JP2015212417A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015212417A5
JP2015212417A5 JP2015090607A JP2015090607A JP2015212417A5 JP 2015212417 A5 JP2015212417 A5 JP 2015212417A5 JP 2015090607 A JP2015090607 A JP 2015090607A JP 2015090607 A JP2015090607 A JP 2015090607A JP 2015212417 A5 JP2015212417 A5 JP 2015212417A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
fatty alcohol
mixture
group
electrolytic bath
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015090607A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015212417A (en
JP6687331B2 (en
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102014207778.8A external-priority patent/DE102014207778B3/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2015212417A publication Critical patent/JP2015212417A/en
Publication of JP2015212417A5 publication Critical patent/JP2015212417A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6687331B2 publication Critical patent/JP6687331B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (15)

光沢ニッケル層の析出のための電解浴、または光沢ニッケル層の析出のための電解浴中で使用するための混合物であって、前記混合物が水溶液中に、または前記電解が水溶液中に、
(c)安息香酸スルフィミドおよび/または安息香酸スルフィミド陰イオン
ならびに
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒドから成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物
を含み、
前記電解が以下の成分を追加的に含むか、または前記混合物が以下の成分を追加的に含む、上記電解または混合物:
(a)ニッケルイオン、
(b)1種または複数の酸、
(e)式(I)
Figure 2015212417
(I)
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、
(f)式(II)
Figure 2015212417
(II)
(式中、それぞれ相互に独立して、
窒素原子は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択される芳香族環系の一部であり
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、
(g)1種または複数の湿潤剤。
Electrolytic bath for the deposition of bright nickel layer, or a mixture for use in an electrolytic bath for the deposition of bright nickel layer, wherein the mixture is an aqueous solution, or the electrolytic bath is an aqueous solution,
(C) benzoic acid sulfimide and / or benzoic acid sulfimide anion and (h) one selected from the group consisting of chloral hydrate, bromal hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde Including two, more than two or all compounds,
Wherein either electrolytic bath additionally comprises the following ingredients, or the mixture additionally comprises the following components, the electrolytic bath or mixtures:
(A) nickel ions,
(B) one or more acids,
(E) Formula (I)
Figure 2015212417
(I)
(Where
R 1 represents C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy, amino, C 1 -C 4 -alkylamino or di (C 1 -C 4 -alkyl) amino. Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds of
(F) Formula (II)
Figure 2015212417
(II)
(In the formula, each independently,
Nitrogen atom is part of an aromatic ring system pyridine, Ru is selected from the group consisting of quinoline and isoquinoline,
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines of
(G) one or more wetting agents.
前記電解浴が、以下の成分を含むか、または前記混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数、または全てを含む、請求項1に記載の電解浴または混合物:
(b)硫酸、ホウ酸および塩酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸
および/または
リンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸
ならびに/あるいは
(g)1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、
(i)脂肪アルコールエーテルスルファート
および/または
それからプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート
および/または
それからプロトン化によって生成する酸、
(iii)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
ならびに
(vi)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、
選択された1種の湿潤剤が、炭素鎖として分枝もしくは非分枝アルキル基を担持するか、または選択された複数の湿潤剤が、炭素鎖として、それぞれ相互に独立して、分枝もしくは非分枝アルキル基を担持する湿潤剤。
The electrolytic bath or mixture according to claim 1, wherein the electrolytic bath comprises the following components or the mixture comprises one, more than one or all of the following components in an aqueous solution:
(B) one or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid and / or one or more organics selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid An acid and / or (g) one or more wetting agents, wherein one or more or all of the one wetting agent or the plurality of wetting agents are:
(I) fatty alcohol ether sulfates and / or
Then acid formed by protonation,
(Ii) fatty alcohol sulfate and / or
Then acid formed by protonation,
(Iii) a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acid and fatty alcohol sulfate acid;
(V) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate and fatty alcohol sulfate acid,
And (vi) selected from the group consisting of a mixture comprising or consisting of an acid of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
One selected wetting agent carries a branched or unbranched alkyl group as a carbon chain, or a plurality of selected wetting agents as a carbon chain, each independently, branched or A wetting agent bearing an unbranched alkyl group.
