JP2015207658A - 円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法、及びその装置 - Google Patents
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Abstract
装置及び研磨パッドの長寿命化を可能とし、ウェーハ表裏面の欠点を少なくするウェーハエッジ部の研磨方法及び装置を提供する。
【解決手段】
円盤状半導体ウェーハをその中心軸線の回りに回転せしめ、研磨パッドが装着された弧状の研磨面を有する少なくとも1つの研磨ヘッド及びウェーハエッジ部を当接させ、前記研磨パッドに研磨用組成物のスラリーを供給してウェーハエッジ部の研磨を行なう方法において、研磨加工が開始される前に研磨パッドにのみスラリーを供給し、研磨パッド内部にスラリーを含浸せしめた後、スラリーを含浸せしめた研磨パッド及び回転させた前記ウェーハのエッジ部を相対的に接触させて円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨を行なうことを特徴とする円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法及びその装置。
【選択図】図1
Description
◎ 比較例よりも優れた加工速度
〇 比較例の加工速度と同等
△ 比較例の加工速度よりやや劣る
× 比較例の加工速度より劣る
である。
◎ スラリーによる汚染が全くなく極めて良
〇 スラリーによる汚染が殆どなく良
△ ウェーハ表裏面にスラリーによる汚染が若干あるがやや良
× ウェーハ表裏面の汚染が著しく不良
である。
2:エッジ部の上部傾斜面
3:エッジ部の下部傾斜面
4:エッジ部の上下傾斜面間に形成された端面
5:ウェーハ把持手段
6:ウェーハ回転手段
7:上部傾斜面2に当接する上部傾斜面用研磨ヘッド
8:端面4に当接する端面用研磨ヘッド
9:下部傾斜面3に当接する下部傾斜面用研磨ヘッド
10:研磨パッド
11:スラリー含浸用ノズル
12、12’:ミスト供給用ノズル
Claims (7)
- 円盤状半導体ウェーハをその中心軸線の回りに回転せしめ、研磨パッドが装着された弧状の研磨面を有する少なくとも1つの研磨ヘッド及びウェーハエッジ部を当接させ、前記研磨パッドに研磨用組成物のスラリーを供給してウェーハエッジ部の研磨を行なう方法において、研磨加工が開始される前に研磨パッドにのみスラリーを供給し、研磨パッド内部にスラリーを含浸せしめた後、スラリーを含浸せしめた研磨パッド及び回転させた前記ウェーハのエッジ部を相対的に接触させて円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨を行なうことを特徴とする円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法。
- 研磨加工が開始されてから研磨加工が終了するまでの間においても、スラリーを研磨パッドにのみ供給し、研磨パッド内部にスラリーを含浸せしめながら、スラリーを含浸せしめた研磨パッド及び前記ウェーハのエッジ部を相対的に接触させて円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨を行なうことを特徴とする請求項1に記載の円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法。
- 研磨用組成物のスラリーが乾燥防止成分を含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法。
- 乾燥防止成分の含有量が、使用する研磨用組成物のスラリーに対し1〜10重量%であることを特徴とする請求項3に記載の円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法。
- 円盤状半導体ウェーハの表面の上部または裏面の下部の少なくとも一方にミスト供給手段を設け、円盤状半導体ウェーハの表面または裏面の少なくとも一方に向けてミストを散布しつつ円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨を行なうことを特徴とする、請求項1ないし4のいずれかに記載の円盤状半導体ウェーハエッジ部の研磨方法。
- 円盤状半導体ウェーハを把持するウェーハ把持手段と、把持された前記円盤状半導体ウェーハを中心軸線回りに回転せしめるウェーハ回転手段と、研磨パッドが装着された弧状の研磨面を有する少なくとも1つの研磨ヘッドと、前記研磨パッドの内部に研磨用組成物のスラリーを含浸せしめるスラリー含浸手段、とを有し、前記研磨ヘッドに装着され内部にスラリーを含浸せしめた研磨パッド及び前記円盤状半導体ウェーハのエッジ部が相対的に接触するように配設されていることを特徴とする円盤状半導体ウェーハエッジ部研磨装置。
- 円盤状半導体ウェーハの表面の上部または裏面の下部の少なくとも一方にミスト供給手段を設けたことを特徴とする請求項6に記載の円盤状半導体ウェーハエッジ部研磨装置。
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