JP2015216006A - マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置 - Google Patents

マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015216006A
JP2015216006A JP2014097782A JP2014097782A JP2015216006A JP 2015216006 A JP2015216006 A JP 2015216006A JP 2014097782 A JP2014097782 A JP 2014097782A JP 2014097782 A JP2014097782 A JP 2014097782A JP 2015216006 A JP2015216006 A JP 2015216006A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
magnetron
compound
electride
electride compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2014097782A
Other languages
English (en)
Inventor
俊成 渡邉
Toshinari Watanabe
俊成 渡邉
宮川 直通
Naomichi Miyagawa
直通 宮川
伊藤 和弘
Kazuhiro Ito
和弘 伊藤
暁 渡邉
Akira Watanabe
暁 渡邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2014097782A priority Critical patent/JP2015216006A/ja
Publication of JP2015216006A publication Critical patent/JP2015216006A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Microwave Tubes (AREA)

Abstract

【課題】放射性物質を使用せずに、従来に比べて有意に良好な効率で電子を放出させることが可能な、マグネトロンの陰極を提供する。
【解決手段】マグネトロンの陰極であって、C12A7エレクトライド化合物を有することを特徴とする陰極。
【選択図】図2

Description

本発明は、マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置に関する。
マイクロ波加熱装置およびマイクロ波通信装置などに用いられるマイクロ波は、マグネトロン(磁電管)により発生させることができる。
マグネトロンは、二極真空管の一種であり、電子源である陰極、電子を捕集する陽極、これらの電極を真空雰囲気に保持するための容器、および放出された電子の運動を制御するための磁石などの磁界発生器から構成される。
陰極から放出された電子は、電場によって加速され、磁場によって曲げられる。磁場が大きくなると、電子が陽極に到達することは難しくなるが、電子の到達/未到達の境界付近では、陽極電流に振動が生じる。マグネトロンでは、この振動を陽極側に設けた空洞で共振させ、これによりマイクロ波を取り出すことができる。
このようなマグネトロンには、電子放出原理に着目した場合、熱電子放出方式および電界電子放出方式の2つのタイプがある。このうち、熱電子放出方式は、熱エネルギーを利用して、陰極中の電子を真空中に取り出す方式である。この方式では、陰極材料として、例えば、仕事関数の低い酸化トリウムを含むタングステンがフィラメントコイル状に加工されて使用される(特許文献1、2)。
これに対して、電界電子放出方式では、陰極に高電界を印加して、陰極材料のポテンシャル障壁を下げることにより、トンネル効果を利用して、電子を真空中に取り出す。この方式では、陰極の特に電子放出部での電界の集中を生じやすくするため、陰極に、スピント型(円錐状)の形状を有する材料が使用される(特許文献3)。
特開昭58−80242号公報 国際公開第WO2013/094185号 特開平8−78153号公報
前述のように、熱電子放出方式のマグネトロンの陰極には、仕事関数を下げるため、酸化トリウムのような放射性物質が使用される。しかしながら、このような放射性物質は、取扱に高度な管理および注意が必要となる。また、陰極の形状、すなわちフィラメントコイル形状は、比較的破断が生じやすく、寿命の点で問題がある。
一方、電界電子放出方式のマグネトロンの陰極には、カーボンナノチューブおよびケイ素のような材料が使用される。しかしながら、カーボンナノチューブおよびケイ素の仕事関数は、それぞれ、4.6eVおよび4.1eV程度であり、これらは、酸化トリウムの仕事関数(2.6eV)に比べると、比較的高い。このため、陰極にこれらの材料を使用した場合、放出電子の量が不十分となり、現実的な効率でマグネトロンを作動させることは難しいという問題がある。
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、放射性物質を使用せずに、従来に比べて有意に良好な効率で電子を放出させることが可能な、マグネトロンの陰極を提供することを目的とする。また、本発明では、そのような陰極を有するマグネトロン、およびマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。
本発明では、マグネトロンの陰極であって、
C12A7エレクトライド化合物を有することを特徴とする陰極が提供される。
また、本発明では、マグネトロンの陰極であって、
当該陰極は、電界電子放出方式の第1の陰極部分と、熱電子放出方式の第2の陰極部分とを有し、