前記電解浴が、以下の成分を含むか、または前記混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数もしくは全てを含む、請求項1または2に記載の電解浴または混合物:
(a)全量1.12〜1.67mol/Lのニッケルイオン、ならびに/あるいは
(b)全量0.485〜0.97mol/Lの、
硫酸、ホウ酸および塩酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸、および/または
リンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸、ならびに/あるいは
(c)全量0.0055〜0.0274mol/Lの安息香酸スルフィミドおよび安息香酸スルフィミド陰イオン、ならびに/あるいは
(d)全量0.006〜0.025mol/Lのアリルスルホン酸およびアリルスルホナート、ならびに/あるいは
(e)全量0.00036〜0.1438mol/Lの、式(I)
Figure 2015212417
(I)
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、ならびに/あるいは
(f)全量0.00025〜0.0025mol/Lの、式(II)
Figure 2015212417
(II)
(式中、それぞれ相互に独立して、
窒素原子、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択される芳香族環系の一部であり
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、ならびに/あるいは
(g)全量0.0006〜0.025mol/Lの1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、
(i)脂肪アルコールエーテルスルファート
および/または
それからプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート
および/または
それからプロトン化によって生成する酸、
(iii)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
ならびに
(vi)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択される湿潤剤であり、
上記脂肪アルコールエーテルスルファートが、式(III)
Figure 2015212417
(III)
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、および
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)
の脂肪アルコールエーテルスルファート
および/もしくは
それからプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択され、
かつ/または
脂肪アルコールスルファートが、式(IV)
Figure 2015212417
(IV)
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、および
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)の脂肪アルコールスルファート
および/もしくは
それからプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択される、上記湿潤剤、ならびに/あるいは
(h)全量0.003〜0.018mol/Lの、
抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒドから成る群から選択される、1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物、ならびに/あるいは
(i)全量0〜0.0025mol/Lの、式(V)
Figure 2015212417
(V)
(式中、
Figure 2015212417
は、シスもしくはトランス配置の二重結合または三重結合を意味し、
5は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはCH2OR6を意味し、および
6は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはスルホン酸基もしくはその塩を意味するが、
但し、R5およびR6は、同時には水素を意味せず、かつ
但し、破線は単結合を意味する)
の1種または複数の化合物。
The electrolytic bath or mixture according to claim 1 or 2, wherein the electrolytic bath comprises the following components or the mixture comprises one, more than one or all of the following components in an aqueous solution:
(A) a total amount of 1.12 to 1.67 mol / L nickel ions, and / or (b) a total amount of 0.485 to 0.97 mol / L,
One or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid, and / or one or more organic acids selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid, And / or (c) a total amount of 0.0055 to 0.0274 mol / L of benzoic acid sulfimide and benzoic acid sulfimide anion, and / or (d) a total amount of 0.006 to 0.025 mol / L of allyl sulfonic acid and allyl sulfo And (e) a total amount of 0.00036 to 0.1438 mol / L of formula (I)
Figure 2015212417
(I)
(Where
R 1 represents C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy, amino, C 1 -C 4 -alkylamino or di (C 1 -C 4 -alkyl) amino. Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds and / or (f) a total amount of 0.00025-0.0025 mol / L of formula (II)
Figure 2015212417
(II)
(In the formula, each independently,
Nitrogen atom is part of an aromatic ring system pyridine, Ru is selected from the group consisting of quinoline and isoquinoline,
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines and / or (g) one or more wetting agents in a total amount of 0.0006 to 0.025 mol / L , one wetting agent or one wetting agent Or some or all
(I) fatty alcohol ether sulfates and / or
Then acid formed by protonation,
(Ii) fatty alcohol sulfate and / or
Then acid formed by protonation,
(Iii) a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acid and fatty alcohol sulfate acid;
(V) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate and fatty alcohol sulfate acid,
And (vi) an acid and fatty alcohol sulfates of fatty alcohol ether sulfates, or a wetting agent that will be selected from the group consisting of a mixture consisting,
The fatty alcohol ether sulfate has the formula (III)
Figure 2015212417
(III)
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 )
Fatty alcohol ether sulfates and / or
Then it is selected from the group consisting of generating acids by protonation,
And / or the fatty alcohol sulfate is of the formula (IV)
Figure 2015212417
(IV)
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 ) Alcohol sulfate and / or
