JP2015212417A - Electrolytic bath for precipitation of bright nickel layer, mixture for use in electrolytic bath for precipitation of bright nickel layer and production method of article having bright nickel layer - Google Patents

Electrolytic bath for precipitation of bright nickel layer, mixture for use in electrolytic bath for precipitation of bright nickel layer and production method of article having bright nickel layer Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrolytic bath for production of a bright nickel layer on a constituent element of a part for a water conduit tube and a mixture for use in an electrolytic bath.SOLUTION: An electrolytic bath or a mixture comprises (c) benzoic acid sulfimide and/or benzoic acid sulfimide anion, (h) one or more or all the compounds selected from chloral hydrate, bromal hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate and substituted/unsubstituted aliphatic aldehydes, (a) nickel ion, (b) one ore more acids, (e) one or more acetylene-based unsaturated compounds of formula (I), (f) one or more betaines of formula (II) and (g) one or more humectants.

Description

本発明は、光沢ニッケル層の析出のための電解浴、光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための相応の混合物、対応する被加工物上にニッケルを析出させることによる光沢ニッケル層を有する物品の対応する製造方法、本発明による電解浴または本発明による混合物の、光沢ニッケル層の析出または製造のための使用、および本発明による光沢ニッケル層を含む物品に関する。   The invention relates to an electrolytic bath for depositing a bright nickel layer, a corresponding mixture for use in an electrolytic bath for depositing a bright nickel layer, and a gloss by depositing nickel on the corresponding workpiece. The invention relates to a corresponding method for producing articles having a nickel layer, the use of an electrolytic bath according to the invention or a mixture according to the invention for the deposition or production of bright nickel layers, and articles comprising the bright nickel layers according to the invention.

光沢ニッケル層の電気析出のための電解浴および方法は、従来技術から公知である。
ここで、公開番号WO93/15241A1を有する国際特許出願は、例えば、必須成分として1種または複数のニッケル塩、1種または複数の無機酸、および少なくとも2種の光沢剤を含有する水性酸性浴からニッケルを電気析出させることによるニッケルめっきされた成形部材の製造方法に関する。この公報は、更に、該方法のために使用可能な光沢剤混合物に関連している。光沢を出す物質の種類としては、
− スルホンイミド、例えば安息香酸スルフィミド、
− スルホンアミド、
− ベンゼンスルホン酸、例えばモノベンゼンスルホン酸、ジベンゼンスルホン酸およびトリベンゼンスルホン酸、
− ナフタレンスルホン酸、例えばモノナフタレンスルホン酸、ジナフタレンスルホン酸およびトリナフタレンスルホン酸、
− アルキルスルホン酸、
− スルフィン酸、
− アリールスルホンスルホナート(Arylsulfonsulfonate)、
− エチレン結合および/またはアセチレン結合を有する脂肪族化合物、例えばブチンジオール、
− 単核のおよび多核の窒素含有複素環式化合物であって、更に硫黄またはセレンなどの他のヘテロ原子を含んでよい化合物、
− クマリン、
− レベリング剤としてのアミンおよび第四級アンモニウム化合物、
− サッカリン、
が挙げられる。
Electrolytic baths and methods for the electrodeposition of bright nickel layers are known from the prior art.
Here, an international patent application having publication number WO 93/15241 A1 is for example from an aqueous acidic bath containing one or more nickel salts, one or more inorganic acids, and at least two brighteners as essential components. The present invention relates to a method for producing a nickel-plated molded member by electrodepositing nickel. This publication further relates to brightener mixtures that can be used for the process. As a kind of the substance that gives gloss,
-Sulfonimides, such as benzoic acid sulfimides,
-Sulfonamides,
Benzene sulfonic acids, such as monobenzene sulfonic acid, dibenzene sulfonic acid and tribenzene sulfonic acid,
-Naphthalenesulfonic acid, for example mononaphthalenesulfonic acid, dinaphthalenesulfonic acid and trinaphthalenesulfonic acid,
-Alkyl sulfonic acids,
-Sulfinic acid,
-Arylsulfonsulfonate,
An aliphatic compound having an ethylene bond and / or an acetylene bond, such as butynediol,
Mononuclear and polynuclear nitrogen-containing heterocyclic compounds which may further contain other heteroatoms such as sulfur or selenium,
-Coumarin,
-Amines and quaternary ammonium compounds as leveling agents,
-Saccharin,
Is mentioned.

公開番号DE19610361A1を有する独国特許出願は、半光沢ニッケルの電気析出のための浴および方法を開示している。支持体上での半光沢ニッケル層の電気析出のために、光沢剤として、1種もしくは複数の環式N−アリルアンモニウム化合物、またはN−ビニルアンモニウム化合物、特にピリジニウム化合物が使用される。前記特許文献は、それ自体もまた、半光沢ニッケルの電気析出に関連する従来技術からの一連の公報を指摘している。更に、その電解浴中で使用できる種々の化学的化合物が挙げられる。したがって、常に、少なくとも1種ないし2種の、また場合によっては複数のニッケル塩、例えば硫酸ニッケル、塩化ニッケル、フッ化ニッケルなどのニッケル塩と、少なくとも1種の無機酸、例えば硫酸またはホウ酸などの無機酸とが前記浴中に含まれている。   A German patent application with publication number DE 19610361 A1 discloses a bath and method for the electro-deposition of semi-bright nickel. For the electrodeposition of a semi-bright nickel layer on a support, one or more cyclic N-allylammonium compounds, or N-vinylammonium compounds, in particular pyridinium compounds, are used as brighteners. Said patent document itself points out a series of publications from the prior art relating to the electro-deposition of semi-bright nickel. Furthermore, various chemical compounds that can be used in the electrolytic bath are mentioned. Accordingly, there is always always at least one or two and possibly a plurality of nickel salts, such as nickel sulfate, nickel chloride, nickel fluoride and other nickel salts, and at least one inorganic acid, such as sulfuric acid or boric acid. The inorganic acid is contained in the bath.

更に、公開番号DE102008056470B3を有する独国特許は、単独で基材上に存在する金属層か、または多層金属層系の構成要素のいずれかの金属層の検査方法、およびそのような金属層の析出のために用いる析出電解液の分析管理のための方法を記載している。本発明の好ましい一実施形態においては、前記金属層は、電解析出されたニッケル層である。公開番号DE102008056470B3を有する前記独国特許の明細書の導入部において挙げられるように、電解析出された複層のニッケル層は、防食コートとして種々の材料製の部材、例えば銅製の、真鍮製のもしくは鋼製の、またはプラスチック製の部材上に施される。その際、前記複層のニッケル層は、種々の品質で決まった順序で析出される、つまり例えば半光沢性ニッケル層、光沢性ニッケル層として、任意に特に硫黄の多い中間層を伴って析出され、そして再び半光沢性ニッケル層として析出され、その層は、任意に複数の粒子と一緒に析出される。   Furthermore, the German patent having the publication number DE102008056470B3 describes a method for inspecting a metal layer, either alone or on a component of a multilayer metal layer system, and the deposition of such a metal layer. Describes a method for analytical management of the deposited electrolyte used for the purpose. In a preferred embodiment of the present invention, the metal layer is an electrolytically deposited nickel layer. As mentioned in the introductory part of the German patent specification with publication number DE102008056470B3, the electrolytically deposited multilayer nickel layer can be made of various materials as anticorrosion coating, for example copper, brass Alternatively, it is applied on a member made of steel or plastic. In that case, the multiple nickel layers are deposited in a fixed order with different qualities, i.e., for example as semi-glossy nickel layers, glossy nickel layers, optionally with a sulfur-rich intermediate layer. And again as a semi-glossy nickel layer, optionally deposited with a plurality of particles.

ニッケル析出電解液の基本組成物は、公開番号DE102008056470B3によれば、典型的には、いわゆるニッケルワット浴であり、前記浴は、ニッケルイオン、塩化物イオン、硫酸イオンおよびホウ酸を、例えば以下の組成:60g/lのNiCl2・6H2O、270g/lのNiSO4・6H2O、45g/lのH3BO3で含有する。前記析出電解液のpH値は、一般的に2.5〜6.0であり、好ましくは、3〜4.5であり、特に約4.0である。前記析出は、40〜70℃の、好ましくは50〜60℃の、特に約55℃の温度で行われる。それぞれの層は、異なる組成を有する、特に添加剤の点で異なる組成を有する析出電解液から電解析出される。基板材料上の半光沢性ベース層は、一般的には、サリチル酸、エチン誘導体、例えばヘキシンジオールもしくはブチンジオール、プロパルギルアルコール誘導体、ホルムアルデヒドおよび/もしくは抱水クロラールまたは更にはこれらの化合物の混合物を添加剤として含む。任意に析出されうる硫黄の多い光沢性もしくは艶消し性の中間層は、一般的に、サッカリン、スルホン酸および/またはエチン誘導体を添加剤として含有する。前記光沢性ニッケル層は、一般的に、添加剤として、硫黄含有化合物を、例えばトルエンスルホン酸もしくはプロパルギルスルホナートと、更にはサリチル酸の代わりにサッカリンを、またはこれらの化合物の混合物を含有する。上側の半光沢性ニッケル層は、一般的にサッカリンもしくはサッカリン塩、抱水クロラールおよび/またはホルムアルデヒドあるいは更にはこれらの化合物の混合物を添加剤として含有し、かつ任意に追加的に、例えばSiO2、Al23製の粒子を含有する。更に、前記析出電解液は、更なる添加物質、例えば光沢化剤および湿潤剤を含有しうる。 The basic composition of the nickel deposition electrolyte is, according to publication number DE102008056470B3, typically a so-called nickel watt bath, which contains nickel ions, chloride ions, sulfate ions and boric acid, for example: Composition: 60 g / l NiCl 2 .6H 2 O, 270 g / l NiSO 4 .6H 2 O, 45 g / l H 3 BO 3 The pH value of the deposited electrolyte is generally 2.5 to 6.0, preferably 3 to 4.5, and particularly about 4.0. Said precipitation is carried out at a temperature of 40 to 70 ° C., preferably 50 to 60 ° C., in particular about 55 ° C. Each layer is electrolytically deposited from a deposited electrolyte solution having a different composition, particularly having a different composition in terms of additives. The semi-gloss base layer on the substrate material generally contains salicylic acid, ethyne derivatives such as hexynediol or butynediol, propargyl alcohol derivatives, formaldehyde and / or chloral hydrate or even a mixture of these compounds Contains as an agent. Sulfur-rich glossy or matte interlayers that can optionally be deposited generally contain saccharin, sulfonic acid and / or ethyne derivatives as additives. The bright nickel layer generally contains, as additives, sulfur-containing compounds such as toluene sulfonic acid or propargyl sulfonate, saccharin instead of salicylic acid, or a mixture of these compounds. The upper semi-glossy nickel layer generally contains saccharin or a saccharin salt, chloral hydrate and / or formaldehyde or even a mixture of these compounds as additives, and optionally additionally, for example SiO 2 , Contains particles made of Al 2 O 3 . Furthermore, the deposited electrolyte may contain further additive substances such as brighteners and wetting agents.

CH514683は、「電解ニッケルめっきのための方法および電解ニッケルめっき浴」(表題)に関する。   CH 514683 relates to "Method for electrolytic nickel plating and electrolytic nickel plating bath" (title).

上述の公報およびこれらの公報に挙げられる従来技術は、個別の化合物およびそれらの組み合わせの、電気析出された半光沢ニッケル層またはニッケル層の防食性、レベリング性、延性、光沢度および被覆度に関してのそれぞれの利点を記載している。特に、それぞれのニッケル層の防食性の改善は、従来技術においては、主要な課題であり、その課題は、防食性の二重ニッケル系および三重ニッケル系の使用によって大抵は解決されるべきである。そのような系は、大抵は、半光沢ニッケル層、光沢ニッケル層およびクロム層から形成され、前記系は、半光沢ニッケル層と光沢ニッケル層との間の電位差を利用するものである。この場合に、上側のクロム層が破損すると、最初により卑性が高い光沢ニッケル層(いわゆる犠牲アノード)が、破損したクロム層を通じて到達する腐食性媒体によって攻撃され、その後に、より貴性の高い半光沢ニッケル層が、そして最終的には基材自体が攻撃される。この場合に、前記光沢ニッケル層は、硫黄含有有機成分の化学的導入に基づき、その下に存在する半光沢ニッケル層よりも卑性が高い。硫黄含有有機成分としては、その限りでは、光沢ニッケル層の成分として大抵はサッカリンが使用される。   The publications mentioned above and the prior art mentioned in these publications relate to the anticorrosion, leveling, ductility, gloss and coverage of the electrodeposited semi-bright nickel layer or nickel layer of individual compounds and combinations thereof. Each advantage is described. In particular, improving the corrosion resistance of each nickel layer is a major challenge in the prior art, and that challenge should mostly be solved by the use of anticorrosive double nickel and triple nickel systems. . Such systems are often formed from a semi-bright nickel layer, a bright nickel layer, and a chromium layer, which utilizes the potential difference between the semi-bright nickel layer and the bright nickel layer. In this case, if the upper chromium layer breaks, the first more basic bright nickel layer (so-called sacrificial anode) is attacked by the corrosive medium that reaches through the broken chromium layer, after which it is more noble The semi-bright nickel layer and ultimately the substrate itself is attacked. In this case, the bright nickel layer is based on the chemical introduction of the sulfur-containing organic component and has a higher base than the semi-bright nickel layer present thereunder. As long as the sulfur-containing organic component is used, saccharin is usually used as a component of the bright nickel layer.

それぞれのニッケル層の析出のための従来技術に開示された今までの電解浴またはニッケルめっきされた成形部材の製造方法が、電解被覆された基材の保護を顧慮して最優先的に腐食を減らすことを目的としていたならば、特に新たな飲料水指令の議決によって、最終的に、前記基材上に電解的に施された層の、その化学成分の耐マイグレーション性に関しての要求も高まっている。したがって、一般的な目的としての腐食の低減もしくは防止の他に、基材上に電解的に施された金属保護層の成分のマイグレーションの防止もしくは低減が、新たな付加的な課題もしくは要求として加わる。とりわけ、電解技術でしばしば使用される金属の1つとしてのニッケルの、基材を保護する被覆からのマイグレーションは、ニッケルが接触アレルギー(ニッケル皮膚炎)についての最もよくある誘因の一つと見なされるということに鑑みて、消費者にとって健康リスクである。この認識を顧慮しているのは、ドイツでは、なかでも2012年12月14日に発効された飲料水指令(TrinkwV 2001)の変更のための第二指令である。したがって、それぞれ調査されるべき合金もしくは被覆のいわゆる停滞試験で、1リットルの飲料水中、最高で10μgのニッケルしか放出されてはならない。今まで使用されていた被覆は、二重被覆もしくは三重被覆かに関係なく、新たな飲料水指令の要求を大多数が満たしていない。   The conventional electrolytic bath or nickel-plated molded part manufacturing method disclosed in the prior art for the deposition of the respective nickel layer is the most preferential corrosion in view of the protection of the electrolytically coated substrate. If the goal was to reduce, especially by the new drinking water directive, the requirements on the migration resistance of the chemical components of the layer applied electrolytically on the substrate will eventually increase. Yes. Therefore, in addition to reducing or preventing corrosion as a general purpose, preventing or reducing migration of components of a metal protective layer that has been electrolytically applied on a substrate is a new additional challenge or requirement. . Among other things, the migration of nickel as one of the metals often used in electrolysis technology from coatings that protect the substrate, nickel is considered one of the most common triggers for contact allergies (nickel dermatitis) In view of this, it is a health risk for consumers. Considering this recognition, in Germany, in particular, the second command for the change of the Drinking Water Command (TrinkwV 2001), which came into effect on December 14, 2012. Thus, in each so-called stagnation test of the alloy or coating to be investigated, a maximum of 10 μg of nickel must be released in one liter of drinking water. The coatings used so far, regardless of whether they are double coating or triple coating, do not meet the requirements of the new drinking water directive.