前記第1の陰極部分および第2の陰極部分は、C12A7エレクトライド化合物を有することを特徴とする陰極が提供される。
さらに、本発明では、陰極および陽極を有するマグネトロンであって、
前記陰極は、前述のような陰極であることを特徴とするマグネトロンが提供される。
さらに、本発明では、マグネトロンを備えるマイクロ波加熱装置であって、
前記マグネトロンは、前述のようなマグネトロンであることを特徴とするマイクロ波加熱装置が提供される。
本発明では、放射性物質を使用せずに、従来に比べて有意に良好な効率で電子を放出させることが可能な、マグネトロンの陰極を提供することができる。また、本発明では、そのような陰極を有するマグネトロン、およびマイクロ波加熱装置を提供することができる。
従来のマグネトロンの陰極の構成を模式的に示した図である。 本発明の一実施例によるマグネトロンの陰極の構成を模式的に示した図である。 本発明の一実施例による別のマグネトロンの陰極の構成を模式的に示した図である。 陰極における円筒部材の別の構成例を模式的に示した図である。 本発明の一実施例によるさらに別のマグネトロンの陰極の構成を模式的に示した図である。 第2の陰極に含まれる円筒部材の製造フローを模式的に示した図である。 第2の陰極に含まれる円筒部材の製造工程の一態様を模式的に示した図である。 第2の陰極に含まれる円筒部材の製造工程の一態様を模式的に示した図である。 第2の陰極に含まれる円筒部材の製造工程の一態様を模式的に示した図である。
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
(従来のマグネトロンの陰極について)
まず、本発明の特徴および効果をより良く理解するため、図1を参照して、従来のマグネトロンの陰極の構成について簡単に説明する。
図1には、従来のマグネトロンの陰極の構成を模式的に示す。このマグネトロンの陰極は、前述の特許文献2に記載されたものであり、いわゆる熱電子放出方式の陰極である。
図1に示すように、従来のマグネトロンの陰極1は、センターリード2と、該センターリード2の上端に接合されたトップハット3と、サイドリード4と、該サイドリード4の上端に接合されたエンドハット5と、フィラメントコイル6とを備える。 エンドハット5は、センターリード2の軸方向にトップハット3と対向して配設される。また、フィラメントコイル6は、トップハット3とエンドハット5の間に配置される。
フィラメントコイル6は、酸化トリウムを含むタングステン等で構成される。
このような熱電子放出方式の陰極1は、放射性物質である酸化トリウムを含むため、取扱に高度な管理および注意が必要となる。特に、材料の輸送時や保管の際には、大量の放射性物質を取り扱うことになり、このような材料は、工業上好ましくはない。
また、フィラメントコイル6は、部材の抵抗を高めるため、比較的細い線で構成される。このため、フィラメントコイル6は、比較的破断が生じやすく、寿命の点で問題がある。
一方、マグネトロンの電子放出方式には、図1に示したような熱電子放出方式の他、電界電子放出方式と呼ばれる方式がある。この電界電子放出方式では、陰極に高電界を印加することにより、電子放出が行われる。
電界電子放出方式を使用した場合、陰極の加熱が理論上不要となり、陰極への電圧の印加直後から、電子放出を発生させることができる。
ここで、電子放出の量、すなわち放出電流密度i(A/m)は、以下に示すような、Fowler−Nordheimの式((1)式)で表される:
Figure 2015216006
ここで、
Figure 2015216006
であり、φ(eV)は仕事関数であり、E(V/m)は電界、すなわち表面電場である。
これらの式から、放出電流密度iは、電界Eおよび材料の仕事関数φに依存することがわかる。
なお、引用文献3には、電界電子放出方式の陰極に、ケイ素(n型)またはカーボンナノチューブを使用することが記載されている。
しかしながら、ケイ素およびカーボンナノチューブの仕事関数φは、それぞれ、4.6eVおよび4.1eVと比較的高いことが知られている。従って、このような比較的仕事関数φの大きな材料を陰極に使用した場合、電界を印加した際に実際に得られる放出電流密度iが、非現実的な値にまで低下してしまう。
このように、従来のマグネトロンに関しては、熱電子放出方式および電界電子放出方式のいずれのタイプにおいても、前述のような問題を解消または軽減することが可能な新たな陰極が要望されている。
(本発明によるマグネトロンの陰極について)
これに対して、本発明では、陰極がC12A7エレクトライド化合物を有するという特徴を有する。
本発明に使用されるC12A7エレクトライド化合物は、放射性物質ではないため、安全であり、取扱や保管に際して高度な注意を払う必要はない。また、C12A7エレクトライド化合物は、例えば、円筒状など、破損が生じ難い形状で、陰極に適用することができる。このため、フィラメントコイルのような断線の問題が有意に軽減され、寿命を長くすることができる。
また、C12A7エレクトライド化合物は、仕事関数φが約2.4eV程度であり、この値は、カーボンナノチューブおよびケイ素に比べて有意に小さい。このため、前述の(1)式で表される放出電流密度iを、有意に高めることができる。
従って、本発明では、C12A7エレクトライド化合物を、熱電子放出方式の陰極および電界電子放出方式の陰極のいずれに適用した場合も、従来の問題を有意に解消または抑制することができる。
(C12A7エレクトライド化合物等について)
ここで、本願において使用される「C12A7エレクトライド化合物」に関連する用語について説明する。
(結晶質C12A7化合物)
本願において、「結晶質C12A7化合物」とは、12CaO・7Alの結晶、およびこれと同等の結晶構造を有する同型化合物を意味する。本化合物の鉱物名は、「マイエナイト」である。