Then selected from the group consisting of generating acids by protonation, of the wetting agent, and / or (h) the total amount 0.003~0.018Mol / L,
One, two, more than two or all compounds selected from the group consisting of chloral hydrate, bromaric hydrate, formate, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehydes and / or ( i) Formula (V) with a total amount of 0-0.0025 mol / L
Figure 2015212417
(V)
(Where
Figure 2015212417
Means a double or triple bond in the cis or trans configuration;
R 5 means C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or CH 2 OR 6 substituted by hydroxy, and R 6 is C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or sulfonic acid group substituted by hydroxy Or its salt,
R 5 and R 6 do not mean hydrogen at the same time, and the broken line means a single bond)
One or more compounds of
追加的に、
-、Cl-、Br-、I-、SO4 2-、OH-およびClO4 -
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるもしくは全ての陰イオンを含有し、かつ/または
追加的に、
Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Mg2+、Ca2+およびSr2+
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるもしくは全ての陽イオンを含有する、請求項1から3までの1項に記載の電解浴または混合物。
In addition,
F , Cl , Br , I , SO 4 2− , OH and ClO 4
Containing one, two, more than two or all anions selected from the group consisting of and / or additionally,
Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Mg 2+ , Ca 2+ and Sr 2+
4. The electrolytic bath or mixture according to claim 1, comprising one, two, more or all cations selected from the group consisting of:
単相溶液である、請求項1から4までの1項に記載の電解浴または混合物。   Electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 4, which is a single-phase solution. 2.8〜5.2、好ましくは3.8〜4.8の範囲内のpH値を有する、請求項1から5までの1項に記載の電解浴または混合物。   6. Electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 5, having a pH value in the range of 2.8 to 5.2, preferably 3.8 to 4.8. 対応する被加工物上へのニッケルの析出による、光沢ニッケル層を有する物品の製造方法であって、以下のステップ:
(a)請求項1から6までの1項に記載の電解浴または混合物を準備および/または製造するステップ、
(b)準備または製造された電解浴または混合物から被加工物上にニッケルを電気析出させて光沢ニッケル層を製造するステップ
を含む、方法。
A method for producing an article having a bright nickel layer by depositing nickel on a corresponding workpiece, comprising the following steps:
(A) preparing and / or producing an electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 6;
(B) producing a bright nickel layer by electrodepositing nickel onto the work piece from a prepared or produced electrolytic bath or mixture.
ステップ(b)の前記電解浴または前記混合物の温度が、40〜70℃の範囲内である、請求項7に記載の方法。 The method according to claim 7, wherein the temperature of the electrolytic bath or the mixture of step (b) is in the range of 40-70 ° C. ステップ(b)において光沢ニッケル層が、被加工物の銅、黄銅または亜鉛表面上に析出される、請求項7または8に記載の方法。   9. A method according to claim 7 or 8, wherein in step (b) a bright nickel layer is deposited on the copper, brass or zinc surface of the workpiece. 物品が、導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素である、請求項7から9までの1項に記載の方法。   The method according to one of claims 7 to 9, wherein the article is a component of a conduit or a component of a component for a conduit. ステップ(b)において、被加工物の表面への析出が行われ、表面が、被加工物の半光沢ニッケル層の一部である、請求項7から10までの1項に記載の方法。   11. A method according to claim 7, wherein in step (b), a deposition on the surface of the workpiece is performed, the surface being part of the semi-bright nickel layer of the workpiece. 以下の追加的なステップ:
(c)更なる金属層を、光沢ニッケル層上に析出させるステップ、好ましくは電気析出させるステップ、好ましくはクロム層を光沢ニッケル層上に電気析出させるステップ
を含む、請求項7から11までの1項に記載の方法。
The following additional steps:
12. A method according to claim 7, comprising (c) depositing a further metal layer on the bright nickel layer, preferably electrodepositing, preferably electrodepositing a chromium layer on the bright nickel layer. The method according to item.
光沢ニッケル層の析出または製造のための、請求項1から6までの1項に記載の電解浴または混合物の使用。   Use of an electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 6 for the deposition or production of a bright nickel layer. 導水導管用の部品の構成要素上での光沢ニッケル層の析出または製造のための、請求項13に記載の使用。   14. Use according to claim 13, for the deposition or production of a bright nickel layer on a component of a component for a conduit. 光沢ニッケル層が、
請求項1から6までの1項に記載の電解浴または混合物の使用下で対応する被加工物上にニッケルを析出させることによって、
または
請求項7から12の1項に記載の方法を用いて
製造可能である、光沢ニッケル層を含む物品、好ましくは導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素。
A bright nickel layer
Depositing nickel on the corresponding workpiece using the electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 6;
Or an article comprising a bright nickel layer, preferably a component of a conduit or a component of a conduit for a conduit, which can be produced using the method according to one of claims 7-12.
