。

本発明に係る分散体は、１〜１４のｐＨであり得、１〜８のｐＨが好ましい。ｐＨを調整するため、例えば、塩基または酸を分散体に添加し得る。分散体の膜形成を減じないおよびより高温（例えば、はんだ付け温度）で揮発しない追加成分として機能する以下の添加剤（例えば、塩基性２−（ジメチルアミノ）−エタノール、２，２’−イミノジエタノールまたは２，２’，２’’−ニトリロトリエタノールおよび酸性ポリスチレンスルホン酸など）が好ましい。

製造条件にしたがって、１、２またはそれ以上の上述の追加成分は導体層中に残留する。これは、特に、特定の追加成分が蒸発せず、洗浄されずまたは別の態様において除去されない導体層の製造中の製造条件が選択されるケースである。

固有の表面抵抗は試験される対象の表面に沿って流れる表面電流への耐性の測定値である。この特性因子は周囲条件および試験片に大きく依存する。大気湿度、表面の汚染、試験片の大きさ、電極形状およびそれらの配列が本発明において決定的役割を担う。ＤＩＮ ＥＮ ６１３４０−２−３により国際的に標準化された測定方法は、それゆえ表面抵抗の測定に用いられた。これにおいて、２つの電極は、電極間の距離が電極の長さに対応して、互いに対して直交する配列で試験される対象の表面上に配置される。したがって、述べられている表面抵抗は直交に基づく。

静電的性質として記載されているプラスチックの特性因子は、材料の特異的な表面抵抗に依存し、ＤＩＮ ＥＮ ６１３４０−５−１に応じて分類される。

１０^１２Ω／□より大きい範囲の表面抵抗を有する試験物質は、絶縁性であるといわれる。例えば、多くの熱可塑性材料はこの群に含まれる。

１０^−４〜５００Ω／□の表面抵抗を有するので、導体層に含有される導電性ポリマーは導体である。この性質により、導電性ポリマーは、最小電圧でさえ伝導することができる。

ＩＥＥＥ−ＳＴＤ２９９に従って測定して、導体層は、０．１〜１０ｄＢ（Ｖ）、好ましくは１〜５ｄＢ（Ｖ）の範囲の電磁波を減少させ得るのが好ましい。層構造は、１ｃｍ^２〜１，０００ｍ^２、好ましくは１０ｃｍ^２〜１００ｍ^２、特に好ましくは１０ｃｍ^２〜１０ｍ^２の範囲の面積を有し得る。

好ましい実施形態において、層構造は、さらに追加層を含む。追加層は、好ましくは層の前駆体において担体層として、または特に環境の影響（機械的損傷など）から保護のための被膜として機能し得る。追加層は、層構造、特に導体層を特に周囲からの機械的影響または熱的影響から保護するために提供されうる。追加層は、さらに、可視光の波長範囲における高い透過率を有する。好ましくは、追加層は、被覆基質の透過率をＡＳＴＭ Ｄ １００３に従って測定して、６０〜９９％、特に好ましくは７０〜９９％、非常に特に好ましくは８０〜９９％の範囲の透過率を有する。これに関して、透過率は、ＡＳＴＭ Ｅ３０８に記載されているように、全可視スペクトル範囲を超えて決定される。このため、標準的なスペクトル値Ｙは、測定された透過スペクトルから、光源Ｄ６５と１０°の観測角度を考慮して、計算される。追加層は、高い柔軟性を有するのがさらに好ましい。

追加層は、外部影響から導体層を保護し、本願明細書において、特に上記特性を有する任意の材料を含みうる。好ましくは、追加層は、好ましくは少なくとも５０ｗｔ％の範囲で追加層を形成するポリマーを含みうる。ポリマーは、さらにより好ましくは、熱可塑性ポリマーであり得る。追加層は、０．０１〜１，０００μｍ、好ましくは０．５〜５００μｍ、特に好ましくは２０〜２００μｍの範囲の厚さを有し得る。

追加層は、偏光子層の上側と下側の両方に配列され得る。好ましくは、追加層は、偏光子層の上側と下側の両方に配置される。少なくとも１つの導体層は上側と下側の一方、または偏光子層の両側に順に配置され得る。好ましくは、少なくとも１つの導体層は偏光子層の下側に配置される。さらにより好ましくは、追加層は、偏光子層と導体層との間に配置される。特に好ましくは、さらなる追加層は、偏光子層の上側に追加的に配置される。

