JP2015225948A - パワーモジュール用基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】セラミック基板のクラックの発生や、強度低下を防止することができるパワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】セラミック基板11に、銅板13を接合するパワーモジュール用基板10において、銅板13角部のアール12の中点14と中心15を結ぶ第1の直線16上に中点14から中心15までの距離より短い位置を中心15aとする第1の貫通孔17と、この直線上に中点14から中心15までの距離より長い位置を中心15bとする第2の貫通孔18と、辺部外縁と平行する第2の直線19上に、中心15bから中心15aと、中心15b間の距離と同等の位置を中心15cとする第3の貫通孔20と、一方と他方の角部に設ける第3の貫通孔20の間に中心15dとする複数個の第4の貫通孔21と、第2の直線19より中央側で平行する第3の直線22上に中心15eとする複数個の第5の貫通孔23を有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、セラミック基板の両主面のそれぞれに銅板が接合され、大量の熱を発生する半導体素子を銅板上に搭載した時のセラミック基板と銅板の接合信頼性を向上できるパワーモジュール用基板に関する。
従来より、パワーモジュール用基板は、大電流を流すことで高熱発生が伴う高速化、高集積化の進むパワートランジスタ等の半導体素子を搭載し、半導体素子からの発熱を速やかに放熱して半導体素子の信頼性を維持できるようにして民生用機器や、自動車、電気自動車等の車載用等に用いられている。
図3(A)〜(C)に示すように、従来のパワーモジュール用基板50は、セラミック基板51の一方の主面に回路パターン状の回路銅板52と、他方の主面にベタ状のベタ銅板53を接合している。このパワーモジュール用基板50は、予めパターン形成がされた回路銅板52や、ベタ銅板53を銅の融点を利用して直接加熱接合する直接接合法や、活性金属ろうを介して加熱接合する活性金属ろう材接合法で接合して作製している。あるいは、パワーモジュール用基板50は、セラミック基板51にパターンが形成されていない全面銅板を直接接合法や、活性金属ろう材接合法で加熱接合した後、銅板をエッチングして所望のパターンの回路銅板52や、ベタ銅板53にすることで作製している。
上記のパワーモジュール用基板50は、回路銅板52の中の所定の銅板上に搭載する半導体素子54をボンディングワイヤ55を介して回路銅板52の中の他の銅板と電気的に導通状態とし、更に他の銅板を介して外部と電気的に導通状態としている。そして、パワーモジュール用基板50は、半導体素子54に大電流を流すことで発生する高熱をセラミック基板51を介してベタ銅板53側に伝熱し、更にベタ銅板53から放熱できるようにしている。このパワーモジュール用基板50は、回路銅板52に大電流を流すことができるようにするために銅板の厚みが厚くなっていると共に、セラミック基板51の両主面のそれぞれに銅板を接合するときのセラミック基板51と銅板の熱膨張係数差による反りの発生を防止するためにベタ銅板53の厚みも同じような厚みとなっている。
しかしながら、セラミック基板51に厚みの厚い銅板を接合したパワーモジュール用基板50には、半導体素子54に大電流を流したり、切断したりすることで、加熱と、冷却の温度サイクルが繰り返され、セラミック基板51と銅板の熱膨張係数差に起因する熱応力を発生させている。この熱応力は、接合部付近のセラミック基板51に、圧縮と引っ張りの残留応力分布として存在し、特に、銅板の端部と近接するセラミック基板51部分に残留応力の主応力が作用している。そして、この残留応力は、この応力のうちの引っ張り成分としての最大応力値がセラミック基板51の引っ張り強度を超えるとセラミック基板51にクラックを発生させ、更には回路銅板52や、ベタ銅板53のセラミック基板51からの剥離を発生させている。また、パワーモジュール用基板50は、通常、ベタ銅板53をセラミック基板51の他方の主面にセラミック基板51の端部より所定の間隔を設けて、全面に接合しているので、加熱と、冷却の温度サイクルによる収縮が大きく、セラミック基板51のクラック発生の要因となっている。
