JP2015219878A - 複合icカード及びそれに用いる複合icカード用モジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】複合ICカード用モジュールの結合用コイルのパターンの断線を防ぐとともに複合ICカード用モジュールのカード基材への密着力を強くする。【解決手段】複合ICカードのカード基材の一定の深さの凹部に設置する複合ICカード用モジュールであって、ICチップ用凹部を有し配線パターンが形成された樹脂層で構成されるICチップ用凹部付き配線基板を備え、前記ICチップ用凹部の底面に少なくとも1個のICチップまたはその構造体が実装され、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に、前記カード基材内に埋設された第2結合コイルと電磁結合する結合用コイルのパターンが埋設されることで、該結合用コイルのパターンが前記カード基材に直接には触れない前記複合ICカード用モジュールを製造する。【選択図】図1

Description

本発明は複合ICカードと、それに用いる複合ICカード用モジュールに関する。
従来、接触式の外部接触端子と非接触式の通信との両方の信号伝送が可能ないわゆるデュアルインターフェース式の複合ICカードでは、外部接触端子として機能する導電部材を有するモジュール基板にICチップを実装し、ICチップと導電部材をワイヤーボンディング等により接続し、ICチップ及びワイヤーボンディングを樹脂等により封止した構造の外部接触端子付き複合ICカード用モジュールが用いられる。
この従来の複合ICカード用モジュールをカード基材に実装する場合、カード基材に複合ICカード用モジュールを埋設するための凹部を形成し、この凹部に外部接触端子付き複合ICカード用モジュールを埋設配置する。
従来の複合ICカード用モジュールは、通常凸型形状であり、ICチップの樹脂封止部がモジュール基板の裏面から突出した形状をしている。そのため、複合ICカード用モジュールを埋設するカード基材の凹部も、モジュール基板の寸法の浅い凹部と、ICチップの樹脂封止部の寸法の深い凹部とから成る2段形状に、ミリング加工等により形成する(特許文献1)。
複合ICカード用モジュールでは、モジュール基板の裏面の、樹脂封止部の外側の領域にホットメルト接着シートを仮貼りする。そして、その複合ICカード用モジュールをピックアップ装置等を用いてカード基材の凹部に配置し、プレスヘッドで加熱加圧する熱圧プレスによりカード基材と複合ICカード用モジュールを接着固定していた。
一方で、特許文献2のように、モジュール基板に結合用コイルを設置し、カード基材内に埋設された第2結合コイルと磁界結合させることで、複合ICカード用モジュールとカード基材の配線の間で非接触通信を行う技術が実用化されている。
特開2009−116647号公報 特開平11−149538号公報
特許文献2の方法では、複合ICカード用モジュールのモジュール基板の裏面に結合用コイルのパターンを形成して、その端部をICチップの端子と電気接続させる。このモジュール基板では、裏面の、ホットメルト接着シートを仮貼りする領域に結合用コイルのパターンが露出しているが、その結合用コイルのパターンとホットメルト接着シートとの密着性が悪く、結局、カード基材の凹部から複合ICカード用モジュールが剥離する不具合を生じ易いという問題があった。
また、モジュール基板の裏面の結合用コイルのパターンをエッチングにより形成した際のエッチングの残渣が、ホットメルト接着シートとの接着性を悪くすることでカード基材の凹部から複合ICカード用モジュールを剥離し易くするという問題があった。
また、複合ICカード用モジュールのモジュール基板の裏面に結合用コイルのパターンが露出しているので、複合ICカード用モジュールの搬送の際に、結合用コイルのパターンが断線し易いという問題もあった。
そのため、本発明の課題は、これらの問題を解決した複合ICカード用モジュールを実装した複合ICカードを得ることにある。
本発明は、上記課題を解決するために、複合ICカードのカード基材の一定の深さの凹部に設置する複合ICカード用モジュールであって、ICチップ用凹部を有し配線パターンが形成された樹脂層で構成されるICチップ用凹部付き配線基板を備え、前記ICチップ用凹部の底面に少なくとも1個のICチップまたはその構造体が実装され、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に、前記カード基材内に埋設された第2結合コイルと電磁結合する結合用コイルのパターンが埋設されることで、前記結合用コイルのパターンが前記カード基材に直接には触れないことを特徴とする複合ICカード用モジュールである。