層構造の好ましい実施形態において、少なくとも１つの追加層は、エステル、好ましくはセルロースの多重エステル、好ましくはトリアセチルセルロースを含む。好ましくは、追加層は、いずれの場合も追加層の総重量に基づき、５０〜１００ｗｔ％、好ましくは６０〜１００ｗｔ％、特に好ましくは７０〜１００ｗｔ％の範囲のセルロースエステル、好ましくはトリアセチルセルロースの成分を有する。追加層は、同様にできるだけ透明であるポリマーをさらに含みうる。ポリマーは、可視スペクトル範囲の全波長の６０〜９９％、特に好ましくは７０〜９９％、非常に特に好ましくは８０〜９９％の範囲の可視光の透過率を有するべきである。ポリマーは、ポリアミド（ＰＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアセテート（ＰＬＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）およびポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）ならびにこれらの少なくとも２つからなる群から選択され得る。

層構造の好ましい実施形態において、層構造は、少なくとも１つのさらなる偏光子層を含む。この偏光子層は直接第一偏光子層に隣接し得るが、少なくとも１つのさらなる層によって第一偏光子層から分離され得もする。好ましくは、第一偏光子層は、追加層により少なくとも第二偏光子層から分離される。本発明においても、さらなる偏光子層および少なくとも１つの偏光層、上記のとおりの一般的な層構造の層は、少なくとも部分的に重なるのが好ましい。

層構造のさらに好ましい実施形態において、導電性ポリマーは、チオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリンおよびポリピロールまたはこれらの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される。導電性ポリマーは、好ましくはポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）である。導体層は、導電性ポリマーを、いずれの場合も、導体層の総重量に基づき６０〜１００ｗｔ％、好ましくは７０〜１００ｗｔ％、特に好ましくは８０〜１００ｗｔ％の範囲の量で含みうる。

導電性ポリマーは、好ましくは、１０〜３００Ｓ／ｃｍ、好ましくは５０〜２８０Ｓ／ｃｍ、特に好ましくは１００〜２５０Ｓ／ｃｍの範囲の電気伝導率を有する。

導体層は、さらなる構成物質としてさらにポリマーを含みうる。ポリマーは、ポリアミド（ＰＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアセテート（ＰＬＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）およびポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）ならびにこれらの少なくとも２つからなる群から選択され得る。導体層は、いずれの場合も、導体層の総重量に基づき、０．５〜４０ｗｔ％、好ましくは０．５〜３０ｗｔ％、特に好ましくは０．５〜２０ｗｔ％の範囲の量でさらなるポリマーを含みうる。層構造の導電性ポリマーは、好ましくはポリアニオンを含む。ポリアニオンは、導電性ポリマーのポリカチオンに対してカウンターイオンとしての機能を果たす。ポリアニオンは、７，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１０，０００〜１５０，０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは５０，０００〜１００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有し得る。好ましくは、ポリアニオンのｐＨは、ＤＩＮ ３８４０４（Ｃ５）に従って測定して、１〜８、好ましくは０．８〜４および特に好ましくは１〜２の範囲である。導体層は、いずれの場合も、導体層の総重量に基づき３０〜９０ｗｔ％、好ましくは４０〜８５ｗｔ％、特に好ましくは６０〜８０ｗｔ％の範囲のポリアニオンを含みうる。

ポリアニオンは、例えば、ポリカルボン酸（例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸またはポリマレイン酸など）、またはポリスルホン酸（例えば、ポリスチレンスルホン酸およびポリビニルスルホン酸など）のアニオンであり得る。これらのポリカルボン酸およびポリスルホン酸は、他の重合性単量体（例えば、アクリル酸エステルおよびスチレンなど）とビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸のコポリマーでもあり得る。