本発明における結晶質C12A7化合物は、結晶格子の骨格により形成されるケージ構造が保持される範囲で、C12A7結晶骨格のCa原子および/またはAl原子の一部乃至全部が他の原子に置換された化合物、ならびにケージ中のフリー酸素イオンの一部乃至全部が他の陰イオンに置換された同型化合物であっても良い。なお、C12A7は、Ca12Al1433またはCa24Al2866と表記されることがある。
同型化合物としては、これに限られるものではないが、例えば、下記の(1)〜(5)の化合物が例示される。
(1)結晶中のCa原子の一部乃至全部が、Sr、Mg、およびBaからなる群から選択される一種以上の金属原子に置換された同型化合物。例えば、Ca原子の一部乃至全部がSrに置換された化合物としては、ストロンチウムアルミネートSr12Al1433があり、CaとSrの混合比が任意に変化された混晶として、カルシウムストロンチウムアルミネートCa12−xSrAl1433(xは1〜11の整数;平均値の場合は0超12未満の数)などがある。
(2)結晶中のAl原子の一部ないし全部が、Si、Ge、Ga、In、およびBからなる群から選択される一種以上の原子に置換された同型化合物。例えば、Ca12Al10Si35などが挙げられる。
(3)12CaO・7Alの結晶(上記(1)、(2)の化合物を含む)中の金属原子および/または非金属原子(ただし、酸素原子を除く)の一部が、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、およびCuからなる群から選択される一種以上の遷移金属原子もしくは典型金属原子、Li、Na、およびKからなる群から選択される一種以上のアルカリ金属原子、またはCe、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、およびYbからなる群から選択される一種以上の希土類原子と置換された同型化合物。
(4)ケージに包接されているフリー酸素イオンの一部乃至全部が、他の陰イオンに置換された化合物。他の陰イオンとしては、例えば、H、H 、H2−、O、O 、OH、F、Cl、およびS2−などの陰イオンや、窒素(N)の陰イオンなどがある。
(5)ケージの骨格の酸素の一部が、窒素(N)などで置換された化合物。
(結晶質C12A7エレクトライド化合物)
本願において、「結晶質C12A7エレクトライド化合物」とは、前述の「結晶質C12A7化合物」において、ケージに包接されたフリー酸素イオン(ケージに包接された他の陰イオンを有する場合は、当該陰イオン)の一部乃至全部が電子に置換された化合物を意味する。
結晶質C12A7エレクトライド化合物において、ケージに包接された電子は、ケージに緩く束縛され、結晶中を自由に動くことができる。このため、結晶質C12A7エレクトライド化合物は、導電性を示す。特に、全てのフリー酸素イオンが電子で置き換えられた結晶質C12A7化合物は、[Ca24Al28644+(4e)と表記されることがある。
結晶質C12A7エレクトライドの仕事関数は、例えば、2.4〜3.0eVである。
(非晶質C12A7エレクトライド化合物)
本願において、「非晶質C12A7エレクトライド化合物」とは、結晶質C12A7エレクトライドと同等の組成を有し、非晶質C12A7を溶媒とし、電子を溶質とする溶媒和からなる非晶質固体物質を意味する。
一般に、結晶質C12A7エレクトライド化合物では、それぞれのケージが面を共有して3次元的に積み重なることにより、結晶格子が構成され、それらのケージの一部に電子が包接される。これに対して、非晶質C12A7エレクトライド化合物の場合、非晶質C12A7からなる溶媒中に、バイポーラロンと呼ばれる特徴的な部分構造が分散された状態で存在する。バイポーラロンは、2つのケージが隣接し、さらにそれぞれのケージに、電子(溶質)が包接されて構成される。
非晶質C12A7エレクトライド化合物は、半導体的な電気的特性を示し、低い仕事関数を有する。仕事関数は、例えば、2.8〜3.2eVである。
バイポーラロンは、光子エネルギーが1.55eV〜3.10eVの可視光の範囲では光吸収がほとんどなく、4.6eV付近で光吸収を示す。従って、非晶質C12A7エレクトライド化合物の薄膜は可視光において透明である。また、サンプルの光吸収特性を測定し、4.6eV付近の光吸収係数を測定することにより、サンプル中にバイポーラロンが存在するかどうか、すなわちサンプルが非晶質C12A7エレクトライド化合物を有するかどうかを確認することができる。
また、バイポーラロンを構成する隣接する2つのケージは、ラマン活性であり、ラマン分光測定の際に186cm−1付近に特徴的なピークを示す。
(C12A7エレクトライド化合物)
本願において、「C12A7エレクトライド化合物」とは、前述の「結晶質C12A7エレクトライド」および「非晶質C12A7エレクトライド」の両方を含む概念を意味する。
なお、結晶質C12A7エレクトライド」は、Ca原子、Al原子、およびO原子を含み、Ca:Alのモル比が13:13〜11:15の範囲であり、Ca:Alのモル比は、12.5:13.5〜11.5:14.5の範囲であることが好ましく、12.2:13.8〜11.8:14.2の範囲であることがより好ましい。
また、「非晶質C12A7エレクトライド化合物」は、Ca原子、Al原子、およびO原子を含み、Ca:Alのモル比が13:12〜11:16の範囲であり、Ca:Alのモル比は、13:13〜11:15の範囲であることが好ましく、12.5:13.5〜11.5:14.5の範囲であることがより好ましい。
(本発明の一実施例によるマグネトロンの陰極について)
次に、図2を参照して、本発明の一実施例によるマグネトロンの陰極(以下、単に「第1の陰極」と称する)の構成について説明する。なお、ここでは、一例として、熱電子放出方式のマグネトロンの陰極として適用可能な、第1の陰極について説明する。