これに対応するために、図4(A)〜(C)に示すように、従来のパワーモジュール用基板50には、セラミック基板51の表面に接合された回路銅板52及び/又はベタ銅板53の外周囲にU字状の溝56(図4(A)参照)や、階段状の段差57(図4(B)参照)や、貫通又は非貫通の孔58(図4(C)参照)を設けることで、加熱と、冷却の温度サイクルによる収縮を緩和させるものがある。
従来のパワーモジュール用基板には、セラミック基板と、このセラミック基板の少なくとも表面に接合された銅板とを具備するパワーモジュール用基板において、銅板のセラミック基板との接合面と反対面側の外周縁部に沿って所定の間隔で直線状に複数の孔が形成されているのが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
これによると、冷熱サイクルが付加された場合等においても、セラミック基板のクラック発生や強度低下を有効に防止することができ、しかも製造工程的に有利な機械加工(プレス加工)によっても銅板の変形を防止し得る、信頼性に優れたパワーモジュール用基板を提供することができるとしている。
特開平8−250823号公報
しかしながら、前述したような従来のパワーモジュール用基板は、次のような問題がある。
(1)セラミック基板の表面に接合された銅板の外周囲にU字状の溝、階段状の段差、又は孔を設ける、あるいは、特開平8−250823号公報で開示されるようなパワーモジュール用基板は、銅板である金属板のコーナーに特段の円弧形状のアールがなくて直角となっているので、パワーモジュール用基板に冷熱サイクルが付加された時に銅板のコーナーと近接するセラミック基板部分に残留応力が集中して作用し、銅板のコーナーと近接するセラミック基板部分に発生するクラックや、強度低下を防止することができなくなっている。
(2)特開平8−250823号公報で開示されるようなパワーモジュール用基板は、例え、銅板のコーナーに円弧形状のアールを設けたとしても、銅板の角部に設ける貫通孔が銅板のコーナーから遠ざかる中心部側となるので、銅板の角部に設ける貫通孔の中心間を直線とする辺部に、所定の間隔で複数個設ける貫通孔が銅板縁部から遠ざかることとなっている。従って、このような貫通孔を設けるパワーモジュール用基板では、銅板辺部の縁部と近接するセラミック基板部分の残留応力を分散できなくなり、セラミック基板の辺部に発生するクラックの発生や、強度低下を防止することができなくなっている。
(3)また、特開平8−250823号公報で開示されるようなパワーモジュール用基板は、銅板の角部や、辺部に設ける貫通孔をセラミック基板と接合する前の銅板に機械加工で設けているので、貫通孔を銅板の縁部に近接させて設けることが難しく、銅板の縁部と近接するセラミック基板部分の残留応力を分散できなくなり、セラミック基板のクラックの発生や、強度低下を防止することができなくなっている。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、セラミック基板のクラックの発生や、強度低下を防止することができるパワーモジュール用基板を提供することを目的とする。
前記目的に沿う本発明に係るパワーモジュール用基板は、四角形状のセラミック基板の両主面のそれぞれに、コーナーに円弧形状のアールを備える1又は複数枚の銅板を接合するパワーモジュール用基板において、銅板角部のアールの中点と円弧形状の中心を結ぶ第1の直線上に設けられ、アールの中点からの距離が円弧形状の中心までの距離より短い位置を中心とする第1の貫通孔と、銅板角部のアールの中点と第1の貫通孔の中心を結んで延設する第1の直線上に設けられ、アールの中点からの距離が円弧形状の中心までの距離より長い位置を中心とする第2の貫通孔と、第1、第2の貫通孔に隣接し銅板の直線状の辺部外縁と平行して延設する第2の直線上に設けられ、辺部外縁から第2の直線上までの距離がアールの中点から第1の貫通孔の中心までの距離と同等で、且つ辺部外縁の延設線から第1の貫通孔の中心までの距離より短いと共に、第2の貫通孔の中心からの距離が第1、第2の貫通孔の中心間距離と同等の位置を中心とする第3の貫通孔と、銅板の辺部外縁と平行して延設する第2の直線上の銅板の一方の角部と他方の角部に設ける第3の貫通孔の中心間に複数個が設けられ、第1の貫通孔の中心と第3の貫通孔の中心間距離と近似する距離を隣接する中心間距離とする位置を中心とする第4の貫通孔と、第2の直線より銅板の中央側で第2の直線と平行すると共に、第2の直線から第2の貫通孔の中心までの距離より短い位置に延設する第3の直線上に複数個が設けられ、第3の貫通孔の中心と第4の貫通孔の中心間、及び隣接する第4の貫通孔の中心間で千鳥構造となる位置を中心とする第5の貫通孔を有する。
