JP2015190643A - 加熱調理器 - Google Patents
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Abstract
【課題】加熱室の温度上昇時間に基づいて、加熱手段の制御を行うことによって、被加熱物の調理を好適に行うことができる加熱調理器を得る。
【解決手段】被加熱物を加熱調理する加熱室20と、被加熱物を加熱する加熱手段21と、加熱室20の温度を検出する温度検出手段23と、加熱室20の温度が、第1設定温度c1と第1設定温度c1よりも高い第2設定温度c2との間にあるように、加熱手段21の制御を行う制御手段26と、を有し、制御手段26は、第1設定温度c1から第2設定温度c2に上昇した温度上昇時間に基づいて、加熱手段21の制御を行うことを特徴とする加熱調理器。
【選択図】図8
【解決手段】被加熱物を加熱調理する加熱室20と、被加熱物を加熱する加熱手段21と、加熱室20の温度を検出する温度検出手段23と、加熱室20の温度が、第1設定温度c1と第1設定温度c1よりも高い第2設定温度c2との間にあるように、加熱手段21の制御を行う制御手段26と、を有し、制御手段26は、第1設定温度c1から第2設定温度c2に上昇した温度上昇時間に基づいて、加熱手段21の制御を行うことを特徴とする加熱調理器。
【選択図】図8
Description
この発明は、加熱調理器に関する。
従来の加熱調理器としては、例えば、下記の特許文献1に示すように、予熱工程と本工程とで、加熱手段への通電率を変更したものが知られている。特許文献1に記載の加熱調理器は、予熱工程終了後に、被加熱物を加熱室に入れて、本工程にて被加熱物の加熱を行うものである。特許文献1の従来技術では、予熱工程では、加熱手段への通電率を100%にして、予熱時間を短縮していた。また、特許文献1の従来技術では、本工程では、加熱手段をON/OFF制御して、加熱室の温度を設定温度に保つようにしていた。
また、下記の特許文献2に示す従来の加熱調理器では、加熱工程と調理1工程と調理2工程とで、加熱手段への通電率を変更していた。特許文献2の加熱調理器では、まず、被加熱物を加熱室に入れて、加熱工程にて加熱を行い、加熱工程後の調理1工程にて加熱工程よりも低い通電率で加熱を行い、調理1工程後の調理2工程にて調理1工程よりも低い通電率で加熱を行っていた。特許文献2の従来技術では、上記のように加熱を行うことによって、表面を焼き固めた後に内部に適度に火を通すという、肉料理に適した調理シーケンスを提供していた。
しかしながら、特許文献1に記載の従来技術では、本工程開始から調理完了までの間に、一定の通電率で加熱手段に通電を行い被加熱物の加熱を行っていた。その結果、加熱調理を行う間に、被加熱物の水分が蒸発して、被加熱物が乾燥した後に、一定の通電率で加熱を行い続けると、被加熱物が焦げ付く問題点があった。さらに、特許文献1の従来技術では、被加熱物が焼き網にこびりつき、または、被加熱物に焼きムラが発生するおそれがあった。
また、特許文献2に記載の従来技術では、肉料理を行う際に、表面を焼き固めて、その後に内部に適度に火を通していたが、この調理シーケンスは、肉料理には適しているものの他の料理への適用には適していないという問題点があった。
この発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、加熱室の温度上昇時間に基づいて、加熱手段の制御を行うことによって、被加熱物の調理を好適に行うことができる加熱調理器を提供するものである。
この発明に係る加熱調理器は、被加熱物を加熱調理する加熱室と、前記被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱室の温度を検出する温度検出手段と、前記加熱室の温度が、第1設定温度と前記第1設定温度よりも高い第2設定温度との間にあるように、前記加熱手段の制御を行う制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記第1設定温度から前記第2設定温度に上昇した温度上昇時間に基づいて、前記加熱手段の制御を行うことを特徴とする。
この発明によれば、加熱室の温度上昇時間に基づいて、加熱手段の制御を行っているため、被加熱物の調理を好適に行うことができる加熱調理器を得ることができる。
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。なお、各図中、同一または相当する部分には、同一符号を付して、その説明を適宜省略または簡略化する。
実施の形態1.