本発明は、この構成により、複合ICカードの製造コストを低くできる効果があり、また、この複合ICカード用モジュールは、複合ICカードのカード基材の凹部に強固に接着できる効果がある。また、本発明は、複合ICカード内に埋設された第2結合コイルと電磁結合する結合用コイルのパターンがカード基材と直接触れることが無いように配置されているので、結合用コイルのパターンが破損しない効果がある。
また、本発明は、上記の複合ICカード用モジュールであって、前記複合ICカード用モジュールに搭載されるICチップまたはその構造体が、前記ICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部の底面の所定位置に配置されることを特徴とする請求項1記載の複合ICカード用モジュールである。
また、本発明は、上記の複合ICカード用モジュールであって、前記ICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部の底面に設けられた複数のフリップチップ実装用接合パッドと、前記ICチップ用凹部付き配線基板のもう一方の面に設けられた複数の外部接触端子を電気的に繋ぐ配線パターンが、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に埋設されることを特徴とする請求項2記載の複合ICカード用モジュールである。
また、本発明は、上記の複合ICカード用モジュールであって、前記ICチップ用凹部付き配線基板の、前記ICチップまたはその構造体が搭載されたICチップ用凹部に凹部充填樹脂が充填されて硬化されていることを特徴とする請求項1記載の複合ICカード用モジュールである。
また、本発明は、結合用コイルのパターンが形成された複合ICカード用モジュールを、第2結合コイルが埋設されたカード基材の一定の深さの凹部に設置して成る複合ICカードであって、前記結合用コイルが前記第2結合コイルと電磁結合し、前記複合ICカード用モジュールが、ICチップ用凹部を有し配線パターンが形成された樹脂層で構成されるICチップ用凹部付き配線基板を備え、前記ICチップ用凹部の底面に少なくとも1個のICチップまたはその構造体が実装され、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に前記結合用コイルのパターンが埋設され、前記カード基材の凹部の底部、又は、前記複合ICカード用モジュールの前記ICチップ用凹部付き配線基板の最外層の少なくとも一方に、コロナ放電処理による易接着表面処理が施されていることを特徴とする複合ICカードである。
本発明では、複合ICカード用モジュールを設置する複合ICカードのカード基材の凹部が一定の深さであるので、その凹部が形成し易く、また、その複合ICカード用モジュールも製造し易いので、複合ICカードの製造コストを低くできる効果がある。
また、本発明では、複合ICカードの凹部側に向けるモジュール基板の裏面にICチップがフリップチップ実装され、そのICチップを囲むモジュール基板の領域に空孔構造シートが接着され、その空孔構造シートの面にホットメルト接着シートが仮貼りされている。そのため、本発明の複合ICカード用モジュールは、複合ICカードのカード基材の凹部に強固に接着できる効果がある。
(a)本発明の第1の実施形態の複合ICカードの概略の平面図である。(b)本発明の第1の実施形態の複合ICカードの概略の断面図である。 (a)本発明の第1の実施形態の複合ICカード用モジュールの概略の上面の平面図である。(b)本発明の第1の実施形態の複合ICカード用モジュールの概略の断面図である。(c)本発明の第1の実施形態の複合ICカード用モジュールの概略の内層の平面図である。 (a)本発明の第1の実施形態のカード基材の断面説明図である。(b)本発明の第1の実施形態のカード基材の平面図である。 本発明の第1の実施形態の複合ICカード用モジュールの製造方法を説明する断面図である。(a)複合ICカード用モジュールに用いるモジュール基板の断面図である。(b)空孔構造シートを接着させた断面図である。(c)ICチップを実装した断面図である。 本発明の第1の実施形態のモジュール基板の製造方法を説明する断面図である(その1)。 本発明の第1の実施形態のモジュール基板の製造方法を説明する断面図である(その2)。 本発明の第2の実施形態のモジュール基板の製造方法を説明する断面図である。 本発明の第2の実施形態の複合ICカード用モジュールの製造方法を説明する断面図である。 本発明の第3の実施形態の複合ICカード用モジュールを説明する断面図である。
<第1の実施形態>
以下、本発明の第1の実施形態を図1から図6を参照しながら説明する。図1(a)は本発明の第1の実施形態の複合ICカードの概略の平面図を示し、図1(b)は、その断面図を示す。また、図2(a)に、複合ICカードのカード基材1に埋め込むデュアル方式の複合ICカード用モジュール2の上面図を示し、図2(b)にその側断面図を示す。図3は、カード基材1の構造を示す図である。