JP2015090607A 2014-04-25 2015-04-27 Electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, or a mixture for use in an electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, and a method of making an article having a bright nickel layer Active JP6687331B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014207778.8 2014-04-25
DE102014207778.8A DE102014207778B3 (en) 2014-04-25 2014-04-25 Use of a mixture for use in a plating bath or plating bath to produce a bright nickel plating, and to a method of making an article having a bright nickel plating

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015212417A JP2015212417A (en) 2015-11-26
JP2015212417A5 true JP2015212417A5 (en) 2018-03-01
JP6687331B2 JP6687331B2 (en) 2020-04-22

Family

ID=52997919

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015090607A Active JP6687331B2 (en) 2014-04-25 2015-04-27 Electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, or a mixture for use in an electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, and a method of making an article having a bright nickel layer

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP2937450B1 (en)
JP (1) JP6687331B2 (en)
DE (1) DE102014207778B3 (en)
HU (1) HUE035050T2 (en)
PL (1) PL2937450T3 (en)
PT (1) PT2937450T (en)
SI (1) SI2937450T1 (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105170922B (en) * 2015-10-19 2017-12-01 重庆天春科技有限公司 A kind of crystallizer copper pipe with elemental nickel transition zone
CN105200462A (en) * 2015-10-19 2015-12-30 姜少群 Electroplating method for elemental nickel transition layer of mould copper tube
CN106245070B (en) * 2016-10-21 2019-03-05 湘潭大学 A method of combination plating solution and electroplating nickel on surface of magnesium alloy for magnesium alloy plating nickel
DK3642396T3 (en) * 2017-06-23 2021-10-11 Atotech Deutschland Gmbh NICKEL ELECTROGALVANIZATION BATH FOR SETTING A DECORATIVE NICKEL COATING ON A SURFACE
WO2019215287A1 (en) * 2018-05-09 2019-11-14 Atotech Deutschland Gmbh Nickel comprising layer array and a method for its manufacturing
JP6542437B1 (en) * 2018-06-19 2019-07-10 奥野製薬工業株式会社 Bright nickel plating method and control method of bright nickel plating film.
JP7190280B2 (en) 2018-08-10 2022-12-15 株式会社Lixil plumbing fixtures
TWI734362B (en) * 2019-01-31 2021-07-21 美商麥克達米德恩索龍股份有限公司 Composition and method for fabrication of nickel interconnects
KR102293664B1 (en) * 2019-11-12 2021-08-26 주식회사엘콤 Composition for nickel-phosphorus alloy plating
JP7141780B1 (en) 2022-05-19 2022-09-26 奥野製薬工業株式会社 A method for producing a plating film.

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3528894A (en) * 1966-08-25 1970-09-15 M & T Chemicals Inc Method of electrodepositing corrosion resistant coating
US3898138A (en) * 1974-10-16 1975-08-05 Oxy Metal Industries Corp Method and bath for the electrodeposition of nickel
DE2450527C2 (en) 1974-10-24 1982-09-16 Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf Aqueous, acidic bath for the galvanic deposition of semi-glossy nickel coatings
US4150232A (en) * 1977-07-15 1979-04-17 Cilag-Chemie A.G. 1-Carboxymethyl-3-sulfoloweralkyl pyridinium betaine inner salts
DE2825966A1 (en) * 1978-06-14 1980-01-03 Basf Ag ACID GALVANIC NICKEL BATH, WHICH CONTAINS SULFOBETAINE AS A GLOSSY AND LEVELING AGENT
US4430171A (en) 1981-08-24 1984-02-07 M&T Chemicals Inc. Electroplating baths for nickel, iron, cobalt and alloys thereof
US4421611A (en) 1982-09-30 1983-12-20 Mcgean-Rohco, Inc. Acetylenic compositions and nickel plating baths containing same
DE3722778A1 (en) 1987-07-09 1989-03-09 Raschig Ag POLYALKYLENE GLYCOL NAPHTHYL-3-SULPHOPROPYL DIETHERS AND THEIR SALTS, PROCESS FOR PREPARING THESE COMPOUNDS AND THEIR USE AS A NETWORK IN GALVANO TECHNOLOGY
DE3817722A1 (en) * 1988-05-25 1989-12-14 Raschig Ag USE OF 2-SUBSTITUTED ETHANESULPHONE COMPOUNDS AS GALVANOTECHNICAL AUXILIARIES
DE4013349A1 (en) * 1990-04-23 1991-10-24 Schering Ag 1- (2-SULFOAETHYL) PYRIDINIUMBETAIN, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND ACID NICKEL BATH CONTAINING THIS COMPOUND
US5164069A (en) * 1990-11-05 1992-11-17 Shipley Company Inc. Nickel electroplating solution and acetylenic compounds therefor
JP2962598B2 (en) * 1991-06-20 1999-10-12 荏原ユージライト株式会社 Microporous chrome plating method
ATE127541T1 (en) * 1992-01-25 1995-09-15 Basf Ag METHOD FOR PRODUCING NICKEL-PLATED MOLDED PARTS.