WO93/15241A1WO93 / 15241A1 DE19610361A1DE19610361A1 DE102008056470B3DE102008056470B3 CH514683CH514683

本発明の第一の課題は、特に飲料水でのニッケルマイグレーションを阻止するか、または少なくとも明らかに低減させるのに役立つ、光沢ニッケル層の析出のための電解浴および光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための対応する混合物を提供することである。
好ましくは、挙げられる電解浴または対応する混合物は、半光沢ニッケル層の特定の典型的な特性も有する光沢ニッケル層の析出を本来可能にするべきである。これらの特性の一つに、特に、柱状層構造が挙げられ、この構造は、今まで半光沢ニッケル層でのみ知られていたものであり、半光沢ニッケル層と光沢ニッケル層との間での明らかな電位差の計測により特定できるものである。したがって、そのような光沢ニッケル層とそれを閉じ込めるクロム層とから成る層系によって既に、効果的な防食性が生ずるであろう。
The first object of the present invention is to provide an electrolytic bath for the deposition of bright nickel layers and for the deposition of bright nickel layers, which helps to prevent or at least obviously reduce nickel migration, especially in drinking water. It is to provide a corresponding mixture for use in an electrolytic bath.
Preferably, the electrolytic bath or corresponding mixture mentioned should inherently allow the deposition of a bright nickel layer which also has certain typical properties of a semi-bright nickel layer. One of these properties is, in particular, the columnar layer structure, which was previously known only for the semi-bright nickel layer, and between the semi-bright and bright nickel layers. It can be identified by measuring a clear potential difference. Thus, an effective anticorrosion will already occur with a layer system consisting of such a bright nickel layer and a chromium layer confining it.

本発明によれば、課された前記の第一の課題は、添付の請求項1に記載される、光沢ニッケル層の析出のための電解浴および光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための対応する混合物によって解決される。本発明による水溶液における混合物または本発明による水溶液における電解浴は、
(c)安息香酸スルフィミドおよび/または安息香酸スルフィミド陰イオンならびに
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換の脂肪族アルデヒドから成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物、
を含む。
本発明による電解浴または本発明による混合物は、したがって、安息香酸スルフィミド(サッカリン、E954、1,2−ベンゾイソチアゾール−3(2H)−オン−1,1−ジオキシド、CAS番号:81−07−2)および/または安息香酸スルフィミド陰イオンを硫黄源として含み、その硫黄源により、本発明による電解浴または本発明による混合物を使用して製造された光沢ニッケル層は、従来技術に開示された半光沢ニッケル層よりも電気化学的に貴性が低いこととなる。
According to the invention, the first problem imposed is in an electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer and an electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer according to claim 1. Solved by the corresponding compound for use in. A mixture in an aqueous solution according to the invention or an electrolytic bath in an aqueous solution according to the invention comprises
(C) 1 selected from the group consisting of benzoic acid sulfimide and / or benzoic acid sulfimide anion and (h) chloral hydrate, bromaric hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde Species, two species, more than two species or all compounds,
including.
The electrolytic baths according to the invention or the mixtures according to the invention are therefore benzoic acid sulfimides (saccharin, E954, 1,2-benzisothiazol-3 (2H) -one-1,1-dioxide, CAS number: 81-07- 2) and / or a bright nickel layer produced using an electrolytic bath according to the invention or a mixture according to the invention with a sulfur source comprising sulfimide benzoic acid anion as a sulfur source, is disclosed in the prior art. It is electrochemically less noble than the bright nickel layer.

更に、本発明による電解浴または本発明による混合物は、抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換の脂肪族アルデヒドから成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物を、特に好ましくは抱水クロラール(トリクロロアルデヒド水和物、2,2,2−トリクロロアセトアルデヒド水和物、2,2,2−トリクロロ−1,1−エタンジオール、CAS番号:302−17−0)を含む。   Furthermore, the electrolytic bath according to the present invention or the mixture according to the present invention is one or two selected from the group consisting of chloral hydrate, bromal hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde. More than two or all compounds, particularly preferably chloral hydrate (trichloroaldehyde hydrate, 2,2,2-trichloroacetaldehyde hydrate, 2,2,2-trichloro-1,1-ethanediol) CAS number: 302-17-0).

本発明は、本発明による電解浴または本発明による混合物によって製造される光沢ニッケル層が、通例のニッケル保護層よりも明らかに少ないニッケルしか飲料水に放出しないという驚くべき知見に基づくものである。
水溶液における本発明による電解浴または本発明による混合物は、更に以下の成分:
(a)ニッケルイオン、
(b)1種または複数の酸、
(e)式(I)
The present invention is based on the surprising finding that the bright nickel layer produced by the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention releases significantly less nickel into the drinking water than the usual nickel protective layer.
The electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention in aqueous solution further comprises the following components:
(A) nickel ions,
(B) one or more acids,
(E) Formula (I)

Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1〜C4−アルキルアミノもしくはジ(C1〜C4−アルキル)アミノによって置換されたC1〜C4−アルキルまたは水素またはC1〜C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1〜C4−アルキルアミノもしくはジ(C1〜C4−アルキル)アミノによって置換されたC1〜C4−アルキルを意味する)の1種または複数のアセチレン性不飽和化合物、
(f)式(II)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C substituted by amino 4 - alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 - alkyl Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino - refers to an alkyl) one or more of acetylene Unsaturated compounds,
(F) Formula (II)

Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンから成る群から選択され、
mは、1〜24の範囲の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分岐もしくは非分岐のアルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)の1種または複数のベタイン、
(g)1種または複数の湿潤剤
を含む。
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline;
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy) one or more betaines;
(G) includes one or more wetting agents.

水溶液における本発明による電解浴または本発明による混合物(好ましくは、以下で「好ましい」とされる本発明による電解浴または本発明による混合物)は、好ましくは、更に、
(d)アリルスルホン酸および/またはアリルスルホナート
を含む。
式(II)に示される環であって、その式(II)の全てのベタインの特徴的な構成として正に荷電した窒素原子を含む環は、この場合、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンから成る群から選択される芳香族環系を指す。
The electrolysis bath according to the invention or the mixture according to the invention in an aqueous solution (preferably the electrolysis bath according to the invention or the mixture according to the invention, which is referred to below as “preferred”) is preferably further
(D) Contains allyl sulfonic acid and / or allyl sulfonate.
The ring represented by formula (II), which contains a positively charged nitrogen atom as a characteristic constituent of all betaines of formula (II), in this case is from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline Refers to the selected aromatic ring system.

ニッケルイオン(成分(a))は、その際、1種、2種、または2種を超えるニッケル塩、例えば硫酸ニッケル、塩化ニッケル、フッ化ニッケルなどのニッケル塩に由来するものであり、それらの塩は、無水形で、または種々の水和物形で本発明による電解浴または本発明による混合物の成分として企図される。更に、本発明による電解浴または本発明による混合物は、1種または複数の酸(成分(b))を含み、その際、用語「酸」とは、その都度のpH値で解離された形の化合物も、解離されていない形の化合物もいずれも含む。前記1種の酸または複数の酸は、特に電解過程でのpH値の緩衝のために用いられる。
本発明による成分の安息香酸スルフィミドおよび/または安息香酸スルフィミド陰イオン(成分(c))ならびに任意に存在するアリルスルホン酸および/またはアリルスルホナート(成分(d))は、基本光沢化剤(一次光沢化剤とも呼ばれる)である。光沢化とは、特にベース材料における凹凸の均衡化もしくはレベリングを意味し、通常は、電気析出される層において低分子の有機表面活性化合物を使用することに基づくものである。用語「レベリング」とは、例えば表面(層)上の事前の研磨後に残る(研磨条痕)ような表面(層)上の凹凸の平滑化を指す。表面(層)の研磨は、特に部品に、特に好ましくは真鍮製部品、亜鉛製部品または亜鉛ダイカスト部品に電気めっき加工前に行われる通常の加工措置である。
The nickel ions (component (a)) are then derived from one, two or more nickel salts, for example nickel salts such as nickel sulfate, nickel chloride, nickel fluoride, The salts are contemplated as components of the electrolytic baths according to the invention or the mixtures according to the invention in anhydrous form or in various hydrate forms. Furthermore, the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention comprises one or more acids (component (b)), the term “acid” being in the form dissociated at the respective pH value. Both compounds and undissociated forms of the compound are included. The acid or acids are used in particular for buffering the pH value during the electrolysis process.
The components benzoic acid sulfimide and / or benzoic acid sulfimide anion (component (c)) and optionally allyl sulfonic acid and / or allyl sulfonate (component (d)) according to the present invention comprise a basic brightener (primary Also called a brightener). Glossing means in particular the balancing or leveling of irregularities in the base material and is usually based on the use of low molecular organic surface active compounds in the electrodeposited layer. The term “leveling” refers to the smoothing of irregularities on a surface (layer), such as remaining after polishing (polishing streaks) on the surface (layer). The polishing of the surface (layer) is a usual processing measure performed before electroplating, in particular on parts, particularly preferably on brass parts, zinc parts or zinc die cast parts.

したがって、光沢化剤は、本発明による電解浴または本発明による混合物によって施されたニッケル層の電流密度領域全体での均一な分布と、延性で歪みのないニッケル層の析出とに用いられる。特に好ましくは、この場合に、成分(c)として、もしくは成分(c)において、安息香酸スルフィミド−ナトリウム塩(CAS番号:128−44−9)が使用され、かつ/または成分(d)として、もしくは成分(d)において、アリルスルホン酸−ナトリウム塩(プロパ−2−エン−1−スルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、プロパ−2−エン−1−スルホン酸−ナトリウム塩、CAS番号:2495−39−8)が使用される。
本発明による電解浴または本発明による混合物の更に挙げられる成分、例えば式(I)の1種または複数のアセチレン性不飽和化合物(成分(e))、式(II)の1種または複数のベタイン(成分(f))、および1種または複数の湿潤剤(成分(g))は、なかでも、本発明による電解浴もしくは本発明による混合物により基材上に施された光沢ニッケル層の光沢化を促進する。
The brightener is therefore used for the uniform distribution of the nickel layer applied by the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention throughout the current density region and for the deposition of a ductile and undistorted nickel layer. Particularly preferably, in this case, benzoic acid sulfimide-sodium salt (CAS No. 128-44-9) is used as component (c) or in component (c) and / or as component (d) Alternatively, in the component (d), allylsulfonic acid-sodium salt (sodium prop-2-ene-1-sulfonate, sodium allylsulfonate, prop-2-ene-1-sulfonic acid-sodium salt, CAS No .: 2495- 39-8) is used.
Further named components of the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention, such as one or more acetylenically unsaturated compounds of formula (I) (component (e)), one or more betaines of formula (II) (Component (f)), and one or more wetting agents (component (g)), among others, brightening a bright nickel layer applied on a substrate by an electrolytic bath according to the invention or a mixture according to the invention Promote.

式(II)のベタイン(成分(f))および式(I)のアセチレン性不飽和化合物(成分(e))は、同様に光沢化剤と呼ばれる(二次光沢化剤とも呼ばれる)。本発明による電解浴もしくは本発明による混合物中に含まれる湿潤剤は、電気めっき加工に際して生ずるカソードに付着する水素の迅速な除去を促進する表面張力の低下を引き起こす。
特に好ましく使用される式(I)の化合物(成分(e))は、その際、プロパルギルアルコール(2−プロピン−1−オール、CAS番号:107−19−7)、2−ブチン−1,4−ジオール(ブタ−2−イン−1,4−ジオール、1,4−ブチンジオール、ビス(ヒドロキシメタン)アセチレン、ブチンジオール、CAS番号:110−65−6)、ヘキサ−3−イン−2,5−ジオール(3−ヘキシン−2,5−ジオール、ジ(1−ヒドロキシエチル)アセチレン、ビス(1−ヒドロキシエチル)アセチレン、CAS番号:3031−66−1)および1−ジエチルアミノ−プロパ−2−イン(N,N−ジエチルプロパ−2−イン−1−アミン)である。これらの化合物は、単独でまたは組み合わせて使用することができる。
Betaines of formula (II) (component (f)) and acetylenically unsaturated compounds of formula (I) (component (e)) are likewise called brighteners (also called secondary brighteners). The wetting agent contained in the electrolytic bath according to the present invention or the mixture according to the present invention causes a reduction in surface tension that facilitates the rapid removal of hydrogen adhering to the cathode that occurs during electroplating processes.
Particularly preferably used compounds of the formula (I) (component (e)) are propargyl alcohol (2-propyn-1-ol, CAS No. 107-19-7), 2-butyne-1,4. -Diol (but-2-yne-1,4-diol, 1,4-butynediol, bis (hydroxymethane) acetylene, butynediol, CAS No. 110-65-6), hexa-3-yne-2, 5-diol (3-hexyne-2,5-diol, di (1-hydroxyethyl) acetylene, bis (1-hydroxyethyl) acetylene, CAS number: 3031-66-1) and 1-diethylamino-prop-2- In (N, N-diethylprop-2-yn-1-amine). These compounds can be used alone or in combination.

特に好ましく使用される式(II)の化合物(成分(f))は、ピリジニウムプロピルスルホベタイン(PPS、1−(3−スルホプロピル)ピリジニウムベタイン、NDSB 201、3−(1−ピリジニウム)−1−プロパンスルホナート、CAS番号:15471−17−7)および1−(2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル)ピリジニウムベタイン(PPS−OH、CAS番号:3918−73−8)である。これらの化合物は、単独でまたは互いに組み合わせて使用することができる。式(II)の好ましい化合物は、好ましくは、前記もしくは下記で好ましいとされる更なる成分と一緒に使用される。   Particularly preferably used compounds of the formula (II) (component (f)) are pyridinium propyl sulfobetaine (PPS, 1- (3-sulfopropyl) pyridinium betaine, NDSB 201, 3- (1-pyridinium) -1- Propanesulfonate, CAS number: 15471-17-7) and 1- (2-hydroxy-3-sulfopropyl) pyridinium betaine (PPS-OH, CAS number: 3918-73-8). These compounds can be used alone or in combination with each other. Preferred compounds of the formula (II) are preferably used together with further components which are preferred above or below.