この実施の形態に係る加熱調理装置5は、図1に示すように、キッチンキャビネット1に組み込まれるビルトインタイプのものである。キッチンキャビネット1は、例えば、前面側にキャビネット扉2を有するキャビネット本体3と、キャビネット本体3の上に設置されたキッチンカウンタートップ4とを含む。以下の説明では、キッチンキャビネット1にビルトインされる加熱調理装置5について説明するが、この実施の形態に係る加熱調理装置は、据置タイプのものであっても良い。
この実施の形態に係る加熱調理装置5は、図1に示すように、キッチンキャビネット1に組み込まれるビルトインタイプのものである。キッチンキャビネット1は、例えば、前面側にキャビネット扉2を有するキャビネット本体3と、キャビネット本体3の上に設置されたキッチンカウンタートップ4とを含む。以下の説明では、キッチンキャビネット1にビルトインされる加熱調理装置5について説明するが、この実施の形態に係る加熱調理装置は、据置タイプのものであっても良い。
加熱調理装置5は、図1〜図3に示すように、天板6を有する上部ユニット7と、ロースター8、操作部9および表示部11を有する下部ユニット10と、を含む。なお、ロースター8は、この発明における「加熱調理器」に対応する。ユーザは、操作部9を操作して、例えば、調理メニューの選択および加熱手段の制御等を行うことができる。表示部11は、加熱調理装置5の動作状態、操作部9への入力内容等を表示するとともに、ユーザに加熱調理装置5の状態等を報知する報知手段である。なお、操作部および表示部は、上部ユニット7に設けられても良い。
上部ユニット7は、天板6の下側に、図示を省略してある加熱手段を有する。加熱手段は、例えば誘導加熱コイルである。天板6の加熱手段に対応した位置には、調理容器の載置部12、13、14が設けられている。ユーザは、載置部12、13、14に調理容器を載置して、調理を行うことができる。天板6の後方には、図2および図3に示すように、吸気口24および排気口25が設けられており、これらの上面には、図1に示すように、スリット形状のカバー15が設置されている。
下部ユニット10のロースター8は、前面に扉30を有する。ユーザは、図3に示すように、扉30を前方に引き出すことによって、加熱室20内に収納された受皿31および受皿31の上に載置された焼き網40を引き出すことができる。また、ユーザは、扉30を後方に押し込むことによって、受皿31および焼き網40を、加熱室20内に収納することができる。扉30を後方に押し込んで、受皿31および焼き網40を加熱室20内に収納すると、扉30は加熱室20の前面開口部を閉鎖する。
図4に示すように、この実施の形態に係るロースター8は、上ヒータ21、下ヒータ22および庫内温度検出手段23を有する。加熱手段である上ヒータ21および下ヒータ22は、例えば、抵抗発熱体のシーズヒータであり、加熱室20の内部に設置されている。上ヒータ21および下ヒータ22は、例えば、ON状態(通電状態)とOFF状態(非通電状態)とを切り替えて通電率(デューティー比)を変更することによって、火力を調整することができる。なお、上ヒータ21および下ヒータ22の火力調整は、電圧を変更することによって行っても良い。
上ヒータ21は、焼き網40の上方に設置され、加熱室20を上方から加熱するものである。下ヒータ22は、焼き網40の下方に設置され、加熱室20を下方から加熱するものである。上ヒータ21および下ヒータ22は、幅方向および奥行き方向に複数回折り曲げられた形状を有しており、加熱室20内を広範囲に好適に加熱することができる。なお、上ヒータ21および下ヒータ22は、それぞれ単一のヒータによって構成される必要はなく、その何れか、または双方が複数のヒータによって構成されても良い。
庫内温度検出手段23は、加熱室20内の温度を検出するものである。庫内温度検出手段23は、例えば、熱電対で構成され、上ヒータ21と下ヒータ22との間で、加熱室20の背面側から扉30に向かって突出するように設置される。庫内温度検出手段23は、好適には、高さ方向に、被加熱物が載置される焼き網40の載置面の上側で、被加熱物と同じ高さ位置に設置される。
加熱室20の背面板54には、排気ダクト25Aに連通する開口部55が形成されている。排気ダクト25Aは、図2および図3等に記載の排気口25に連通している。図4に示すように、加熱室20の背面板54の開口部55には、排気を浄化するための触媒56および触媒56を加熱するための触媒ヒータ27が設けられている。触媒56は、触媒ヒータ27で加熱されることによって活性化され、酸化分解によって、排気に含まれる油煙および臭気成分等を分解・浄化することができる。触媒ヒータ27が触媒56を加熱することによって、加熱室20から排出される煙の浄化作用が促進される。