図2には、第1の陰極の構成例を模式的に示す。
図2に示すように、第1の陰極101は、センターリード102と、該センターリード102の上端に接合されたトップハット103と、サイドリード104と、該サイドリード104の上端に接合されたエンドハット105と、円筒部材130とを備える。 エンドハット105は、センターリード102の軸方向にトップハット103と対向して配設される。また、円筒部材130は、トップハット103とエンドハット105の間に配置される。センターリード102は、円筒部材130を貫通して延在する。
トップハット103およびエンドハット105は、例えばモリブデンのような高融点金属で構成されても良い。
ここで、円筒部材130は、C12A7エレクトライド化合物で構成される。C12A7エレクトライド化合物は、結晶質C12A7エレクトライド化合物であっても、非晶質C12A7エレクトライド化合物であっても良い。ただし、通常の場合、結晶質C12A7エレクトライド化合物は、非晶質C12A7エレクトライド化合物に比べて、仕事関数φが低い。このため、円筒部材130は、結晶質C12A7エレクトライド化合物であることが好ましい。このように仕事関数の低い熱電子源を使用することによって、同じ電流が相対的に低温で得られ、マグネトロンの小型化、耐熱部材の削減などに有効である。
また、円筒部材130を構成するC12A7エレクトライド化合物の電子密度は、例えば、2.0×1018cm−3〜2.3×1021cm−3の範囲である。
C12A7エレクトライド化合物の円筒部材130は、例えば以下の方法で作製できる。
まず、C12A7化合物の粉末と樹脂を混合し、円筒状に成形する。成形方法は射出成形や押出成形など一般的なセラミックスの成形方法で可能である。次に、大気中1000℃程度に加熱し脱脂する。さらに、還元雰囲気で熱処理する。還元熱処理によって表面に付着した異物を取り除くため、ドライ研磨やリン酸などの酸でエッチングしても良い。さらに表面清浄化や表面結晶化のために、10−4Paより高真空雰囲気下で1200℃未満の熱処理を行っても良い。
なお、C12A7エレクトライド化合物は、電子密度を制御することにより、電気抵抗を容易に調整することができる。従って、円筒部材130は、フィラメントコイル形状ではないものの、通電により、容易に加熱することができる。
このような構成の第1の陰極101は、放射性物質を有さず、フィラメントコイルも有さない。このため、前述のような従来の熱電子放出方式の陰極が有する問題を、有意に回避することができる。
以上、図2を参照して、本発明の一実施例による熱電子放出方式の陰極の構成について説明した。しかしながら、これは単なる一例であって、本発明の一実施例による熱電子放出方式の陰極が、その他の構成を有しても良いことは当業者には明らかである。
(本発明の一実施例による別のマグネトロンの陰極について)
次に、図3を参照して、本発明の一実施例による別のマグネトロンの陰極(以下、単に「第2の陰極」と称する)の構成について説明する。なお、ここでは、一例として、電界電子放出方式のマグネトロンの陰極として適用可能な、第2の陰極について説明する。
図3には、第2の陰極の構成例を模式的に示す。
図3に示すように、第2の陰極201は、図2に示した第1の陰極101と同様の構成を有する。例えば、第2の陰極201は、センターリード202と、トップハット203と、サイドリード204と、エンドハット205とを備える。
ただし、第2の陰極201は、円筒部材280の構成が、第1の陰極101の円筒部材130とは異なっている。すなわち、図3に示すように、第2の陰極201において、円筒部材280は、金属パイプ283と、該金属パイプ283の外表面に形成された複数の突起285とで構成される。
金属パイプ283は、例えば、モリブデンのような金属で構成される。また、突起285は、C12A7エレクトライド化合物で構成される。C12A7エレクトライド化合物は、結晶質C12A7エレクトライド化合物であっても、非晶質C12A7エレクトライド化合物であっても良い。ただし、通常の場合、結晶質C12A7エレクトライド化合物は、非晶質C12A7エレクトライド化合物に比べて、仕事関数φが低い。このため、突起285は、結晶質C12A7エレクトライド化合物であることが好ましい。
また、突起285を構成するC12A7エレクトライド化合物の電子密度は、例えば、2.0×1018cm−3〜2.3×1021cm−3の範囲である。
ここで、図3からは明確ではないが、金属パイプ283の外表面に配置された各突起285は、略三角錐状の形状を有し、それぞれの三角錐の頂点は、金属パイプ283の軸に対して垂直な方向、すなわち半径方向に向かって突出するように形成されている。
ただし、これは、単なる一例であって、突起285は、その他の形態を有しても良い。例えば、突起285は、略円錐状、略楕円錐状、略四角錐状、および略五角錐状等、頂点を有するいかなる形状であっても良い。
あるいは、突起285は、例えば、金属パイプ283の外表面に、軸方向に沿って相互に離間して配列された、複数のリング形状物で構成されても良い。この場合、金属パイプ283の軸方向と平行な方向から見た際に、突起285は、連続的な単一の突起として視認される。
あるいは、突起285は、例えば、金属パイプ283の外表面に、ネジのような連続的な螺旋構造で構成されても良い。この場合、突起285は、一続きの単一の凸部として視認される。
このような構成を有する第2の陰極201では、電界の集中が生じる突起285に、仕事関数が小さいC12A7エレクトライド化合物が使用されている。このため、前述のような従来の電界電子放出方式の陰極が有する、放出電流密度iが低く効率向上が難しいという問題を、有意に改善することができる。