本発明による電解浴は、好ましくは、以下の成分の1種、複数、もしくは全てを含むか、または本発明による混合物は、好ましくは水溶液において、以下の成分の1種、複数、もしくは全てを含む:
(b)硫酸、ホウ酸および塩酸から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸、および/またはリンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸、ならびに/あるいは
(g)1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、(i)脂肪アルコールエーテルスルファート、および/またはその塩からプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート、および/またはその塩からプロトン化により生ずる酸、
(iii) − 脂肪アルコールエーテルスルファート、および
− 脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv) − 脂肪アルコールエーテルスルファート、および
− 脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v) − 脂肪アルコールエーテルスルファート、および
− 脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、もしくはそれらから成る混合物、ならびに
(vi) − 脂肪アルコールエーテルスルファートの酸、および
− 脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、選択された1種の湿潤剤が、炭素鎖として、分岐もしくは非分岐のアルキル基を担持するか、または選択された複数の湿潤剤が、炭素鎖として、それぞれ相互に独立して、分岐もしくは非分岐のアルキル基を担持する。
The electrolytic bath according to the present invention preferably comprises one, more or all of the following components, or the mixture according to the present invention preferably comprises one, more or all of the following components in an aqueous solution: :
(B) one or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid, and / or one or more selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid An organic acid and / or (g) one or more wetting agents, wherein one or more or all of the one wetting agent or the plurality of wetting agents are (i) a fatty alcohol ether sulfate, and / or Or an acid produced by protonation from the salt,
(Ii) acids generated by protonation from fatty alcohol sulfates and / or their salts;
(Iii) a fatty alcohol ether sulfate, and a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a fatty alcohol ether sulfate, and a mixture comprising or consisting of an acid of a fatty alcohol sulfate,
(V)-fatty alcohol ether sulfate, and-a mixture comprising or consisting of an acid of fatty alcohol sulfate, and (vi)-an acid of fatty alcohol ether sulfate, and-comprising a fatty alcohol sulfate, or One selected wetting agent selected from the group consisting of a mixture of them carries a branched or unbranched alkyl group as the carbon chain, or a plurality of selected wetting agents as the carbon chain. Each independently carry a branched or unbranched alkyl group.

その代わりに、またはそれに加えて、多くの場合に、スルホコハク酸の塩(好ましくはナトリウム塩)が、本発明による電解浴または本発明による混合物における湿潤剤として好ましい。   Alternatively or additionally, salts of sulfosuccinic acid (preferably the sodium salt) are often preferred as wetting agents in the electrolytic baths or mixtures according to the invention.

使用される1種の酸または複数の酸は、その場合に特に好ましくは、硫酸、ホウ酸および塩酸から成る群から選択される。特に好ましい湿潤剤としては、C13〜C15−オキソアルコールエーテルスルファート(CAS番号:78330−30−0)が使用される。同様に好ましくは湿潤剤として、ラウリル硫酸ナトリウム(ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸−ナトリウム塩、硫酸ドデシルエステル−ナトリウム塩、SLS、SDS、NLS、CAS番号:151−21−3)が使用される。これらの化合物は、単独でもしくは組み合わせて使用でき、かつ好ましくは、前記もしくは下記で好ましいとされる更なる成分と一緒に使用される。 The acid or acids used are particularly preferably then selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid. Particularly preferred wetting agents, C 13 ~C 15 - oxo alcohol ether sulfates (CAS Number: 78330-30-0) is used. Similarly, sodium lauryl sulfate (sodium dodecyl sulfate, dodecyl sulfate-sodium salt, dodecyl sulfate-sodium salt, SLS, SDS, NLS, CAS number: 151-21-3) is preferably used as a wetting agent. These compounds can be used alone or in combination and are preferably used together with further components which are preferred above or below.

好ましくは、本発明による電解浴または本発明による混合物は、上記のように、脂肪アルコールエーテルスルファートおよび/または脂肪アルコールスルファートおよび/または脂肪アルコールエーテルスルファートの酸および/または脂肪アルコールスルファートの酸を含み、その際、
前記脂肪アルコールエーテルスルファートは、式(III)
Preferably, the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention comprises, as described above, the fatty alcohol ether sulfate and / or the fatty alcohol ether sulfate and / or the fatty alcohol ether sulfate acid and / or the fatty alcohol sulfate. Containing acid,
The fatty alcohol ether sulfate has the formula (III)

Figure 2015212417
(III)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲の整数を意味し、かつ
4は、炭素原子1〜20個を有する分岐もしくは非分岐のアルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)の脂肪アルコールエーテルスルファート、および/もしくはその塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択され、かつ/または
前記脂肪アルコールスルファートが、式(IV)
Figure 2015212417
(III)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer in the range of 1 to 24, and R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
X is selected from the group consisting of fatty alcohol ether sulfates selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 , and / or acids formed by protonation from salts thereof; and / Or the fatty alcohol sulfate is of the formula (IV)

Figure 2015212417
(IV)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲の整数を意味し、かつ
4は、炭素原子1〜20個を有する分岐もしくは非分岐のアルキル基を意味し、かつ
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)の脂肪アルコールスルファート、および/もしくはその塩からプロトン化によって生成する脂肪アルコールスルファートの酸
から成る群から選択される。
Figure 2015212417
(IV)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer ranging from 1 to 24, and R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and X represents Li, Na, K, Rb, Selected from the group consisting of Cs and NH 4 ) and / or the acids of fatty alcohol sulfates produced by protonation from salts thereof.

式(IV)の特に好ましい化合物は、その場合に2−エチルヘキシル硫酸−ナトリウム塩(CAS:126−92−1)およびラウリル硫酸ナトリウム(上記参照)である。これらの化合物は、単独でもしくは組み合わせて使用でき、かつ好ましくは、前記もしくは下記で好ましいとされる更なる成分と一緒に使用される。
好ましくは、本発明による電解浴もしくは本発明による混合物(好ましくは、前記で「好ましい」とされた本発明による電解浴もしくは本発明による混合物)は、その他に上述された成分に加えて、
(i)式(V)
Particularly preferred compounds of the formula (IV) are in this case 2-ethylhexyl sulphate-sodium salt (CAS: 126-92-1) and sodium lauryl sulphate (see above). These compounds can be used alone or in combination and are preferably used together with further components which are preferred above or below.
Preferably, the electrolysis bath according to the invention or the mixture according to the invention (preferably the electrolysis bath according to the invention or the mixture according to the invention, which has been referred to as “preferred” above), in addition to the other components mentioned above,
(I) Formula (V)

Figure 2015212417
(V)
,
(式中、
Figure 2015212417
は、シスもしくはトランス配置の二重結合または三重結合を意味し、かつ
5は、ヒドロキシによって置換されたC1〜C4−アルキルまたは水素またはCH2OR6を意味し、
6は、ヒドロキシによって置換されたC1〜C4−アルキルまたは水素またはスルホン酸残基もしくはその塩を意味し、その際、
5およびR6は、同時に水素を意味することはなく、かつ
破線は、単結合を意味する)の1種または複数の化合物
を含む。
Figure 2015212417
(V)
,
(Where
Figure 2015212417
Means a double or triple bond in the cis or trans configuration, and R 5 means C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or CH 2 OR 6 substituted by hydroxy,
R 6 means C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or a sulfonic acid residue or a salt thereof,
R 5 and R 6 do not mean hydrogen at the same time and the dashed line means a single bond).

2−ブチン−1,4−ジオールエトキシラート(2,2’−(ブタ−2−イン−1,4−ジイルビス(オキシ))ビス(エタン−1−オール))、2−ブチン−1,4−ジオールプロポキシラート(4−(3−ヒドロキシプロポキシ)ブタ−2−イン−1−オール)、プロパルギルアルコールエトキシラート(2−(プロパ−2−イン−1−イルオキシ)エタン−1−オール)、プロパルギルスルホン酸ナトリウム(プロパ−2−イン−1−イル亜硫酸−ナトリウム塩、CAS番号:55947−46−1)およびビニルスルホン酸ナトリウム(SVS、ナトリウムエチレンスルホナート、ビニルスルホン酸−ナトリウム塩、エチレンスルホン酸−ナトリウム塩、CAS番号:3039−83−6)から成る群から選択される式(V)の化合物が特に好ましい。これらの化合物は、単独でまたは組み合わせて使用でき、かつ好ましくは、前記または下記で好ましいとされる更なる成分と一緒に使用される。   2-butyne-1,4-diol ethoxylate (2,2 ′-(but-2-yne-1,4-diylbis (oxy)) bis (ethane-1-ol)), 2-butyne-1,4 Diol propoxylate (4- (3-hydroxypropoxy) but-2-yn-1-ol), propargyl alcohol ethoxylate (2- (prop-2-yn-1-yloxy) ethane-1-ol), propargyl Sodium sulfonate (prop-2-yn-1-ylsulfite-sodium salt, CAS number: 55947-46-1) and sodium vinyl sulfonate (SVS, sodium ethylene sulfonate, vinyl sulfonic acid-sodium salt, ethylene sulfonic acid) A compound of formula (V) selected from the group consisting of sodium salts, CAS number: 3039-83-6) It is particularly preferred. These compounds can be used alone or in combination and are preferably used together with further components which are preferred above or below.

実際に特に好ましい電解浴は、以下の成分を含むか、または実際に特に好ましい混合物は、水溶液において、以下の成分の1種、複数、もしくは全てを含む(示される濃度で):
(a)全量1.12〜1.67mol/Lのニッケルイオン、
ならびに/あるいは
(b)全量0.485〜0.97mol/Lの、硫酸、ホウ酸および塩酸から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸、および/またはリンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸、
ならびに/あるいは
(c)全量0.0055〜0.0274mol/Lの安息香酸スルフィミドおよび安息香酸スルフィミド陰イオン、
ならびに/あるいは
(d)全量0.006〜0.025mol/Lのアリルスルホン酸およびアリルスルホナート、
ならびに/あるいは
(e)全量0.00036〜0.1438mol/Lの、式(I)
In practice particularly preferred electrolytic baths comprise the following components, or indeed particularly preferred mixtures comprise one, several or all of the following components in aqueous solution (at the concentrations indicated):
(A) nickel ions having a total amount of 1.12 to 1.67 mol / L,
And / or (b) one or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid, and / or malic acid, citric acid, lactic acid and a total amount of 0.485 to 0.97 mol / L One or more organic acids selected from the group consisting of amidosulfonic acids,
And / or (c) a total amount of 0.0055-0.0274 mol / L benzoic acid sulfimide and benzoic acid sulfimide anion,
And / or (d) allyl sulfonic acid and allyl sulfonate in a total amount of 0.006 to 0.025 mol / L,
And / or (e) a total amount of 0.00036 to 0.1438 mol / L of formula (I)

Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1〜C4−アルキルアミノもしくはジ(C1〜C4−アルキル)アミノによって置換されたC1〜C4−アルキルまたは水素またはC1〜C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1〜C4−アルキルアミノもしくはジ(C1〜C4−アルキル)アミノによって置換されたC1〜C4−アルキルを意味する)の1種または複数のアセチレン性不飽和化合物、
ならびに/あるいは
(f)全量0.00025〜0.0025mol/Lの、式(II)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C substituted by amino 4 - alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 - alkyl Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino - refers to an alkyl) one or more of acetylene Unsaturated compounds,
And / or (f) a total amount of 0.00025 to 0.0025 mol / L of formula (II)

Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンから成る群から選択され、かつ
mは、1〜24の範囲の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分岐もしくは非分岐のアルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)の1種もしくは複数のベタイン、
ならびに/あるいは
(g)全量0.0006〜0.025mol/Lの1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、(i)脂肪アルコールエーテルスルファート、および/またはその塩からプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート、および/またはその塩からプロトン化によって生成する酸、
(iii) − 脂肪アルコールエーテルスルファート、および
− 脂肪アルコールスルファート
を含む、もしくはそれらから成る混合物、
(iv) − 脂肪アルコールエーテルスルファートの酸、および
− 脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、もしくはそれらから成る混合物、
(v) − 脂肪アルコールエーテルスルファート、および
− 脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、もしくはそれらから成る混合物、ならびに
(vi) − 脂肪アルコールエーテルスルファートの酸、および
− 脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、脂肪アルコールエーテルスルファートが、式(III)
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline, and m represents an integer ranging from 1 to 24;
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy) one or more betaines;
And / or (g) one or more wetting agents in a total amount of 0.0006 to 0.025 mol / L, wherein one or more or all of the one wetting agent or the plurality of wetting agents are (i) Acids produced by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or their salts;
(Ii) acids produced by protonation from fatty alcohol sulfates and / or their salts;
(Iii) a fatty alcohol ether sulfate, and a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a fatty alcohol ether sulfate acid, and a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol sulfate acid,
(V)-fatty alcohol ether sulfate, and-a mixture comprising or consisting of an acid of fatty alcohol sulfate, and (vi)-an acid of fatty alcohol ether sulfate, and-comprising a fatty alcohol sulfate, or A fatty alcohol ether sulfate selected from the group consisting of a mixture comprising them of the formula (III)

Figure 2015212417
(III)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲の整数を意味し、かつ
4は、炭素原子1〜20個を有する分岐もしくは非分岐のアルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)の脂肪アルコールエーテルスルファート、および/もしくはその塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択され、かつ/または
脂肪アルコールスルファートが、式(IV)
Figure 2015212417
(III)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer in the range of 1 to 24, and R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
X is selected from the group consisting of fatty alcohol ether sulfates selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 , and / or acids formed by protonation from salts thereof; and / Or fatty alcohol sulfate is of formula (IV)

Figure 2015212417
(IV)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分岐もしくは非分岐のアルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)の脂肪アルコールスルファート、および/もしくはその塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択される湿潤剤、ならびに/あるいは
(h)全量0.003〜0.018mol/Lの、抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換の脂肪族アルデヒドから成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物、
ならびに/あるいは
(i)全量0〜0.0025mol/Lの、式(V)
Figure 2015212417
(IV)
,
(In the formula, each independently,
n means an integer in the range of 1-24,
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 ) and / or a wetting agent selected from the group consisting of acids formed by protonation from salts thereof And / or (h) selected from the group consisting of chloral hydrate, bromal hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde in a total amount of 0.003 to 0.018 mol / L. One, two, more than two or all compounds,
And / or (i) a total amount of 0-0.0025 mol / L, formula (V)

Figure 2015212417
(V)
,
(式中、
Figure 2015212417
は、シスもしくはトランス配置の二重結合または三重結合を意味し、
5は、ヒドロキシによって置換されたC1〜C4−アルキルまたは水素またはCH2OR6を意味し、
6は、ヒドロキシによって置換されたC1〜C4−アルキルまたは水素またはスルホン酸残基もしくはその塩を意味するが、
但し、R5およびR6は、同時に水素を意味せず、かつ
但し、破線は、単結合を意味する)の1種または複数の化合物。
Figure 2015212417
(V)
,
(Where
Figure 2015212417
Means a double or triple bond in the cis or trans configuration;
R 5 means C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or CH 2 OR 6 ,
R 6 represents C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or a sulfonic acid residue or salt thereof,
Wherein R 5 and R 6 do not mean hydrogen at the same time, and the broken line means a single bond).

