JP2015186910A - laminate - Google Patents

laminate Download PDF

Info

Publication number
JP2015186910A
JP2015186910A JP2014213718A JP2014213718A JP2015186910A JP 2015186910 A JP2015186910 A JP 2015186910A JP 2014213718 A JP2014213718 A JP 2014213718A JP 2014213718 A JP2014213718 A JP 2014213718A JP 2015186910 A JP2015186910 A JP 2015186910A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
piezoelectric film
layer
film
polymer piezoelectric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014213718A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
一洋 谷本
Kazuhiro Tanimoto
一洋 谷本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2014213718A priority Critical patent/JP2015186910A/en
Publication of JP2015186910A publication Critical patent/JP2015186910A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate in which decrease in a production yield due to scratches on a polymeric piezoelectric film or intrusion of foreign substances is decreased in an intermediate process upon manufacturing a press-detection device or a device using the press-detection device.SOLUTION: The laminate includes the following polymeric piezoelectric film 10, a conductive layer (for example, an electrode 14A) disposed on one major surface of the polymeric piezoelectric film 10, and a protective film 16 that is removable and disposed on the other major surface of the polymeric piezoelectric film 10. The polymeric piezoelectric film 10 contains a helical chiral polymer (A) having optical activity and a weight average molecular weight of 50000 to 1000000, and has a crystallization degree of 20% to 80% obtained by a DSC method, in which a product of the crystallization degree and a normalized molecular orientation MORc measured by a microwave transmission type molecular orientation meter in a reference thickness of 50 μm is 40 to 700.

Description

本発明は、積層体に関する。   The present invention relates to a laminate.

近年、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(例えばポリ乳酸系高分子)を用いた高分子圧電材料が報告されている。   In recent years, polymer piezoelectric materials using a helical chiral polymer having optical activity (for example, polylactic acid polymer) have been reported.

例えば、ポリ乳酸の成型物を延伸処理することで、常温で、10pC/N程度の圧電率を示す高分子圧電材料が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   For example, a polymer piezoelectric material that exhibits a piezoelectric constant of about 10 pC / N at room temperature by stretching a molded product of polylactic acid has been disclosed (for example, see Patent Document 1).

ポリ乳酸系高分子を高分子圧電部材として用いた装置としては、例えば、ポリ乳酸から作製した圧電シートを押圧検出装置として備えた押圧検出タッチパネルが提案されている(例えば、特許文献2〜5参照)。押圧検出タッチパネルは、タッチパネル上の二次元的な位置情報だけでなく、タッチパネル面を押した圧力を検出できるため、タッチパネルの操作方法を三次元に拡張することが可能である。   As a device using a polylactic acid-based polymer as a polymer piezoelectric member, for example, a pressure detection touch panel including a piezoelectric sheet made from polylactic acid as a pressure detection device has been proposed (see, for example, Patent Documents 2 to 5). ). Since the pressure detection touch panel can detect not only the two-dimensional position information on the touch panel but also the pressure with which the touch panel surface is pressed, the operation method of the touch panel can be extended to three dimensions.

ヘリカルキラル高分子圧電部材を用いた押圧検出装置には、ヘリカルキラル高分子圧電部材から発生する電荷を検出するための電極が必要であり、特許文献5ではヘリカルキラル高分子圧電部材の二つの主面に直接電極が形成された押圧検出装置が提案されている。   An electrode for detecting electric charges generated from a helical chiral polymer piezoelectric member is required for a pressure detection device using the helical chiral polymer piezoelectric member. There has been proposed a pressure detection device in which electrodes are directly formed on a surface.

特開平5−152638号公報JP-A-5-152638 国際公開第2010/143528号International Publication No. 2010/143528 国際公開第2011/125408号International Publication No. 2011/125408 国際公開第2012/049969号International Publication No. 2012/049969 国際公開第2011/138903号International Publication No. 2011/138903

ここで、電極を有するヘリカルキラル高分子圧電部材、つまり導電層(例えば透明導電層)を有する高分子圧電フィルムを用いた押圧検出装置を押圧検出タッチパネル等のデバイスとして利用する際は、押圧検出装置とタッチパネルや他のデバイスを積層する必要がある。また、押圧検出装置自体を作製する過程において、高分子圧電フィルムの両面側に、導電層を設けて、引き出し線(引き出し電極)を形成する必要がある。   Here, when a pressure detection device using a helical chiral polymer piezoelectric member having an electrode, that is, a polymer piezoelectric film having a conductive layer (for example, a transparent conductive layer) is used as a device such as a pressure detection touch panel, the pressure detection device And a touch panel and other devices need to be stacked. Further, in the process of manufacturing the press detection device itself, it is necessary to provide a conductive layer on both sides of the polymer piezoelectric film to form a lead line (lead electrode).

しかし、これらの中間工程で、高分子圧電フィルムに傷等が生じることがある。また、これらの中間工程中の応力により、高分子圧電フィルムの表面に、圧電性に由来する電荷が発生し、埃等の異物が付着し、製品に異物の巻き込みが発生することがある。そして、これらにより、製品の収率が低下することが、本発明者らの検討により明らかになった。   However, scratches or the like may occur in the polymer piezoelectric film during these intermediate steps. In addition, due to the stress during these intermediate steps, electric charges derived from piezoelectricity are generated on the surface of the polymer piezoelectric film, foreign matters such as dust adhere to the surface, and foreign matter may be involved in the product. And it became clear by examination of the present inventors that the yield of a product falls by these.

従って、本発明は、押圧検出装置やそれを利用したデバイス等の製品を製造する際、中間工程での高分子圧電フィルムの傷の発生や異物の巻き込みによる製品収率低下を抑制する積層体を提供するものである。   Therefore, the present invention provides a laminate that suppresses a decrease in product yield due to generation of flaws in a polymer piezoelectric film or entrainment of foreign matters in an intermediate process when manufacturing a product such as a pressure detection device or a device using the same. It is to provide.

上記課題は、以下の手段により解決される。   The above problem is solved by the following means.

[1]重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと前記結晶化度との積が40〜700である高分子圧電フィルムと、
前記高分子圧電フィルムの一方の主面上に設けられた導電層と、
前記高分子圧電フィルムの他方の主面上に設けられた剥離可能な保護フィルムと、
を有する積層体。
[2]前記導電層が、パターニングされている[1]に記載の積層体。
[3]前記高分子圧電フィルムと前記保護フィルムとの間、及び、前記高分子圧電フィルムと前記導電層の間の少なくとも一方に、機能層を有する[1]または[2]のいずれか1項に記載の積層体。
[4]前記機能層が、屈折率調整層、易接着層、ハードコート層、帯電防止層、及びアンチブロック層の少なくとも1つである[3]に記載の積層体。
[5]前記保護フィルムを剥離した積層体の150℃30分間加熱したときの熱収縮率が、MD方向及びTD方向共に2.0%以下である[1]〜[4]に記載の積層体。
[6]前記導電層が、透明導電層である[1]〜[5]のいずれか1項に記載の積層体。
[7]前記高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが5%以下であり、かつ、25℃において応力−電荷法で測定した圧電定数d14が1pC/N以上である[1]〜[6]のいずれか1項に記載の積層体。
[8]前記ヘリカルキラル高分子(A)が、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有するポリ乳酸系高分子である、[1]〜[7]のいずれか1項に記載の積層体。
[1] A helical chiral polymer (A) having an optical activity of weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, crystallinity obtained by DSC method of 20% to 80%, and microwave transmission A polymer piezoelectric film in which the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is 40 to 700 when the reference thickness measured by a type molecular orientation meter is 50 μm;
A conductive layer provided on one main surface of the polymer piezoelectric film;
A peelable protective film provided on the other main surface of the polymer piezoelectric film;
A laminate having
[2] The laminate according to [1], wherein the conductive layer is patterned.
[3] Any one of [1] or [2], which has a functional layer between the polymer piezoelectric film and the protective film and at least one of the polymer piezoelectric film and the conductive layer. The laminated body as described in.
[4] The laminate according to [3], wherein the functional layer is at least one of a refractive index adjustment layer, an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and an antiblock layer.
[5] The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the laminate having the protective film peeled has a thermal shrinkage rate of 2.0% or less in both the MD direction and the TD direction when heated at 150 ° C. for 30 minutes. .
[6] The laminate according to any one of [1] to [5], wherein the conductive layer is a transparent conductive layer.
[7] The polymeric piezoelectric film is no more than the internal haze is 5% to visible light, and the stress at 25 ° C. - piezoelectric constant d 14 measured by the charge method is 1 pC / N or more [1] - [ [6] The laminate according to any one of [6].
[8] Any one of [1] to [7], wherein the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1). The laminated body as described in.