以上、図3を参照して、本発明の一実施例による電界電子放出方式の陰極の構成について説明した。しかしながら、これは単なる一例であって、本発明の一実施例による電界電子放出方式の陰極が、その他の構成を有しても良いことは当業者には明らかである。
図4には、陰極の円筒部材の別の構成例を示す。図4には、第2の陰極201に、円筒部材280の代わりに適用され得る、第2の円筒部材281の断面(軸方向に垂直な断面)の一部が模式的に示されている。
図4に示すように、この円筒部材281は、金属パイプ284と、該金属パイプ284の外表面に形成された膜288とで構成される。
より具体的には、金属パイプ284は、外表面に複数のスパイク286を有する。このようなスパイク286を有する金属パイプ284は、例えば、機械加工等により形成することができる。金属パイプ284の外表面には、スパイク286を覆うように膜288が形成される。膜288は、C12A7エレクトライド化合物で構成される。
このような構成の円筒部材281を有する陰極においても、図3に示した第2の陰極201と同様の効果が得られることは明らかであろう。
さらに、本発明の一実施例による電界電子放出方式の陰極は、図2に示した熱電子放出方式の陰極(第1の陰極)101と同様の円筒部材160、すなわち突起を有さない電子放出部を有しても良い。
一般に、電界電子放出方式の陰極では、電子放出部において電界集中を生じやすくするため、前述の突起285のような、複数の突出部が必要となる。
しかしながら、本発明の一実施例による電界電子放出方式の陰極は、仕事関数φが有意に低いC12A7エレクトライド化合物を有する。このため、本発明の一実施例による電界電子放出方式の陰極は、電子放出部に必ずしも突出部を形成しなくても、電界の印加によって、十分に大きな放出電流密度iを得ることができる。
従って、本発明の一実施例では、電界電子放出方式の陰極において、熱電子放出方式と同様の構成を有する陰極を適用することができる。
(本発明の一実施例によるさらに別のマグネトロンの陰極について)
次に、図5を参照して、本発明の一実施例によるさらに別のマグネトロンの陰極(以下、単に「第3の陰極」と称する)の構成について説明する。
図5には、第3の陰極の構成例を模式的に示す。
図5に示すように、第3の陰極301は、センターリード302と、該センターリード302の上端に配置された電界電子放出部320と、センターリード302の電界電子放出部320よりも下側に配置された熱電子放出部370とを有する。
電界電子放出部320は、前述の図3に示した第2の陰極201と同様の構成を有し、熱電子放出部370は、前述の図2に示した第1の陰極101と同様の構成を有する。
より具体的には、電界電子放出部320は、センターリード302の上端に接合された第1のトップハット323と、第1のエンドハット325と、円筒部材330とを備える。
第1のエンドハット325は、センターリード302の軸方向に、第1のトップハット323と対向して配設される。また、円筒部材330は、第1のトップハット323と、第1のエンドハット325の間に配置される。センターリード302は、円筒部材330を貫通して延在する。
円筒部材330は、金属パイプ333と、該金属パイプ333の外表面に形成された複数の突起335とで構成される。金属パイプ333は、例えば、モリブデンのような金属で構成される。また、突起335は、C12A7エレクトライド化合物で構成される。C12A7エレクトライド化合物は、結晶質C12A7エレクトライド化合物であっても、非晶質C12A7エレクトライド化合物であっても良い。
前述のように、円筒部材330は、各種形態を取り得る。例えば、突起335は、略円錐状および略四角錐状等、頂点を有するいかなる形状であっても良い。また、突起335は、リング形状物またはネジのような螺旋構造物で構成されても良い。さらに、円筒部材330は、スパイクを有する金属パイプ333の外表面に、C12A7エレクトライド化合物の連続膜を成膜することにより構成されても良い(図4参照)。
一方、熱電子放出部370は、センターリード302に接合された第2のトップハット373と、第2のエンドハット375と、円筒部材380とを備える。
第2のエンドハット375は、センターリード302の軸方向に、第2のトップハット373と対向して配設される。また、円筒部材380は、第2のトップハット373と、第2のエンドハット375の間に配置される。センターリード302は、円筒部材380を貫通して延在する。
円筒部材380は、C12A7エレクトライド化合物で構成される。C12A7エレクトライド化合物は、結晶質C12A7エレクトライド化合物であっても、非晶質C12A7エレクトライド化合物であっても良い。
このような構成の第3の陰極301においても、前述の第1および第2の陰極101、201と同様の効果が得られることは、当業者には明らかである。
また、第3の陰極301は、電界電子放出部320と熱電子放出部370の双方を有する。
一般のマグネトロンにおいて、熱電子放出方式では、電界電子放出方式に比べて、初期のスタートアップから定常的に放電電流が得られるまでに、相応の時間がかかるという問題がある。陰極から放出された電子は磁界で曲げられ、一部は陽極に到達せずに陰極に衝突し、陰極を加熱する。よって、電子放出が増えると陰極が加熱されるため、さらに熱電子放出が増加するためである。
また、電界電子放出方式では、熱電子放出方式に比べて、十分な放電電流が得にくいという問題がある。実用的には、空気が絶縁破壊する3×10V/m以上の高圧を印加することは好ましくないためである。
しかしながら、第3の陰極301のような「ハイブリッド」方式では、それぞれの方式を単独で使用した場合に比べて、そのような問題が抑制できるという効果が得られる。すなわち、スタートアップ直後に電界放出によって、ある程度の放電を始めることで、十分な放電電流が得られるまでの時間が大幅に短縮される。