(複合ICカード)
図1に示すように、本実施形態に係る複合ICカードは、金属薄膜のパターンで形成したアンテナコイル3と第2結合コイル3aと容量性素子3cを持つアンテナシート1cを内層に有するカード基材1を備える。カード基材1には一定の深さの凹部4を形成し、その凹部4に、接触と非接触を兼用するデュアル方式の複合ICカード用モジュール2を埋め込んで複合ICカードを製造する。
複合ICカードは、図1(a)のように、表面に接触式の外部接触端子5を有するとともに、非接触でリーダ/ライタと通信するアンテナコイル3を有する。
(ICモジュール)
カードの凹部4に埋め込む複合ICカード用モジュール2は、図2のように、接触型伝達機能と非接触型伝達機能との双方の機能を有するICチップ6を、接触型伝達素子である外部接触端子5と非接触伝達素子である結合用コイル11とが形成されたモジュール基板10に実装して、また、ICチップ6の側面の周囲のモジュール基板10の領域には空孔構造シート18を接着して複合ICカード用モジュール2を製造する。
そして、モジュール基板10の表層には、図2(a)のように、外部の読取装置と接触通信するための接触型伝達部(外部端子)である外部接触端子5のパターンを導電部材で形成し、内層には、図2(c)のように、アンテナシート1cの第2結合コイル3aと磁界結合する非接触型伝達部である結合用コイル11のパターンを形成する。
外部接触端子5のパターンは、図2(b)のように、ヴィアホール12aを介してモジュール基板10の裏面のバンプ接続端子13まで引き出す。また、結合用コイル11の両端部も同様に、ヴィアホール12bを介してモジュール基板10の裏面のバンプ接続端子13bまで引き出す。
モジュール基板10の裏面に、図2(b)のように、空孔構造シート18を接着してICチップ用凹部付き配線基板を製造する。そして、そのICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部の底に露出するモジュール基板10の裏面に、接触型インターフェースと非接触型インターフェースとを内蔵したICチップ6をフリップチップ実装することで、ICチップ6の接続バンプ14をモジュール基板10のバンプ接続端子13、13bに電気接続して複合ICカード用モジュール2を形成する。
(カード基材)
図3(a)に複合ICカードで用いるカード基材1の側断面図を示し、図3(b)に平面図を示す。カード基材1は、図3(a)のように、30μm〜100μm厚のアンテナシート1cの両面に、100μm〜150μmの厚さのコア基材1aと、その外側に、厚さが300μm程度の外装基材1bとの2層の基材を積層したものをカード基材1として用いる。また、カード基材1は、アンテナシート1cの両面に、単層の基材を積層して形成しても良い。
カード基材1のこれらの材料は白色または透明なものを用いることができる。カード基材1の厚みは特に限定するものではないが、総厚で0.76±0.08mm以下であればJISX6301を満たし、クレジットカード、キャッシュカード、IDカードなどに適用できるため好ましい。
(アンテナシート)
アンテナシート1cに、図3(b)のようにアンテナコイル3の導体パターンと第2結合コイル3aの導体パターンを形成する。アンテナコイル3は、アンテナシート1cのスルーホール3bを介してアンテナシート1cの表面から裏面へ配線を接続する。そして、アンテナシート1cの表面と裏面で対向させた幅広パターンによって容量性素子3cを形成して、その容量性素子3cとアンテナコイル3のインダクタンスによる共振回路を形成する。
ここで、アンテナシート1cの基材としては、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等が使用できる。
カード基材1のコア基材1aには、強度がある熱可塑性高分子樹脂の、グリコール変性
ポリエチレンテレフタレート(PETG)、ポリ塩化ビニル(PVC)を用いることができる。
外装基材1bには、強度がある熱可塑性高分子樹脂の、グリコール変性ポリエチレンテレフタレート(PETG)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等を用いることができる。中でも、塩素を含まない非結晶性ポリエステル系樹脂を用いる構成が、環境配慮の点から好ましい。
そして、アンテナシート1cの両面に、例えばPETGのコア基材1aとその外側にPETの外装基材1bとの2層の基材を積層した状態で、130℃、30分熱プレスすることで、アンテナシート1cとコア基材1aと外装基材1bとを一体化したカード基材1を得る。
(カード基材の凹部)
そして、図3(a)のように、カード基材1に、複合ICカード用モジュール2を埋設するための凹部4をミリング加工、切削加工等により形成する。凹部4は、例えば。縦8mm×横7.7mm、深さを0.63mmの一定の深さに形成する。