[9]前記ヘリカルキラル高分子(A)は、光学純度が95.00%ee以上である[1]〜[8]のいずれか1項に記載の積層体。
[10]前記ヘリカルキラル高分子(A)の含有量が、80質量%以上である[1]〜[9]のいずれか1項に記載の積層体。
[11]前記高分子圧電フィルムが、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、前記ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜10質量部含む[1]〜[10]のいずれか1項に記載の積層体。
[9] The laminate according to any one of [1] to [8], wherein the helical chiral polymer (A) has an optical purity of 95.00% ee or more.
[10] The laminate according to any one of [1] to [9], wherein the content of the helical chiral polymer (A) is 80% by mass or more.
[11] The stabilizer (B) having a weight average molecular weight of 200 to 60000, wherein the polymer piezoelectric film has one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. The laminate according to any one of [1] to [10], including 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (A).

本発明によれば、押圧検出装置やそれを利用したデバイスを製造する際、中間工程での高分子圧電フィルムの傷の発生や異物の巻き込みによる最終製品収率低下を抑制する積層体を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a laminate that suppresses a decrease in the final product yield due to generation of scratches on a polymer piezoelectric film in an intermediate process or entrainment of foreign matters when a press detection device or a device using the same is manufactured. be able to.

本発明の積層体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the laminated body of this invention. 本発明の積層体を利用した製品の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the product using the laminated body of this invention. 本発明の積層体を利用した製品の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the product using the laminated body of this invention. 本発明の積層体を利用した製品の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the product using the laminated body of this invention.

以下、本発明について説明する。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「フィルム」は、一般的に「フィルム」と呼ばれているものだけでなく、一般的に「シート」と呼ばれているものをも包含する概念である。
また、本明細書において、フィルムの主面とは、フィルムの厚み方向に対向する面のことを意味する。なお、「主面」を単に「面」とも称することがある。
The present invention will be described below.
In this specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
Further, in the present specification, “film” is a concept including not only what is generally called “film” but also what is generally called “sheet”.
Moreover, in this specification, the main surface of a film means the surface which opposes the thickness direction of a film. The “main surface” may be simply referred to as “surface”.

≪積層体≫
本発明の積層体は、高分子圧電フィルムと、高分子圧電フィルムの一方の主面上に設けられた導電層と、高分子圧電フィルムの他方の主面上に設けられた剥離可能な保護フィルムと、を有する。
そして、高分子圧電フィルムは、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと結晶化度との積が40〜700である。
≪Laminated body≫
The laminate of the present invention includes a polymer piezoelectric film, a conductive layer provided on one main surface of the polymer piezoelectric film, and a peelable protective film provided on the other main surface of the polymer piezoelectric film. And having.
The polymer piezoelectric film includes a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, and the crystallinity obtained by the DSC method is 20% to 80%. The product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is 40 to 700 when the reference thickness measured with a microwave transmission type molecular orientation meter is 50 μm.

本発明の積層体では、高分子圧電フィルムと高分子圧電フィルムの一方の主面上に設けられた導電層とを有する積層体本体における高分子圧電フィルムの他方の主面側が剥離可能な保護フィルムで保護された状態となっている。そして、押圧検出装置やそれを利用したデバイス等の製品を製造する過程において、積層体から保護フィルムを剥離した直後に、保護フィルムを剥離した主面側に目的に応じた各種の層(粘着層、導電層等)を形成して、各製品を製造することができる。
このため、押圧検出装置やそれを利用したデバイス等の製品を製造する際、中間工程での高分子圧電フィルムの傷の発生や異物の巻き込みによる製品収率低下を抑制することができる。
In the laminate of the present invention, a protective film in which the other main surface side of the polymer piezoelectric film in the laminate body having a polymer piezoelectric film and a conductive layer provided on one main surface of the polymer piezoelectric film is peelable It is in a protected state. And in the process of manufacturing a product such as a pressure detection device or a device using the same, immediately after peeling the protective film from the laminate, various layers (adhesive layers) according to the purpose on the main surface side from which the protective film was peeled off Each product can be manufactured by forming a conductive layer, etc.).
For this reason, when manufacturing products, such as a press detection apparatus and a device using the same, it is possible to suppress a decrease in product yield due to the occurrence of scratches on the polymer piezoelectric film and the inclusion of foreign substances in the intermediate process.

以下、図面を参照し、本発明の積層体の一例を説明する。
例えば、図1に示すように、積層体100は、高分子圧電フィルム10を有する。高分子圧電フィルム10の一方の主面上には、機能層としての中間層12Aと、導電層としての電極14Aと、をこの順に有する。一方、高分子圧電フィルム10の他方の主面上には、機能層としての中間層12Bと、保護フィルム16と、をこの順に有する。
なお、中間層12A,12Bは、必要に応じて、積層体100に設けられる層である。つまり、導電層としての電極14A、及び保護フィルム16は、各々、高分子圧電フィルム10の主面に直接接して設けられていてもよい。
Hereinafter, an example of the laminate of the present invention will be described with reference to the drawings.
For example, as illustrated in FIG. 1, the laminate 100 includes a polymer piezoelectric film 10. On one main surface of the polymer piezoelectric film 10, an intermediate layer 12A as a functional layer and an electrode 14A as a conductive layer are provided in this order. On the other hand, on the other main surface of the polymer piezoelectric film 10, an intermediate layer 12B as a functional layer and a protective film 16 are provided in this order.
The intermediate layers 12A and 12B are layers provided in the stacked body 100 as necessary. That is, the electrode 14 </ b> A as the conductive layer and the protective film 16 may each be provided in direct contact with the main surface of the polymer piezoelectric film 10.

次に、積層体100を利用した製品の製造方法の一例について説明する。なお、製品の製造方法は、以下に説明する方法に限定されるわけではなく、目的とする製品に応じて、適宜、実施されるものである。   Next, an example of a method for manufacturing a product using the laminate 100 will be described. In addition, the manufacturing method of a product is not necessarily limited to the method demonstrated below, According to the target product, it implements suitably.

まず、図1に示すように、高分子圧電フィルム10と、高分子圧電フィルム10の一方の主面上に積層された中間層12A及び電極14Aと、高分子圧電フィルム10の他方の主面上に積層された中間層12Bと、を有する積層体本体100Aが、保護フィルム16で保護された状態で、製品の製造工程に供給される。   First, as shown in FIG. 1, a polymer piezoelectric film 10, an intermediate layer 12 </ b> A and an electrode 14 </ b> A laminated on one main surface of the polymer piezoelectric film 10, and the other main surface of the polymer piezoelectric film 10. The laminated body 100A having the intermediate layer 12B laminated on is supplied to the manufacturing process of the product while being protected by the protective film 16.

次に、図2Aに示すように、例えば、電極14Aと電気的に接続する引き出し電極18Aを形成する。その後、粘着層20Aが設けられた剥離可能な離型フィルム22Aと積層体100とを、粘着層20Aと電極14Aとが対向するように貼り合せる。   Next, as shown in FIG. 2A, for example, an extraction electrode 18A that is electrically connected to the electrode 14A is formed. Thereafter, the peelable release film 22A provided with the adhesive layer 20A and the laminate 100 are bonded so that the adhesive layer 20A and the electrode 14A face each other.

次に、図2Bに示すように、例えば、積層体100から保護フィルム16を剥離する。そして、粘着層20Bが設けられた剥離可能な離型フィルム22Bと、保護フィルム16が剥離された積層体本体100Aとを、中間層12Bと粘着層20Bとが対向するように貼り合せる。なお、例えば、ロールtoロール方式等により、保護フィルム16を剥離しながら、粘着層20Bが設けられた剥離可能な離型フィルム22Bと積層体本体100Aとを貼り合せてもよい。   Next, as shown in FIG. 2B, for example, the protective film 16 is peeled from the laminate 100. Then, the peelable release film 22B provided with the adhesive layer 20B and the laminate body 100A from which the protective film 16 has been peeled are bonded so that the intermediate layer 12B and the adhesive layer 20B face each other. For example, the peelable release film 22B provided with the adhesive layer 20B and the laminate body 100A may be bonded together while peeling the protective film 16 by a roll-to-roll method or the like.

次に、図2Cに示すように、導電層としての電極14Bが設けられた基材24を準備し、この電極14Bと電気的に接続する引き出し電極18Bを形成する。その後、積層体本体100Aの中間層12B側に貼り合わせた離型フィルム22Bを剥離する。そして、積層体本体100Aと基材24とを、粘着層20Bと電極14Bとが対向するように貼り合わせる。なお、例えば、ロールtoロール方式等により、離型フィルム22Bを剥離しながら、電極14Bが設けられた基材24と積層体本体100Aとを貼り合せてもよい。   Next, as shown in FIG. 2C, a base material 24 provided with an electrode 14B as a conductive layer is prepared, and an extraction electrode 18B electrically connected to the electrode 14B is formed. Thereafter, the release film 22B bonded to the intermediate layer 12B side of the laminate body 100A is peeled off. Then, the laminate body 100A and the base material 24 are bonded together so that the adhesive layer 20B and the electrode 14B face each other. For example, the base material 24 provided with the electrode 14B and the laminate body 100A may be bonded to each other while peeling the release film 22B by a roll-to-roll method or the like.

このように得られた製品は、図示しないが、その後、押圧検出装置やそれを利用したデバイス等の製品の製造に供される。   Although the product thus obtained is not shown, it is then used for manufacturing a product such as a pressure detection device or a device using the device.

以上説明したように、積層体100では、例えば、積層体100から保護フィルム16を剥離した直後に、粘着層20Bが設けられた剥離可能な離型フィルム22Bと、保護フィルム16が剥離された積層体本体100Aとを、中間層12Bと粘着層20Bとが対向するように貼り合せている。このため、製品を製造する中間工程において、高分子圧電フィルム10の傷の発生や異物の巻き込みが抑制される。その結果、これらに起因する製品収率低下を抑制することができる。   As described above, in the laminate 100, for example, immediately after the protective film 16 is peeled from the laminate 100, the peelable release film 22B provided with the adhesive layer 20B and the laminate from which the protective film 16 is peeled off. The body main body 100A is bonded so that the intermediate layer 12B and the adhesive layer 20B face each other. For this reason, generation | occurrence | production of the damage | wound of the polymeric piezoelectric film 10 and the entrapment of a foreign material are suppressed in the intermediate process which manufactures a product. As a result, a decrease in product yield due to these can be suppressed.

なお、積層体100を利用した製品の製造方法の一例において、積層体100の電極14A、及び基材24に設けられた電極14Bには、いずれも同じ方向から、各々、引き出し電極18A,18Bを形成することができる。このため、引き出し電極18A,18Bの形成が簡便化され、製品の生産性を高めることができる。   In the example of the manufacturing method of the product using the laminated body 100, the electrode 14A of the laminated body 100 and the electrode 14B provided on the base material 24 are respectively provided with extraction electrodes 18A and 18B from the same direction. Can be formed. For this reason, the formation of the extraction electrodes 18A and 18B is simplified, and the productivity of the product can be increased.

以下、本発明の積層体の各構成要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。また、積層体100を利用した製品の製造方法で使用する各構成要素(粘着層、離型フィルム、引き出し電極、基材)についても説明する。   Hereinafter, each component of the laminated body of this invention is demonstrated. Note that the reference numerals are omitted. In addition, each component (adhesive layer, release film, lead electrode, base material) used in the manufacturing method of the product using the laminate 100 will be described.

<高分子圧電フィルム>
高分子圧電フィルム(圧電体)としては、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含む所定の高分子圧電フィルムが適用される。
<Polymer piezoelectric film>
As the polymer piezoelectric film (piezoelectric material), a predetermined polymer piezoelectric film containing the helical chiral polymer (A) having optical activity is applied.

〔光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)〕
ヘリカルキラル高分子(A)は、重量平均分子量が5万〜100万であり光学活性を有するヘリカルキラル高分子である。
ここで、「光学活性を有するヘリカルキラル高分子」とは、分子構造が螺旋構造であり分子光学活性を有する高分子を指す。
ヘリカルキラル高分子(A)は、上記の「光学活性を有するヘリカルキラル高分子」のうち、重量平均分子量が5万〜100万である高分子である。
[Helical Chiral Polymer with Optical Activity (A)]
The helical chiral polymer (A) is a helical chiral polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and having optical activity.
Here, the “helical chiral polymer having optical activity” refers to a polymer having a helical structure and a molecular optical activity.
The helical chiral polymer (A) is a polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 among the above-mentioned “helical chiral polymers having optical activity”.

上記ヘリカルキラル高分子(A)としては、例えば、ポリペプチド、セルロース誘導体、ポリ乳酸系高分子、ポリプロピレンオキシド、ポリ(β―ヒドロキシ酪酸)等を挙げることができる。
上記ポリペプチドとしては、例えば、ポリ(グルタル酸γ−ベンジル)、ポリ(グルタル酸γ−メチル)等が挙げられる。
上記セルロース誘導体としては、例えば、酢酸セルロース、シアノエチルセルロース等が挙げられる。
Examples of the helical chiral polymer (A) include polypeptides, cellulose derivatives, polylactic acid polymers, polypropylene oxide, poly (β-hydroxybutyric acid), and the like.
Examples of the polypeptide include poly (glutaric acid γ-benzyl), poly (glutaric acid γ-methyl), and the like.
Examples of the cellulose derivative include cellulose acetate and cyanoethyl cellulose.

