JP2015223641A - 研磨装置 - Google Patents
研磨装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015223641A JP2015223641A JP2014108399A JP2014108399A JP2015223641A JP 2015223641 A JP2015223641 A JP 2015223641A JP 2014108399 A JP2014108399 A JP 2014108399A JP 2014108399 A JP2014108399 A JP 2014108399A JP 2015223641 A JP2015223641 A JP 2015223641A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- waterproof cover
- exterior door
- housing
- arm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 161
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 abstract description 21
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 19
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 36
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
また、本発明は、上記防水カバーの装着し忘れを防止することができるインターロック機構を備えた研磨装置を提供することを目的とする。
本発明によれば、ハウジングの外装扉の内側に防水カバーを設置したため、外装扉にスラリーや洗浄液等が付着することを防止することができる。したがって、外装扉の開閉時にスラリーや洗浄液等がハウジングの外へ漏出することを防止することができる。
本発明によれば、防水カバーは、矩形状等の平板からなり、塩化ビニール等の強度および耐薬品性に優れた樹脂材から構成されている。
本発明によれば、防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を設けたため、たとえ、メンテナンス時に防水カバーを取り外したとしても、メンテナンス後に防水カバーの装着し忘れがない。
本発明によれば、防水カバーの装着し忘れがある場合、インターロック用レバーの一部が突き出しているため、外装扉を閉じようとすると、外装扉の内壁の一部がインターロック用レバーの一部に当接してしまい、外装扉をこれ以上閉じることができない。
本発明によれば、防水カバーを装着していくと防水カバーの下端に押されてインターロック用レバーが回転し、外装扉側に向かって突出していたインターロック用レバーの一部が外装扉側から内側に引っ込むことにより、インターロック機構が解除された状態となり、外装扉を閉じることができる。
(1)ハウジングの外装扉の内側に防水カバーを設置したため、外装扉にスラリーや洗浄液等が付着することを防止することができる。したがって、外装扉の開閉時にスラリーや洗浄液等がハウジングの外へ漏出することを防止することができる。
(2)防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を設けたため、たとえ、メンテナンス時に防水カバーを取り外したとしても、メンテナンス後に防水カバーの装着し忘れがない。
図3は、ハウジング1の要部を示す図であり、ハウジング1に設けられた外装扉3およびその周囲を示す斜視図である。
図3に示すように、図2に示す研磨部20に対応したハウジング1の箇所には、4つの外装扉3が設置されている。4つの外装扉3は一側端においてヒンジ4によってハウジング1に固定されており、図3に示す例においては、隣接する左右2枚の外装扉3,3は、それぞれ逆方向に回転して手前に開く観音開き式になっている。
しかしながら、研磨部20のメンテナンス時に防水カバー6,7を装置外に取り外し、メンテナンスが完了したら防水カバー6,7を装着する必要があるが、防水カバー6,7を装着し忘れる場合がある。その場合には、次の研磨工程において外装扉3の内壁にスラリーや洗浄液等が付着してしまうことになる。
図6に示すように、仮想線(二点鎖線)で示す防水カバー6の前方にはインターロック機構10が設置されている。図6では、防水カバー6が実際には装着されていないときのインターロック機構10の状態を図示しているため、防水カバー6は仮想線(二点鎖線)で示している。図6に示すように、インターロック機構10は、ハウジング1に形成された開口部5の周囲のハウジング側壁1aに取り付けられた支持部材11と、支持部材11に回転可能に支持されたインターロック用レバー12とから構成されている。
図9は、防水カバー6を枠体8に装着する際に防水カバー6の下端6Lがインターロック用レバー12の第1アーム12aの上面に当接した状態を示す斜視図である。
防水カバー6を枠体8の溝8g(図5参照)に嵌め込んで防水カバー6を下方にスライドさせていくと、図9に示すように、防水カバー6の下端6Lはインターロック用レバー12の第1アーム12aの上面に当接する。
防水カバー6を図9に示す状態から更に下方にスライドさせると、図10に示すように、インターロック用レバー12は防水カバー6に押されて時計方向に回転し、第1アーム12aの上面のエッジ部12eが防水カバー6の前面に接触した状態になり、第2アーム12bは支持部材11に形成された切り欠き16に収容される。
防水カバー6の装着が完了した場合、図11に示すように、インターロック用レバー12の第2アーム12bが支持部材11の切り欠き16に収容されているため、第2アーム12bは内側に引っ込んだ状態にある。したがって、図11に示すように、外装扉3を閉じてもインターロック用レバー12の第2アーム12bが外装扉3の内壁に接触することがない。
防水カバー6の枠体8の装着し忘れがある場合、図12に示すように、インターロック用レバー12の第2アーム12bが支持部材11の切り欠き16に収容されないで突き出しているため、外装扉3を閉じようとすると、外装扉3の内壁の一部3aがインターロック用レバー12の第2アーム12bに当接してしまい、外装扉3をこれ以上閉じることができない。したがって、外装扉3は、図12に示すように、半開きの状態となる。
1a ハウジング側壁
2 ロード/アンロード部
3 外装扉
3a 内壁の一部
4 ヒンジ
5 開口部
6 防水カバー
6a 把手
6L 下端
7 防水カバー
7a 把手
8 枠体
8g 溝
10 インターロック機構
11 支持部材
11a 取付部
11b 支持部
11c 支持軸
12 インターロック用レバー
12a 第1アーム
12b 第2アーム
12e エッジ部
13 止め輪
14 ストッパ
15 当て板
16 切り欠き
20 研磨部
21 研磨テーブル
22 研磨パッド
22a 研磨面
23 研磨液供給ノズル
24 シャフト
30 トップリング
31 シャフト
32 支持アーム
35 ドレッシング装置
36 ドレッサアーム
37 ドレッサ
37a ドレッシング部材
38 ドレッサヘッド
39 シャフト
40 アトマイザ
Claims (7)
- 基板を研磨テーブル上の研磨面に押圧して基板の研磨を行なう研磨部がハウジング内に収容された研磨装置であって、
前記ハウジングの外装扉の内側に、装置外に取り外し可能な防水カバーを設けたことを特徴とする研磨装置。 - 前記防水カバーは、樹脂材の平板からなることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
- 前記外装扉は、前記研磨部のメンテナンスが可能なように前記研磨部に対応した位置に設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の研磨装置。