(モジュール基板)
図4(a)は、本実施形態で複合ICカード用モジュール2を製造する主要な構成部品であるモジュール基板10の断面図である。モジュール基板10はビルドアップ基板であって、モジュール基板10の内層に結合用コイル11を形成し、その結合用コイル11両端部をヴィアホール12b、12aを介してモジュール基板10の裏面のバンプ接続端子13に電気接続する。
モジュール基板10は、カード基材1の凹部4に埋め込まれる寸法に複合ICカード用モジュール2を形成するために、その寸法を縦横が11.8×13mm程度に形成し、厚みを100〜170μm程度にする。
モジュール基板10の基材は、ガラス−エポキシ基板のFR4やBTレジンなどの熱硬化性樹脂やポリイミドなどの絶縁体(誘電体、磁性体)あるいは液晶ポリマなどを用いることができる。
本実施形態に係るモジュール基板10は、図4(a)のように、下層に露出させた配線パターンであるバンプ接続端子13、13bの下面をモジュール基板10の絶縁層の下面と同一平面に形成する。
モジュール基板10のバンプ接続端子13と13bの下面に接続バンプ14を介してICチップ6の端子を電気接続する。そして、そのICチップ6とモジュール基板10の間隙にアンダーフィル樹脂を充填するフリップチップ実装を行う。
その際に、モジュール基板10のバンプ接続端子13と13bの下面をモジュール基板10の絶縁層の下面と同一平面に形成したことで、そのフリップチップ実装のアンダーフィル樹脂の、ICチップ6とモジュール基板10の間隙への流入がスムーズに行える効果がある。
(モジュール基板とICモジュールの製造)
次に、本実施形態のモジュール基板10の製造方法を工程順に示す断面図の図5と図6と、図4と図2を参照して、モジュール基板10及び複合ICカード用モジュール2の製造方法について説明する。
(ステップS1)
先ず、図5(a)のように、金属又は合金、例えばCuからなる支持基板20を用意し、図5(b)のように、支持基板20の上にレジスト15を形成し、図5(c)のようにパターニングする。
(ステップS2)
次に、図5(d)のように、電解金属めっき法により、レジスト15の開口部に、先ず、例えばNi、Au又はPdの厚さが0.1乃至7.0μmエッチングバリア層を形成する。そして、その上層に、バンプ接続端子13、13bの本体の銅めっきパターンを厚さが2乃至20μmに形成する。
(ステップS3)
次に、図5(e)のように、レジスト15を除去する。
(ステップS4)
次に、図5(f)のように、バンプ接続端子13、13bの導体配線層を覆うように、基体絶縁層16aを形成する。基体絶縁層16aは、絶縁樹脂層を支持基板20上に形成した後にその絶縁樹脂層を硬化させて、厚さを例えば2乃至20μmに形成する。
(ステップS5)
そして、図6(g)のように、バンプ接続端子13、13bの直上の基体絶縁層16aの部分に、レーザ加工法により直径が40μm程度のヴィアホール穴12を形成する。
(ステップS6)
次に、図6(h)に示すように、電解銅めっき処理によってヴィアホール穴12内に銅めっき層を埋め込んだヴィアホール12aを形成すると共に、基体絶縁層16aの上面に上層配線17aを形成する。
(ステップS7)
次に、ステップS4と同様に、図6(i)のように、上層配線17aを覆う基体絶縁層16bを形成する。
(ステップS8)
次に、ステップS5と同様にして、上層配線17aの直上の基体絶縁層16bの部分に、レーザ加工法により直径が40μm程度のヴィアホール穴12を形成する。
(ステップS9)
次に、ステップS6と同様にして、図6(j)のように、そのヴィアホール穴12内に銅めっき層を埋め込んだヴィアホール12bを形成すると共に、基体絶縁層16bの上面に結合用コイル11のパターンを形成する。
このとき、結合用コイル11のパターンはヴィアホール12bと12aを介してバンプ接続端子13bに接続される。
(ステップS10)
次に、図6(k)のように、結合用コイル11を覆うように基体絶縁層16cを形成する。
(ステップS11)
次に、ステップS5と同様にして、結合用コイル11の端部の直上の基体絶縁層16cの部分に、レーザ加工法により直径が40μm程度のヴィアホール穴12を形成する。
(ステップS12)
次に、ステップS6と同様にして、図6(l)のように、そのヴィアホール穴12内に銅めっき層を埋め込んだヴィアホール12cを形成すると共に、基体絶縁層16cの上面にヴィアホール12cと電気接続する外部接触端子5のパターンを形成する。
このとき、外部接触端子5のパターンはヴィアホール12cと12bと12aを介してバンプ接続端子13に接続される。
(ステップS13)
次に、図4(a)のように、化学的エッチング又は研磨により、支持基板20を除去する。
(ステップS14)