ヘリカルキラル高分子(A)は、高分子圧電フィルムの圧電性を向上する観点から、光学純度が95.00%ee以上であることが好ましく、96.00%ee以上であることがより好ましく、99.00%ee以上であることがさらに好ましく、99.99%ee以上であることがさらにより好ましい。特に、好ましくは100.00%eeである。ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度を上記範囲とすることで、圧電性を発現する高分子結晶のパッキング性が高くなり、その結果、圧電性が高くなるものと考えられる。   The helical chiral polymer (A) preferably has an optical purity of 95.00% ee or more, more preferably 96.00% ee or more, from the viewpoint of improving the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film. More preferably, it is 99.00% ee or more, and even more preferably 99.99% ee or more. In particular, it is preferably 100.00% ee. By setting the optical purity of the helical chiral polymer (A) within the above range, the packing property of the polymer crystal that exhibits piezoelectricity is enhanced, and as a result, the piezoelectricity is considered to be enhanced.

ここで、ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度は、下記式にて算出した値である。
光学純度(%ee)=100×|L体量−D体量|/(L体量+D体量)
すなわち、ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度は、
『「ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕との量差(絶対値)」を「ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕との合計量」で割った(除した)数値』に、『100』をかけた(乗じた)値である。
Here, the optical purity of the helical chiral polymer (A) is a value calculated by the following formula.
Optical purity (% ee) = 100 × | L body weight−D body weight | / (L body weight + D body weight)
That is, the optical purity of the helical chiral polymer (A) is
“The amount difference (absolute value) between the amount of L-form (mass%) of helical chiral polymer (A) and the amount of D-form (mass%) of helical chiral polymer (A)” (absolute value) ” Multiply by (100) the value divided by (the total amount of (A) L-form [mass%] and helical chiral polymer (A) D-form [mass%]] ". (Multiplied).

なお、ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いた方法により得られる値を用いる。具体的な測定の詳細については後述する。   The amount of L-form [mass%] of the helical chiral polymer (A) and the amount of D-form [mass%] of the helical chiral polymer (A) are obtained by a method using high performance liquid chromatography (HPLC). Use the value obtained. Details of the specific measurement will be described later.

上記ヘリカルキラル高分子(A)としては、光学純度を上げ、圧電性を向上させる観点から、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有する高分子が好ましい。   The helical chiral polymer (A) is preferably a polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1) from the viewpoint of increasing optical purity and improving piezoelectricity.

上記式(1)で表される繰り返し単位を主鎖とする高分子としては、ポリ乳酸系高分子が挙げられる。
ここで、ポリ乳酸系高分子とは、「ポリ乳酸(L−乳酸及びD−乳酸から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位のみからなる高分子)」、「L−乳酸又はD−乳酸と、該L−乳酸又はD−乳酸と共重合可能な化合物とのコポリマー」、又は、両者の混合物をいう。
ポリ乳酸系高分子の中でも、ポリ乳酸が好ましく、L−乳酸のホモポリマー(PLLA)又はD−乳酸のホモポリマー(PDLA)が最も好ましい。
Examples of the polymer having the repeating unit represented by the formula (1) as a main chain include polylactic acid-based polymers.
Here, the polylactic acid polymer is “polylactic acid (polymer consisting only of repeating units derived from a monomer selected from L-lactic acid and D-lactic acid)”, “L-lactic acid or D-lactic acid, and L -A copolymer of a compound copolymerizable with lactic acid or D-lactic acid ", or a mixture of both.
Among the polylactic acid polymers, polylactic acid is preferable, and L-lactic acid homopolymer (PLLA) or D-lactic acid homopolymer (PDLA) is most preferable.

ポリ乳酸は、乳酸がエステル結合によって重合し、長く繋がった高分子である。
ポリ乳酸は、ラクチドを経由するラクチド法;溶媒中で乳酸を減圧下加熱し、水を取り除きながら重合させる直接重合法;などによって製造できることが知られている。
ポリ乳酸としては、L−乳酸のホモポリマー、D−乳酸のホモポリマー、L−乳酸及びD−乳酸の少なくとも一方の重合体を含むブロックコポリマー、及び、L−乳酸及びD−乳酸の少なくとも一方の重合体を含むグラフトコポリマーが挙げられる。
Polylactic acid is a polymer in which lactic acid is polymerized by an ester bond and connected for a long time.
It is known that polylactic acid can be produced by a lactide method via lactide; a direct polymerization method in which lactic acid is heated in a solvent under reduced pressure and polymerized while removing water.
As polylactic acid, homopolymer of L-lactic acid, homopolymer of D-lactic acid, block copolymer containing at least one polymer of L-lactic acid and D-lactic acid, and at least one of L-lactic acid and D-lactic acid A graft copolymer containing a polymer may be mentioned.

上記「L−乳酸又はD−乳酸と共重合可能な化合物」としては、グリコール酸、ジメチルグリコール酸、3−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ酪酸、2−ヒドロキシプロパン酸、3−ヒドロキシプロパン酸、2−ヒドロキシ吉草酸、3−ヒドロキシ吉草酸、4−ヒドロキシ吉草酸、5−ヒドロキシ吉草酸、2−ヒドロキシカプロン酸、3−ヒドロキシカプロン酸、4−ヒドロキシカプロン酸、5−ヒドロキシカプロン酸、6−ヒドロキシカプロン酸、6−ヒドロキシメチルカプロン酸、マンデル酸等のヒドロキシカルボン酸;グリコリド、β−メチル−δ−バレロラクトン、γ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等の環状エステル;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、テレフタル酸等の多価カルボン酸及びこれらの無水物;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ヘキサンジメタノール等の多価アルコール;セルロース等の多糖類;α−アミノ酸等のアミノカルボン酸;等を挙げることができる。   Examples of the “compound copolymerizable with L-lactic acid or D-lactic acid” include glycolic acid, dimethyl glycolic acid, 3-hydroxybutyric acid, 4-hydroxybutyric acid, 2-hydroxypropanoic acid, 3-hydroxypropanoic acid, 2- Hydroxyvaleric acid, 3-hydroxyvaleric acid, 4-hydroxyvaleric acid, 5-hydroxyvaleric acid, 2-hydroxycaproic acid, 3-hydroxycaproic acid, 4-hydroxycaproic acid, 5-hydroxycaproic acid, 6-hydroxycaprone Acids, hydroxycarboxylic acids such as 6-hydroxymethylcaproic acid and mandelic acid; cyclic esters such as glycolide, β-methyl-δ-valerolactone, γ-valerolactone and ε-caprolactone; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, Glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, un Polyvalent carboxylic acids such as candioic acid, dodecanedioic acid, terephthalic acid and the like; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butane Diol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl Polyhydric alcohols such as glycol, tetramethylene glycol and 1,4-hexanedimethanol; polysaccharides such as cellulose; aminocarboxylic acids such as α-amino acids;

上記「L−乳酸又はD−乳酸と、該L−乳酸又はD−乳酸と共重合可能な化合物とのコポリマー」としては、らせん結晶を生成可能なポリ乳酸シーケンスを有する、ブロックコポリマー又はグラフトコポリマーが挙げられる。   The “copolymer of L-lactic acid or D-lactic acid and a compound copolymerizable with the L-lactic acid or D-lactic acid” includes a block copolymer or a graft copolymer having a polylactic acid sequence capable of forming a helical crystal. Can be mentioned.