- 前記外装扉の内側への前記防水カバーの装着し忘れを防止するインターロック機構を備えていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の研磨装置。
- 前記インターロック機構は、前記防水カバーの装着し忘れの状態では、前記外装扉の閉じる動作を妨げるインターロック用レバーを備えていることを特徴とする請求項4記載の研磨装置。
- 前記防水カバーの装着し忘れの状態では、前記インターロック用レバーの一部が前記外装扉側に向かって突出していることにより前記外装扉の閉じる動作を妨げることを特徴とする請求項5記載の研磨装置。
- 前記インターロック用レバーは、前記防水カバーを装着していく際に防水カバーの下端に押されて回転し、前記外装扉側に向かって突出していた前記インターロック用レバーの一部が前記外装扉側から内側に引っ込むことにより前記外装扉の閉じる動作を許容することを特徴とする請求項6記載の研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014108399A JP6285800B2 (ja) | 2014-05-26 | 2014-05-26 | 研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014108399A JP6285800B2 (ja) | 2014-05-26 | 2014-05-26 | 研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015223641A true JP2015223641A (ja) | 2015-12-14 |
JP6285800B2 JP6285800B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=54840820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014108399A Active JP6285800B2 (ja) | 2014-05-26 | 2014-05-26 | 研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6285800B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109227397A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-01-18 | 深圳市诺峰光电设备有限公司 | 一种抛光防水机构及抛光机 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07223142A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-08-22 | Ebara Corp | ポリッシング装置 |
JP2003117828A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-23 | Toyoda Mach Works Ltd | 研削盤におけるカバー装置 |
JP2013245901A (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Panasonic Corp | 加熱調理器の扉装置および、それを搭載した加熱調理器 |
-
2014
- 2014-05-26 JP JP2014108399A patent/JP6285800B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07223142A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-08-22 | Ebara Corp | ポリッシング装置 |
JP2003117828A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-23 | Toyoda Mach Works Ltd | 研削盤におけるカバー装置 |
JP2013245901A (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Panasonic Corp | 加熱調理器の扉装置および、それを搭載した加熱調理器 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109227397A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-01-18 | 深圳市诺峰光电设备有限公司 | 一种抛光防水机构及抛光机 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6285800B2 (ja) | 2018-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW471994B (en) | System and method for controlled polishing and planarization of semiconductor wafers | |
KR101814650B1 (ko) | 연마 방법 및 장치 | |
KR20150004100U (ko) | 흡인을 포함하는 폴리싱 패드 컨디셔닝 시스템 | |
US10562150B2 (en) | Polishing apparatus | |
KR20160024818A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2014075388A (ja) | 基板洗浄装置および研磨装置 | |
JP6717691B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2002103201A (ja) | ポリッシング装置 | |
JP2009194134A (ja) | 研磨方法及び研磨装置 | |
CN105500181B (zh) | 抛光处理装置、基板处理装置及抛光处理方法 | |
TW201436936A (zh) | 研磨裝置及研磨方法 | |
JP6285800B2 (ja) | 研磨装置 | |
JP3854083B2 (ja) | 半導体基板製造装置 | |
US20190039203A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2007301661A (ja) | 研磨装置 | |
JP5340792B2 (ja) | 研磨装置 | |
US20060019581A1 (en) | Polishing solution retainer | |
KR100910509B1 (ko) | 반도체 소자의 제조를 위한 cmp 장치 | |
KR101017095B1 (ko) | 기판 연마 장치 | |
JP6346541B2 (ja) | バフ処理装置、および、基板処理装置 | |
JP2003251555A (ja) | ポリッシング方法 | |
US9724798B2 (en) | Cover for component of polishing apparatus, component of polishing apparatus, and polishing apparatus | |
KR100757138B1 (ko) | 웨이퍼 린스유닛을 폴리싱 헤드에 장착한 화학적기계적연마장치 및 웨이퍼 린스방법 | |
KR20100044988A (ko) | 화학적 기계적 연마 장비의 폴리싱 패드 이물질 제거장치 | |
JP2006339665A (ja) | 半導体基板製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6285800 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |