JP2015227966A - シンバルワッシャ - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、この発明の第1実施形態であるシンバルワッシャ3A_1および3A_2を使用したシンバルセット1の構成を示す断面図である。図1に示すように、シンバルセット1は、シンバルスタンドのロッド2を、板5A_2、シンバルワッシャ3A_2、シンバル4、シンバルワッシャ3A_1、板5A_1および蝶ネジ6に挿通させた構成となっている。
図4は、この発明の第2実施形態であるシンバルワッシャ3Bの構成を示す斜視図である。シンバルワッシャ3Bは、外周から中心に向かう複数の切り込みを有しており、複数の花弁部3B1を放射状に形成した平面形状を有している。また、シンバルワッシャ3Bには、上面から下面にかけて、ロッド2が貫通するための貫通孔C2が設けられている。ここで、貫通孔C2の中央を通り、上面から下面に向かう垂直な軸を、このシンバルワッシャ3Bの中心軸と呼ぶ。本実施形態において、シンバルワッシャ3Bに設けられた切り込みは、シンバルワッシャ3Bの外周面から中心軸に向かうにつれて徐々に幅が狭くなる。なお、シンバルワッシャ3Bの形状はこれに限らず適宜変形してもよい。シンバルワッシャ3Bは、上記第1実施形態のシンバルワッシャ3Aと同様、発泡ウレタンフォームにより構成されている。このため、シンバルワッシャ3Bは、外部から受ける圧力により自在に変形する。
上記第1実施形態では、シンバルワッシャ3A_1および3A_2による挟み込みの圧力が小さい場合、スティックで叩かれた際の衝撃によりシンバル4が回転することがある。そこで、本実施形態では、このシンバル4の回転を防止するための滑り止め部をシンバルワッシャに設ける。
本実施形態は、上記第3実施形態の変形例である。図7(a)および(b)は、本実施形態によるシンバルワッシャ3A’’の構成例を示す図である。ここで、図7(a)は、図7(b)におけるシンバルワッシャ3A’’を矢印A方向から見た上面図、図7(b)は、図7(a)のI−I’線側面図である。図7(a)に示すように、シンバルワッシャ3A’’の球面上には、貫通孔C1の近傍からシンバルワッシャ3A’’の外周に向けて放射状に延びた滑り止め部10が設けられている。また、図7(b)に示すように、滑り止め部10は、凸型の形状を有する。なお、この滑り止め部10の断面の形状は、半円や多面体など適宜選択してよい。
以上、この発明の各種の実施形態について説明したが、この発明には他にも実施形態が考えられる。例えば次の通りである。
Claims (5)
- シンバルとの接触圧に応じて前記シンバルとの接触面積が変化する弾性体からなる支持部を有することを特徴とするシンバルワッシャ。
- 前記支持部は、凸型の形状を有することを特徴とする請求項1に記載のシンバルワッシャ。
- 前記支持部は、外周に切り込みが設けられていることを特徴とする請求項1に記載のシンバルワッシャ。
- 前記支持部は、前記シンバルとの対向面に凸型の突起形状からなる滑り止め部を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1の請求項に記載のシンバルワッシャ。
- 前記滑り止め部は、前記支持部の中心から放射状に伸びた形状を有することを特徴とする請求項4に記載のシンバルワッシャ。
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