次に、図4(b)のように、接着剤19を張り合わせた樹脂基板にルータ加工やパンチ加工等で、ICチップ6を埋め込む領域の開口18aを形成した空孔構造シート18を製造する。
空孔構造シート18の厚さはICカードの厚さを考慮して決めるが、概ね50μm以上300μm以下の厚さの空孔構造シート18を用いる。空孔構造シート18の材質は、コア基材1aと同質の、強度がある熱可塑性高分子樹脂の、グリコール変性ポリエチレンテレフタレート(PETG)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリ塩化ビニル(PVC)を用いることが望ましい。また、その他に、ポリイミド、ポリアミド、ガラス繊維エポキシ樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等を空孔構造シート18に用いることもできる。
この空孔構造シート18には、コロナ放電処理により、易接着表面処理を施して用いる。易接着表面処理は、コロナ放電処理の他に、サンドブラスト、プラズマ処理によって施しても良い。そして、その空孔構造シート18をモジュール基板10に接着剤19で張り合わせる。易接着表面処理を施した空孔構造シート18を用いることで、その空孔構造シート18と接着剤19との接着強度を増大させる。また、空孔構造シート18とカード基材1の凹部4との間に積層するホットメルト接着シート8と空孔構造シート18との接着強度を増大させる効果がある。
以上のように、ICチップ6を埋め込む領域の開口18aを形成した空孔構造シート18を、接着剤19によりモジュール基板10に強固に接着させることで、開口18aをICチップ用凹部としたICチップ用凹部付き配線基板を製造する。すなわち、空孔構造シート18の表面の高さをモジュール基板10への実装後のICチップ6の表面の高さ程度に形成したICチップ用凹部付き配線基板を製造する。
また、カード基材1の凹部4に、コロナ放電処理により、易接着表面処理を施して用いることが望ましい。このように、カード基材1の凹部4にコロナ放電処理により易接着表面処理を施すか、あるいは、ICチップ用凹部付き配線基板の空孔構造シート18にコロナ放電処理により易接着表面処理を施すことで、ICチップ用凹部付き配線基板とカード基材1の凹部4とをホットメルト接着シート8で強く接着させることができる効果がある。
ICチップ用凹部付き配線基板の凹部の底部に露出したモジュール基板10の面へIC
チップ6を実装して複合ICカード用モジュール2を製造することで、そうして製造した複合ICカード用モジュール2厚さを薄くできる。
そのように複合ICカード用モジュール2を薄く形成することにより、その複合ICカード用モジュール2を埋め込むカード基材1の凹部4の深さも浅くできる。それにより、複合ICカードを製造するコストを低減できる効果がある。
(ステップS15)
次に、図4(c)のように、ICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部(空孔構造シート18の開口18aの部分)の底部に露出した面のモジュール基板10のバンプ接続端子13と13bに接続バンプ14を介してICチップ6の端子を電気接続する。そして、そのモジュール基板10の面とICチップ6の面との間隙にアンダーフィル樹脂(図示せず)を流し込んで充填させて、次に硬化させるフリップチップ実装を行う。これにより、接続バンプ14がアンダーフィル樹脂に埋め込まれる。
(変形例1)
ここで、ICチップ6の各端子をスタットバンプで形成し、それを接続バンプ14としても良く、そのスタッドバンプを異方性導電性膜により、モジュール基板10のバンプ接続端子13及び13bと電気接続させて複合ICカード用モジュール2を製造することもできる。
ICチップ6の各端子のスタットバンプは、スタッド金バンプで形成することができ、また、電解金めっきによりバンプを形成しても良い。
(変形例2)
また、ICチップ6の各端子のスタットバンプは、超音波溶接でモジュール基板10のバンプ接続端子13及び13bに接合させることもできる。超音波溶接の条件は、40kHzの周波数で振幅が4μm程度で1秒程度の時間の超音波印加によりICチップ6の各端子のスタットバンプをモジュール基板10のバンプ接続端子13及び13bに接合させる。その次に、ICチップ6とモジュール基板10の間隙にアンダーフィル樹脂を流し込んで充填させて、次に硬化させるフリップチップ実装を行う。
(ステップS16)
次に、図4(d)のように、ICチップ6とICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部(空孔構造シート18の開口18a)との間隙に、液状の熱硬化性の凹部充填樹脂7を充填して加熱硬化させることで、ICチップ6と空孔構造シート18の開口18aの隙間を凹部充填樹脂7で塞ぐ。
こうしてモジュール基板10の中央に、モジュール基板10より面積が小さいICチップ6を実装して、平板形状に複合ICカード用モジュール2を形成する。
(ステップS16)
カード基材1に設けた凹部4への複合ICカード用モジュール2の実装は、先ず、図2(b)のように、複合ICカード用モジュール2の空孔構造シート18側の面に熱溶融性のホットメルト接着シート8を仮貼りする。
(ホットメルト接着シート)
ホットメルト接着シート8には、その片面に、グラシン紙、クレーコート紙、クラフト紙、ポリラミ原紙、樹脂コーティング原紙などの剥離紙を設けた状態で保管する。
そして、ホットメルト接着シート8をモジュール基板10に接着する際には、剥離紙の設けられていない面をモジュール基板10の面に載置して、ホットメルト接着シート8の剥離紙側から熱を加えながら圧着することにより、ホットメルト接着シート8をモジュール基板10の背面(空孔構造シート18とICチップ6の側の面)に仮貼りする。
こうして、剥離紙の設けられたホットメルト接着シート8を空孔構造シート18側の面に仮貼りした状態で複合ICカード用モジュール2を製造して、その複合ICカード用モジュール2を保管する。
(ステップS17:カード基材へのICモジュールの埋設)
次に、図1(b)のように、ピックアップ装置などにより複合ICカード用モジュール2を、ホットメルト接着シート8の剥離紙を剥がした上で、ピックアップ装置を用いてカード基材1の凹部4内に設置する。次に、プレスヘッドを下降させて、複合ICカード用モジュール2を熱圧プレスする。これにより、ホットメルト接着シート8を溶融させて複合ICカード用モジュール2をカード基材1の凹部4に強固に本接着する。この時のプレス条件は、例えば、プレスヘッドの温度180℃、プレス圧力30N、プレス時間10秒で行う。
ここで、複合ICカード用モジュール2の空孔構造シート18の表面にコロナ放電、サンドブラスト、プラズマ処理等によって、易接着表面処理を施しておくか、あるいは、カード基材1の凹部4にコロナ放電処理により易接着表面処理を施しておくことで、この熱ラミネート処理により、空孔構造シート18がホットメルト接着シート8によりカード基材1の凹部4に強固に接着される効果がある。
また、このカード基材1にザグリで形成すべき凹部4は、図3(a)のように様な深さを持つ単純な形状に形成するので、複合ICカードの製造コストを低減できる効果がある。
また、カード基材1の凹部4に埋め込むモジュール基板10の、凹部4の底面側の面は、広い平面状の面に形成されるので、埋め込むモジュール基板10の面とカード基材1の凹部4の底面との接着強度が高く長期信頼性の優れた複合ICカードが得られる効果がある。
(結合用コイルと第2結合コイルによる信号伝送)
本実施形態において、複合ICカード用モジュール2の結合用コイル11はカード基材1の第2結合コイル3aに接近させて配置する。
以上の構成からなる複合ICカードにおいて、複合ICカード用モジュール2の結合用コイル11がカード基材1の第2結合コイル3aと電磁結合している。それにより、複合ICカード用モジュール2と第2結合コイル3aに接続するアンテナコイル3間で電気信号を伝送する。それゆえ、複合ICカードのリーダライタから放射されてアンテナコイル3で受信された高周波信号が第2結合コイル3aから電磁誘導で結合用コイル11に伝送されてICチップ6に伝送される。一方、ICチップ6からの応答信号が結合用コイル11から電磁誘導で第2結合コイル3aに伝達され、その信号がアンテナコイル3からリーダライタに放射される。
<第2の実施形態>
以下、本発明の第2の実施形態を図7と図8を参照して説明する。本実施形態でも、第1の実施形態と同様に、図3のようなカード基材1に図2のような複合ICカード用モジュール2を埋め込んで、図1のような複合ICカードを製造する。
(モジュール基板とICモジュールの製造)
次に、本実施形態のモジュール基板10の製造方法を、図7と図8の断面図を参照して説明する。
(ステップS1)
先ず、図7(a)のように、FR4等のガラスエポキシ基板やガラスフェノール基板等の有機基板から成るコア基板30にドリルで貫通孔をあけ、その貫通孔とコア基板30の前面に金属めっきすることで、貫通孔の壁面にスルーホールめっき導体31を形成する。
(ステップS2)
次に、図7(b)のように、貫通孔内に穴埋め剤32を充填して貫通孔を塞ぎ、コア基板30の全面を研磨して平坦化するとともにスルーホールめっき導体31の端部をコア基板30の表面に露出させる。。
(ステップS3)
図7(c)のように、コア基板30の全面に金属めっき層を形成して、貫通孔に充填した穴埋め剤32の表面を金属めっきで塞ぐ。
(ステップS4)
図7(d)のように、コア基板30の全面の金属めっき層の上にエッチングレジストのパターンを形成した金属めっき層をエッチングして、次にエッチングレジストを除去することで、結合用コイル11のパターンと、スルーホールを塞ぐランドパターン33を形成する。