上述の成分(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)および(i)の全てを、上述の濃度で含有する本発明による電解浴または本発明による混合物が特に一層好ましい。   The present invention contains all of the above-mentioned components (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h) and (i) at the above-mentioned concentrations. Particularly preferred are electrolytic baths or mixtures according to the invention.

実際に特に好ましい本発明による電解浴または特に好ましい本発明による混合物の個々の上述の成分は、電気めっき法の過程に応じて、かつ上述の成分のそれぞれの消費に依存して、本発明による電解浴または本発明による混合物へと、管理分析により(例えばHPLC分析によって)必要に応じて供給される。
もちろん、本発明による電解浴または本発明による混合物は、陽イオンの存在下で電荷補償のために必要な量の対イオンを含む。
In practice, the individual components mentioned above of the electrolytic baths according to the invention or the particularly preferred mixtures according to the invention depend on the course of the electroplating process and on the respective consumption of the components described above. To the bath or the mixture according to the invention, it is fed as needed by means of management analysis (for example by HPLC analysis).
Of course, the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention contains the necessary amount of counterions for charge compensation in the presence of cations.

好ましくは、本発明による電解浴または本発明による混合物(好ましくは、前記で「好ましい」とされた本発明による電解浴または本発明による混合物)は、その他に上述された成分に加えて、F-、Cl-、Br-、I-、SO4 2-、OH-およびClO4 -から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての陰イオンを含有する。
好ましくは、本発明による電解浴もしくは本発明による混合物は、更に、Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Mg2+、Ca2+およびSr2+から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての陽イオンを含有する。
実際に特に好ましい本発明による電解浴または特に好ましい本発明による混合物は、
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ホルムアルデヒドおよびアセトアルデヒド、
から成る群から選択される1種、2種、または全ての化合物
を含み、その際、前記1種の化合物または複数の化合物の1種は、抱水クロラールであることが特に好ましい。
Preferably, the mixture (preferably, the mixtures according to the electrolytic bath according to the invention or the invention as a "preferred" above) by the electrolytic bath according to the invention or the invention, in addition to the above ingredients other, F - , Cl , Br , I , SO 4 2− , OH and ClO 4 , containing one, two, more than one or all anions.
Preferably, the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention is further selected from the group consisting of Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Mg 2+ , Ca 2+ and Sr 2+. Contains one, two, more, or all cations.
Actually particularly preferred electrolytic baths according to the invention or particularly preferred mixtures according to the invention are
(H) chloral hydrate, bromomar hydrate, formaldehyde and acetaldehyde,
It is particularly preferable that one, two or all compounds selected from the group consisting of: chloral hydrate is one of the one compound or compounds.

実際には、単相溶液である本発明による電解浴または本発明による混合物が特に一層好ましい。
懸濁された酸化ケイ素粒子および酸化アルミニウム粒子を含まない本発明による電解浴もしくは本発明による混合物が特に好ましい。
懸濁された酸化物粒子を含まない本発明による電解浴または本発明による混合物が特に一層好ましい。
また、本発明による電解浴または本発明による混合物であって、前記電解浴または混合物中に懸濁された粒子を含まないものが好ましい。
In practice, an electrolytic bath according to the invention or a mixture according to the invention which is a single-phase solution is even more particularly preferred.
Particular preference is given to an electrolytic bath according to the invention or a mixture according to the invention which does not contain suspended silicon oxide particles and aluminum oxide particles.
Particularly preferred are electrolytic baths according to the invention or mixtures according to the invention which do not contain suspended oxide particles.
Moreover, the electrolytic bath according to the present invention or the mixture according to the present invention, which does not contain particles suspended in the electrolytic bath or the mixture, is preferable.

2.8〜5.2、好ましくは3.8〜4.8の範囲のpH値を有する本発明による電解浴または本発明による混合物が特に好ましい。そのようなpH値と好適な温度において、好ましい本発明による電解浴もしくは好ましい本発明による混合物の個々の成分は、特に良好な水溶性を示す。
幾つかの成分を混合することによって製造できる、本発明による電解浴または本発明による混合物が特に一層好ましく、その際、前記幾つかの成分は、
(a1)硫酸ニッケル、
(a2)塩化ニッケル、
(b1)ホウ酸、
(c1)安息香酸スルフィミド−ナトリウム塩、
(d1)アリルスルホン酸−ナトリウム塩、
(e1)2−プロピン−1−オール、
(e2)1−ジエチルアミノ−プロパ−2−イン、
(e3)ヘキサ−3−イン−2,5−ジオール、
(f1)ピリジニウムプロピルスルホベタイン、
(g−VI)式(VI)
Particular preference is given to electrolytic baths according to the invention or mixtures according to the invention having a pH value in the range from 2.8 to 5.2, preferably 3.8 to 4.8. At such pH values and suitable temperatures, the individual components of the preferred electrolytic baths according to the invention or the preferred mixtures according to the invention exhibit particularly good water solubility.
Particularly preferred are electrolytic baths according to the invention or mixtures according to the invention, which can be produced by mixing several components, wherein the several components are
(A1) nickel sulfate,
(A2) nickel chloride,
(B1) boric acid,
(C1) Benzoic acid sulfimide-sodium salt,
(D1) allylsulfonic acid-sodium salt,
(E1) 2-propyn-1-ol,
(E2) 1-diethylamino-prop-2-yne,
(E3) hexa-3-yne-2,5-diol,
(F1) pyridinium propyl sulfobetaine,
(G-VI) Formula (VI)

Figure 2015212417
(VI)
,
(式中、nは、1〜24の範囲の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する飽和で分岐もしくは飽和非分岐のアルキル基を意味する)の脂肪アルコールエーテルスルファートのナトリウム塩、
(h1)抱水クロラール、
(i1)プロパ−2−イン−1−オール−エトキシナート
から成る群から選択される。
Figure 2015212417
(VI)
,
(In the formula, n means an integer in the range of 1 to 24,
R 4 represents a saturated, branched or saturated unbranched alkyl group having 1-20 carbon atoms) fatty alcohol ether sulfate sodium salt,
(H1) Chloral hydrate,
(I1) Selected from the group consisting of prop-2-yn-1-ol-ethoxynate.

幾つかの成分の混合によって製造できる、本発明による電解浴(好ましくは、前記で「好ましい」とされた本発明による電解浴)が更に特に一層好ましく、その際、前記幾つかの成分は、
(a)全量1.12〜1.67mol/Lのニッケルイオン、
(b1)全量0.485〜0.97mol/Lのホウ酸、
(c)全量0.0055〜0.0274mol/Lの安息香酸スルフィミド陰イオン、
(d)全量0.006〜0.025mol/Lのアリルスルホナート、
(e1)全量0.00036〜0.0089mol/Lの2−プロピン−1−オール、
(e2)全量0〜0.0045mol/Lの1−ジエチルアミノ−プロパ−2−イン、
(e3)全量0〜0.0088mol/Lのヘキサ−3−イン−2,5−ジオール、
(f1)全量0.00025〜0.0025mol/Lのピリジニウムプロピルスルホベタイン、
(g)全量0.0006〜0.025mol/Lの、式(VI)
Even more particularly preferred are electrolytic baths according to the present invention (preferably electrolytic baths according to the present invention which have been referred to as “preferred” above), which can be prepared by mixing several components,
(A) nickel ions having a total amount of 1.12 to 1.67 mol / L,
(B1) boric acid having a total amount of 0.485 to 0.97 mol / L,
(C) A total amount of 0.0055 to 0.0274 mol / L benzoic acid sulfimide anion,
(D) Allyl sulfonate having a total amount of 0.006 to 0.025 mol / L,
(E1) 2-propyn-1-ol in a total amount of 0.00036 to 0.0089 mol / L,
(E2) 1-diethylamino-prop-2-yne in a total amount of 0-0.0045 mol / L,
(E3) 0-3-0.0088 mol / L of hexa-3-yne-2,5-diol,
(F1) pyridinium propyl sulfobetaine having a total amount of 0.00025 to 0.0025 mol / L,
(G) Formula (VI) of total amount 0.0006-0.025 mol / L

Figure 2015212417
(VI)
,
(式中、
nは、それぞれ独立して、1〜24の範囲の整数を意味し、
4は、それぞれ独立して、炭素原子1〜20個を有する飽和分岐もしくは飽和非分岐のアルキル基を意味する)の脂肪アルコールエーテル硫酸のナトリウム塩、
(h1)全量0.003〜0.018mol/Lの抱水クロラール、
および
(i1)全量0〜0.0025mol/Lのプロパ−2−イン−1−オール−エトキシナート
から成る群から選択される。
Figure 2015212417
(VI)
,
(Where
each n independently represents an integer in the range of 1-24,
R 4 each independently represents a saturated branched or saturated unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) fatty alcohol ether sulfate sodium salt,
(H1) chloral hydrate having a total amount of 0.003 to 0.018 mol / L,
And (i1) selected from the group consisting of prop-2-yn-1-ol-ethoxynate in a total amount of 0-0.0025 mol / L.

この場合、全ての濃度表記は、電解浴を基準とするものである。
本発明は、また、対応する被加工物上へのニッケルの析出による、光沢ニッケル層を有する物品の製造方法であって、以下のステップ:
(a)前記請求項のうちのいずれか1項に記載の電解浴または混合物を準備および/または製造することステップ、
(b)準備または製造された電解浴または混合物から被加工物上にニッケルを電気析出させて、光沢ニッケル層を製造するステップ、
を有する方法に関する。
In this case, all concentration notations are based on the electrolytic bath.
The present invention is also a method for producing an article having a bright nickel layer by depositing nickel on a corresponding workpiece, comprising the following steps:
(A) preparing and / or producing an electrolytic bath or mixture according to any one of the preceding claims;
(B) Electrodepositing nickel on the work piece from the prepared or manufactured electrolytic bath or mixture to produce a bright nickel layer;
Relates to a method comprising:

好ましくは、本発明による方法において、前記電解浴または混合物の温度はステップ(b)において、40〜70℃の範囲、好ましくは50〜60℃の範囲にある。そのような温度において、好ましい本発明による電解浴もしくは好ましい本発明による混合物の個々の成分は、特に良好な水溶性を示す。   Preferably, in the process according to the invention, the temperature of the electrolytic bath or mixture is in the range from 40 to 70 ° C., preferably in the range from 50 to 60 ° C., in step (b). At such a temperature, the individual components of the preferred electrolytic bath according to the invention or the preferred inventive mixture exhibit particularly good water solubility.

好ましくは、本発明による方法ではステップ(b)において、光沢ニッケル層が、被加工物の銅、黄銅または亜鉛表面上に析出される。
前記物品が導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素である本発明による方法が特に一層好ましい。
上記説明の被加工物の表面上への析出が行われ、この表面が該被加工物の光沢ニッケル層の一部である本発明による方法が更に特に好ましい。
以下の追加のステップ:
(c)更なる金属層を、光沢ニッケル層上に析出させるステップ、好ましくは電気析出させるステップ、好ましくはクロム層を光沢ニッケル層上に電気析出させるステップ、
を有する本発明による方法が特に一層好ましい。
本発明による方法において前記本発明による電解浴中に空気を吹き込むこと、および/またはニッケルが電気析出されるべき被加工物を前記電解浴もしくは混合物中で動かすことが好ましい。本発明による電解浴もしくは本発明による混合物において空気を吹き込むことも被加工物を動かすことも、この場合に、ニッケルが電気析出されるべき被加工物表面上でのより良好な電解質交換に役立つ。
Preferably, in the method according to the invention, in step (b), a bright nickel layer is deposited on the copper, brass or zinc surface of the workpiece.
Particularly preferred is a method according to the invention, wherein the article is a component of a conduit or a component of a component for a conduit.
Even more particularly preferred is the process according to the invention in which the above-described deposition on the surface of the workpiece takes place and this surface is part of the bright nickel layer of the workpiece.
The following additional steps:
(C) depositing a further metal layer on the bright nickel layer, preferably electrodepositing, preferably electrodepositing a chromium layer on the bright nickel layer;
Particularly preferred is the process according to the invention having
In the process according to the invention, it is preferred to blow air into the electrolytic bath according to the invention and / or to move the workpiece in which nickel is to be electrodeposited in the electrolytic bath or mixture. Blowing air or moving the workpiece in the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention, in this case, serves for a better electrolyte exchange on the workpiece surface on which nickel is to be electrodeposited.

電解的ニッケル析出を、所定の目的のために十分な耐酸性ライニング(例えばPVC)を有する鋼製容器中、またはプラスチック製容器中で行う本発明による方法が更に好ましい。
本発明による電解浴もしくは本発明による混合物の前記定義の(好ましい)成分は、通常は、脱塩水中で50℃の温度で撹拌しながら溶解される。アノード材料としては、金属ニッケルが、板形、正方形、もしくは王冠形で、またはその他の適した形で使用される。ニッケルめっきされる被加工物は、カソードとして接続され、そしてそれらの電極には、通常、整流器を介して直流が供給される。必要な電流量は、一般的に、カソード表面1dm2当たりに2〜8アンペア(A/dm2)である。カソードとして接続された被加工物上でのニッケルの析出速度は、一般に、5A/dm2の電流量で約1μmニッケル/分である。カソード表面での最適な電解質交換を保証するために、しばしばカソードを動かす必要がある(電解液に対しての相対的な動き)。その代わりに、またはそれに加えて、本発明による電解浴または本発明による混合物の循環は、圧縮空気の吹き込みによって行うことができる(空気の動き)。進行する方法の間に、一般に、本発明による電解浴もしくは本発明による混合物の濾過が必要である。
Even more preferred is the process according to the invention in which the electrolytic nickel deposition is carried out in a steel vessel with sufficient acid-resistant lining (for example PVC) for a given purpose, or in a plastic vessel.
The above-defined (preferred) components of the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention are usually dissolved with stirring at a temperature of 50 ° C. in demineralized water. As the anode material, metallic nickel is used in the form of a plate, square or crown, or other suitable form. The workpieces to be nickel plated are connected as cathodes and their electrodes are usually supplied with direct current via a rectifier. The amount of current required is typically 2-8 amps (A / dm 2 ) per dm 2 of cathode surface. The deposition rate of nickel on the workpiece connected as the cathode is generally about 1 μm nickel / min with a current amount of 5 A / dm 2 . It is often necessary to move the cathode (relative to the electrolyte) to ensure optimal electrolyte exchange at the cathode surface. Alternatively or additionally, the circulation of the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention can be effected by blowing in compressed air (air movement). During the process proceeding, it is generally necessary to filter the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention.