上記のように構成されたロースター8は、図5に示すように、制御手段26によって制御される。制御手段26は、例えば、CPUまたは専用回路等の演算装置である。制御手段26は、操作部9、庫内温度検出手段23および記憶部26A等の入力に基づいて、表示部11、上ヒータ21、下ヒータ22、触媒ヒータ27および記憶部26A等の制御を行う。制御手段26は、図1等に記載の加熱調理装置5全体の制御を行っても良い。
次に、図6〜図9を用いて、この実施の形態に係るロースター8にて行われる調理工程(加熱工程)について説明する。まず、図6に示すステップS102にて、ユーザは、図1等に記載の操作部9を操作して、調理メニューを選択する。なお、ユーザは、調理メニューを選択する代わりに、被加熱物の調理に適した加熱温度を入力しても良い。
ステップS102にて、調理メニューが選択されると、図9に示す第1設定温度c1、第2設定温度c2および第3設定温度c3が設定され、ステップS104にて、第1加熱工程が開始される。この実施の形態では、加熱室20の加熱室温度cが、調理下限温度の第1設定温度c1と調理上限温度の第2設定温度c2との間にあるように、上ヒータ21および下ヒータ22の制御を行って、被加熱物の加熱調理を行う。なお、第3設定温度c3は、後述するように、第1加熱工程にて加熱を行う際の目標温度である。
図7に示すように、第1加熱工程では、ステップS202およびステップS204にて、加熱室温度cが第3設定温度c3に到達するまで、上ヒータ21および下ヒータ22をONして加熱を行う。第1加熱工程での火力Aは、例えば、上ヒータ21および下ヒータ22の最大火力である。この実施の形態では、上ヒータ21および下ヒータ22への通電率を調整することによって、上ヒータ21および下ヒータ22の火力を調整するので、第1加熱工程における上ヒータ21および下ヒータ22への通電率は100%である(図9のt0〜t1)。なお、第1加熱工程での火力Aは、調理メニューまたは被加熱物の種類等に基づいて、適宜設定されることができる。
第1加熱工程では、強い火力(例えば、上ヒータ21および下ヒータ22の最大火力)にて加熱が行われるので、加熱室温度cは、被加熱物の調理を行う温度範囲(図9に示す例では、第1設定温度c1と第2設定温度c2との間の第3設定温度c3)に急速に到達する。
さらに、第1加熱工程では、調理上限温度の第2設定温度c2よりも低い第3設定温度c3を目標温度にしているため、加熱室温度cが、第2設定温度c2よりも高くなるおそれ(オーバーシュートのおそれ)を低減することができる。なぜなら、第1加熱工程では、急速に加熱を行っており、しかも、加熱室温度cと庫内温度検出手段23が検出する温度との間に差異が生じやすいため、加熱室温度cがオーバーシュートしやすい状況にある。したがって、第1加熱工程では、調理上限温度の第2設定温度c2よりも低い第3設定温度c3を目標温度として加熱を行う。
さらに、第1加熱工程では、調理上限温度の第2設定温度c2よりも低い第3設定温度c3を目標温度にしているため、加熱室温度cが、第2設定温度c2よりも高くなるおそれ(オーバーシュートのおそれ)を低減することができる。なぜなら、第1加熱工程では、急速に加熱を行っており、しかも、加熱室温度cと庫内温度検出手段23が検出する温度との間に差異が生じやすいため、加熱室温度cがオーバーシュートしやすい状況にある。したがって、第1加熱工程では、調理上限温度の第2設定温度c2よりも低い第3設定温度c3を目標温度として加熱を行う。
加熱室温度cが第3設定温度c3に到達すると、図7に示すステップS206にて、上ヒータ21および下ヒータ22をOFFして加熱を停止する(図9のt1)。ステップS206にて、加熱が停止されると、第1加熱工程が終了して、図6に示すステップS106にて、第2加熱工程が行われる。
第2加熱工程では、図8に示すように、ステップS302にて、加熱室温度cが、調理下限温度の第1設定温度c1まで低下した後に、ステップS304〜ステップS308にて、加熱室温度cが第2設定温度c2に到達するまで、上ヒータ21および下ヒータ22をONして加熱を行う(図9のt1〜t3)。第2加熱工程における火力Bは、例えば、ユーザが選択した調理メニューに基づいて設定されるものであり、火力Aよりも弱くなるように設定される。すなわち、図9に示すように、t0〜t1での通電率よりもt2〜t3での通電率を低くして加熱を行う。
図8に示すステップS308にて加熱室温度cが第2設定温度c2に到達した後に、ステップS310にて、上ヒータ21および下ヒータ22をOFFして加熱を停止する。このときに、ステップS304で加熱が開始された後に、ステップS306にて時間計測が開始され、ステップS310で加熱が停止された後に、ステップS312にて時間計測が終了する。したがって、第2加熱工程において、加熱室温度cが第1設定温度c1から第2設定温度c2まで上昇した温度上昇時間T2(図9に示すt2〜t3)が計測される。