好ましくは、層構造のポリアニオンはポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）である。

層構造の好ましい実施形態において、導電性ポリマーはＰＥＤＯＴ／ＰＳＳである。

好ましい実施形態において、層構造は、電気絶縁層、特にガラス層、液晶層、（特に、「面内切替」パネル（ＩＰＳパネル））または少なくともこれらの２つの組み合わせを有する。絶縁層は、偏光子層を透過する光の特性をさらに変更させるのに役立つ。好ましくは、電気絶縁層は、液晶層またはＩＰＳパネルである。例えば、液晶層が層構造中の電気絶縁層として用いられる（例えば、ＬＣＤスクリーン（特にＩＰＳパネル）に電気絶縁層として用いられる）場合、液晶層は、光を偏光に依存する層構造を通過させ、または光を吸収し得る。液晶層は、それにかけられる電圧次第で、入射した光を偏光させるまたは変化することなく光が透過するのを可能とする性質を有する。ＬＣＤスクリーンは、互いに独立に透過率を変更し得る液晶のセグメントからなる。このため、各セグメントにおける液晶の配列は電圧によって制御される。背景照明および少なくとも１つの偏光層を用いて生成される偏光の透過率は、このようにして変化する。このため、層構造は、液晶層の他の部位に第二偏光子層を有する。ＩＰＳパネルの特性は、電圧をかける電極が、本発明ではスクリーンの平面にあることである。

層構造は少なくとも１つのさらなる層を有し得る。さらなる層の例は、接着剤層または感圧層である。接着剤層は、例えば、偏光子層と導体層との間に導入され得る。さらに、接着剤層は導体層と追加層との間に代替物として用いられ得るあるいはまたは追加的に用いられ得る。接着剤層は、例えば、物理的手段または化学的手段により硬化する接着剤を含みうる。物理的手段により硬化する接着剤は、概して、溶媒に溶解したポリマーをすでに含む。溶媒は硬化中に蒸発し、そのため固体層が残る。化学的手段により硬化する接着剤は、接着剤中の化学成分の反応に基づき硬化する。単量体の構成物質（シアノアクリレート、メタクリル酸メチル、シリコーン、イミド、スルフィド、ウレタンおよびエポキシドなど）は、例えば、光、熱、フリーラジカル開始剤で開始した後、本願明細書において重合し、それらのポリマーを与える。

さらなる接着剤層は、絶縁層（特に液晶層）上に導体層と一緒に偏光子層を接着させ得る。好ましくは、偏光子層は、反対側の液晶層上に同様に配列される。その後、層構造は液晶層によって分離された２つの偏光子層を有する。導体層は追加的に少なくとも１つの偏光子層上に配置される。

感圧層を用いる場合、この感圧層は、例えば、「タッチスクリーン」とも呼ばれるタッチセンサー式スクリーン上で生じるような感圧層上への圧力の行使により位置情報を発生することができるかもしれない。

層構造のさらに好ましい実施形態において、その層のうちの少なくとも１つは０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍ、特に好ましくは０．１〜３μｍの範囲の厚さを有する。好ましくは、少なくとも１つの導体層、少なくとも１つの追加層または少なくとも１つの接着剤層は決まった厚さを有する。

好ましい実施形態において、層構造は透明であり、特に、３００〜８００ｎｍの範囲の波長にある光の透過率は、５０〜９９％、好ましくは６０〜９８％、特に好ましくは７０〜９５％の範囲を有する。層構造が液晶層の形態で電気絶縁層を有する場合、透過率は、液晶回路に依存する。液晶の場合における絶縁層が最大光透過を有するように連結されている場合、本発明において規定されている範囲は、特に絶縁層を伴なわない層構造または絶縁層を伴う層構造に用いられる。

本発明のさらなる態様において、層構造の製造プロセスは、以下の段階を含むように提案されている：
ａ）偏光子層の提供、
ｂ）偏光子層の上に導体層を重ね合わせる工程、
ここで、導体層は、少なくとも１つの導電性ポリマーを含有し、少なくとも１つの導体層は、１０^−４〜５００Ω／□、好ましくは５×１０^−４〜５００Ω／□、特に好ましくは１０^−３〜５００Ω／□または１０^−３〜４００Ω／□、好ましくは５×１０^−２〜３００Ω／□、特に好ましくは１０〜２５０Ω／□の範囲の表面抵抗を有する。層構造と関連して上述されている説明は、以下により詳細に説明されている本発明に係るプロセスに当てはまる。