同様に本発明による方法の一部としての、上記の本発明による電解浴もしくは本発明による混合物の組成の分析管理は、好ましくは、酸濃度および塩化物濃度の場合には滴定によって行われ、光沢化剤濃度の場合にはHPLC分析によって行われ、湿潤剤の場合には表面張力の測定によって行われ、そしてニッケル(イオン)濃度の場合には化学的分析もしくはAAS(原子吸収分光分析法)によって行われる。原子吸収分光分析法(AAS)によって、更に、前記電解浴または混合物中に存在することがある不純物金属の濃度を測定できる。
本発明は、また、上記の電解浴または混合物の、光沢ニッケル層の析出または製造のための使用に関する。本発明による浴または混合物の好ましい実施形態についての上記説明は対応することが当てはまる。
Similarly, the analytical control of the composition of the electrolytic bath according to the invention or the mixture according to the invention as part of the method according to the invention is preferably carried out by titration in the case of acid and chloride concentrations, and gloss In the case of agent concentration, it is done by HPLC analysis, in the case of wetting agent, it is done by measuring surface tension, and in the case of nickel (ion) concentration, by chemical analysis or AAS (atomic absorption spectroscopy) Done. Atomic absorption spectroscopy (AAS) can further measure the concentration of impurity metals that may be present in the electrolytic bath or mixture.
The invention also relates to the use of the above electrolytic bath or mixture for the deposition or production of bright nickel layers. The above description for the preferred embodiments of the bath or mixture according to the invention applies accordingly.

本発明は、更に、上記の電解浴または混合物の、導水導管用の部品の構成要素上での光沢ニッケル層の析出または製造のための使用に関する。本発明による浴または混合物の好ましい実施形態についての上記説明は対応することが当てはまる。
また、本発明は、光沢ニッケル層を含む物品、特に好ましくは導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素であって、光沢ニッケル層が、
− 対応する被加工物上に、上記の電解浴または混合物を使用してニッケルを析出させることによって、または
− 上記の方法によって、
製造できる物品、特に好ましくは導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素に関する。
The invention further relates to the use of the electrolytic bath or mixture as described above for the deposition or production of a bright nickel layer on components of a conduit component. The above description for the preferred embodiments of the bath or mixture according to the invention applies accordingly.
The invention also relates to an article comprising a bright nickel layer, particularly preferably a component of a conduit or a component for a conduit, wherein the bright nickel layer is
By depositing nickel on the corresponding workpiece using the electrolytic bath or mixture described above, or by the method described above
Articles that can be manufactured, particularly preferably components of conduits or components of components for water conduits.

以下に、様々な具体的な態様により本発明をより詳細に説明する:
1. 光沢ニッケル層の析出のための電解浴、または光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための混合物であって、混合物が水溶液中に、または電解浴が水溶液中に、
(c)安息香酸スルフィミドおよび/または安息香酸スルフィミド陰イオン
ならびに
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒド
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物
を含み、
電解浴が以下の成分を追加的に含むか、または混合物が以下の成分を追加的に含む、電解浴または混合物:
(a)ニッケルイオン、
(b)1種または複数の酸、
(e)式(I)
In the following, the invention is described in more detail by means of various specific embodiments:
1. An electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, or a mixture for use in an electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, wherein the mixture is in an aqueous solution, or the electrolytic bath is in an aqueous solution,
(C) benzoic acid sulfimide and / or benzoic acid sulfimide anion and (h) one selected from the group consisting of chloral hydrate, bromal hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde Including two, more than two or all compounds,
Electrolytic bath or mixture wherein the electrolytic bath additionally comprises the following components or the mixture additionally comprises the following components:
(A) nickel ions,
(B) one or more acids,
(E) Formula (I)

Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、
(f)式(II)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 represents C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy, amino, C 1 -C 4 -alkylamino or di (C 1 -C 4 -alkyl) amino. Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds of
(F) Formula (II)

Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択され、
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、
(g)1種または複数の湿潤剤。
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline;
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines of
(G) one or more wetting agents.

2. 電解浴が、以下の成分を含むか、または混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数または全てを含む、態様1に記載の電解浴または混合物:
(b)硫酸、ホウ酸および塩酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸
および/または
リンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸
ならびに/あるいは
(g)1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、
(i)脂肪アルコールエーテルスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(iii)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物
ならびに
(vi)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、
選択された1種の湿潤剤が、炭素鎖として分枝もしくは非分枝アルキル基を担持するか、または選択された複数の湿潤剤が、炭素鎖として、それぞれ相互に独立して、分枝もしくは非分枝アルキル基を担持し、
かつ/あるいは1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、スルホコハク酸の塩から成る群から選択される湿潤剤。
3. 脂肪アルコールエーテルスルファートが、式(III)
2. An electrolytic bath or mixture according to embodiment 1, wherein the electrolytic bath comprises the following components or the mixture comprises one, more than one or all of the following components in an aqueous solution:
(B) one or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid and / or one or more organics selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid An acid and / or (g) one or more wetting agents, wherein one or more or all of the one wetting agent or the plurality of wetting agents are:
(I) acids produced by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof,
(Ii) acids produced by protonation from fatty alcohol sulfates and / or their salts,
(Iii) a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acid and fatty alcohol sulfate acid;
(V) a group comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfates and fatty alcohol sulfate acids and (vi) a group comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acids and fatty alcohol sulfates Selected from
One selected wetting agent carries a branched or unbranched alkyl group as a carbon chain, or a plurality of selected wetting agents as a carbon chain, each independently, branched or Carrying an unbranched alkyl group,
And / or one wetting agent or one or more or all of the plurality of wetting agents selected from the group consisting of salts of sulfosuccinic acid.
3. The fatty alcohol ether sulfate is of the formula (III)

Figure 2015212417
(III)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)
の脂肪アルコールエーテルスルファート
および/もしくは
その塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択され、
かつ/または
脂肪アルコールスルファートが、式(IV)
Figure 2015212417
(III)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 )
Selected from the group consisting of acids formed by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof;
And / or the fatty alcohol sulfate is of the formula (IV)

Figure 2015212417
(IV)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4
から成る群から選択される)
の脂肪アルコールスルファート
および/もしくは
その塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択される、態様2に記載の電解浴または混合物。
4. 電解浴が、以下の成分を追加的に含むか、または混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数もしくは全てを追加的に含む、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物:
(i)式(V)
Figure 2015212417
(IV)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4
Selected from the group consisting of
The electrolytic bath or mixture according to embodiment 2, selected from the group consisting of acids formed by protonation from fatty alcohol sulfates and / or salts thereof.
4). The electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, wherein the electrolytic bath additionally comprises the following components or the mixture additionally comprises one, more or all of the following components in an aqueous solution:
(I) Formula (V)

Figure 2015212417
(V)
,
(式中、
Figure 2015212417
(V)
,
(Where

Figure 2015212417
は、シスもしくはトランス配置の二重結合または三重結合を意味し、
5は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはCH2OR6を意味し、
6は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはスルホン酸基もしくはその塩を意味するが、
但し、R5およびR6は、同時には水素を意味せず、かつ
但し、破線は単結合を意味する)
の1種または複数の化合物。
Figure 2015212417
Means a double or triple bond in the cis or trans configuration;
R 5 means C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or CH 2 OR 6
R 6 represents C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or a sulfonic acid group or a salt thereof,
R 5 and R 6 do not mean hydrogen at the same time, and the broken line means a single bond)
One or more compounds of

5. 電解浴が、以下の成分を含むか、または混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数もしくは全てを含む、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物:
(a)全量1.12〜1.67mol/Lのニッケルイオン、ならびに/あるいは
(b)全量0.485〜0.97mol/Lの、
硫酸、ホウ酸および塩酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸、および/または
リンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸、ならびに/あるいは
(c)全量0.0055〜0.0274mol/Lの安息香酸スルフィミドおよび安息香酸スルフィミド陰イオン、ならびに/あるいは
(d)全量0.006〜0.025mol/Lのアリルスルホン酸およびアリルスルホナート、ならびに/あるいは
(e)全量0.00036〜0.1438mol/Lの、式(I)
5. An electrolytic bath or mixture according to one of the previous embodiments, wherein the electrolytic bath comprises the following components or the mixture comprises one, more than one or all of the following components in an aqueous solution:
(A) a total amount of 1.12 to 1.67 mol / L nickel ions, and / or (b) a total amount of 0.485 to 0.97 mol / L,
One or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid, and / or one or more organic acids selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid, And / or (c) a total amount of 0.0055 to 0.0274 mol / L of benzoic acid sulfimide and benzoic acid sulfimide anion, and / or (d) a total amount of 0.006 to 0.025 mol / L of allyl sulfonic acid and allyl sulfo And (e) a total amount of 0.00036 to 0.1438 mol / L of formula (I)

Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、ならびに/あるいは
(f)全量0.00025〜0.0025mol/Lの、式(II)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 represents C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy, amino, C 1 -C 4 -alkylamino or di (C 1 -C 4 -alkyl) amino. Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds and / or (f) a total amount of 0.00025-0.0025 mol / L of formula (II)

Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択され、
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、ならびに/あるいは
(g)全量0.0006〜0.025mol/Lの1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、
(i)脂肪アルコールエーテルスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(iii)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
ならびに
(vi)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、脂肪アルコールエーテルスルファートが、式(III)
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline;
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines and / or (g) one or more wetting agents in a total amount of 0.0006 to 0.025 mol / L, wherein one or more wetting agents or one or more wetting agents or Multiple or all
(I) acids produced by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof,
(Ii) acids produced by protonation from fatty alcohol sulfates and / or their salts,
(Iii) a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acid and fatty alcohol sulfate acid;
(V) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate and fatty alcohol sulfate acid,
And (vi) selected from the group consisting of a mixture comprising or consisting of an acid of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate, wherein the fatty alcohol ether sulfate is of the formula (III)

Figure 2015212417
(III)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)
の脂肪アルコールエーテルスルファート
および/もしくは
その塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択され、
かつ/または
脂肪アルコールスルファートが、式(IV)
Figure 2015212417
(III)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 )
Selected from the group consisting of acids formed by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof;
And / or the fatty alcohol sulfate is of the formula (IV)

Figure 2015212417
(IV)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4
から成る群から選択される)
の脂肪アルコールスルファート
および/もしくは
その塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択される湿潤剤、ならびに/あるいは
(h)全量0.003〜0.018mol/Lの、
抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒド
から成る群から選択される、1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物、ならびに/あるいは
(i)全量0から0.0025mol/Lの、式(V)
Figure 2015212417
(IV)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4
Selected from the group consisting of
A wetting agent selected from the group consisting of acids produced by protonation from fatty alcohol sulfates and / or salts thereof, and / or (h) a total amount of 0.003 to 0.018 mol / L,
One, two, more than one or all compounds selected from the group consisting of chloral hydrate, bromaric hydrate, formate, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehydes and / or ( i) Formula (V) with a total amount of 0 to 0.0025 mol / L

Figure 2015212417
(V)
,
(式中、
Figure 2015212417
(V)
,
(Where

Figure 2015212417
は、シスもしくはトランス配置の二重結合または三重結合を意味し、
5は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはCH2OR6を意味し、
6は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはスルホン酸基もしくはその塩を意味するが、
但し、R5およびR6は、同時には水素を意味せず、かつ
但し、破線は単結合を意味する)
の1種または複数の化合物。
6. 追加的に、
-、Cl-、Br-、I-、SO4 2-、OH-およびClO4 -
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての陰イオンを含有する、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
Figure 2015212417
Means a double or triple bond in the cis or trans configuration;
R 5 means C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or CH 2 OR 6
R 6 represents C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or a sulfonic acid group or a salt thereof,
R 5 and R 6 do not mean hydrogen at the same time, and the broken line means a single bond)
One or more compounds of
6). In addition,
F , Cl , Br , I , SO 4 2− , OH and ClO 4
An electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, comprising one, two, more than one or all anions selected from the group consisting of:

7. 追加的に、
Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Mg2+、Ca2+およびSr2+
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての陽イオンを含有する、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
8. 電解槽または混合物が、水溶液中に、
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ホルムアルデヒドおよびアセトアルデヒド
から成る群から選択される1種、2種または全ての化合物を含み、
1種の化合物または複数の化合物の1種が、好ましくは抱水クロラールである、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
9. 単相溶液である、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
10. 電解浴または混合物中に懸濁された酸化ケイ素粒子および酸化アルミニウム粒子を含まない、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
11. 電解浴または混合物中に懸濁された酸化物粒子を含まない、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
7). In addition,
Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Mg 2+ , Ca 2+ and Sr 2+
An electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, comprising one, two, more than two or all cations selected from the group consisting of:
8). Electrolyzer or mixture in aqueous solution
(H) comprising one, two or all compounds selected from the group consisting of chloral hydrate, bromaric hydrate, formaldehyde and acetaldehyde;
The electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, wherein the compound or compounds is preferably chloral hydrate.
9. The electrolytic bath or mixture according to one of the previous embodiments, which is a single phase solution.
10. An electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, wherein the electrolytic bath or mixture does not comprise silicon oxide particles and aluminum oxide particles suspended in the electrolytic bath or mixture.
11. An electrolytic bath or mixture according to one of the previous embodiments, wherein the electrolytic bath or mixture does not comprise oxide particles suspended in the electrolytic bath or mixture.