ここで、上記のパワーモジュール用基板において、第1〜第5の貫通孔の孔径は、実質的に同一であるのがよい。
また、上記のパワーモジュール用基板において、第1〜第5の貫通孔は、セラミック基板に銅板を接合した後に、エッチング加工により形成された孔であるのがよい。
上記のパワーモジュール用基板は、銅板角部のアールの中点と円弧形状の中心を結ぶ第1の直線上に設けられ、アールの中点からの距離が円弧形状の中心までの距離より短い位置を中心とする第1の貫通孔と、銅板角部のアールの中点と第1の貫通孔の中心を結んで延設する第1の直線上に設けられ、アールの中点からの距離が円弧形状の中心までの距離より長い位置を中心とする第2の貫通孔と、第1、第2の貫通孔に隣接し銅板の直線状の辺部外縁と平行して延設する第2の直線上に設けられ、辺部外縁から第2の直線上までの距離がアールの中点から第1の貫通孔の中心までの距離と同等で、且つ辺部外縁の延設線から第1の貫通孔の中心までの距離より短いと共に、第2の貫通孔の中心からの距離が第1、第2の貫通孔の中心間距離と同等の位置を中心とする第3の貫通孔と、銅板の辺部外縁と平行して延設する第2の直線上の銅板の一方の角部と他方の角部に設ける第3の貫通孔の中心間に複数個が設けられ、第1の貫通孔の中心と第3の貫通孔の中心間距離と近似する距離を隣接する中心間距離とする位置を中心とする第4の貫通孔と、第2の直線より銅板の中央側で第2の直線と平行すると共に、第2の直線から第2の貫通孔の中心までの距離より短い位置に延設する第3の直線上に複数個が設けられ、第3の貫通孔の中心と第4の貫通孔の中心間、及び隣接する第4の貫通孔の中心間で千鳥構造となる位置を中心とする第5の貫通孔を有するので、銅板角部に円弧形状のアールと、銅板の外周部全周に外縁から均等の距離で、隣接間が略均等間隔に貫通孔と、を設けることができ、パワーモジュール用基板に冷熱サイクルが付加された時に集中する銅板と近接するセラミック基板部分に発生する残留応力を防止でき、セラミック基板のクラックの発生や、強度低下を防止することができる。
特に、上記のパワーモジュール用基板は、第1〜第5の貫通孔の孔径は、実質的に同一であるので、パワーモジュール用基板に冷熱サイクルが付加された時に集中する銅板の外周囲部分で接合するセラミック基板部分に発生する残留応力を効果的に防止することができる。
また、特に、上記のパワーモジュール用基板は、第1〜第5の貫通孔は、セラミック基板に銅板を接合した後に、エッチング加工により形成された孔であるので、それぞれの銅板の外周囲に近接する所望する位置に容易に第1〜第5の貫通孔を設けるパワーモジュール用基板を提供することができる。
(A)〜(C)はそれぞれ本発明の一実施の形態に係るパワーモジュール用基板の一方の主面の平面図、他方の主面の平面図、A−A’線縦断面図である。 同パワーモジュール用基板の角部の拡大説明図である。 (A)〜(C)はそれぞれ従来のパワーモジュール用基板の一方の主面の平面図、他方の主面の平面図、A−A’線縦断面図である。 (A)〜(C)はそれぞれ同パワーモジュール用基板の角部の拡大説明図である。
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施するための形態について説明し、本発明の理解に供する。
図1(A)〜(C)に示すように、本発明の一実施の形態に係るパワーモジュール用基板10は、アルミナ(Al)や、窒化アルミニウム(AlN)や、ジルコニア入りアルミナ等のセラミックからなる四角形状のセラミック基板11を有している。また、このパワーモジュール用基板10は、セラミック基板11の両主面のそれぞれには、コーナーに円弧形状のアール12を備える様々な形状からなる1又は複数枚の銅板13を接合して有している。そして、パワーモジュール用基板10は、セラミック基板11の一方の主面に複数枚の銅板13で回路パターンを形成し、セラミック基板11の他方の主面にベタ状の銅板13を接合して有している。このパワーモジュール用基板10は、通常、セラミック基板11の両主面にパターンが形成されていない全面銅板を直接接合法や、活性金属ろう材接合法で加熱接合した後、両主面の全面銅板のそれぞれをエッチングしてコーナーに円弧形状のアール12を備える所望の回路パターン状や、ベタ状の銅板13にしている。