偏光子層は、例えば、本発明に係る層構造のため上述されているような材料を含みうる。偏光子層は、好ましくは、ヨウ素を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を含む。好ましくは、偏光子層はいずれの場合も偏光子層の全量に基づき、５０〜１００ｗｔ％、特に好ましくは６０〜１００ｗｔ％、非常に特に好ましくは７０〜１００ｗｔ％の範囲の量にあるポリビニルアルコールを含む。ＰＶＡに加えて、偏光子層はさらなる材料を含みうる。好ましくは、さらなる材料は、ポリマーを含む。ポリマーは、ポリアミド（ＰＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアセテート（ＰＬＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）およびポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）ならびにこれらの少なくとも２つからなる群から選択され得る。

導体層は、導電性ポリマー材料として層構造のために既に上記されているようなものを含みうる。好ましくは、導体層は、導電性ポリマーとしてチオフェンを含む。特に好ましくは、チオフェンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）である。導体層は、さらにポリアニオンを含みうる。ポリアニオンは、例えば、ポリカルボン酸（例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸またはポリマレイン酸など）またはポリスルホン酸（例えば、ポリスチレンスルホン酸およびポリビニルスルホン酸など）のアニオンであり得る。これらのポリカルボン酸およびポリスルホン酸は、例えば、アクリル酸エステルおよびスチレンなどの他の重合性単量体とのビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸のコポリマーでもあり得る。好ましくは、導体構造のポリアニオンはポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）である。導体層は、いずれの場合も、導体層の総重量に基づき６０〜１００ｗｔ％、好ましくは７０〜１００ｗｔ％、特に好ましくは８０〜１００ｗｔ％の範囲の量にある導電性ポリマーを含みうる。

偏光子層上への導体層を重ね合わせることにおいて、そのような目的に好適であるように層を提供し、その後、重ね合わせることは行われ得る。偏光子層の好適な提供は、例えば、フィルムの形態中のＰＶＡ層の提供であり得る。当該フィルムは、例えば、ロール上にまたは個々の層として提供され得る。ロール状のフィルムは、１０ｍ^２〜１０，０００ｍ^２、好ましくは１００ｍ^２〜５，０００ｍ^２、特に好ましくは５００ｍ^２〜１，０００ｍ^２の範囲の面積を有し得る。フィルムは、０．１〜５００μｍ、好ましくは０．５〜３００μｍ、特に好ましくは１〜２００μｍの範囲の厚さを有し得る。偏光子層の提供のためさらに可能なものは、フィルムの小片でもあり、例えば、１ｃｍ^２〜１００ｍ^２、好ましくは１０ｃｍ^２〜５０ｍ^２、特に好ましくは１ｍ^２〜２０ｍ^２の範囲の大きさである。

偏光子層の上に重ね合わせる方法は、噴霧、スプレッディング、ナイフコーティング、接着剤、印刷およびファスニングならびにこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせからなる群から選択されうる。噴霧による偏光子層上への導体層の重ね合わせは、例えば、液相の印刷、スパッタリングおよび液相の蒸着ならびにこれらの少なくとも２つ以上の手段の組み合わせからなる群から選択され得る。スプレッディングによる偏光子層上への導体層の重ね合わせは、実施され得、例えば、ペンキ用のはけ、スポンジおよびドクターブレードならびにこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせによって実施され得る。接着剤による偏光子層上への導体層の重ね合わせは、例えば、化学的セッティング接着剤もしくは物理的セッティング接着剤またはこれらの組み合わせを介して実施され得る。そのような接着剤の例は、層構造用の接着剤層に既に開示されている。印刷による偏光子層上への重ね合わせは、例えば、ナイフコーティング、コンタクト印刷、スクリーン印刷または凸版印刷もしくはグラビア印刷により実施され得る。ファスニングによる偏光子層上への導体層の重ね合わせは、例えば、仮止め、クランプおよび刺繍ならびにこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせからなる群から選択され得る。

好ましくは、偏光子層の上へ導体層の重ね合わせは、表面へのフィルムの塗布用の公知のプロセスにより効果的である。これらの塗布プロセスは、特にスロットキャスト、ナイフコーティング、噴霧またはカーテンキャストまたはこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせを包含する。