ステップS314では、温度上昇時間T2が図4に記載の記憶部26Aに記憶される。ステップS316にて、基準時間T1と温度上昇時間T2とを比較し、ステップS318にて、火力Bを変更するか否かを判断する。なお、この実施の形態の基準時間T1は、ユーザが選択した調理メニューに基づいて設定されるものであり、火力Bを変更するか否かを判断するための閾値である。
ここで、加熱室温度cが、第1設定温度c1から第2設定温度c2に上昇する温度上昇時間T2は、被加熱物の含水率と相関がある。すなわち、ある火力で加熱を行った場合に、被加熱物の含水率が高い場合には、第1設定温度c1から第2設定温度c2まで上昇する温度上昇時間T2が長くなり、被加熱物の含水率が低い場合には、第1設定温度c1から第2設定温度c2に上昇する温度上昇時間T2が短くなる。
したがって、例えば、温度上昇時間T2が、基準時間T1よりも短くなった場合には、被加熱物の含水率が低くなっているため、被加熱物が焦げやすい状態にある。このため、温度上昇時間T2が基準時間T1よりも短い場合には火力Bを変更する。例えば、図8に示すステップS316にて、基準時間T1と温度上昇時間T2とを比較して、温度上昇時間T2が基準時間T1よりも短い場合には、ステップS318にて、火力Bを変更すると判断し、ステップS322にて、火力Bを小さくする。ステップS322にて火力Bを小さくした後に、ステップS302に戻って加熱調理を継続する。
図9に示す例では、t2〜t3の温度上昇時間T2は、基準時間T1よりも長いので、t4〜t5では、t2〜t3の火力と同じ火力で加熱を行う。t4〜t5の温度上昇時間T2は、基準時間T1よりも短いので、t4〜t5での火力よりもt6〜t7での火力を小さくして加熱を行う。t6〜t7の温度上昇時間T2は、基準時間T1よりも長いので、t8〜t9では、t6〜t7の火力と同じ火力で加熱を行う。なお、この発明において、「第2加熱段階」とは、「第1加熱段階」の前に行われる加熱段階であり、例えば、「第2加熱段階」はt2〜t3においての加熱に対応し、「第1加熱段階」はt4〜t5においての加熱に対応する。
ステップS318にて、火力Bを変更しないと判断した場合には、ステップS320に進み、調理を終了するか否かを判断する。例えば、ステップS322にて徐々に弱められた火力Bが、第1設定値よりも小さくなった場合には、被加熱物の調理が終了したと判断して、調理工程が完了する。または、温度上昇時間T2が基準時間T1よりもさらに短い第1設定値(1)よりも短くなったときに、被加熱物の調理が終了したと判断して、調理工程を完了しても良い。なお、調理の終了を判断する第1設定値および第1設定値(1)は、ユーザが選択した調理メニューに基づき設定されるものである。ステップS320にて、調理を終了しないと判断した場合には、ステップS302に戻って加熱調理を継続する。
上記のように、この実施の形態では、第1設定温度から第2設定温度に上昇した温度上昇時間に基づいて、加熱手段の制御が行われる。その結果、この実施の形態では、被加熱物の水分量(含水率)に基づいて、好適に加熱調理を行うことができる。このため、この実施の形態に係るロースターでは、被加熱物の表面を焦がさないように加熱調理を行うことができる。さらに、この実施の形態に係るロースターでは、被加熱物の内部の水分が過度に蒸発することを抑制することができるため、被加熱物のパサつきを抑えて好適に加熱調理を行うことができる。
なお、上記の説明では、上ヒータ21および下ヒータ22を有する構成について説明したが、加熱手段は、上ヒータ21または下ヒータ22の何れか1つを有する構成であっても良い。または、上ヒータ21および下ヒータ22に加えて、他の加熱手段を有する構成であっても良い。
また、上記の説明では、温度上昇時間T2が基準時間T1よりも短い場合に、火力Bを弱める制御の例について説明したが、この制御に加えて、温度上昇時間T2が基準時間T1よりも長い場合に、火力Bを強める制御を組み合わせることによって、さらに緻密な加熱調理を行うことができる。
また、上記の説明では、上ヒータ21および下ヒータ22について、同様の制御を行う例について説明したが、上ヒータ21と下ヒータ22とで、異なる制御を行っても良い。例えば、上ヒータ21または下ヒータ22の一方については、上述したように、第1設定温度c1から第2設定温度c2に上昇する温度上昇時間T2に基づいて、徐々に火力を弱めるように制御を行い、他方のヒータについては、一定の火力を維持するように制御を行う。このときに、他方のヒータの火力は適宜設定することができる。このように、上ヒータ21と下ヒータ22とで、加熱制御を異ならせることによって、加熱手段の火力の微調整を行うことができる。
実施の形態2.