上記の全面銅板の直接接合法とは、予め表面を酸化させた銅板を酸化性セラミック基板11に当接させ、窒素雰囲気中で焼成して酸化銅の融点(1083℃)付近まで昇温して銅と微量の酸素との反応により生成するCu−O共晶液相を結合材として直接セラミック基板11に接合する方法である。なお、直接接合法では、セラミック基板11がAlNからなる場合に、AlNの表面に酸化膜が存在しないので、セラミック基板11の表面に酸化膜を形成、すなわち、AlNの表面をAlとしておく必要がある。
また、上記の全面銅板の活性金属ろう材接合法とは、チタン、ジルコニウム、ベリリウム等のような極めて反応性の大きい、所謂、活性な金属をAg−Cu系ろう等に加えた活性金属ろう材を用いてセラミック基板11と銅板を接合する方法である。この接合は、活性金属ろう材からなるペーストをセラミック基板11の表面に塗布し、その上に予め表面を酸化させた銅板と当接させ、750℃〜850℃程度で加熱してチタン等の酸素との親和力の強さを利用して直接セラミック基板11に接合している。なお、活性金属ろう材接合法では、セラミック基板11がジルコニア系アルミナからなる場合に、Ag−Cu系ろうに、例えば、ジルコニウム、チタン、フッ化水素、ニオブのいずれか1種以上を含有させたものを用いることができ、セラミック基板11への親和力を高めることで接合反応強度を高めて強固に接合することができる。
更に、上記のエッチングは、先ず、全面銅板上に所望形状の回路パターン状や、ベタ状の銅板13となるエッチングレジスト膜をスクリーン印刷、又はフォトレジスト法で形成している。なお、エッチングレジスト膜には、前述した銅板13のコーナーに円弧形状のアール12を設けるためのパターンや、後述する所望する銅板13の外周部に貫通孔を設けるためのパターン等も含んでいる。
次に、エッチングレジスト膜を設けた全面銅板上には、塩化第2鉄を30〜40重量%含む水溶液からなるエッチング液を噴射してエッチングレジスト膜で覆われていない部分の銅板部を除去している。そして、更に、銅板13からエッチングレジスト膜を剥離することで、セラミック基板11に所望の回路パターン状や、ベタ状の銅板13を接合して備えるパワーモジュール用基板10を作製している。
図2に示すように、上記のパワーモジュール用基板10は、所望の銅板13の角部に、円弧形状のアール12の中点14と、アール12の円弧形状の中心15を結んで45°の角度で延設する第1の直線16上に第1の貫通孔17の中心15aを有している。この第1の貫通孔17の中心15aは、アール12の中点14からの距離Aがアール12の中点14からアール12の半径である円弧形状の中心15までの距離Rより短い距離(A<R)の位置となっている。また、第1の貫通孔17の中心15aのアール12の中点14からの距離Aは、第1の貫通孔17の孔径寸法やエッチング精度等によって異なるが、第1の貫通孔17と、アール12の中点14が銅板13強度を保持して近接できる位置になるような距離としている。
また、パワーモジュール用基板10は、上記の銅板13の角部に、コーナーのアール12の中点14と、第1の貫通孔17の中心15aを結んで延設する直線である上記と同じ第1の直線16上に第2の貫通孔18の中心15bを有している。この第2の貫通孔18の中心15bは、アール12の中点14からアール12の半径である円弧形状の中心15までの距離Rより長く、第1の貫通孔17の孔径と孔径どうしが交差しないと共に、銅板13強度を保持して近接できる第1の貫通孔17の中心15aから距離Bの位置となっている。すなわち、第2の貫通孔18の中心15bは、アール12の中点14からの距離が距離(A+B)の位置となっている。
このパワーモジュール用基板10は、上記の第1、第2の貫通孔17、18に隣接し、銅板13の直線状の辺部外縁と平行して延設する第2の直線19上に第3の貫通孔20の中心15cを有している。この第2の直線19の辺部外縁からの距離は、コーナーのアール12の中点14から第1の貫通孔17の中心15aまでの距離Aと同等で、且つ辺部外縁の延設線から第1の貫通孔17の中心15aまでの距離A’より短い距離(A<A’)となっている。そして、第3の貫通孔20の中心15cは、第2の貫通孔18の中心15bからの距離が第1の貫通孔17の中心15aから第2の貫通孔18の中心15bまでの距離である距離Bの位置となっている。第2の直線19の辺部外縁からの距離Aは、第1の貫通孔17の場合と同様に、第3の貫通孔20の孔径寸法やエッチング精度等によって異なるが、第3の貫通孔20と銅板13の辺部外縁との間の銅板13で強度を保持して近接できる位置になるような距離となっている。