また、ヘリカルキラル高分子(A)中におけるコポリマー成分に由来する構造の濃度は20mol%以下であることが好ましい。
例えば、ヘリカルキラル高分子(A)が、ポリ乳酸系高分子である場合、ポリ乳酸系高分子中における、乳酸に由来する構造と、乳酸と共重合可能な化合物(コポリマー成分)に由来する構造と、のモル数の合計に対して、コポリマー成分に由来する構造の濃度が20mol%以下であることが好ましい。
The concentration of the structure derived from the copolymer component in the helical chiral polymer (A) is preferably 20 mol% or less.
For example, when the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid-based polymer, the structure derived from lactic acid and the structure derived from a compound copolymerizable with lactic acid (copolymer component) in the polylactic acid-based polymer It is preferable that the concentration of the structure derived from the copolymer component is 20 mol% or less with respect to the total number of moles.

ポリ乳酸系高分子は、例えば、特開昭59−096123号公報、及び特開平7−033861号公報に記載されている乳酸を直接脱水縮合して得る方法;米国特許2,668,182号及び4,057,357号等に記載されている乳酸の環状二量体であるラクチドを用いて開環重合させる方法;などにより製造することができる。   Polylactic acid polymers are obtained by, for example, direct dehydration condensation of lactic acid described in JP-A-59-096123 and JP-A-7-033861; US Pat. No. 2,668,182 and A method of ring-opening polymerization using lactide, which is a cyclic dimer of lactic acid, as described in US Pat. No. 4,057,357.

さらに、上記各製造方法により得られたポリ乳酸系高分子は、光学純度を95.00%ee以上とするために、例えば、ポリ乳酸をラクチド法で製造する場合、晶析操作により光学純度を95.00%ee以上の光学純度に向上させたラクチドを、重合することが好ましい。   Furthermore, the polylactic acid polymer obtained by the above production methods has an optical purity of 95.00% ee or higher. For example, when polylactic acid is produced by the lactide method, the optical purity is improved by crystallization operation. It is preferable to polymerize lactide having an optical purity of 95.00% ee or higher.

−重量平均分子量−
ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)は、前述のとおり5万〜100万である。
ヘリカルキラル高分子(A)のMwが5万以上であることにより、高分子圧電フィルムの機械的強度が向上する。上記Mwは、10万以上であることが好ましく、20万以上であることがさらに好ましい。
一方、ヘリカルキラル高分子(A)のMwが100万以下であることにより、成形(例えば押出成形)によって高分子圧電フィルムを得る際の成形性が向上する。上記Mwは、80万以下であることが好ましく、30万以下であることがさらに好ましい。
-Weight average molecular weight-
The weight average molecular weight (Mw) of the helical chiral polymer (A) is 50,000 to 1,000,000 as described above.
When Mw of the helical chiral polymer (A) is 50,000 or more, the mechanical strength of the polymer piezoelectric film is improved. The Mw is preferably 100,000 or more, and more preferably 200,000 or more.
On the other hand, when the Mw of the helical chiral polymer (A) is 1,000,000 or less, the moldability when a polymer piezoelectric film is obtained by molding (for example, extrusion molding) is improved. The Mw is preferably 800,000 or less, and more preferably 300,000 or less.

また、ヘリカルキラル高分子(A)の分子量分布(Mw/Mn)は、高分子圧電フィルムの強度の観点から、1.1〜5であることが好ましく、1.2〜4であることがより好ましい。さらに1.4〜3であることが好ましい。   Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) is preferably 1.1 to 5 and more preferably 1.2 to 4 from the viewpoint of the strength of the polymer piezoelectric film. preferable. Furthermore, it is preferable that it is 1.4-3.

なお、ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用い、下記GPC測定方法により、測定された値を指す。ここで、Mnは、ヘリカルキラル高分子(A)の数平均分子量である。   In addition, the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of helical chiral polymer (A) point out the value measured by the following GPC measuring method using gel permeation chromatograph (GPC). Here, Mn is the number average molecular weight of the helical chiral polymer (A).

−GPC測定装置−
Waters社製GPC−100
−カラム−
昭和電工社製、Shodex LF−804
−サンプルの調製−
ヘリカルキラル高分子(A)を40℃で溶媒(例えば、クロロホルム)へ溶解させ、濃度1mg/mLのサンプル溶液を準備する。
−測定条件−
サンプル溶液0.1mlを溶媒〔クロロホルム〕、温度40℃、1ml/分の流速でカラムに導入する。
-GPC measuring device-
Waters GPC-100
-Column-
Made by Showa Denko KK, Shodex LF-804
-Sample preparation-
The helical chiral polymer (A) is dissolved in a solvent (for example, chloroform) at 40 ° C. to prepare a sample solution having a concentration of 1 mg / mL.
-Measurement conditions-
0.1 ml of the sample solution is introduced into the column at a solvent [chloroform], a temperature of 40 ° C., and a flow rate of 1 ml / min.

カラムで分離されたサンプル溶液中のサンプル濃度を示差屈折計で測定する。ポリスチレン標準試料にてユニバーサル検量線を作成し、ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を算出する。   The sample concentration in the sample solution separated by the column is measured with a differential refractometer. A universal calibration curve is created with a polystyrene standard sample, and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) are calculated.

ヘリカルキラル高分子(A)の例であるポリ乳酸系高分子としては、市販のポリ乳酸を用いることができる。
市販品としては、例えば、PURAC社製のPURASORB(PD、PL)、三井化学社製のLACEA(H−100、H−400)、NatureWorks LLC社製のIngeoTM biopolymer、等が挙げられる。
ヘリカルキラル高分子(A)としてポリ乳酸系高分子を用いるときに、ポリ乳酸系高分子の重量平均分子量(Mw)を5万以上とするためには、ラクチド法、又は直接重合法によりポリ乳酸系高分子を製造することが好ましい。
Commercially available polylactic acid can be used as the polylactic acid polymer that is an example of the helical chiral polymer (A).
Examples of commercially available products, PURAC Co. PURASORB (PD, PL), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. of LACEA (H-100, H- 400), NatureWorks LLC Corp. Ingeo TM Biopolymer, and the like.
When using a polylactic acid polymer as the helical chiral polymer (A), in order to make the weight average molecular weight (Mw) of the polylactic acid polymer 50,000 or more, the polylactic acid is obtained by the lactide method or the direct polymerization method. It is preferable to produce a polymer.

高分子圧電フィルムは、上述したヘリカルキラル高分子(A)を、1種のみ含有していてもよいし、2種以上含有していてもよい。
高分子圧電フィルム中におけるヘリカルキラル高分子(A)の含有量(2種以上である場合には総含有量)は、圧電定数をより高める観点から、高分子圧電フィルムの全量に対し、80質量%以上が好ましい。
The polymer piezoelectric film may contain only one kind of the above-described helical chiral polymer (A), or may contain two or more kinds.
The content of the helical chiral polymer (A) in the polymer piezoelectric film (the total content in the case of two or more) is 80 mass relative to the total amount of the polymer piezoelectric film from the viewpoint of further increasing the piezoelectric constant. % Or more is preferable.

〔安定化剤〕
高分子圧電フィルムは、更に、一分子中に、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を含有することが好ましい。これにより、耐湿熱性をより向上させることができる。
[Stabilizer]
The polymer piezoelectric film further includes a stabilizer (B) having a weight average molecular weight of 200 to 60000 having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group in one molecule. It is preferable to contain. Thereby, heat-and-moisture resistance can be improved more.

安定化剤(B)としては、国際公開第2013/054918号パンフレットの段落0039〜0055に記載された「安定化剤(B)」を用いることができる。   As the stabilizer (B), “stabilizer (B)” described in paragraphs 0039 to 0055 of International Publication No. 2013/054918 pamphlet can be used.