以上、図面を参照して、本発明の一実施例による陰極の構成およびその特徴について説明した。このような陰極は、マグネトロン、およびそのようなマグネトロンを備えるマイクロ波加熱装置等に適用することができる。
(本発明の一実施例によるマグネトロンの陰極の製造方法について)
次に、本発明の一実施例によるマグネトロンの陰極の製造方法について、簡単に説明する。以降の説明では、特に、図3に示すような第2の陰極201を例に、陰極の製造方法について説明する。ただし、一般的な陰極の製造方法は、当業者には明らかである。従って、ここでは特に、C12A7エレクトライド化合物を含む円筒部材280の製造方法について説明する。
図6には、そのような円筒部材280を製造するためのフロー図を模式的に示す。
図6に示すように、円筒部材280を製造する方法は、
金属板の外表面に、C12A7エレクトライド化合物で構成された複数の突起285を形成する工程(工程S110)と、
金属板をパイプ状に変形させる工程(工程S120)と、
を有する。
以下、図7〜図9も参照して、各工程について説明する。なお、図7〜図9は、円筒部材280の製造工程の一態様を模式的に示した図である。
(工程S110)
まず、金属板283が準備される。
金属板283の寸法は、特に限られない。一例を示すと、厚さは、例えば、0.1mm〜2mmの範囲である。この範囲の場合、機械的強度を保持する一方、パイプ状に成形することが容易となる。
金属板283の材質は、特に限られないが、例えば、ニッケル、アルミニウム、チタニウム、クロム、モリブデン、タングステンなどの金属や、ステンレス鋼やコバールなどの合金が好ましい。
次に、金属板283の外面に、C12A7エレクトライド化合物で構成された複数の突起285が形成される。
突起285の形成方法は特に限られない。突起285は、例えば、気相成膜法等により形成されても良い。
以下、一例として、図7〜図9を参照して、スパッタリング法により突起285を形成する工程について説明する。
まず、図7に示すように、金属板283の外面784に、第1のレジスト712および第2のレジスト714を塗布する。フォトリソグラフィーによってこれらをパターン化することにより、オーバーハング構造を有するレジストパターン710を形成する。レジストパターン710は、複数の開口716を有する。
次に、この金属板283の外面784に、レジストパターン710を介して、C12A7エレクトライド化合物をスパッタリング成膜する。
スパッタリング処理のターゲットには、結晶質C12A7エレクトライド化合物が使用される。この結晶質C12A7エレクトライド化合物の電子密度は、例えば、2.0×1018cm−3〜2.3×1021cm−3の範囲である。また、スパッタリング処理の雰囲気は、酸素分圧の低い還元性雰囲気であることが好ましい。スパッタリング処理は、例えば、大電力パルススパッタリングにより実施されても良い。
図8に示すように、この処理により、レジストパターン710の上部に、堆積物718が堆積される。また、堆積物の一部は、レジストパターン710の開口716を通過して、金属板283の外面784に堆積して、堆積物719を形成する。
その後、さらに成膜を継続すると、第2のレジスト714および第1のレジスト712の側壁にも、堆積物718が堆積するようになり、開口716が徐々に狭くなっていく。その結果、最終的には、図9に示すように、金属板283の外面784に、円錐状の堆積物719が形成される。
その後、堆積物718を、レジストパターン710を構成する第1および第2のレジストとともに除去することにより、金属板283の外面784に、C12A7エレクトライド化合物の突起285を配置することができる。
ここで、突起285のアスペクト比、すなわち突起285の底面の最大寸法dに対する突起285の高さhの比(h/d)は、1以上であることが好ましい。アスペクト比が1未満の場合、電界の集中が生じ難くなる。突起285の底面の最大寸法dは、10〜1000μmであって良い。
なお、成膜直後の突起285は、非晶質C12A7エレクトライド化合物で構成される。このため、その後、さらに熱処理を実施して、突起285を構成する非晶質C12A7エレクトライド化合物を、結晶質C12A7エレクトライド化合物に変化させても良い。
熱処理は、10−3Pa以上の高真空下で、1000℃〜1200℃の範囲に加熱することにより、実施されても良い。
(工程S120)
次に、C12A7エレクトライドの突起を有する金属板をパイプ状に変形させ、スポット溶接などによって固定する。
以上の工程により、C12A7エレクトライド化合物を含む円筒部材280を製造することができる。
本発明は、例えば、マグネトロンおよびマイクロ波加熱装置等に利用することができる。
1 従来のマグネトロンの陰極
2 センターリード
3 トップハット
4 サイドリード
5 エンドハット
6 フィラメントコイル
101 第1の陰極
102 センターリード
103 トップハット
104 サイドリード
105 エンドハット
130 円筒部材
201 第2の陰極
202 センターリード
203 トップハット
204 サイドリード
205 エンドハット
280 円筒部材
281 円筒部材
283 金属板
284 金属パイプ
285 突起
286 金属パイプのスパイク
288 膜
301 第3の陰極
302 センターリード
320 電界電子放出部
323 第1のトップハット
325 第1のエンドハット
330 円筒部材
333 金属パイプ
335 突起
370 熱電子放出部
373 第2のトップハット
375 第2のエンドハット
380 円筒部材
710 レジストパターン
712 第1のレジスト
714 第2のレジスト
716 開口
718 堆積物
719 堆積物
784 金属パイプの外面