12. 電解浴または混合物中に懸濁された粒子を含まない、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
13. 2.8〜5.2、好ましくは3.8〜4.8の範囲内のpH値を有する、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
14. 複数の構成成分が、
(a1)硫酸ニッケル、
(a2)塩化ニッケル、
(b1)ホウ酸、
(c1)安息香酸スルフィミドナトリウム塩、
(d1)アリルスルホン酸ナトリウム塩、
(e1)2−プロピン−1−オール、
(e2)1−ジエチルアミノ−プロパ−2−イン、
(e3)ヘキサ−3−イン−2,5−ジオール、
(f1)ピリジニウムプロピルスルホベタイン、
(g−VI)式(VI)
12 An electrolysis bath or mixture according to one of the preceding embodiments, wherein the electrolysis bath or mixture does not comprise particles suspended in the electrolysis bath or mixture.
13. Electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, having a pH value in the range of 2.8 to 5.2, preferably 3.8 to 4.8.
14 Multiple components are
(A1) nickel sulfate,
(A2) nickel chloride,
(B1) boric acid,
(C1) benzoic acid sulfimide sodium salt,
(D1) allylsulfonic acid sodium salt,
(E1) 2-propyn-1-ol,
(E2) 1-diethylamino-prop-2-yne,
(E3) hexa-3-yne-2,5-diol,
(F1) pyridinium propyl sulfobetaine,
(G-VI) Formula (VI)

Figure 2015212417
(VI)
,
(式中、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する飽和分枝もしくは飽和非分枝アルキル基を意味する)
の脂肪アルコールエーテルスルファートのナトリウム塩、
(h1)抱水クロラール、
(i1)プロパ−2−イン−1−オール−エトキシラート
から成る群から選択される、複数の構成成分の混合によって製造可能な、前記態様の1つに記載の電解浴または混合物。
15. 複数の成分が、
(a)全量1.12〜1.67mol/Lのニッケルイオン、
(b1)全量0.485〜0.97mol/Lのホウ酸、
(c)全量0.0055〜0.0274mol/Lの安息香酸スルフィミド陰イオン、
(d)全量0.006〜0.025mol/Lのアリルスルホナート、
(e1)全量0.00036〜0.0089mol/Lの2−プロピン−1−オール、
(e2)全量0〜0.0045mol/Lの1−ジエチルアミノ−プロパ−2−イン、
(e3)全量0〜0.0088mol/Lのヘキサ−3−イン−2,5−ジオール、
(f1)全量0.00025〜0.0025mol/Lのピリジニウムプロピルスルホベタイン、
(g)全量0.0006〜0.025mol/Lの、式(VI)
Figure 2015212417
(VI)
,
(Where
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a saturated branched or saturated unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms)
Sodium salt of fatty alcohol ether sulfate,
(H1) Chloral hydrate,
(I1) The electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments, which can be produced by mixing a plurality of components selected from the group consisting of prop-2-yn-1-ol-ethoxylate.
15. Multiple ingredients
(A) nickel ions having a total amount of 1.12 to 1.67 mol / L,
(B1) boric acid having a total amount of 0.485 to 0.97 mol / L,
(C) A total amount of 0.0055 to 0.0274 mol / L benzoic acid sulfimide anion,
(D) Allyl sulfonate having a total amount of 0.006 to 0.025 mol / L,
(E1) 2-propyn-1-ol in a total amount of 0.00036 to 0.0089 mol / L,
(E2) 1-diethylamino-prop-2-yne in a total amount of 0-0.0045 mol / L,
(E3) 0-3-0.0088 mol / L of hexa-3-yne-2,5-diol,
(F1) pyridinium propyl sulfobetaine having a total amount of 0.00025 to 0.0025 mol / L,
(G) Formula (VI) of total amount 0.0006-0.025 mol / L

Figure 2015212417
(VI)
,
(式中、
nは、それぞれ独立して、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、それぞれ独立して、炭素原子1〜20個を有する飽和分枝もしくは飽和非分枝アルキル基を意味する)
の脂肪アルコールエーテルスルファートのナトリウム塩、
(h1)全量0.003〜0.018mol/Lの抱水クロラール、
および
(i1)全量0〜0.0025mol/Lのプロパ−2−イン−1−オール−エトキシラート
から成る群から選択される、複数の成分の混合によって製造可能な、前記態様の1つに記載の電解浴。
Figure 2015212417
(VI)
,
(Where
each n independently represents an integer in the range of 1 to 24;
R 4 independently represents a saturated branched or saturated unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms)
Sodium salt of fatty alcohol ether sulfate,
(H1) chloral hydrate having a total amount of 0.003 to 0.018 mol / L,
And (i1) one of the preceding embodiments, which can be prepared by mixing a plurality of components selected from the group consisting of prop-2-yn-1-ol-ethoxylate in a total amount of 0-0.0025 mol / L Electrolytic bath.

16. 対応する被加工物上へのニッケルの析出による、光沢ニッケル層を有する物品の製造方法であって、以下のステップ:
(a)前記態様の1つに記載の電解浴または混合物を準備および/または製造するステップ、
(b)準備または製造された電解浴または混合物から被加工物上にニッケルを電気析出させて光沢ニッケル層を製造するステップ
を含む、方法。
17. 電解浴または混合物の温度が、ステップ(b)において40〜70℃の範囲内である、態様16に記載の方法。
18. ステップ(b)において光沢ニッケル層が、被加工物の銅、黄銅または亜鉛表面上で析出される、態様16から17の1つに記載の方法。
19. 物品が、導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素である、態様16から18の1つに記載の方法。
16. A method for producing an article having a bright nickel layer by depositing nickel on a corresponding workpiece, comprising the following steps:
(A) preparing and / or producing an electrolytic bath or mixture according to one of the preceding embodiments;
(B) producing a bright nickel layer by electrodepositing nickel onto the work piece from a prepared or produced electrolytic bath or mixture.
17. Embodiment 17. The method of embodiment 16, wherein the temperature of the electrolytic bath or mixture is in the range of 40-70 ° C. in step (b).
18. A method according to one of aspects 16 to 17, wherein in step (b) a bright nickel layer is deposited on the copper, brass or zinc surface of the workpiece.
19. A method according to one of aspects 16 to 18, wherein the article is a component of a conduit or a component of a component for a conduit.

20. ステップ(b)において、析出が、被加工物の表面上で行われ、この表面が、被加工物の半光沢ニッケル層の部分である、態様16から19の1つに記載の方法。
21. 以下の追加的なステップ:
(c)光沢ニッケル層上で更なる金属層を析出させるステップ、好ましくは電気析出させるステップ、好ましくは光沢ニッケル層上でクロム層を電気析出させるステップ
を含む、態様16から20の1つに記載の方法。
22. 光沢ニッケル層の析出または製造のための、態様1から15の1つに記載の電解浴または混合物の使用。
23. 導水導管用の部品の構成要素上での光沢ニッケル層の製造のための、態様22に記載の使用。
20. 20. A method according to one of aspects 16 to 19, wherein in step (b) the deposition is performed on the surface of the workpiece, which surface is part of the semi-bright nickel layer of the workpiece.
21. The following additional steps:
Embodiment 21. One of aspects 16 to 20, comprising the step of (c) depositing a further metal layer on the bright nickel layer, preferably electrodepositing, preferably electrodepositing a chromium layer on the bright nickel layer. the method of.
22. Use of an electrolytic bath or mixture according to one of embodiments 1 to 15 for the deposition or production of a bright nickel layer.
23. Use according to aspect 22, for the production of a bright nickel layer on a component of a part for a conduit.

24. 光沢ニッケル層が、
態様1から15の1つに記載の電解浴もしくは混合物の使用下で対応する被加工物上にニッケルを析出させることによって、
または
態様16から21の1つに記載の方法を用いて、
製造可能である、光沢ニッケル層を含む物品、好ましくは導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素。
25. (i)電解浴中での使用のための混合物または(ii)導水導管用の部品の構成要素上での光沢ニッケル層の製造のための電解浴の使用であって、
(i)混合物が、または(ii)電解浴が水溶液中に、
(c)安息香酸スルフィミドおよび/または安息香酸スルフィミド陰イオン、
ならびに
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒド
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物を含み、
電解浴が、以下の成分を追加的に含むか、または混合物が、水溶液中に以下の成分の全てを追加的に含む使用:
(a)ニッケルイオン、
(b)1種または複数の酸、
(d)アリルスルホン酸および/またはアリルスルホナート、
(e)式(I)
24. A bright nickel layer
Depositing nickel on a corresponding workpiece using an electrolytic bath or mixture according to one of aspects 1 to 15;
Or using the method according to one of aspects 16 to 21,
An article comprising a bright nickel layer, preferably a component of a conduit or a component of a component for a conduit, that is manufacturable.
25. Use of an electrolytic bath for the production of a bright nickel layer on a component of (i) a mixture for use in an electrolytic bath or (ii) a component for a conduit.
(I) the mixture, or (ii) the electrolytic bath is in an aqueous solution,
(C) benzoic acid sulfimide and / or benzoic acid sulfimide anion,
And (h) one, two, more than one or all compounds selected from the group consisting of chloral hydrate, bromaric hydrate, formate, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde ,
Use in which the electrolytic bath additionally comprises the following components or the mixture additionally comprises all of the following components in an aqueous solution:
(A) nickel ions,
(B) one or more acids,
(D) allyl sulfonic acid and / or allyl sulfonate,
(E) Formula (I)

Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1はヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、
(f)式(II)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C substituted by amino 4 - alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 And
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds of
(F) Formula (II)

Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択され、
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、
(g)1種または複数の湿潤剤。
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline;
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines of
(G) one or more wetting agents.

例えば被加工物上で、本発明の電解浴または本発明の混合物を用いて析出されたニッケル層は、従来の光沢ニッケル層に比べて、このニッケル層と接触している水溶液中にニッケルイオンを放出する傾向が低いことを示す。これは、析出したニッケル層の電位の測定によって確認される。   For example, a nickel layer deposited on the workpiece using the electrolytic bath of the present invention or the mixture of the present invention causes nickel ions to be introduced into the aqueous solution in contact with the nickel layer as compared with a conventional bright nickel layer. Indicates a low tendency to release. This is confirmed by measuring the potential of the deposited nickel layer.

電位測定:一般的参考事項および例:
本発明の電解浴または本発明の混合物を用いて対応する被加工物上に析出された個別のニッケル層およびニッケル層の組み合わせの電位の測定は、通例、いわゆるSTEP試験(STEP:厚さおよび電極電位の同時決定(simultaneous thickness and electrode potential determination))により行われる。STEP試験の実験条件および実験構築に関して、DIN50022が参照される。
Potential measurement: General reference and examples:
The measurement of the potential of individual nickel layers and combinations of nickel layers deposited on corresponding workpieces using the electrolytic baths of the present invention or the mixtures of the present invention is usually performed by the so-called STEP test (STEP: thickness and electrodes). It is performed by simultaneous determination of potential (electron potential thick electrode and electrical potential potential). Reference is made to DIN 50022 regarding the experimental conditions and experimental construction of the STEP test.

析出されたニッケル層または析出されたニッケル層システムの品質の検証のための手法であるSTEP試験を使用して、腐食過程に関連するパラメーター、すなわち個別のニッケル層の層厚およびそれらの相互の電位差を、ただ1回の作業ステップで測定することができる。STEP試験方法を使用する場合、溶解する際に標準電極に対して測定された電位が、ニッケル層の剥離後に急激に変化することが利用される。この変化は、それぞれのニッケル層が溶解した後に起こり、その際、測定された溶解の電位は、とりわけそれぞれのニッケル層の性質に依存する。これは、硫黄含有および硫黄不含ニッケル層の場合に当てはまる。しかしながら、2つの硫黄含有ニッケル層の場合、電位の大きな開きは、ほとんど測定不能である。STEP試験は、分析されるべきニッケル層または分析されるべきニッケル層システムを破壊する測定法であり、クーロスコープ(Couloskop)を用いて実施される。ニッケルシステムからの個別のニッケル層の電気的剥離によって測定され、図示できる電位変化は、急激な変化の場合、そのような層システムでのあるニッケル層から次のニッケル層への転換点を示す。STEP試験の測定の終点は、基材、例えば銅層への到達である。一般にニッケル電位は、塩化ニッケル六水和物、塩化ナトリウムおよびホウ酸の溶液中で測定される。半光沢ニッケル層と光沢ニッケル層との間の十分な電位は、上述の電解質中での測定の場合、−120mVから与えられる。   Using the STEP test, which is a method for the verification of the quality of the deposited nickel layer or deposited nickel layer system, parameters related to the corrosion process, ie the thickness of the individual nickel layers and their mutual potential difference Can be measured in just one working step. When using the STEP test method, it is utilized that the electric potential measured with respect to the standard electrode during dissolution changes rapidly after the nickel layer is peeled off. This change takes place after the respective nickel layer has melted, in which the measured melting potential depends inter alia on the nature of the respective nickel layer. This is the case for sulfur-containing and sulfur-free nickel layers. However, in the case of two sulfur-containing nickel layers, the large opening of the potential is hardly measurable. The STEP test is a measurement method that destroys the nickel layer to be analyzed or the nickel layer system to be analyzed, and is carried out using a couloscope. The potential change, measured by electrical delamination of individual nickel layers from the nickel system, can indicate the turning point from one nickel layer to the next in such a layer system in the case of abrupt changes. The end point of the measurement of the STEP test is the arrival of the substrate, for example a copper layer. In general, the nickel potential is measured in a solution of nickel chloride hexahydrate, sodium chloride and boric acid. A sufficient potential between the semi-bright nickel layer and the bright nickel layer is given from -120 mV when measured in the electrolyte described above.

本発明の電解浴または本発明の混合物を用いて製造されたニッケル皮膜の自然電位を測定するために、後述の試験設定を使用する:光沢ニッケル電解質の成分によって組成が確定されている被験ニッケル皮膜を、塩化アンモニウム、硝酸銅および塩化鉄(III)を含むコロードコート(Corrodkote)溶液中に浸し、その自然電位を、同様に上述の溶液中に浸された参照電極(ハーフセル電極)と比較して測定する。参照電極は、銀/塩化銀電極(Messkette)から成る。測定装置として、高抵抗の測定装置、例えばpHメータまたは多重測定装置が役立つ。これに関して、平均測定時間は、45〜約60分の間である。安定な電位は、たいてい、この時間枠内で生じ、その値は相対値である。そのような測定された相対値は、同様に上述のやり方で決定された、異なる構成のニッケル皮膜の相対値と比較することができる。半光沢ニッケル層と光沢ニッケル層との間の好ましい電位差は、例えば約−70mVである。   The following test setup is used to measure the natural potential of a nickel coating produced using the electrolytic bath or mixture of the present invention: a test nickel coating whose composition is determined by the components of the bright nickel electrolyte Is immersed in a Corrodkote solution containing ammonium chloride, copper nitrate and iron (III) chloride, and its natural potential is compared with a reference electrode (half-cell electrode) similarly immersed in the above solution. To measure. The reference electrode consists of a silver / silver chloride electrode (Messkette). As the measuring device, a high resistance measuring device, for example, a pH meter or a multiple measuring device is useful. In this regard, the average measurement time is between 45 and about 60 minutes. A stable potential usually occurs within this time frame and its value is relative. Such measured relative values can be compared with the relative values of different configurations of nickel coatings, also determined in the manner described above. A preferred potential difference between the semi-bright nickel layer and the bright nickel layer is, for example, about -70 mV.

コロードコート溶液のアプローチのために、Brugger, Robert (1984), ”Die galvanische Vernickelung”, 2. Aufl. Saulgau (Eugen G. Leutze Verlag Bd.12) S. 301により20g/l塩化アンモニウム、3.3g/l塩化鉄(III)および0.7g/l硝酸銅(II)三水和物の水溶液が使用される。   For the approach of the coroad coat solution, Brugger, Robert (1984), “Die galvanische Vernickelung”, 2. Aufl. Saulgau (Eugen G. Leutze Verlag Bd. 12) S. 301, 20 g / l ammonium chloride; An aqueous solution of 3 g / l iron (III) chloride and 0.7 g / l copper (II) nitrate trihydrate is used.