安定化剤(B)として用い得る、一分子中にカルボジイミド基を含む化合物(カルボジイミド化合物)としては、モノカルボジイミド化合物、ポリカルボジイミド化合物、環状カルボジイミド化合物が挙げられる。
モノカルボジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド、等が好適である。
また、ポリカルボジイミド化合物としては、種々の方法で製造したものを使用することができる。従来のポリカルボジイミドの製造方法(例えば、米国特許第2941956号明細書、特公昭47−33279号公報、J.0rg.Chem.28,2069−2075(1963)、Chemical Review 1981,Vol.81 No.4、p619−621)により、製造されたものを用いることができる。具体的には特許4084953号公報に記載のカルボジイミド化合物を用いることもできる。
ポリカルボジイミド化合物としては、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)、ポリ(N,N’−ジ−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド)、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド、等が挙げられる。
環状カルボジイミド化合物は、特開2011−256337号公報に記載の方法などに基づいて合成することができる。
カルボジイミド化合物としては、市販品を用いてもよく、例えば、東京化成製、B2756(商品名)、日清紡ケミカル社製、カルボジライトLA−1、ラインケミー社製、Stabaxol P、Stabaxol P400、Stabaxol I(いずれも商品名)等が挙げられる。
Examples of the compound containing a carbodiimide group (carbodiimide compound) that can be used as the stabilizer (B) include a monocarbodiimide compound, a polycarbodiimide compound, and a cyclic carbodiimide compound.
As the monocarbodiimide compound, dicyclohexylcarbodiimide, bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide, and the like are preferable.
Moreover, as a polycarbodiimide compound, what was manufactured by the various method can be used. Conventional methods for producing polycarbodiimides (for example, U.S. Pat. No. 2,941,956, JP-B-47-33279, J.0rg.Chem.28, 2069-2075 (1963), Chemical Review 1981, Vol. 81 No. 1). 4, p619-621) can be used. Specifically, a carbodiimide compound described in Japanese Patent No. 4084953 can also be used.
Examples of the polycarbodiimide compound include poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide), poly (N, N′-di-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide), poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2, 4-carbodiimide and the like.
The cyclic carbodiimide compound can be synthesized based on the method described in JP2011-256337A.
Commercially available products may be used as the carbodiimide compound, for example, manufactured by Tokyo Chemical Industry, B2756 (trade name), manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd., Carbodilite LA-1, manufactured by Rhein Chemie, Stabaxol P, Stabaxol P400, Stabaxol I (all Product name).

安定化剤(B)として用い得る、一分子中にイソシアネート基を含む化合物(イソシアネート化合物)としては、イソシアン酸3−(トリエトキシシリル)プロピル、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、等が挙げられる。   Examples of the compound (isocyanate compound) containing an isocyanate group in one molecule that can be used as the stabilizer (B) include 3- (triethoxysilyl) propyl isocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate. Diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,2′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, Etc.

安定化剤(B)として用い得る、一分子中にエポキシ基を含む化合物(エポキシ化合物)としては、フェニルグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。   Examples of the compound (epoxy compound) containing an epoxy group in one molecule that can be used as the stabilizer (B) include phenyl glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A-diglycidyl ether. Phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, epoxidized polybutadiene and the like.

安定化剤(B)の重量平均分子量は、上述のとおり200〜60000であるが、200〜30000がより好ましく、300〜18000がさらに好ましい。
分子量が上記範囲内ならば、安定化剤(B)がより移動しやすくなり、耐湿熱性改良効果がより効果的に奏される。
安定化剤(B)の重量平均分子量は、200〜900であることが特に好ましい。なお、重量平均分子量200〜900は、数平均分子量200〜900とほぼ一致する。また、重量平均分子量200〜900の場合、分子量分布が1.0である場合があり、この場合には、「重量平均分子量200〜900」を、単に「分子量200〜900」と言い換えることもできる。
As described above, the weight average molecular weight of the stabilizer (B) is 200 to 60000, more preferably 200 to 30000, and still more preferably 300 to 18000.
When the molecular weight is within the above range, the stabilizer (B) is more easily moved, and the effect of improving heat and moisture resistance is more effectively exhibited.
The weight average molecular weight of the stabilizer (B) is particularly preferably 200 to 900. In addition, the weight average molecular weight 200-900 substantially corresponds with the number average molecular weight 200-900. Further, when the weight average molecular weight is 200 to 900, the molecular weight distribution may be 1.0. In this case, “weight average molecular weight 200 to 900” can be simply referred to as “molecular weight 200 to 900”. .

高分子圧電フィルムが安定化剤(B)を含有する場合、上記高分子圧電フィルムは、安定化剤を1種のみ含有してもよいし、2種以上含有してもよい。
高分子圧電フィルムが安定化剤(B)を含む場合、安定化剤(B)の含有量は、ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対し、0.01質量部〜10質量部であることが好ましく、0.01質量部〜5質量部であることがより好ましく、0.1質量部〜3質量部であることがさらに好ましく、0.5質量部〜2質量部であることが特に好ましい。
上記含有量が0.01質量部以上であると、耐湿熱性がより向上する。
また、上記含有量が10質量部以下であると、透明性の低下がより抑制される。
When the polymer piezoelectric film contains the stabilizer (B), the polymer piezoelectric film may contain only one kind of stabilizer or two or more kinds.
When the polymeric piezoelectric film contains the stabilizer (B), the content of the stabilizer (B) is 0.01 parts by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (A). It is preferably 0.01 parts by mass to 5 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass to 3 parts by mass, and particularly preferably 0.5 parts by mass to 2 parts by mass. preferable.
When the content is 0.01 parts by mass or more, the heat and humidity resistance is further improved.
Moreover, the transparency fall is suppressed more as the said content is 10 mass parts or less.

安定化剤(B)の好ましい態様としては、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有し、且つ、数平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)と、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を1分子内に2以上有し、且つ、重量平均分子量が1000〜60000の安定化剤(B2)とを併用するという態様が挙げられる。なお、数平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)の重量平均分子量は、大凡200〜900であり、安定化剤(B1)の数平均分子量と重量平均分子量とはほぼ同じ値となる。
安定化剤として安定化剤(B1)と安定化剤(B2)とを併用する場合、安定化剤(B1)を多く含むことが透明性向上の観点から好ましい。
具体的には、安定化剤(B1)100質量部に対して、安定化剤(B2)が10質量部〜150質量部の範囲であることが、透明性と耐湿熱性の両立という観点から好ましく、50質量部〜100質量部の範囲であることがより好ましい。
A preferred embodiment of the stabilizer (B) is a stabilizer having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group, and having a number average molecular weight of 200 to 900. (B1) and a stabilizer having two or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group in one molecule, and having a weight average molecular weight of 1000 to 60000 ( A mode in which B2) is used in combination is exemplified. The weight average molecular weight of the stabilizer (B1) having a number average molecular weight of 200 to 900 is about 200 to 900, and the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the stabilizer (B1) are almost the same value. .
When the stabilizer (B1) and the stabilizer (B2) are used in combination as the stabilizer, it is preferable that a large amount of the stabilizer (B1) is contained from the viewpoint of improving the transparency.
Specifically, it is preferable that the stabilizer (B2) is in the range of 10 parts by mass to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the stabilizer (B1) from the viewpoint of achieving both transparency and wet heat resistance. More preferably, it is in the range of 50 to 100 parts by mass.