実施の形態1では、上ヒータ21および下ヒータ22を備えるロースター8について説明したが、この実施の形態に係るロースター8Aは、図10に示すように、上ヒータ21Aとコンベクションユニット41を備えるものである。以下の説明では、実施の形態1と重複する部分については、説明を省略する。
実施の形態1では、上ヒータ21および下ヒータ22を備えるロースター8について説明したが、この実施の形態に係るロースター8Aは、図10に示すように、上ヒータ21Aとコンベクションユニット41を備えるものである。以下の説明では、実施の形態1と重複する部分については、説明を省略する。
この実施の形態に係るロースター8Aは、上ヒータ21A、コンベクションユニット41、庫内温度検出手段23Aおよび吹出し口温度検出手段47を有する。上ヒータ21Aは、例えば、抵抗発熱体のシーズヒータである。上ヒータ21Aは、加熱室20Aの内部で、焼き網40の上方に設置され、加熱室20Aを上方から加熱する。
庫内温度検出手段23Aは、加熱室20A内の温度を検出するものである。庫内温度検出手段23Aは、例えば、熱電対で構成され、加熱室20Aの背面側から扉30に向かって突出するように設置される。庫内温度検出手段23Aは、好適には、高さ方向に、被加熱物が載置される焼き網40の載置面と同じ高さ位置に設置される。
コンベクションユニット41は、加熱室20Aの背面に設置され、加熱室20Aの背面側から熱風を供給するものであり、この発明の「背面ヒータ」に対応する。コンベクションユニット41は、加熱室20A内の空気を吸引ダクト32から吸い込んで加熱し、加熱した空気を吹出口55Bから加熱室20Aに供給する。
吸引ダクト32は、上面ダクト33と背面ダクト34とを含む。上面ダクト33は、加熱室20Aの上側に設けられており、加熱室20Aの手前側から奥側に向かって延びる。上面ダクト33の手前側には、上面ダクト33への空気の流入口となる上面吸込口35が形成されている。また、上面ダクト33の奥側(後側)には、上面ダクト33からの空気の流出口となる連通口28が形成されている。
上面吸込口35は、加熱室20の奥行き方向中央よりも手前側(扉30側)に形成されている。上面吸込口35から上面ダクト33内に流入した空気は、上面ダクト33の他端側に設けられた連通口28を通って背面ダクト34に流入する。
上面吸込口35には、触媒27Aが設けられている。触媒27Aは、上ヒータ21Aの上側で、上ヒータ21Aと近接するように配置されている。上ヒータ21Aによって、触媒27Aが加熱されると、触媒27Aが活性化される。触媒27Aが活性化されると、排気に含まれる油煙または臭気成分等は、酸化分解によって分解・浄化される。
背面ダクト34は、連通口28と、背面板54に設けられた背面吸込口55Aとを結ぶ通風路である。背面ダクト34は、下方から上方に向かって加熱室20の内部方向(前面方向)に突出するように傾斜した傾斜面を有する。背面ダクト34の傾斜面の傾斜角度は、上面ダクト33と背面ダクト34との接続部分における圧力損失と、加熱室20内の容積とを考慮して設定される。
コンベクションユニット41は、内部に収容空間を有する加熱室42と、加熱室42内に収容されるコンベクションファン43およびコンベクションヒータ44と、コンベクションファン43を回転させるモーター45と、加熱室42の後方に設けられモーター45を収容するモーター収容ケース46とを備える。加熱室42の上部には、加熱室排気ダクト25Bが連結されている。
コンベクションファン43は、モーター45の回転軸と固定され、モーター45の動作によって回転する。コンベクションファン43は、空気を吸引する中央部分が、加熱室20Aの背面板54に設けられた背面吸込口55Aに対向するようにして、加熱室42内に配置されている。コンベクションファン43が回転すると、その中央部から空気が吸引され、吸引された空気は羽根の外周部から送出される。モーター45とコンベクションファン43は、吸引ダクト32から吸い込んだ加熱室20内の空気を、吹出口55Bを介して加熱室20へ送る送風手段として機能する。
コンベクションヒータ44は、この発明の「背面ヒータ」に対応するものであり、加熱室42内を加熱する加熱手段である。コンベクションヒータ44は、例えば、シーズヒータで構成されており、加熱室42内のコンベクションファン43の下側に設けられている。
コンベクションヒータ44は、その少なくとも一部が高さ方向において吹出口55Bと重なるように配置されている。コンベクションヒータ44は、吹出口55Bに近づけて配置されているため、コンベクションヒータ44によって加熱された熱風は、その温度が低下することなく、吹出口55Bから吹き出される。
吹出し口温度検出手段47は、吹出口55Bに設置され、吹出口55Bから吹き出される熱風の温度を検出するものである。吹出し口温度検出手段47は、例えば、サーミスタで構成される。吹出し口温度検出手段47が吹出口55Bに設置されているため、コンベクションユニット41から吹き出される熱風の温度を正確に検出することができる。このため、加熱室20Aに、正確な温度の熱風を供給することができるので、調理の際の加熱ムラが抑制され、好適に調理を行うことができる。