プロセスの好ましい実施形態において、少なくとも１つの追加層が偏光子層上へ重ね合わされる。追加層は、層構造のためにすでに上記されている特性および構造を有し得る。追加層は、偏光子層の上側と下側の両方に配置され得る。好ましくは、追加層は、偏光子層の上側と下側の両方の上に重ね合わせられる。偏光子層上の追加層は偏光子層の下部の追加層と異なるまたは同じである構造であり得る。偏光子層上への追加層の重ね合わせは、偏光子層の上へ導体層の重ね合わせのために上記のと同様にして実施され得る。

導体層は、偏光子層の上側または下側のいずれか１つの側または偏光子層の両側に順に重ね合わせられる。好ましくは、導体層は、偏光子層の下側に配置される。さらにより好ましくは、追加層は、偏光子層および導体層の間に配置される。特に好ましくは、さらなる追加層は、追加的に偏光子層の上側上に重ね合わされる。

好ましくは、少なくとも１つの追加層は、トリアセチルセルロースを含む。層構造のために開示されている追加層の実施形態は、プロセス中用いられる追加層に同様に適用される。

層構造は、少なくとも１つのさらなる偏光子層を含むプロセスが好ましい。このさらなる偏光子層は、層構造内のさらなる偏光子層のために既に上記されているように構成されおよび配置され得る。

プロセスのさらに好ましい実施形態において、導電性ポリマーは、チオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリンおよびポリピロールまたはこれらの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される。導電性ポリマーは、層構造の場合に記載されているように構成され得る。

導電性ポリマーがポリアニオンを含むプロセスが好ましい。ポリアニオンは、導電性ポリマーのポリカチオンに対してカウンターイオンとしての機能を果たす。ポリアニオンは、７，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１０，０００〜１５０，０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは５０，０００〜１００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有し得る。好ましくは、ポリアニオンのｐＨは、ＤＩＮ ３８４０４（Ｃ５）に従って決定され、１〜８、好ましくは０．８〜４、および特に好ましくは１〜２の範囲である。

ポリアニオンは、例えば、ポリカルボン酸（例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸またはポリマレイン酸など）、またはポリスルホン酸（例えば、ポリスチレンスルホン酸およびポリビニルスルホン酸など）のアニオンであり得る。これらのポリカルボン酸およびポリスルホン酸は、他の重合性単量体（例えば、アクリル酸エステルおよびスチレンなど）を伴うビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸のコポリマーでもあり得る。

ポリアニオンは、特に好ましくはＰＳＳである。導電性ポリマーがＰＥＤＯＴ／ＰＳＳであるプロセスは、さらに好ましい。

プロセスのさらに好ましい実施形態において、層構造は、電気絶縁層、特にガラス層、液晶層（特にＩＰＳパネル）、または少なくともこれらの２つを有する。電気絶縁層は、層構造のために記載されているように構成され得る。

好ましくは、電気絶縁層は、層構造の上述の外部層の１つに接続されている。層構造の外部層は好ましくは接着剤層である。あるいは、絶縁層は、上記のとおり、別の追加層に結合もされ得る。追加層は、例えばＴＡＣ層であり得る。層構造の層に絶縁層を結合することは、好ましくは、接着を介して行われる。当該接着は、層構造上への接着剤層により、または層構造もしくは絶縁層へ接着剤を塗布し、続いて絶縁層を含む層構造の結合により、直接影響を受ける。接着剤層または接着剤は、層構造の接着剤層のために既に上記されているように構成され得る。

層のうちの少なくとも１つが０．０１〜１０μｍの範囲の厚さを有するプロセスはさらに好ましい。これは、好ましくは、層構造のために既に記載されているような導体層および／または追加層に適用される。層構造のために記載されているように層の全ての側の厚さもプロセスに適用される。

プロセスの好ましい実施形態において、層構造は透明である。特に、層構造は、３００〜８００ｎｍの波長範囲の光の透過率が５０〜９９％、好ましくは６０〜９８％、特に好ましくは７０〜９５％である。層構造が液晶層の形態で電気絶縁層を有する場合、透過率は液晶回路に依存する。上述の範囲は、絶縁層を有しない層構造または絶縁層を有する層構造に特に適用され、液晶の場合における絶縁層は、その層構造は最大光透過を有するように接続されている。