以下、安定化剤(B)の具体例(安定化剤B−1〜B−3)を示す。   Hereinafter, specific examples (stabilizers B-1 to B-3) of the stabilizer (B) are shown.

以下、上記安定化剤B−1〜B−3について、化合物名、市販品等を示す。
・安定化剤B−1 … 化合物名は、ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミドである。重量平均分子量(この例では、単なる「分子量」に等しい)は、363である。市販品としては、ラインケミー社製「Stabaxol I」、東京化成社製「B2756」が挙げられる。
・安定化剤B−2 … 化合物名は、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)である。市販品としては、重量平均分子量約2000のものとして、日清紡ケミカル社製「カルボジライトLA−1」が挙げられる。
・安定化剤B−3 … 化合物名は、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド)である。市販品としては、重量平均分子量約3000のものとして、ラインケミー社製「Stabaxol P」が挙げられる。また、重量平均分子量20000のものとして、ラインケミー社製「Stabaxol P400」が挙げられる。
Hereinafter, with respect to the stabilizers B-1 to B-3, compound names, commercial products, and the like are shown.
Stabilizer B-1 The compound name is bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide. The weight average molecular weight (in this example, simply equal to “molecular weight”) is 363. Commercially available products include “Stabaxol I” manufactured by Rhein Chemie and “B2756” manufactured by Tokyo Chemical Industry.
Stabilizer B-2 The compound name is poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide). As a commercially available product, “Carbodilite LA-1” manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd. may be mentioned as having a weight average molecular weight of about 2000.
Stabilizer B-3 The compound name is poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide). As a commercially available product, “Stabaxol P” manufactured by Rhein Chemie Co., Ltd. can be mentioned as having a weight average molecular weight of about 3000. Further, “Stabaxol P400” manufactured by Rhein Chemie is listed as having a weight average molecular weight of 20,000.

<その他の成分>
高分子圧電フィルムは、必要に応じ、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂等の公知の樹脂;シリカ、ヒドロキシアパタイト、モンモリロナイト等の公知の無機フィラー;フタロシアニン等の公知の結晶核剤;安定化剤(B)以外の安定化剤;等が挙げられる。
無機フィラー及び結晶核剤としては、国際公開第2013/054918号パンフレットの段落0057〜0058に記載された成分を挙げることもできる。
<Other ingredients>
The polymer piezoelectric film may contain other components as necessary.
Other components include known resins such as polyvinylidene fluoride, polyethylene resin and polystyrene resin; known inorganic fillers such as silica, hydroxyapatite and montmorillonite; known crystal nucleating agents such as phthalocyanine; other than stabilizer (B) And the like.
Examples of the inorganic filler and the crystal nucleating agent include components described in paragraphs 0057 to 0058 of International Publication No. 2013/054918.

<高分子圧電フィルムの物性>
高分子圧電フィルムは、圧電定数が大きいこと(好ましくは、25℃において応力−電荷法で測定した圧電定数d14が1pC/N以上であること)が好ましい。更に、高分子圧電フィルムは、透明性、縦裂強度(即ち、特定方向についての引裂強さ。以下同じ。)に優れることが好ましい。
<Physical properties of polymer piezoelectric film>
Polymeric piezoelectric film, it piezoelectric constant is large (preferably, the stress at 25 ° C. - that the piezoelectric constant d 14 is 1 pC / N or more as measured by a charge method) is preferred. Furthermore, the polymer piezoelectric film is preferably excellent in transparency and longitudinal tear strength (that is, tear strength in a specific direction; the same applies hereinafter).

〔圧電定数(応力−電荷法)〕
高分子圧電フィルムの圧電定数は、次のようにして測定される値をいう。
まず、高分子圧電フィルムを、高分子圧電フィルムの延伸方向(例えばMD方向)に対して45°なす方向に150mm、45°なす方向に直交する方向に50mmにカットして、矩形の試験片を作製する。次に、昭和真空SIP−600の試験台に得られた試験片をセットし、Alの蒸着厚が約50nmとなるように、試験片の一方の面にAlを蒸着する。次いで試験片の他方の面にも同様にしてAlを蒸着する。以上のようにして、試験片の両面にAlの導電層を形成する。
[Piezoelectric constant (stress-charge method)]
The piezoelectric constant of the polymer piezoelectric film is a value measured as follows.
First, the polymer piezoelectric film is cut to 150 mm in the direction of 45 ° with respect to the stretching direction (for example, MD direction) of the polymer piezoelectric film and 50 mm in the direction orthogonal to the direction of 45 °, and a rectangular test piece is formed. Make it. Next, the test piece obtained on the test stand of Showa vacuum SIP-600 is set, and Al is vapor-deposited on one surface of the test piece so that the deposition thickness of Al is about 50 nm. Next, Al is vapor-deposited in the same manner on the other surface of the test piece. As described above, an Al conductive layer is formed on both sides of the test piece.

両面にAlの導電層が形成された150mm×50mmの試験片(高分子圧電フィルム)を、高分子圧電フィルムの延伸方向(例えばMD方向)に対して45°なす方向に120mm、45°なす方向に直交する方向に10mmにカットして、120mm×10mmの矩形のフィルムを切り出す。これを、圧電定数測定用サンプルとする。   A direction in which a test piece of 150 mm × 50 mm (polymer piezoelectric film) having an Al conductive layer formed on both sides is formed by 45 ° with respect to the stretching direction (for example, MD direction) of the polymer piezoelectric film by 120 mm and 45 °. A rectangular film of 120 mm × 10 mm is cut out to 10 mm in a direction perpendicular to the film. This is a piezoelectric constant measurement sample.

得られたサンプルを、チャック間距離70mmとした引張試験機(AND社製、TENSILON RTG−1250)に、弛まないようにセットする。クロスヘッド速度5mm/minで、印加力が4Nと9Nとの間を往復するように周期的に力を加える。このとき印加力に応じてサンプルに発生する電荷量を測定するため、静電容量Qm(F)のコンデンサーをサンプルに並列に接続し、このコンデンサーCm(95nF)の端子間電圧Vmを、バッファアンプを介して測定する。発生電荷量Q(C)は、コンデンサー容量Cmと端子間電圧Vmとの積として計算する。圧電定数d14は下式により計算される。
14=(2×t)/L×Cm・ΔVm/ΔF
t:サンプル厚(m)
L:チャック間距離(m)
Cm:並列接続コンデンサー容量(F)
ΔVm/ΔF:力の変化量に対する、コンデンサー端子間の電圧変化量比
The obtained sample is set in a tensile tester (manufactured by AND, TENSILON RTG-1250) with a distance between chucks of 70 mm so as not to be loosened. A force is periodically applied so that the applied force reciprocates between 4N and 9N at a crosshead speed of 5 mm / min. At this time, in order to measure the amount of electric charge generated in the sample according to the applied force, a capacitor having a capacitance Qm (F) is connected in parallel to the sample, and the voltage Vm between terminals of the capacitor Cm (95 nF) is converted into a buffer amplifier. Measure through. The generated charge amount Q (C) is calculated as the product of the capacitor capacitance Cm and the terminal voltage Vm. Piezoelectric constant d 14 is calculated by the following equation.
d 14 = (2 × t) / L × Cm · ΔVm / ΔF
t: Sample thickness (m)
L: Distance between chucks (m)
Cm: Capacitor capacity in parallel (F)
ΔVm / ΔF: Ratio of change in voltage between capacitor terminals to change in force