Claims (13)

  1. マグネトロンの陰極であって、
    C12A7エレクトライド化合物を有する、陰極。
  2. 前記C12A7エレクトライド化合物は、結晶質である、請求項1に記載の陰極。
  3. 前記C12A7エレクトライド化合物は、非晶質である、請求項1に記載の陰極。
  4. 当該陰極は、電界電子放出方式の陰極である、請求項1乃至3のいずれか一つに記載の陰極。
  5. 前記C12A7エレクトライド化合物は、先端が尖った形状を有する、請求項4に記載の陰極。
  6. 前記C12A7エレクトライド化合物は、金属基板の上に配置される、請求項5に記載の陰極。
  7. 前記C12A7エレクトライド化合物は、膜状に配置される、請求項5または6に記載の陰極。
  8. 当該陰極は、熱電子放出方式の陰極である、請求項1乃至3のいずれか一つに記載の陰極。
  9. 前記C12A7エレクトライド化合物は、円筒状の形状を有する、請求項8に記載の陰極。
  10. 前記C12A7エレクトライド化合物は、2.0×1018cm−3以上の電子密度を有する、請求項1乃至9のいずれか一つに記載の陰極。
  11. マグネトロンの陰極であって、
    当該陰極は、電界電子放出方式の第1の陰極部分と、熱電子放出方式の第2の陰極部分とを有し、
    前記第1の陰極部分および第2の陰極部分のいずれかに、C12A7エレクトライド化合物を有する、陰極。
  12. 陰極および陽極を有するマグネトロンであって、
    前記陰極は、請求項1乃至11のいずれか一つに記載の陰極である、マグネトロン。
  13. マグネトロンを備えるマイクロ波加熱装置であって、
    前記マグネトロンは、請求項12に記載のマグネトロンである、マイクロ波加熱装置。
JP2014097782A 2014-05-09 2014-05-09 マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置 Ceased JP2015216006A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014097782A JP2015216006A (ja) 2014-05-09 2014-05-09 マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014097782A JP2015216006A (ja) 2014-05-09 2014-05-09 マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015216006A true JP2015216006A (ja) 2015-12-03