結果:
電解浴を用いて製造されたニッケル皮膜のコロードコート溶液中自然電位の測定:

Figure 2015212417
result:
Measurement of the natural potential of nickel coatings produced using an electrolytic bath in a corroded coating solution:
Figure 2015212417

注:
比較用の浴および本発明の浴は、抱水クロラールの割り当て分を除き等しい組成を有した。
note:
The comparative and inventive baths had the same composition except for the chloral hydrate share.

Step試験による測定:
比較用の浴の使用下で製造されたニッケル皮膜の電位は+484mVであり、抱水クロラール1g/lを有する本発明の浴の使用下で製造されたニッケル皮膜の電位は+582mVであった。上述の注が適切に当てはまる。
Measurement by Step test:
The potential of the nickel coating produced using the comparative bath was +484 mV, and the potential of the nickel coating produced using the inventive bath with 1 g / l chloral hydrate was +582 mV. The above notes apply appropriately.

使用例1〜7:水と、選択された成分(含有成分)とを混合することによる電解浴の製造;濃度の単位mol/L:

Figure 2015212417

Figure 2015212417
Use Examples 1 to 7: Production of an electrolytic bath by mixing water and selected components (containing components); unit of concentration mol / L:
Figure 2015212417

Figure 2015212417

電解浴のpH値は、混合後に3.8〜4.8の間である。上記成分を、上記濃度で水溶液中に入れる。その際、水溶液中に個別の成分を添加する順序は、決定的ではない。全ての濃度の記載は、電解浴に対するものである。   The pH value of the electrolytic bath is between 3.8 and 4.8 after mixing. The above ingredients are placed in an aqueous solution at the above concentrations. The order in which the individual components are added in the aqueous solution is then not critical. All concentration descriptions are for the electrolytic bath.

使用例8〜14:水と、選択された成分(含有成分)とを混合することによる電解浴の製造;濃度の単位mol/L:

Figure 2015212417
Use Examples 8 to 14: Production of electrolytic bath by mixing water and selected components (containing components); unit of concentration mol / L:
Figure 2015212417

電解浴のpH値は、混合後に3.8〜4.8の間である。上記成分を、上記濃度で水溶液中に入れる。その際、水溶液中に個別の成分を添加する順序は、決定的ではない。全ての濃度の記載は、電解浴に対するものである。
全般例H1:本発明の電解浴の製造:
塩として存在する、本発明の電解浴の選択された成分(含有成分)を完全脱塩水中に溶解させる。その際、水は、好ましくは30〜70℃の範囲内の温度を有する。結果として生じた水溶液に活性炭0.16〜0.25mol/Lを加える。その際、活性炭と水溶液との混合を、撹拌または循環ポンプでのプレコート濾過によって行う。続いて、濾過によって活性炭を除去し、残った精製済み溶液のpH値を、3.5〜5.0の範囲内の値に調整する。
The pH value of the electrolytic bath is between 3.8 and 4.8 after mixing. The above ingredients are placed in an aqueous solution at the above concentrations. The order in which the individual components are added in the aqueous solution is then not critical. All concentration descriptions are for the electrolytic bath.
General Example H1: Production of the electrolytic bath of the invention:
Selected components (containing components) of the electrolytic bath of the present invention present as a salt are dissolved in fully demineralized water. The water then preferably has a temperature in the range of 30-70 ° C. Activated carbon 0.16-0.25 mol / L is added to the resulting aqueous solution. In that case, mixing with activated carbon and aqueous solution is performed by stirring or precoat filtration with a circulation pump. Subsequently, the activated carbon is removed by filtration, and the pH value of the remaining purified solution is adjusted to a value in the range of 3.5 to 5.0.

更なるステップにおいて、塩として存在しない、本発明の電解浴の選択された成分(含有成分)を、この精製済み溶液に加える。
停滞試験:本発明の光沢ニッケル層から都市用水中へのニッケル移動の検査:
(a)比較目的で、通常の電解浴(抱水クロラールなし)を用いて長さ10cmおよび直径2cmの銅管に光沢ニッケル層を設けた。この光沢ニッケル層上に第2のステップでクロム層を電気的に付着させた。これらの層は、それぞれニッケル約10μmまたはクロム約0.2〜0.3μmの厚さを有した。
(b)これに平行して、同様のそのような銅管を、追加的に500mg/l抱水クロラールを含有した以外は比較用の浴と等しい組成の本発明の電解浴中で、比較目的で実施された検査と等しい条件下で、最初に光沢ニッケル層を、第二のステップでクロム層を電気的に設けた。
(c)追加的にこれに平行して、同様の方法で、同様のそのような銅管を、抱水クロラール1000mg/lを含有する、更なる本発明の電解浴中で、最初に光沢ニッケル層を、第二のステップで最後となるクロム層を電気的に設けた。
In a further step, selected components (containing components) of the electrolytic bath of the present invention that are not present as salts are added to this purified solution.
Stagnation test: Inspection of nickel transfer from bright nickel layer of the present invention into municipal water:
(A) For comparison purposes, a bright nickel layer was provided on a copper tube having a length of 10 cm and a diameter of 2 cm using a normal electrolytic bath (without chloral hydrate). A chromium layer was electrically deposited on the bright nickel layer in a second step. These layers each had a thickness of about 10 μm nickel or about 0.2-0.3 μm chromium.
(B) Parallel to this, a similar such copper tube, in an electrolytic bath of the invention of the same composition as the comparative bath except that it additionally contains 500 mg / l chloral hydrate, for comparative purposes A bright nickel layer was first electrically provided and a chromium layer was electrically provided in the second step under conditions equivalent to those performed in
(C) Additionally parallel to this, in the same manner, a similar such copper tube is first bright nickel in a further electrolytic bath of the present invention containing 1000 mg / l chloral hydrate. The layer was electrically provided with the last chromium layer in the second step.

続いて、前記(a)、(b)および(c)のように電気めっきされた銅管(比較用1本;本発明2本)を、相互に別々に都市用水中に浸した。都市用水中のニッケル/ニッケルイオンの濃度を、それぞれ放置時間72時間後に測定した。更なる測定を、それぞれ更なる48時間、120時間、72時間および144時間後に行う。全ての場合に、測定後に水を交換した。加えて、被験銅管は、更なる使用の前にそれぞれ都市用水150mlで10回すすいだ。測定結果を、ICP−OES分光計で確定し、次表に示す。数値は、それぞれ測定されたニッケルイオン濃度(μg/l)を示す。   Subsequently, the copper tubes electroplated as in (a), (b) and (c) (one for comparison; two for the present invention) were immersed in city water separately from each other. The concentration of nickel / nickel ions in city water was measured after 72 hours of standing time. Further measurements are taken after a further 48 hours, 120 hours, 72 hours and 144 hours, respectively. In all cases, the water was changed after the measurement. In addition, the test copper tubes were each rinsed 10 times with 150 ml of city water before further use. The measurement results are confirmed with an ICP-OES spectrometer and are shown in the following table. The numerical value indicates the measured nickel ion concentration (μg / l).

Figure 2015212417
Figure 2015212417

各測定の際に、(a)、(b)または(c)によりめっきされた管それぞれ5本を使用した。表示した値は、算術平均である。
抱水クロラールの添加によって、周囲の媒質(ここでは都市用水)中へのニッケル/ニッケルイオンの放出の傾向が、特に長い接触時間の場合(第2〜第5回測定)に、明らかに減少することが、明らかに確認できる。
For each measurement, 5 tubes each plated with (a), (b) or (c) were used. The displayed value is an arithmetic average.
With the addition of chloral hydrate, the tendency of nickel / nickel ion release into the surrounding medium (here city water) is clearly reduced, especially with long contact times (second to fifth measurements). This can be clearly confirmed.

使用例15:特定の本発明の電解浴の製造:
塩として存在する、特定の本発明の電解浴の成分(含有成分)、すなわち含有成分a、c、dおよびfを、完全脱塩水中に表示濃度で溶解させる。その際、水は、好ましくは温度55℃を有する。結果として生じた水溶液に活性炭0.16〜0.25mol/Lを加える。その際、活性炭と水溶液との混合を、撹拌または循環ポンプでのプレコート濾過によって行う。続いて、濾過によって活性炭を除去し、残った精製済み溶液のpH値を、4.2の値に調整する。
Use Example 15: Production of a specific electrolytic bath of the invention:
Certain of the inventive electrolytic bath components (containing components) present as salts, ie, containing components a, c, d and f, are dissolved at the indicated concentrations in fully demineralized water. The water then preferably has a temperature of 55 ° C. Activated carbon 0.16-0.25 mol / L is added to the resulting aqueous solution. In that case, mixing with activated carbon and aqueous solution is performed by stirring or precoat filtration with a circulation pump. Subsequently, the activated carbon is removed by filtration and the pH value of the remaining purified solution is adjusted to a value of 4.2.

更なるステップにおいて、塩として存在しない、本発明の電解浴の選択された成分(含有成分)を、この精製済み溶液に加える。
特定の本発明の電解浴の成分(含有成分):

Figure 2015212417
In a further step, selected components (containing components) of the electrolytic bath of the present invention that are not present as salts are added to this purified solution.
Specific components of the electrolytic bath of the present invention (containing components):
Figure 2015212417

めっき時間、すなわち特定の本発明の浴を用いた光沢ニッケル層の析出に必要な時間は、電流密度4A/dm2の場合に約15分である。
使用および比較例16:光沢ニッケル層を有する特定の本発明の物品(導水導管の例としての浴室部品)の製造:
本発明の物品(光沢ニッケル層を有する浴室部品)の製造のための、本発明により使用されるべき特定の電解浴の成分(含有成分)を、次表「使用例16」に挙げ、完全脱塩水(好ましくは水温55℃)中に表示濃度で溶解させた。
The plating time, that is, the time required for deposition of the bright nickel layer using a particular inventive bath is about 15 minutes for a current density of 4 A / dm 2 .
Use and Comparative Example 16: Production of certain inventive articles (bathroom parts as examples of water conduits) with a bright nickel layer:
The components of the specific electrolytic bath (components) to be used according to the present invention for the manufacture of the articles of the present invention (bathroom parts having a bright nickel layer) are listed in the following table "Usage Example 16" Dissolved at the indicated concentration in brine (preferably water temperature 55 ° C.).

Figure 2015212417
Figure 2015212417

比較目的で製造された本発明によらない電解浴の成分は、表「使用例16」による成分と同じであり、それらの成分を、同様に完全脱塩水(好ましくは水温55℃)中に表示濃度で溶解させた。しかしながら、比較目的で製造された電解浴は、抱水クロラールを含まない。
めっき時間、すなわち特定の本発明の浴、または比較目的で製造された本発明によらない電解浴を用いた光沢ニッケル層の析出までの時間は、それぞれ電流密度4A/dm2の場合に約15分であった。
The components of the electrolysis bath not according to the invention produced for comparison purposes are the same as those according to the table “Use Example 16” and these components are likewise indicated in fully demineralised water (preferably water temperature 55 ° C.). Dissolved in concentration. However, the electrolytic bath produced for comparison purposes does not contain chloral hydrate.
The plating time, i.e. the time to deposit a bright nickel layer using a specific inventive bath or a non-inventive electrolytic bath produced for comparative purposes, is about 15 for a current density of 4 A / dm < 2 > respectively. Minutes.

同様に構築された浴室部品本体を使用した。
(a)本発明の物品の製造:
本発明の電解浴を用いて、黄銅製の浴室部品本体に光沢ニッケル層を設けた。この層の厚さは、約10μmであった。第2のステップでこの光沢ニッケル層上にクロム層を電気的に付着させた(温度:36〜44℃、電流密度5〜20A/dm2、時間:2〜5分)。この層の厚さは、0.2〜0.3μmであった。
(b)本発明によらない物品の製造(比較):
本発明によらない電解浴を用いて、黄銅製の浴室部品本体に光沢ニッケル層を設けた。この層の厚さは、約10μmであった。第2のステップでこの光沢ニッケル層上にクロム層を電気的に付着させた(温度:36〜44℃、電流密度5〜20A/dm2、時間:2〜5分)。この層の厚さは、0.2〜0.3μmであった。
A bathroom part body constructed in the same way was used.
(A) Production of the article of the invention:
Using the electrolytic bath of the present invention, a bright nickel layer was provided on a brass bathroom component body. The thickness of this layer was about 10 μm. In the second step, a chromium layer was electrically deposited on the bright nickel layer (temperature: 36-44 ° C., current density 5-20 A / dm 2 , time: 2-5 minutes). The thickness of this layer was 0.2 to 0.3 μm.
(B) Manufacture of articles not according to the invention (comparison):
Using an electrolytic bath not according to the present invention, a bright nickel layer was provided on a brass bathroom component body. The thickness of this layer was about 10 μm. In the second step, a chromium layer was electrically deposited on the bright nickel layer (temperature: 36-44 ° C., current density 5-20 A / dm 2 , time: 2-5 minutes). The thickness of this layer was 0.2 to 0.3 μm.

浴室部品に関する停滞試験:本発明の光沢ニッケル層および本発明によらない光沢ニッケル層から都市用水中へのニッケル移動の比較検査:
上記(a)および(b)のように電気めっきされた黄銅部品を、相互に別々に都市用水中に浸した。都市用水中のニッケル/ニッケルイオンの濃度を、それぞれ放置時間1週間後に測定した。更なる測定を、それぞれ2、3,4および5週間後に行う。全ての場合に、測定後に都市用水を交換した。加えて、被験黄銅部品は、再度浸す前に都市用水それぞれ150mlで10回すすいだ。測定結果は、ICP−OES分光計で確定し、次表に示す。数値は、それぞれ測定されたニッケルイオン濃度(μg/l)を示す。
Stagnation test for bathroom parts: Comparative inspection of nickel transfer from bright nickel layer of the present invention and non-present bright nickel layer into city water:
The brass parts electroplated as in (a) and (b) above were immersed in city water separately from each other. The concentration of nickel / nickel ions in city water was measured after 1 week of standing time. Further measurements are taken after 2, 3, 4 and 5 weeks, respectively. In all cases, the city water was changed after the measurement. In addition, the test brass parts were rinsed 10 times with 150 ml each of city water before being dipped again. The measurement results are confirmed with an ICP-OES spectrometer and are shown in the following table. The numerical value indicates the measured nickel ion concentration (μg / l).

Figure 2015212417
表示した値は、それぞれ4回の測定の算術平均である。
Figure 2015212417
The displayed value is the arithmetic average of 4 measurements each.