本発明のさらなる態様において、上記のプロセスにより得られ得る層構造が提案されている。

本発明のさらなる態様において、ディスプレイ、好ましくは上記の層構造を含む液晶を有するディスプレイを提案する。用いられ得る液晶は、ディスプレイにおいて用いられ得る先行技術において知られている全ての液晶構造である。ディスプレイは、例えば、ＩＰＳパネルを液晶として含みうる。本発明に係る層構造に加えて、ディスプレイは追加的に、電力供給装置用の接続部、特に、絶縁層の回路用の接続部を含みうる。ディスプレイは、層構造の周りに、特にディスプレイを具体的にはディスプレイを操作する間、外部影響から保護するためのフレームもさらに有し得る。ディスプレイは、１ｃｍ^２〜１，０００ｍ^２、好ましくは１０ｃｍ^２〜１００ｍ^２、特に好ましくは１０ｃｍ^２〜１０ｍ^２の範囲のスクリーン面積を有し得る。

本発明に係る層構造に関する説明は、本発明に係る層構造の製造のために本発明に係るディスプレイおよび本発明に係るプロセスに従って、さらに等価に適用される。これは、特に材料および空間的構造に適用される。

本発明のさらなる詳細および特徴部は、好ましい具体的な実施例の以下の記載、特に従属項との組み合わせにおいて明らかである。特定の特徴部は、本発明において、それら自身または別々に互いと組み合わせて実現され得る。本発明は、具体的な実施例に限定されない。具体的な実施例は、下記図面における略図フォームで示されている。図面において、個々の図面における同じ参照記号は、同じまたは機能において同じまたはそれらの機能に関して互いに一致する要素を示す。

液晶層を含む層構造の略図であり、図１ａは導体層の第一配列を有する図１の層構造の断面であり、図１ｂは導体層の第二配列を有する図１の層構造の断面である。 図１ａの断面に係る配列を有する図１の層構造の製造のダイヤグラムである。 図１ｂの断面に係る配列を有する図１の層構造の製造のダイヤグラムである。

図１は、本発明に係る層構造１００を示す。層構造１００は、第一追加層１０の少なくとも１つの側に重ね合わされ、反対側にカバー８０を備える第一偏光子層２０を含む。この追加層１０は好ましくはトリアセチルセルロースからなる。層構造１００はさらに第二追加層３０および導体層７０（図１ａおよび図１ｂに示されるように、偏光子層２０と第二追加層３０の間または第二追加層３０と接着剤層４０との間のいずれかである）を含む。接着剤層４０を用いて、このようにして構成されている偏光子要素６０は液晶成分５０上に直接接着され得、例えば、絶縁層５０という意味のＩＰＳパネルとして構成され得る。液晶成分５０の反対側に、偏光子要素６０と同じ構造を有するさらなる偏光子要素９０（少なくとも１つの追加層および少なくとも１つの偏光子層を有する層構造として同様に構成されている）も配置されている。本発明においても、偏光成分９０は、接着剤層４０を介して液晶成分５０に結合されている。追加層１０、３０および８０の層は、この実施例などの場合、トリアセチルセルロースから製造され得る。この実施例において、偏光子層２０は、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール層からなる。導体層７０は、０．２μｍの厚さ、８０ｗｔ％のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ層（ｉ．Ｃｌｅｖｉｏｓ（商標）ＰＨ５００、ｉｉ．Ｃｌｅｖｉｏｓ（商標）ＰＨ７５０、ｉｉｉ．Ｃｌｅｖｉｏｓ（商標）ＰＨ１０００、ｉｖ．Ｃｌｅｖｉｏｓ（商標）ＦＥ、ｖ．Ｃｌｅｖｉｏｓ（商標）Ｆ ＥＴおよびｖｉ．Ｃｌｅｖｉｏｓ（商標）Ｆ０１０、全てＨｅｒａｅｕｓ Ｐｒｅｃｉｏｕｓ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧから購入できる）を含む。