Family

ID=54752740

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014097782A Ceased JP2015216006A (ja) 2014-05-09 2014-05-09 マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015216006A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20190172605A1 (en) * 2012-06-20 2019-06-06 Japan Science And Technology Agency Metal oxide thin film, organic electroluminescence element including the thin film, solar cell, and thin film fabrication method
WO2023017199A1 (es) 2021-08-10 2023-02-16 Advanced Thermal Devices S.L. Cátodo basado en el material c12a7:e "electride" para la emisión termiónica de electrones y procedimiento para el empleo del mismo

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5271454U (ja) * 1975-11-22 1977-05-27
JPH031425A (ja) * 1989-05-30 1991-01-08 Tdk Corp マグネトロン用陰極構体
JP2003272537A (ja) * 2002-03-20 2003-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd マグネトロン
JP2006252883A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd マグネトロン
JP2007042352A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電界電子放出源及びそれを用いたマグネトロン及びマイクロ波応用装置
JP2013040088A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Tokyo Institute Of Technology 電気伝導性を有するc12a7系酸化物融液又はガラス材料及びそれらの製造方法
JP2014055313A (ja) * 2012-09-11 2014-03-27 Tokyo Institute Of Technology マイエナイト複合材および電子放出用陰極

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5271454U (ja) * 1975-11-22 1977-05-27
JPH031425A (ja) * 1989-05-30 1991-01-08 Tdk Corp マグネトロン用陰極構体
JP2003272537A (ja) * 2002-03-20 2003-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd マグネトロン
JP2006252883A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd マグネトロン
JP2007042352A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電界電子放出源及びそれを用いたマグネトロン及びマイクロ波応用装置
JP2013040088A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Tokyo Institute Of Technology 電気伝導性を有するc12a7系酸化物融液又はガラス材料及びそれらの製造方法
JP2014055313A (ja) * 2012-09-11 2014-03-27 Tokyo Institute Of Technology マイエナイト複合材および電子放出用陰極

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
戸田喜丈: "特集1 ナノテクとディスプレイ", 月刊ディスプレイ, vol. 第12巻 第6号, JPN6017047065, 1 June 2006 (2006-06-01), pages 第18〜22頁 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20190172605A1 (en) * 2012-06-20 2019-06-06 Japan Science And Technology Agency Metal oxide thin film, organic electroluminescence element including the thin film, solar cell, and thin film fabrication method
WO2023017199A1 (es) 2021-08-10 2023-02-16 Advanced Thermal Devices S.L. Cátodo basado en el material c12a7:e "electride" para la emisión termiónica de electrones y procedimiento para el empleo del mismo

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4783239B2 (ja) 電子エミッタ材料および電子放出応用装置
JP6804304B2 (ja) X線管用の電子エミッタ及びx線デバイス
US3374386A (en) Field emission cathode having tungsten miller indices 100 plane coated with zirconium, hafnium or magnesium on oxygen binder
EP2533266A1 (en) X-ray electron beam generation device and cathode thereof
JP5855294B1 (ja) イオンポンプおよびそれを用いた荷電粒子線装置
JP4849576B2 (ja) 陰極体及びそれを用いた蛍光管
Viskadouros et al. Electron field emission from graphene oxide wrinkles
WO2011024821A1 (ja) 放電ランプ用電極およびその製造方法
Lim et al. Enhanced field emission properties of carbon nanotube bundles confined in SiO2 pits
JP2015216006A (ja) マグネトロンの陰極、マグネトロン、およびマイクロ波加熱装置
US20110186735A1 (en) Electron source, electron gun, and electron microscope device and electron beam lithography device using it
JP5238376B2 (ja) 電子管
JP2019075264A (ja) 負イオン源
JP2011071022A (ja) 電子放出装置及びそれを用いた電子放出型電子機器
JP2011034888A (ja) イオン源
Sinclair Very high voltage photoemission electron guns
JP2011513909A (ja) 高効率ガス充填ランプ
JP4692348B2 (ja) 放電プラズマ生成補助装置
Shin et al. Sheet electron beam from line-shape carbon nanotube field emitters
EP3096341B1 (en) Method for manufacturing nanostructures for a field emission cathode
JP7228539B2 (ja) スイッチ装置
WO2023249118A1 (ja) エミッタ、電子銃及び電子機器、並びにエミッタの製造方法
JP6980740B2 (ja) X線デバイス
Hong et al. Fabrication of miniature carbon nanotube electron beam module for x-ray tube application
Bushuev et al. Multibeam electron gun with gated carbon nanotube cathode

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170216

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180206

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180515

A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20180925