DE19610361A1 (en) * 1996-03-15 1997-09-18 Basf Ag Bath and process for the electrodeposition of semi-gloss nickel
JP2003138396A (en) * 2001-08-24 2003-05-14 Toto Ltd Nickel chrome plating method and appliance for water system subjected to this plating
DE10327374B4 (en) 2003-06-18 2006-07-06 Raschig Gmbh Use of propanesulfonated and 2-hydroxy-propanesulfonated Alkylaminaloxylaten as an aid for the electrolytic deposition of metallic layers and plating baths containing them
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
DE602008000878D1 (en) 2008-07-15 2010-05-06 Atotech Deutschland Gmbh Solution and method for the electrochemical deposition of a metal onto a substrate
DE102008056470B3 (en) * 2008-11-05 2010-04-22 Atotech Deutschland Gmbh A method of inspecting a metal layer and a method of analytically controlling a deposition electrolyte for depositing the metal layer
BRPI0924283B1 (en) 2009-02-13 2019-11-12 Atotech Deutschland Gmbh chrome part and method of manufacturing it
DE102011106099B4 (en) * 2011-06-09 2016-06-02 Keuco Gmbh & Co. Kg Method for coating components
EP2801640A1 (en) 2013-05-08 2014-11-12 ATOTECH Deutschland GmbH Galvanic nickel or nickel alloy electroplating bath for depositing a semi-bright nickel or nickel alloy

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015212417A5 (en)
CA2875317A1 (en) Plating bath for electroless deposition of nickel layers
TW201231736A (en) Method of electroplating uniform copper layers
KR101624759B1 (en) Cyanide free electrolyte composition for the galvanic deposition of a copper layer
CN101792917A (en) Preparation method and electroplating method of normal-temperature environment-friendly sulfate trivalent chromium electroplating liquid
JP2019094559A (en) COMPOSITE PLATING LAYER FORMED ON SURFACE OF Nd-Fe-B-BASED MAGNETIC MATERIAL, AND MANUFACTURING METHOD OF Nd-Fe-B-BASED MAGNETIC MATERIAL HAVING THE COMPOSITE PLATING LAYER
TW201026909A (en) Process for the deposition of platinum-rhodium layers having improved whiteness
CA2036222C (en) Plating compositions and processes
CN103492618A (en) Improvements in coating technology
JP2012126999A5 (en)
TWI546422B (en) Trivalent chromium plating bath
CN105714360A (en) Alkaline graphene-nickel electroplating liquid, and preparation method and application thereof
TWI391533B (en) High speed method for plating palladium and palladium alloys
JP5336762B2 (en) Copper-zinc alloy electroplating bath and plating method using the same
JP6214355B2 (en) Electrolytic gold plating solution and gold film obtained using the same
CN111088511A (en) Aluminum profile oxidation coloring process
WO2012081274A1 (en) Nickel plating solution and nickel plating method
TW200930844A (en) Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids
EP2781629B1 (en) Solution for the electrodeposition of a gold alloy and the alloy derived therefrom
US20140377471A1 (en) Alkaline plating bath for electroless deposition of cobalt alloys
CN103540970B (en) A kind of method of non-cyanide silver coating
US2057638A (en) Process and bath for depositing ruthenium
EP3178969B1 (en) Copper-tin alloy plating bath
EP3642396B1 (en) Nickel electroplating bath for depositing a decorative nickel coating on a substrate
JP2016529395A5 (en)