また、パワーモジュール用基板10は、上記の銅板13の辺部外縁と平行して延設する上記の第2の直線19上の銅板13の一方の角部と、他方の角部に設けるそれぞれの第3の貫通孔20の中心15c間距離Xの間に複数個の第4の貫通孔21の中心15dを有している。この第4の貫通孔21の中心15dは、第1の貫通孔17の中心15aと、第3の貫通孔20の中心15c間との距離と最も近似する距離で整数個が得られるピッチ間距離Zの位置となっている。なお、第4の貫通孔21の中心15dは、銅板13の外形寸法が縦方向と、横方向で異なる場合には、それぞれの方向に対してのピッチ間距離Zの位置となっている。また、第4の貫通孔21は、第3の貫通孔20の場合と同様に、第4の貫通孔21の孔径寸法やエッチング精度等によって異なるが、第4の貫通孔21と銅板13の辺部外縁との間の銅板13で強度を保持して近接できる位置になるような距離となっている。また、
上記の第2の直線19上の銅板13の一方の角部と、他方の角部に設けるそれぞれの第3の貫通孔20の中心15c間距離Xは、銅板13の外形寸法をWとした場合に、下記の数式1によって求めることができる。
Figure 2015225948
更に、上記のパワーモジュール用基板10は、上記第2の直線19より銅板13の中央側で第2の直線19と平行すると共に、第2の直線19から第2の貫通孔18の中心15bまでに距離より短い位置に延設する第3の直線22上に複数個の第5の貫通孔23の中心15dを有している。この第5の貫通孔23の中心15dは、第3の貫通孔20の中心15cと第4の貫通孔21の中心15d間、及び隣接する第4の貫通孔21の中心15d間の中間に位置し、それぞれとの間で千鳥構造となる位置となっている。なお、第2の直線19と第3の直線22との間隔は、第5の貫通孔23の孔径が第3の貫通孔20や、第4の貫通孔21の孔径と孔径どうしが交差しないと共に、銅板13強度を保持して近接できるような位置に設けている。
なお、上述した、第1、第2、第3の直線16、19、22は、実際に銅板13上に引かれた線ではなく、第1〜第5の貫通孔17、18、20、21、23の中心15a〜15eの位置を特定するための仮想線を意味している。同様に、円弧形状のアール12の中点14、アール12の円弧形状の中心15、及び第1〜第5の貫通孔17、18、20、21、23の中心15a〜15eは、実際に銅板13上に書かれた点ではなく、それぞれの位置を特定するための仮想点を意味している。
上記のパワーモジュール用基板10は、銅板13のコーナーに大きな円弧形状のアール12を設けることができ、パワーモジュール用基板10に冷熱サイクルが付加されて銅板13のコーナーと近接するセラミック基板11角部部分に熱応力が集中して作用したとしても、銅板13接合部の残留応力を分散させることができ、銅板13の角部と近接するセラミック基板11部分に発生するクラックや、強度低下を防止することができる。また、上記のパワーモジュール用基板10は、銅板13のコーナーに円弧形状のアール12を設け、銅板13角部に設ける第1の貫通孔17、及び第2の貫通孔18が銅板13のコーナーから中心部側となったとしても、銅板13の辺部に所定の間隔で設ける第3、第4の貫通孔20、21、及びこれらの間に千鳥形状に設ける第5の貫通孔23を銅板13の直線状の辺部外縁に近接して設けているので、銅板13辺部の縁部と近接するセラミック基板11部分の残留応力を分散でき、セラミック基板11の辺部に発生するクラックや、強度低下を防止することできる。
上記のパワーモジュール用基板10の第1〜第5の貫通孔17、18、20、21、23の孔径は、特に、その大きさを限定するものではなく、また、エッチングの加工精度にも左右されるが、全てが実質的に同一の大きさであるのがよい。銅板13に設ける貫通孔は、全てを同一の孔径とするエッチングマスクを用いて加工することで、加工精度のよい孔径を効率的に作製できると共に、パワーモジュール用基板に冷熱サイクルが付加された時に集中する銅板13の外周囲部分と接合するセラミック基板部分に発生する残留応力を銅板13の外周囲部分に設ける同一の孔径によって全周に渡って効果的に防止することができる。