(ステップS5)
次に、図7(e)のように、コア基板30の結合用コイル11のパターンとランドパターン33を覆うように、厚さ20μmの樹脂膜で、基体絶縁層16cと基体絶縁層16aをコア基板30の両面に形成する。基体絶縁層16cと16aは、コア基板30上に形成した絶縁樹脂層を後に硬化させて、厚さを例えば2乃至20μmに形成する。
(変形例3)
このステップS5の製造工程を以下の製造工程に置き換えて製造することもできる。
(ステップS5a)
次に、コア基板30の結合用コイル11のパターンとランドパターン33を覆うように、厚さ50μmの半硬化状態のFR4基板等の外側に厚さ15μmの銅箔を接着した基体絶縁層16cと16aをコア基板30の両面に重ねて、積層プレスで加熱・加圧することで半硬化の絶縁樹脂層を硬化させる。
(ステップS5b)
その基板の表面のヴィアホール穴12を形成する領域の銅箔をエッチングで除去する。
(ステップS6)
そして、図7(f)のように、ランドパターン33の位置の基体絶縁層16aと16cの部分に、レーザ加工法により直径が40μm程度のヴィアホール穴12を形成する。
(ステップS7)
次に、図8(g)に示すように、電解銅めっき処理によってヴィアホール穴12内に銅めっき層を埋め込んだヴィアホール12aと12cを形成すると共に、基体絶縁層16a
の下面にバンプ接続端子13及び13bのパターンを形成し、基体絶縁層16cの上面に外部接触端子5のパターンを形成する。
(ステップS8)
次に、第1の実施形態と同様にして、図8(h)のように、複合ICカード用モジュール2の凹部4用の開口18aを形成した空孔構造シート18を製造する。そして、その空孔構造シート18をモジュール基板10に接着剤19で張り合わせることで、ICチップ用凹部付き配線基板を製造する。
(ステップS9)
次に、第1の実施形態と同様にして、図8(i)のように、ICチップ用凹部付き配線基板の凹部の底部に露出したモジュール基板10の面のバンプ接続端子13と13bのに接続バンプ14を介してICチップ6の端子を電気接続するフリップチップ実装を行い、モジュール基板10の中央に、モジュール基板10より面積が小さいICチップ6を実装して、平板形状に複合ICカード用モジュール2を形成する。
(ステップS10)
次に、第1の実施形態と同様にして、図8(j)のように、ICチップ6とICチップ用凹部付き配線基板の凹部との隙間、すなわち、空孔構造シート18の開口18aとの隙間に、液状の熱硬化性の凹部充填樹脂7を充填して加熱硬化させることで、ICチップ6と空孔構造シート18の開口18aの隙間を凹部充填樹脂7で塞ぐ。
(ステップS11)
次に、第1の実施形態と同様にして、図2(b)のように熱溶融性のホットメルト接着シート8を複合ICカード用モジュール2に仮貼りする。
(ステップS12)
次に、第1の実施形態と同様にして、図1(b)のように複合ICカード用モジュール2をカード基材1の凹部4内に固定配置する。
<第3の実施形態>
第3の実施形態は、図9のように複合ICカード用モジュール2の結合用コイル11のパターンをモジュール基板10の裏面の表面に形成する。その結合用コイル11のパターンは空孔構造シート18によって被覆する。第3の実施形態は、第2の実施形態と同様な製造方法で製造することができる。
第3の実施形態は、結合用コイル11のパターンが空孔構造シート18によって被覆・保護される効果がある。
<実施例1>
コロナ放電処理をした空孔構造シート18をモジュール基板10に貼り合わせ、その空孔構造シート18の開口aの領域のモジュール基板10にICチップ6をフリップチップ実装し、空孔構造シート18の表面にホットメルト接着シート8を仮貼りした複合ICカード用モジュール2を製造した。
そして、カード基材1のコア基材1aと外装基材1b、及び、複合ICカード用モジュール2の空孔構造シート18にグリコール変性ポリエチレンテレフタレート(PETG)を用いた。その空孔構造シート18の裏面にホットメルト接着シート8を仮貼りした。
そのカード基材1にミリング加工で一定の深さの凹部4を形成した。そして、ホットメルト接着シート8の剥離紙を剥がした複合ICカード用モジュール2を、その凹部4に埋め込み、温度180℃のプレスヘッドで複合ICカード用モジュール2の表面からプレス圧力30Nを10秒加えて熱プレスして、カード基材1の凹部4に複合ICカード用モジュール2を埋め込んで複合ICカードを製造した。
<比較例1>
本発明の実施例との比較のために、モジュール基板10の片面にICチップ6をフェイスアップで設置し、ワイヤーボンディングでICチップ6の端子とモジュール基板10の配線パターンを電気接続した。
そのICチップ6を樹脂でモールドして、モジュール基板10とモールド樹脂部との2段の高さを持つICモジュールを製造した。