図２において、図１ａ）に係る構造が得られ、導体層７０は最初に段階１１０で第一担体層１０（通常ＴＡＣ）に結合されている。第三担体層８０は、前駆体ＰＣ Ｉａを得るために、段階１２０で担体層１０に張り付けられる。時間に関して重なるまたは連続してもいる段階１３０において、前駆体ＰＣ ＩＩａは第二追加層を接着剤層４０に結合することにより得られる。段階１４０で、２つの前駆体ＰＣ ＩａおよびＰＣ ＩＩａは、その後、図１ａ）に示される層順序を有する偏光子要素６０を得るために、偏光層２０を介して結合される。

図３において、図１ｂ）に係る構成が得られ、導体層７０は、最初に段階２１０で担体層３０（通常ＴＡＣ）に結合されている。前駆体ＰＣ Ｉｂを得るために、接着剤層４０は段階２２０で担体層３０に張り付けられる。時間に関して重なるまたは連続してもいる段階２３０において、前駆体ＰＣ ＩＩｂは第一追加層１０および第三追加層８０のそれぞれを結合することにより得られる。段階２４０において、２つの前駆体ＰＣ ＩｂおよびＰＣ ＩＩｂをその後、図１ｂ）に示される層順序を有する偏光子要素６０を得るために、偏光層２０を介して結合する。

試験印刷を、８０μｍのセルローストリアセテートフィルム上に、下記表で述べているウェット膜厚にハンドコーター（Ｅｒｉｃｈｓｅｎ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧ製のらせん状フィルムアプリケーターＫ−ＨＡＮＤ−ＣＯＡＴＥＲ６２０）を用いて、表１および２に示される市販のＣｌｅｖｉｏｓ（商標）配合物（Ｈｅｒａｅｕｓ Ｐｒｅｃｉｏｕｓ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ製）を用いて製造し、その後、７０℃で５分間被覆フィルムを得るために乾燥させる。それから、表面抵抗ならびに被覆フィルムおよび非被覆フィルムの透過率を４点測定器（マルチメーター：ＴＴｉ １９０６（Ｔｈｕｒｌｂｙ Ｔｈａｎｄａｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｉｍｉｔｅｄ製；測定ヘッド：タイプＥＳＰ♯７１４０４Ａ））を用いて測定する。結果を以下の表に示す。

種々の周波数での種々のコーティングまたはフィルムの遮蔽効果をさらに調査した。遮蔽効果は、特定の周波数の放射線を遮蔽または伝導するコーティングまたはフィルムの能力を意味するものとして理解されるだろう。これは遮蔽効率とも称される。１０ＭＨｚ〜４ＧＨｚの周波数範囲にある表２に挙げている種々のコーティングおよびフィルムの遮蔽効率の測定のため、手順は、規格「ＡＳＴＭ Ｄ ４９３５−８９」に従った。発光アンテナおよび受信アンテナとしての２つの同軸ＴＥＭ計測器（同軸ＴＥＭ測定プローブ、１ＭＨｚ〜４ＧＨｚ（Ｗａｎｄｅｌ＆Ｇｏｌｔｅｒｍａｎｎ製））をネットワーク分析器（ベクトルネットワーク分析器タイプ８７５３Ｄ、３０ｋＨｚ〜６ＧＨｚ（Ｈｅｗｌｅｔｔ＆Ｐａｃｋａｒｄ製））に接続した。校正の間、測定構成を測定ヘッド間に１７５μｍの厚さがある非被覆ＰＥＴ基板Ｍｅｌｉｎｅｘ５０５を用いて透過測定のために「０ｄＢ」に調整した。

その後、被覆ＰＥＴ基板を調査した。このために、水性Ｃｌｅｖｉｏｓ配合物を、６μｍ、１２μｍまたは２４μｍのギャップ分離を有するＥｒｉｃｈｓｅｎ製の手動ドクターブレードを用いて室温でＰＥＴ基板に施した。本願明細書において、手動ドクターブレードのギャップ分離は、ウェット膜厚とも呼ばれる形成されたウェット膜の厚さを決定する。その後、このようにして形成されたコーティングまたはフィルムを、乾燥器中、１３０℃で５分間乾燥した。

被覆ペットフィルムの遮蔽効率のために得た測定曲線は１０ｍＨｚ〜４ＧＨｚの範囲の周波数にわたってほとんど直線であり、すなわち、遮蔽効率はこの周波数範囲内の周波数から事実上独立している。他方、表面抵抗での遮蔽効率の明確な依存は示されている。例えば、モバイル通信に関連する種々の周波数で調査されたコーティングまたはフィルムの遮蔽効率を、例として、以下の表２に示す。