上記のパワーモジュール用基板10の第1〜第5の貫通孔17、18、20、21、23は、セラミック基板11の両主面にパターンが形成されていない全面銅板を直接接合法や、活性金属ろう材接合法で加熱接合した後、両主面の全面銅板のそれぞれをエッチング加工により形成された孔であるのがよい。セラミック基板11の両主面に接合された全面銅板には、エッチング加工時に、上記の第1〜第5の貫通孔17、18、20、21、23を備えると共に、コーナーに円弧形状のアール12を備える所望の回路パターン状や、ベタ状の銅板13としている。このパワーモジュール用基板10は、所望する銅板13の外周囲に近接する所望する位置に容易に第1〜第5の貫通孔17、18、20、21、23を設けることができ、銅板13の外周囲と近接するセラミック基板11部分に発生する残留応力を全周に渡って防止することができる。
上記のパワーモジュール用基板10は、回路パターン状の中の所定の銅板13上に搭載する半導体素子をボンディングワイヤを介して他の所定の銅板13と電気的に導通状態とし、更に他の銅板13を介して外部と電気的に導通状態としている。そして、パワーモジュール用基板10は、半導体素子に大電流を流すことで発生する高熱をセラミック基板11を介して裏面のベタ状の銅板13側に伝熱し、更にベタ状の銅板13から放熱できるようにしている。このパワーモジュール用基板10は、銅板13に大電流を流すことができるようにするために銅板13の厚みが厚くなっていると共に、セラミック基板11の両主面のそれぞれに銅板13を接合するときのセラミック基板11と銅板13の熱膨張係数差による反りの発生を防止するために裏面のベタ状の銅板13の厚みも同じような厚みとなっている。
本発明のパワーモジュール用基板は、高電圧の電流が流れ、大量の熱を発生する半導体素子を実装し、例えば、インバーター用や、自動車部品用等として用いるためのパワーモジュール用基板に利用することができる。
10:パワーモジュール用基板、11:セラミック基板、12:アール、13:銅板、14:中点、15、15a、15b、15c、15d、15e:中心、16:第1の直線、17:第1の貫通孔、18:第2の貫通孔、19:第2の直線、20:第3の貫通孔、21:第4の貫通孔、22:第3の直線、23:第5の貫通孔

Claims (3)

  1. 四角形状のセラミック基板の両主面のそれぞれに、コーナーに円弧形状のアールを備える1又は複数枚の銅板を接合するパワーモジュール用基板において、
    前記銅板角部の前記アールの中点と前記円弧形状の中心を結ぶ第1の直線上に設けられ、前記アールの中点からの距離が前記円弧形状の中心までの距離より短い位置を中心とする第1の貫通孔と、
    前記銅板角部の前記アールの中点と前記第1の貫通孔の中心を結んで延設する前記第1の直線上に設けられ、前記アールの中点からの距離が前記円弧形状の中心までの距離より長い位置を中心とする第2の貫通孔と、
    前記第1、第2の貫通孔に隣接し前記銅板の直線状の辺部外縁と平行して延設する第2の直線上に設けられ、前記辺部外縁から前記第2の直線上までの距離が前記アールの中点から前記第1の貫通孔の中心までの距離と同等で、且つ前記辺部外縁の延設線から前記第1の貫通孔の中心までの距離より短いと共に、前記第2の貫通孔の中心からの距離が前記第1、第2の貫通孔の中心間距離と同等の位置を中心とする第3の貫通孔と、
    前記銅板の前記辺部外縁と平行して延設する前記第2の直線上の前記銅板の一方の角部と他方の角部に設ける前記第3の貫通孔の中心間に複数個が設けられ、前記第1の貫通孔の中心と前記第3の貫通孔の中心間距離と近似する距離を隣接する中心間距離とする位置を中心とする第4の貫通孔と、
    前記第2の直線より前記銅板の中央側で前記第2の直線と平行すると共に、前記第2の直線から前記第2の貫通孔の中心までの距離より短い位置に延設する第3の直線上に複数個が設けられ、前記第3の貫通孔の中心と前記第4の貫通孔の中心間、及び隣接する前記第4の貫通孔の中心間で千鳥構造となる位置を中心とする第5の貫通孔を有することを特徴とするパワーモジュール用基板。
  2. 請求項1記載のパワーモジュール用基板において、前記第1〜第5の貫通孔の孔径は、実質的に同一であることを特徴とするパワーモジュール用基板。
  3. 請求項1、又は2記載のパワーモジュール用基板において、前記第1〜第5の貫通孔は、前記セラミック基板に前記銅板を接合した後に、エッチング加工により形成された孔であることを特徴とするパワーモジュール用基板。
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