本発明によりめっきされた浴室部品本体(本発明の物品の例として)が、本発明によらずにめっきされた浴室部品本体よりも少ないニッケルを遊離したことが明らかに確認できる。使用された本発明の浴は、抱水クロラールを含んだが、それによって周囲の媒質(ここでは都市用水)中へのニッケル/ニッケルイオンの放出の傾向が、明らかに減少した。特に、第4週および第5週の結果は、ニッケルの放出が停滞し、同時に本発明によらずにめっきされた黄銅部品のニッケル放出よりも明らかに少なかったことを示している。   It can clearly be seen that the bathroom part body plated according to the present invention (as an example of the article of the present invention) liberated less nickel than the bathroom part body plated without the present invention. The inventive bath used contained chloral hydrate, which clearly reduced the tendency of nickel / nickel ion release into the surrounding medium, here city water. In particular, the results of the 4th and 5th weeks show that nickel release has stagnated and at the same time clearly less than the nickel release of the plated brass parts not according to the present invention.

Claims (15)

光沢ニッケル層の析出のための電解浴、または光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための混合物であって、混合物が水溶液中に、または電解槽が水溶液中に、
(c)安息香酸スルフィミドおよび/または安息香酸スルフィミド陰イオン
ならびに
(h)抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒド
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物
を含み、
電解槽が以下の成分を追加的に含むか、または混合物が以下の成分を追加的に含む、電解槽または混合物:
(a)ニッケルイオン、
(b)1種または複数の酸、
(e)式(I)
Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、
(f)式(II)
Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択され、
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、
(g)1種または複数の湿潤剤。
An electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, or a mixture for use in an electrolytic bath for the deposition of a bright nickel layer, wherein the mixture is in an aqueous solution or the electrolytic cell is in an aqueous solution,
(C) benzoic acid sulfimide and / or benzoic acid sulfimide anion and (h) one selected from the group consisting of chloral hydrate, bromal hydrate, formic acid, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehyde Including two, more than two or all compounds,
An electrolytic cell or mixture wherein the electrolytic cell additionally comprises the following components or the mixture additionally comprises the following components:
(A) nickel ions,
(B) one or more acids,
(E) Formula (I)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 represents C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy, amino, C 1 -C 4 -alkylamino or di (C 1 -C 4 -alkyl) amino. Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds of
(F) Formula (II)
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline;
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines of
(G) one or more wetting agents.
電解浴が、以下の成分を含むか、または混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数、または全てを含む、請求項1に記載の電解浴または混合物:
(b)硫酸、ホウ酸および塩酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸
および/または
リンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸
ならびに/あるいは
(g)1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、
(i)脂肪アルコールエーテルスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(iii)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
ならびに
(vi)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、
選択された1種の湿潤剤が、炭素鎖として分枝もしくは非分枝アルキル基を担持するか、または選択された複数の湿潤剤が、炭素鎖として、それぞれ相互に独立して、分枝もしくは非分枝アルキル基を担持する湿潤剤。
The electrolytic bath or mixture of claim 1, wherein the electrolytic bath comprises the following components or the mixture comprises one, more than one, or all of the following components in an aqueous solution:
(B) one or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid and / or one or more organics selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid An acid and / or (g) one or more wetting agents, wherein one or more or all of the one wetting agent or the plurality of wetting agents are:
(I) acids produced by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof,
(Ii) acids produced by protonation from fatty alcohol sulfates and / or their salts,
(Iii) a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acid and fatty alcohol sulfate acid;
(V) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate and fatty alcohol sulfate acid,
And (vi) selected from the group consisting of a mixture comprising or consisting of an acid of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
One selected wetting agent carries a branched or unbranched alkyl group as a carbon chain, or a plurality of selected wetting agents as a carbon chain, each independently, branched or A wetting agent bearing an unbranched alkyl group.
電解浴が、以下の成分を含むか、または混合物が、水溶液中に以下の成分の1種、複数もしくは全てを含む、請求項1または2に記載の電解浴または混合物:
(a)全量1.12〜1.67mol/Lのニッケルイオン、ならびに/あるいは
(b)全量0.485〜0.97mol/Lの、
硫酸、ホウ酸および塩酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の無機酸、および/または
リンゴ酸、クエン酸、乳酸およびアミドスルホン酸
から成る群から選択される1種もしくは複数の有機酸、ならびに/あるいは
(c)全量0.0055〜0.0274mol/Lの安息香酸スルフィミドおよび安息香酸スルフィミド陰イオン、ならびに/あるいは
(d)全量0.006〜0.025mol/Lのアリルスルホン酸およびアリルスルホナート、ならびに/あるいは
(e)全量0.00036〜0.1438mol/Lの、式(I)
Figure 2015212417
(I)
,
(式中、
1は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはC1−C4−アルキルを意味し、
2は、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4−アルキルアミノもしくはジ(C1−C4−アルキル)アミノによって置換されたC1−C4−アルキルを意味する)
の1種または複数のアセチレン系不飽和化合物、ならびに/あるいは
(f)全量0.00025〜0.0025mol/Lの、式(II)
Figure 2015212417
(II)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
芳香族環系の窒素原子構成部は、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンからなる群から選択され、
mは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
各R3は、独立して、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基または水素またはヒドロキシを意味する)
の1種または複数のベタイン、ならびに/あるいは
(g)全量0.0006〜0.025mol/Lの1種または複数の湿潤剤であって、1種の湿潤剤または複数の湿潤剤の1種もしくは複数もしくは全てが、
(i)脂肪アルコールエーテルスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(ii)脂肪アルコールスルファート
および/または
その塩からプロトン化によって生成する酸、
(iii)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物、
(iv)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
(v)脂肪アルコールエーテルスルファート
および
脂肪アルコールスルファートの酸
を含む、またはそれらから成る混合物、
ならびに
(vi)脂肪アルコールエーテルスルファートの酸
および
脂肪アルコールスルファート
を含む、またはそれらから成る混合物
から成る群から選択され、
脂肪アルコールエーテルスルファートが、式(III)
Figure 2015212417
(III)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)
の脂肪アルコールエーテルスルファート
および/もしくは
その塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択され、
かつ/または
脂肪アルコールスルファートが、式(IV)
Figure 2015212417
(IV)
,
(式中、それぞれ相互に独立して、
nは、1〜24の範囲内の整数を意味し、
4は、炭素原子1〜20個を有する分枝もしくは非分枝アルキル基を意味し、
Xは、Li、Na、K、Rb、CsおよびNH4から成る群から選択される)の脂肪アルコールスルファート
および/もしくは
その塩からプロトン化によって生成する酸
から成る群から選択される湿潤剤、ならびに/あるいは
(h)全量0.003〜0.018mol/Lの、
抱水クロラール、抱水ブロマール、ギ酸、ホルマート、酢酸、アセタート、置換もしくは非置換脂肪族アルデヒド
から成る群から選択される、1種、2種、2種を超えるまたは全ての化合物、ならびに/あるいは
(i)全量0〜0.0025mol/Lの、式(V)
Figure 2015212417
(V)
,
(式中、
Figure 2015212417
は、シスもしくはトランス配置の二重結合または三重結合を意味し、
5は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはCH2OR6を意味し、
6は、ヒドロキシによって置換されたC1−C4−アルキルまたは水素またはスルホン酸基もしくはその塩を意味するが、
但し、R5およびR6は、同時には水素を意味せず、かつ
但し、破線は単結合を意味する)
の1種または複数の化合物。
The electrolytic bath or mixture according to claim 1 or 2, wherein the electrolytic bath comprises the following components or the mixture comprises one, more or all of the following components in an aqueous solution:
(A) a total amount of 1.12 to 1.67 mol / L nickel ions, and / or (b) a total amount of 0.485 to 0.97 mol / L,
One or more inorganic acids selected from the group consisting of sulfuric acid, boric acid and hydrochloric acid, and / or one or more organic acids selected from the group consisting of malic acid, citric acid, lactic acid and amidosulfonic acid, And / or (c) a total amount of 0.0055 to 0.0274 mol / L of benzoic acid sulfimide and benzoic acid sulfimide anion, and / or (d) a total amount of 0.006 to 0.025 mol / L of allyl sulfonic acid and allyl sulfo And (e) a total amount of 0.00036 to 0.1438 mol / L of formula (I)
Figure 2015212417
(I)
,
(Where
R 1 represents C 1 -C 4 -alkyl or hydrogen or C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy, amino, C 1 -C 4 -alkylamino or di (C 1 -C 4 -alkyl) amino. Means
R 2 is hydroxy, amino, C 1 -C 4 - refers to an alkyl) - alkylamino or di (C 1 -C 4 - alkyl) C 1 -C 4 substituted by amino
One or more acetylenically unsaturated compounds and / or (f) a total amount of 0.00025-0.0025 mol / L of formula (II)
Figure 2015212417
(II)
,
(In the formula, each independently,
The nitrogen atom component of the aromatic ring system is selected from the group consisting of pyridine, quinoline and isoquinoline;
m means an integer in the range of 1-24,
Each R 3 independently represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or hydrogen or hydroxy)
One or more betaines and / or (g) one or more wetting agents in a total amount of 0.0006 to 0.025 mol / L, wherein one or more wetting agents or one or more wetting agents or Multiple or all
(I) acids produced by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof,
(Ii) acids produced by protonation from fatty alcohol sulfates and / or their salts,
(Iii) a mixture comprising or consisting of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
(Iv) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate acid and fatty alcohol sulfate acid;
(V) a mixture comprising or consisting of fatty alcohol ether sulfate and fatty alcohol sulfate acid,
And (vi) selected from the group consisting of a mixture comprising or consisting of an acid of a fatty alcohol ether sulfate and a fatty alcohol sulfate,
The fatty alcohol ether sulfate is of the formula (III)
Figure 2015212417
(III)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 represents a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 )
Selected from the group consisting of acids formed by protonation from fatty alcohol ether sulfates and / or salts thereof;
And / or the fatty alcohol sulfate is of the formula (IV)
Figure 2015212417
(IV)
,
(In the formula, each independently,
n represents an integer within the range of 1 to 24;
R 4 means a branched or unbranched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
X is selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, Cs and NH 4 ), a wetting agent selected from the group consisting of acids generated by protonation from fatty alcohol sulfates and / or salts thereof; And / or (h) a total amount of 0.003 to 0.018 mol / L,
One, two, more than one or all compounds selected from the group consisting of chloral hydrate, bromaric hydrate, formate, formate, acetic acid, acetate, substituted or unsubstituted aliphatic aldehydes and / or ( i) Formula (V) with a total amount of 0-0.0025 mol / L
Figure 2015212417
(V)
,
(Where
Figure 2015212417
Means a double or triple bond in the cis or trans configuration;
R 5 means C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or CH 2 OR 6
R 6 represents C 1 -C 4 -alkyl substituted by hydroxy or hydrogen or a sulfonic acid group or a salt thereof,
R 5 and R 6 do not mean hydrogen at the same time, and the broken line means a single bond)
One or more compounds of
追加的に、
-、Cl-、Br-、I-、SO4 2-、OH-およびClO4 -
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるもしくは全ての陰イオンを含有し、
かつ/または
追加的に、
Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Mg2+、Ca2+およびSr2+
から成る群から選択される1種、2種、2種を超えるもしくは全ての陽イオンを含有する、請求項1から3までの1項に記載の電解浴または混合物。
In addition,
F , Cl , Br , I , SO 4 2− , OH and ClO 4
Containing one, two, more than two or all anions selected from the group consisting of
And / or additionally
Li + , Na + , K + , Rb + , Cs + , Mg 2+ , Ca 2+ and Sr 2+
4. The electrolytic bath or mixture according to claim 1, comprising one, two, more or all cations selected from the group consisting of:
単相溶液である、請求項1から4までの1項に記載の電解浴または混合物。   Electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 4, which is a single-phase solution. 2.8〜5.2、好ましくは3.8〜4.8の範囲内のpH値を有する、請求項1から5までの1項に記載の電解浴または混合物。   6. Electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 5, having a pH value in the range of 2.8 to 5.2, preferably 3.8 to 4.8. 対応する被加工物上へのニッケルの析出による、光沢ニッケル層を有する物品の製造方法であって、以下のステップ:
(a)請求項1から6までの1項に記載の電解浴または混合物を準備および/または製造するステップ、
(b)準備または製造された電解浴または混合物から被加工物上にニッケルを電気析出させて光沢ニッケル層を製造するステップ
を含む、方法。
A method for producing an article having a bright nickel layer by depositing nickel on a corresponding workpiece, comprising the following steps:
(A) preparing and / or producing an electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 6;
(B) producing a bright nickel layer by electrodepositing nickel onto the work piece from a prepared or produced electrolytic bath or mixture.
電解浴または混合物の温度が、ステップ(b)において40〜70℃の範囲内である、請求項7に記載の方法。   The method according to claim 7, wherein the temperature of the electrolytic bath or mixture is in the range of 40-70 ° C in step (b). ステップ(b)において光沢ニッケル層が、被加工物の銅、黄銅または亜鉛表面上に析出される、請求項7または8に記載の方法。   9. A method according to claim 7 or 8, wherein in step (b) a bright nickel layer is deposited on the copper, brass or zinc surface of the workpiece. 物品が、導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素である、請求項7から9までの1項に記載の方法。   The method according to one of claims 7 to 9, wherein the article is a component of a conduit or a component of a component for a conduit. ステップ(b)において、被加工物の表面への析出が行われ、表面が、被加工物の半光沢ニッケル層の一部である、請求項7から10までの1項に記載の方法。   11. A method according to claim 7, wherein in step (b), a deposition on the surface of the workpiece is performed, the surface being part of the semi-bright nickel layer of the workpiece. 以下の追加的なステップ:
(c)更なる金属層を、光沢ニッケル層上に析出させるステップ、好ましくは電気析出させるステップ、好ましくはクロム層を光沢ニッケル層上に電気析出させるステップ
を含む、請求項7から11までの1項に記載の方法。
The following additional steps:
12. A method according to claim 7, comprising (c) depositing a further metal layer on the bright nickel layer, preferably electrodepositing, preferably electrodepositing a chromium layer on the bright nickel layer. The method according to item.
光沢ニッケル層の析出または製造のための、請求項1から6までの1項に記載の電解浴または混合物の使用。   Use of an electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 6 for the deposition or production of a bright nickel layer. 導水導管用の部品の構成要素上での光沢ニッケル層の析出または製造のための、請求項13に記載の使用。   14. Use according to claim 13, for the deposition or production of a bright nickel layer on a component of a component for a conduit. 光沢ニッケル層が、
請求項1から6までの1項に記載の電解浴または混合物の使用下で対応する被加工物上にニッケルを析出させることによって、
または
請求項7から12の1項に記載の方法を用いて
製造可能である、光沢ニッケル層を含む物品、好ましくは導管の構成要素または導水導管用の部品の構成要素。
A bright nickel layer
Depositing nickel on the corresponding workpiece using the electrolytic bath or mixture according to one of claims 1 to 6;
Or an article comprising a bright nickel layer, preferably a component of a conduit or a component of a conduit for a conduit, which can be produced using the method according to one of claims 7-12.
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