そのICモジュールの2段の高さに合わせた2段の深さの凹部をカード基材1にミリング加工で形成した。
その凹部に複合ICカード用モジュール2を埋め込み、複合ICカード用モジュール2のモジュール基板10部分とカード基材1の凹部の1段目の底をホットメルトタイプのホットメルト接着シートで接着する熱プレスを加えて積層した複合ICカードを製造した。
<評価結果>
実施例1と比較例1の複合ICカードの、カード基材1の凹部4と複合ICカード用モジュール2の接着強度を比較した。試験方法として、カード基材1の表面に露出したICモジュールの面に粘着テープを貼り付けて粘着テープを引き剥がすピーリング試験を行って比較した。このピーリング試験では、比較例1では、複合ICカード用モジュール2がホットメルト接着シートから剥がれた。
一方、実施例1では、複合ICカード用モジュール2が、ホットメルト接着シート8からは剥がれず、複合ICカード用モジュール2をカード基材1から剥がす場合にカード基材1の材料が破壊されるに至った。
以上の結果より、実施例1の複合ICカード用モジュール2は比較例1のICモジュールと比較して、カード基材1からの剥離が生じにかった。また、本実施例の複合ICカード用モジュール2は、配線パターンがICチップ用凹部付き配線基板内に埋設されていることから、配線パターンが断線しにくかった。
1・・・・カード基材
1a・・・コア基材
1b・・・外装基材
1c・・・アンテナシート
2・・・・複合ICカード用モジュール
3・・・アンテナコイル
3a・・・第2結合コイル
4・・・・凹部
5・・・・外部接触端子
6・・・ICチップ
7・・・凹部充填樹脂
8・・・ホットメルト接着シート
10・・・・モジュール基板
11・・・結合用コイル
12・・・ヴィアホール穴
12a、12b、12c・・・ヴィアホール
13、13b・・・バンプ接続端子
14・・・接続バンプ
15・・・レジスト
16a・・・基体絶縁層
17a・・・上層配線
18・・・空孔構造シート
18a・・・開口(ICチップ用凹部)
19・・・接着剤
20・・・支持基板
30・・・コア基板
31・・・スルーホールめっき導体
32・・・穴埋め剤
33・・・ランドパターン

Claims (5)

  1. 複合ICカードのカード基材の一定の深さの凹部に設置する複合ICカード用モジュールであって、ICチップ用凹部を有し配線パターンが形成された樹脂層で構成されるICチップ用凹部付き配線基板を備え、前記ICチップ用凹部の底面に少なくとも1個のICチップまたはその構造体が実装され、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に、前記カード基材内に埋設された第2結合コイルと電磁結合する結合用コイルのパターンが埋設されることで、前記結合用コイルのパターンが前記カード基材に直接には触れないことを特徴とする複合ICカード用モジュール。
  2. 前記複合ICカード用モジュールに搭載されるICチップまたはその構造体が、前記ICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部の底面の所定位置に配置されることを特徴とする請求項1記載の複合ICカード用モジュール。
  3. 前記ICチップ用凹部付き配線基板のICチップ用凹部の底面に設けられた複数のフリップチップ実装用接合パッドと、前記ICチップ用凹部付き配線基板のもう一方の面に設けられた複数の外部接触端子を電気的に繋ぐ配線パターンが、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に埋設されることを特徴とする請求項2記載の複合ICカード用モジュール。
  4. 前記ICチップ用凹部付き配線基板の、前記ICチップまたはその構造体が搭載されたICチップ用凹部に凹部充填樹脂が充填されて硬化されていることを特徴とする請求項1記載の複合ICカード用モジュール。
  5. 結合用コイルのパターンが形成された複合ICカード用モジュールを、第2結合コイルが埋設されたカード基材の一定の深さの凹部に設置して成る複合ICカードであって、前記結合用コイルが前記第2結合コイルと電磁結合し、前記複合ICカード用モジュールが、ICチップ用凹部を有し配線パターンが形成された樹脂層で構成されるICチップ用凹部付き配線基板を備え、前記ICチップ用凹部の底面に少なくとも1個のICチップまたはその構造体が実装され、前記ICチップ用凹部付き配線基板内に前記結合用コイルのパターンが埋設され、前記カード基材の凹部の底部、又は、前記複合ICカード用モジュールの前記ICチップ用凹部付き配線基板の最外層の少なくとも一方に、コロナ放電処理による易接着表面処理が施されていることを特徴とする複合ICカード。
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