上記のように構成されたロースター8Aは、図11に示すように、制御手段26Bによって制御される。制御手段26Bは、例えば、CPUまたは専用回路等の演算装置である。制御手段26Bは、操作部9、庫内温度検出手段23A、記憶部26Aおよび吹出し口温度検出手段47等の入力に基づいて、表示部11、上ヒータ21A、記憶部26Aおよびコンベクションユニット41等の制御を行う。
次に、図12〜図15を用いて、この実施の形態に係るロースター8Aにて行われる調理工程について説明する。なお、図12に記載のステップS102およびステップS104については、上記の実施の形態1で説明した図6に記載のステップS102およびステップS104と同様であるため、説明を省略する。
図12に示すステップS104での第1加熱工程が終了すると、図12に示すステップS106Aにて、第2加熱工程が行われる。図13に示すように、第2加熱工程では、ステップS402にて、加熱室20Aの加熱室温度cが、調理下限温度の第1設定温度c1まで低下した後に、ステップS404〜ステップS408にて、加熱室温度cが第2設定温度c2に到達するまで、上ヒータ21Aおよびコンベクションユニット41をONして加熱を行う(図15のt1〜t3)。第2加熱工程における火力Bは、例えば、ユーザが選択した調理メニューに基づいて設定されるものであり、第1加熱工程の火力Aよりも弱くなるように設定される。
図13に示すステップS408で加熱室温度cが第2設定温度c2に到達した後に、ステップS410にて、上ヒータ21およびコンベクションユニット41をOFFして加熱を停止する。このときに、ステップS404で加熱が開始された後に、ステップS406にて時間計測が開始され、ステップS410で加熱が停止された後に、ステップS412にて時間計測が終了する。したがって、第2加熱工程において、加熱室温度cが第1設定温度c1から第2設定温度c2まで上昇した温度上昇時間(図15に示すt2〜t3)が計測される。そして、図13に示すステップS414にて、第2加熱工程における温度上昇時間T2が、基準時間T1として、図11に記載の記憶部26Aに記憶される。ステップS414にて、基準時間T1が記憶されると、第2加熱工程が終了する。
第2加熱工程が終了すると、図12に示すステップS108にて、第3加熱工程が行われる。図14に示すように、第3加熱工程では、ステップS502にて、加熱室温度cが、調理下限温度の第1設定温度c1まで低下した後に、ステップS504〜ステップS508にて、加熱室温度cが第2設定温度c2に到達するまで、上ヒータ21Aおよびコンベクションユニット41をONして火力Bにて加熱を行う(図15のt3〜t5)。
ステップS508で加熱室温度cが第2設定温度c2に到達した後に、ステップS510にて、上ヒータ21およびコンベクションユニット41をOFFして加熱を停止する。このときに、ステップS504で加熱が開始された後に、ステップS506にて時間計測が開始され、ステップS510で加熱が停止された後に、ステップS512にて時間計測が終了する。したがって、第3加熱工程において、加熱室温度cが第1設定温度c1から第2設定温度c2まで上昇した温度上昇時間T2(例えば、図15のt4〜t5)が計測される。ステップS514にて、第3加熱工程における温度上昇時間T2が図11に記載の記憶部26Aに記憶される。
ステップS516にて、今回の加熱工程の温度上昇時間T2とその直前の加熱工程の温度上昇時間である基準時間T1とを比較して、ステップS518にて加熱調理を終了するか否かを判断する。
なお、基準時間T1は、第2加熱工程から第3加熱工程に移った直後は、第2加熱工程における温度上昇時間である。
また、2回目以降の第3加熱工程が行われた場合には、前回の第3加熱工程における温度上昇時間である。なぜなら、ステップS518にて、調理を終了しないと判断した場合には、ステップS520にて、基準時間T1を、直前の温度上昇時間T2に書き換えて更新し、ステップS502に戻る。
なお、基準時間T1は、第2加熱工程から第3加熱工程に移った直後は、第2加熱工程における温度上昇時間である。
また、2回目以降の第3加熱工程が行われた場合には、前回の第3加熱工程における温度上昇時間である。なぜなら、ステップS518にて、調理を終了しないと判断した場合には、ステップS520にて、基準時間T1を、直前の温度上昇時間T2に書き換えて更新し、ステップS502に戻る。
ステップS518での加熱調理を終了するか否かの判断は、例えば、基準時間T1と温度上昇時間T2との差が、ユーザが選択した調理メニューに基づいて設定された第2設定値よりも小さくなったか否かで行われる。なぜなら、加熱調理が進むにつれて、被加熱物の含水率が低くなると、基準時間T1と温度上昇時間T2との差が徐々に小さくなる。したがって、基準時間T1と温度上昇時間T2との差を第2設定値と比較することによって、加熱調理の進行度を得ることができる。よって、基準時間T1と温度上昇時間T2との差が、加熱調理の終了を判断する第2設定値よりも小さくなった場合には、加熱調理を終了する。
図15に示す例では、t2〜t3の温度上昇時間(T1)とt4〜t5の温度上昇時間(T2)との差は、第2設定値よりも大きいので、加熱調理を継続する。t4〜t5の温度上昇時間(T1)とt6〜t7の温度上昇時間(T2)との差は、第2設定値よりも小さいので、加熱調理を終了する。
実施の形態3.