手動ドクターブレードの２４μｍのギャップ分離の結果であるウェット膜厚を有するＣｌｅｖｉｏｓ ＦＥＴ層の遮蔽効果は、２．４５ＧＨｚで１０．８０ｄＢである。これは、８．３％の放射強度の透過率に相当する。遮蔽効率ＳＥ（デシベルで測定）と遮蔽の背後にある放射強度Ｐの透過率との関係を以下のとおり計算する。

式中、Ｐ_０は遮蔽なしの放射強度である。結果として、

である。

１０ 第一追加層
２０ 偏光子層
３０ 第二追加層
４０ 接着剤層
５０ 絶縁層／液晶
６０ 偏光子要素
７０ 導体層
８０ 第三追加層／被膜
９０ さらなる偏光子要素
１００ 層構造

Claims (24)

1. ａ）少なくとも１つの偏光子層（２０）、
   ｂ）導電性ポリマーを含む少なくとも１つの導体層（７０）、
   を含む層構造（１００）であって、
   ここで、少なくとも１つの導体層（７０）が１０^−４〜５ＯＯΩ／□の範囲の表面抵抗を有する、層構造（１００）。
2. 少なくとも１つの追加層（１０、３０、４０、８０）を含む、請求項１に記載の層構造（１００）。
3. 少なくとも１つの追加層（１０、３０、４０、８０）がセルロースエステルを含む、請求項２に記載の層構造（１００）。
4. 少なくとも１つのさらなる偏光子層（６０）を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
5. 前記導電性ポリマーが、チオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリンおよびポリピロールまたはこれらの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
6. 前記導電性ポリマーがポリアニオンを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
7. 前記ポリアニオンがＰＳＳである、請求項６に記載の層構造（１００）。
8. 前記導電性ポリマーがＰＥＤＯＴ／ＰＳＳである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
9. 電気絶縁性の層（５０）を有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
10. 層（１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０）のうちの少なくとも１つが０．０１〜１０μｍの範囲の厚さを有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
11. 透明である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の層構造（１００）。
12. ａ）偏光子層（２０）の提供、
    ｂ）前記偏光子層（２０）上に導体層（７０）を重ね合わせる工程、
    の段階を含む層構造（１００）の製造プロセスであって、
    ここで、１つの導体層（７０）が少なくとも１つの導電性ポリマーを含有し、少なくとも１つの導体層（７０）が１０^−４〜５ＯＯΩ／□の範囲の電気伝導率を有する、製造プロセス。
13. 前記偏光子層（２０）が少なくとも１つの追加層（１０、３０、４０、８０）に重ね合わされる、請求項１２に記載の製造プロセス。
14. 少なくとも１つの追加層（１０、３０、４０、８０）がセルロースエステルを含む、請求項１３に記載の製造プロセス。
15. 前記層構造（１００）が少なくとも１つのさらなる偏光子層（６０）を含む、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の製造プロセス。
16. 前記導電性ポリマーが、チオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリンおよびポリピロールまたはこれらの少なくとも２つの混合物からなる群から選択される、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の製造プロセス。
17. 前記導電性ポリマーがポリアニオンを含む、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の製造プロセス。
18. 前記ポリアニオンがＰＳＳである、請求項１７に記載の製造プロセス。
19. 前記導電性ポリマーがＰＥＤＯＴ／ＰＳＳである、請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の製造プロセス。
20. 前記層構造（１００）が電気絶縁性の層（５０）を有する、請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の製造プロセス。
21. 前記層（１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０）のうちの少なくとも１つが０．０１〜１０μｍの範囲の厚さを有する請求項１２〜２０のいずれか１項に記載の製造プロセス。
22. 前記層構造（１００）が透明である、請求項１２〜２１のいずれか１項に記載の製造プロセス。
23. 請求項１２〜２２のいずれか１項に記載の製造プロセスによって得られる層構造（１００）。
24. 請求項１〜１１または２３のいずれか１項に記載の層構造（１００）を含むディスプレー（１０５）。

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