実施の形態3は、実施の形態2と比較して、第3加熱工程の一部が異なるのみである。以下の説明では、実施の形態2と重複する部分については、説明を省略する。
実施の形態3は、実施の形態2と比較して、第3加熱工程の一部が異なるのみである。以下の説明では、実施の形態2と重複する部分については、説明を省略する。
この実施の形態では、図12に記載のステップS106にて第2加熱工程が完了した後に、ステップS108Aにて第3加熱工程が行われる。この実施の形態の第3加熱工程は、実施の形態2と比較して、ステップS514の後の動作が異なるのみである。
すなわち、この実施の形態の第3加熱工程では、図16に示すように、ステップS516Aにて、第3加熱工程の温度上昇時間T2とその直前の第2加熱工程での温度上昇時間である基準時間T1とを比較して、ステップS518Aにて、火力Bを変更するか否かを判断する。なお、この実施の形態では、実施の形態2とは異なり、第3加熱工程が続けて行われた場合であっても、第3加熱工程の温度上昇時間T2と第2加熱工程での温度上昇時間である基準時間T1との比較が行われる。
すなわち、この実施の形態の第3加熱工程では、図16に示すように、ステップS516Aにて、第3加熱工程の温度上昇時間T2とその直前の第2加熱工程での温度上昇時間である基準時間T1とを比較して、ステップS518Aにて、火力Bを変更するか否かを判断する。なお、この実施の形態では、実施の形態2とは異なり、第3加熱工程が続けて行われた場合であっても、第3加熱工程の温度上昇時間T2と第2加熱工程での温度上昇時間である基準時間T1との比較が行われる。
ステップS516Aにて、温度上昇時間T2と基準時間T1とを比較して、基準時間T1と温度上昇時間T2との差が第3設定値よりも大きくなった場合には、被加熱物の含水率が低くなっているため、被加熱物が焦げやすい状態にある。第3設定値は、ユーザが選択した調理メニューに基づいて設定されるものであり、被加熱物が焦げやすい状態にあることを判断する設定値である。そこで、ステップS518Aにて、火力Bを変更すると判断する。そして、ステップS524にて、上限加熱温度である第2設定温度c2を変更する。第2設定温度c2を低くするように再設定を行うことによって、火力Bを小さくすることができる。ステップS518Aにて、火力Bを変更しないと判断した場合には、ステップS522に進む。
図17に示す例では、t2〜t3の温度上昇時間(T1)とt4〜t5の温度上昇時間(T2)との差が第3設定値よりも大きい。したがって、被加熱物が焦げやすい状態にあるので、t6〜t7での火力を弱めている。すなわち、上限加熱温度である第2設定温度c2を第2設定温度c2(1)に低く再設定することによって、次回以降の加熱工程の火力を小さくする。
ステップS524で第2設定温度c2を低くして火力Bを小さくした後に、ステップS526にて、基準時間T1を初期化して、図13に記載のステップS402に進む。図13に記載の第2加熱工程が完了すると、図16に記載の第3加熱工程が行われる。
ステップS518Aで上限加熱温度である火力Bを変更しないと判断した場合には、ステップS522にて、調理を終了するか否かを判断する。ステップS522での調理を終了するか否かの判断は、上記の実施の形態1と同様に、徐々に弱められた火力Bが第1設定値よりも小さくなったか否かによって行われる。または、ステップS522での調理を終了するか否かの判断は、上記の実施の形態2と同様に、基準時間T1と温度上昇時間T2との差が、第2設定値よりも小さくなったか否かによって行われる。ステップS522で調理を終了しないと判断した場合にはステップS502に戻る。
なお、上記の説明では、ステップS516Aにて、基準時間T1と温度上昇時間T2との差を第3設定値と比較して、火力Bを変更するか否かの判断を行ったが、温度上昇時間T2が基準時間T1よりも短くなった場合に、火力Bを小さくするように制御を行っても良い。
また、上記の説明では、ステップS516Aにて、温度上昇時間T2と基準時間T1とを比較して、火力Bの変更を判断する例について説明したが、この実施の形態では、第2設定温度c2を変更させながら加熱を行うので、加熱工程時の温度上昇の傾きを利用して、火力Bの変更を判断しても良い。
また、上記の説明では、ステップS524にて、第2設定温度c2を変更することによって火力Bの変更を行ったが、第1設定温度c1を変更することによって火力Bの変更を行っても良く、第1設定温度c1及び第2設定温度c2を変更することによって火力Bの変更を行っても良い。
この発明は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々に改変することができる。すなわち、上記の実施の形態の構成を適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成に代替させてもよい。さらに、その配置について特に限定のない構成要件は、実施の形態で開示した配置に限らず、その機能を達成できる位置に配置することができる。
例えば、上記の実施の形態では、ビルトインタイプまたは据置タイプの加熱調理装置に搭載されたロースターについての説明を行ったが、この発明は、例えば、オーブンまたは電子レンジ等の加熱調理器にも適用することができる。
また、上記の実施の形態では、被加熱物の水分量が少なくなった場合に火力を弱める制御の例について説明したが、被加熱物の水分量が少なくなった場合に火力を強める制御を組み合わせても良い。被加熱物の水分量が少なくなった調理最終工程にて火力を強めることによって、被加熱物を香ばしく仕上げることができる。
また、上記の実施の形態では、温度上昇時間に基づいて加熱手段の制御を行う例についての説明を行ったが、上限加熱温度から下限加熱温度に低下した温度下降時間に基づく制御を行っても良い。
なぜなら、上限加熱温度から下限加熱温度に低下した温度下降時間は、調理の進行状況と相関がある。被加熱物の調理が進んで、被加熱物の温度が高まると、温度下降時間が短くなるからである。
そこで、例えば、温度下降時間が第4設定値よりも短くなった場合には、被加熱物が焦げやすい状態にあると判断して、加熱手段の火力を小さくする。
また、温度下降時間が第5設定値よりも短くなった場合には、被加熱物の調理が終了したと判断して、調理工程を終了する。
さらに、温度上昇時間と温度下降時間とに基づいて、加熱手段の制御を行ってもよい。温度上昇時間と温度下降時間とを利用して、加熱手段の制御を行うことによって、被加熱物の詳細な調理状態を得ることができるので、好適に調理を行うことができる。
なぜなら、上限加熱温度から下限加熱温度に低下した温度下降時間は、調理の進行状況と相関がある。被加熱物の調理が進んで、被加熱物の温度が高まると、温度下降時間が短くなるからである。
そこで、例えば、温度下降時間が第4設定値よりも短くなった場合には、被加熱物が焦げやすい状態にあると判断して、加熱手段の火力を小さくする。
また、温度下降時間が第5設定値よりも短くなった場合には、被加熱物の調理が終了したと判断して、調理工程を終了する。
さらに、温度上昇時間と温度下降時間とに基づいて、加熱手段の制御を行ってもよい。温度上昇時間と温度下降時間とを利用して、加熱手段の制御を行うことによって、被加熱物の詳細な調理状態を得ることができるので、好適に調理を行うことができる。
1 キッチンキャビネット、2 キャビネット扉、3 キャビネット本体、4 キッチンカウンタートップ、5 加熱調理装置、6 天板、7 上部ユニット、8 ロースター、8A ロースター、9 操作部、10 下部ユニット、11 表示部、12 載置部、13 載置部、14 載置部、15 カバー、20 加熱室、20A 加熱室、21 上ヒータ、21A 上ヒータ、22 下ヒータ、23 庫内温度検出手段、23A 庫内温度検出手段、24 吸気口、25 排気口、25A 排気ダクト、25B 加熱室排気ダクト、26 制御手段、26A 記憶部、26B 制御手段、27 触媒ヒータ、27A 触媒、28 連通口、30 扉、31 受皿、32 吸引ダクト、33 上面ダクト、34 背面ダクト、35 上面吸込口、40 焼き網、41 コンベクションユニット、42 加熱室、43 コンベクションファン、44 コンベクションヒータ、45 モーター、46 モーター収容ケース、47 吹出し口温度検出手段、54 背面板、55 開口部、55A 背面吸込口、55B 吹出口、56 触媒、T1 基準時間、T2 温度上昇時間、c 加熱室温度、c1 第1設定温度、c2 第2設定温度、c3 第3設定温度。
Claims (8)
- 被加熱物を加熱調理する加熱室と、
前記被加熱物を加熱する加熱手段と、
前記加熱室の温度を検出する温度検出手段と、
前記加熱室の温度が、第1設定温度と前記第1設定温度よりも高い第2設定温度との間にあるように、前記加熱手段の制御を行う制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記第1設定温度から前記第2設定温度に上昇した温度上昇時間に基づいて、前記加熱手段の制御を行うことを特徴とする加熱調理器。 - 前記制御手段は、前記温度上昇時間が閾値よりも短くなった場合に、前記加熱手段の火力を弱めるように火力弱め制御を行うことを特徴とする請求項1記載の加熱調理器。
- 前記制御手段は、前記温度上昇時間が前記閾値よりもさらに短くなった場合に、前記加熱手段によって行われる加熱を止めることを特徴とする請求項2記載の加熱調理器。
- 前記制御手段は、第1加熱段階と前記第1加熱段階の前の第2加熱段階とで、前記温度上昇時間を比較して、前記加熱手段の制御を行うことを特徴とする請求項1記載の加熱調理器。
- 前記第2加熱段階は、前記第1加熱段階の直前の加熱段階であり、
前記制御手段は、前記第2加熱段階の温度上昇時間と前記第1加熱段階の温度上昇時間との差が小さくなったときに、前記加熱手段の火力を弱めるように火力弱め制御を行うことを特徴とする請求項4記載の加熱調理器。 - 前記制御手段は、前記火力弱め制御を行う際に、前記加熱室の温度が、前記第2設定温度よりも低い第3設定温度と、前記第3設定温度よりも低い前記第1設定温度と、の間にあるように、前記加熱手段の制御を行うことを特徴とする請求項2または請求項5に記載の加熱調理器。
- 前記加熱手段は、前記加熱室を上方から加熱する上ヒータと、前記加熱室の背面側から前記加熱室に熱風を供給する背面ヒータとを含み、
前記制御手段は、前記上ヒータおよび前記背面ヒータの制御を行うことを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の加熱調理器。 - 前記温度検出手段は、前記加熱室の空間温度を検出する第1温度検出手段と、前記背面ヒータの吹き出し口に設置されて前記加熱室に供給される熱風の温度を検出する第2温度検出手段とを含むことを特徴とする請求項7記載の加熱調理器。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20190109924A (ko) * | 2018-03-19 | 2019-09-27 | (주)쿠첸 | 주변 환경에 따라 가열 보상을 수행하는 조리 기기 및 그 동작 방법 |
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-
2014
- 2014-03-27 JP JP2014066215A patent/JP2015190643A/ja active Pending
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