圧電定数は高ければ高いほど、高分子圧電フィルムに印加される電圧に対する前記フィルムの変位が大きくなり、また、逆に高分子圧電フィルムに印加される力に対し発生する電圧が大きくなり、高分子圧電フィルムとしては有用である。
具体的には、25℃における応力−電荷法で測定した圧電定数d14は1pC/N以上が好ましく、3pC/N以上がより好ましく、4pC/N以上がさらに好ましい。また、圧電定数の上限は特に限定されないが、後述する透明性などのバランスの観点からは、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(光学活性高分子)を用いた高分子圧電フィルムでは、50pC/N以下が好ましく、30pC/N以下がより好ましい。
また、同様に、透明性とのバランスの観点からは、共振法で測定した圧電定数d14が15pC/N以下であることが好ましい。
The higher the piezoelectric constant, the greater the displacement of the film relative to the voltage applied to the polymer piezoelectric film, and conversely the greater the voltage generated for the force applied to the polymer piezoelectric film. It is useful as a piezoelectric film.
Specifically, the stress at 25 ° C. - piezoelectric constant d 14 measured by the charge method is preferably more than 1 pC / N, more preferably at least pC / N, more preferably more than 4Pc / N. In addition, the upper limit of the piezoelectric constant is not particularly limited, but from the viewpoint of balance such as transparency described later, in the case of a polymer piezoelectric film using a helical chiral polymer (optically active polymer) having optical activity, 50 pC / N The following is preferable, and 30 pC / N or less is more preferable.
Similarly, from the viewpoint of balance with transparency, the piezoelectric constant d14 measured by the resonance method is preferably 15 pC / N or less.

なお、本明細書中において、「MD方向」とはフィルムの流れる方向(Machine Direction)、すなわち、延伸方向であり、「TD方向」とは、前記MD方向と直交し、フィルムの主面と平行な方向(Transverse Direction)である。   In the present specification, the “MD direction” is the direction in which the film flows (Machine Direction), that is, the stretching direction, and the “TD direction” is orthogonal to the MD direction and parallel to the main surface of the film. Transverse direction.

〔透明性(内部ヘイズ)〕
高分子圧電フィルムの透明性は、内部ヘイズを測定することにより評価することができる。
高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが5%以下であることが好ましく、透明性及び縦裂強度をより向上させる観点からは、2.0%以下がより好ましく、1.0%以下が更に好ましい。高分子圧電フィルムの前記内部ヘイズの下限値は特に限定はないが、下限値としては、例えば0.01%が挙げられる。
ここで、高分子圧電フィルムの内部ヘイズは、高分子圧電フィルムの外表面の形状によるヘイズを除外したヘイズを指す。
高分子圧電フィルムの内部ヘイズは、厚さ0.03mm〜0.05mmの高分子圧電フィルムに対して、JIS−K7105に準拠して、ヘイズ測定機〔(有)東京電色社製、TC−HIII DPK〕を用いて25℃で測定したときの値であり、測定方法の詳細は実施例において詳述する。
[Transparency (internal haze)]
The transparency of the polymer piezoelectric film can be evaluated by measuring internal haze.
The polymer piezoelectric film preferably has an internal haze of 5% or less for visible light, more preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less from the viewpoint of further improving transparency and longitudinal crack strength. Further preferred. The lower limit value of the internal haze of the polymer piezoelectric film is not particularly limited, and examples of the lower limit value include 0.01%.
Here, the internal haze of the polymer piezoelectric film refers to the haze excluding the haze due to the shape of the outer surface of the polymer piezoelectric film.
The internal haze of the polymer piezoelectric film was measured according to JIS-K7105 with respect to the polymer piezoelectric film having a thickness of 0.03 mm to 0.05 mm [TC Density Co., Ltd., TC- HIII DPK] is a value measured at 25 ° C., and details of the measuring method will be described in detail in Examples.

〔規格化分子配向MORc〕
規格化分子配向MORcは、ヘリカルキラル高分子(A)の配向の度合いを示す指標である「分子配向度MOR」に基づいて定められる値である。
ここで、分子配向度MOR(Molecular Orientation Ratio)は、以下のようなマイクロ波測定法により測定される。すなわち、高分子圧電フィルム(例えば、フィルム状の高分子圧電材料)を、周知のマイクロ波分子配向度測定装置(マイクロ波透過型分子配向計ともいう)のマイクロ波共振導波管中に、マイクロ波の進行方向に高分子圧電フィルムの面(フィルム面)が垂直になるように配置する。そして、振動方向が一方向に偏ったマイクロ波を試料に連続的に照射した状態で、高分子圧電フィルムをマイクロ波の進行方向と垂直な面内で0〜360°回転させて、試料を透過したマイクロ波強度を測定することにより分子配向度MORを求める。
[Standardized molecular orientation MORc]
The normalized molecular orientation MORc is a value determined based on the “molecular orientation degree MOR” which is an index indicating the degree of orientation of the helical chiral polymer (A).
Here, the molecular orientation degree MOR (Molecular Orientation Ratio) is measured by the following microwave measurement method. That is, a polymer piezoelectric film (for example, a film-shaped polymer piezoelectric material) is placed in a microwave resonant waveguide of a well-known microwave molecular orientation measuring device (also referred to as a microwave transmission type molecular orientation meter). It arrange | positions so that the surface (film surface) of a polymeric piezoelectric film may become perpendicular | vertical to the advancing direction of a wave. Then, in a state where the sample is continuously irradiated with the microwave whose vibration direction is biased in one direction, the polymer piezoelectric film is rotated 0 to 360 ° in a plane perpendicular to the traveling direction of the microwave, and the sample is transmitted. The degree of molecular orientation MOR is obtained by measuring the measured microwave intensity.

規格化分子配向MORcは、基準厚さtcを50μmとしたときの分子配向度MORであって、下記式により求めることができる。
MORc=(tc/t)×(MOR−1)+1
(tc:補正したい基準厚さ、t:高分子圧電フィルムの厚さ)
規格化分子配向MORcは、公知の分子配向計、例えば王子計測機器株式会社製マイクロ波方式分子配向計MOA−2012AやMOA−6000等により、4GHzもしくは12GHz近傍の共振周波数で測定することができる。
The normalized molecular orientation MORc is a molecular orientation degree MOR when the reference thickness tc is 50 μm, and can be obtained by the following formula.
MORc = (tc / t) × (MOR-1) +1
(Tc: reference thickness to be corrected, t: thickness of polymer piezoelectric film)
The normalized molecular orientation MORc can be measured with a known molecular orientation meter such as a microwave molecular orientation meter MOA-2012A or MOA-6000 manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., at a resonance frequency in the vicinity of 4 GHz or 12 GHz.

高分子圧電フィルムは、規格化分子配向MORcが1.0〜15.0であることが好ましく、2.0〜10.0であることがより好ましく、4.0〜10.0であることが更に好ましい。
規格化分子配向MORcが1.0以上であれば、延伸方向に配列する光学活性高分子の分子鎖(例えばポリ乳酸分子鎖)が多く、その結果、配向結晶の生成する率が高くなり、より高い圧電性を発現することが可能となる。
規格化分子配向MORcが15.0以下であれば、縦裂強度が更に向上する。
また、高分子圧電フィルムと中間層との密着性をより向上させる観点からは、規格化分子配向MORcは、7.0以下であることが好ましい。
The polymer piezoelectric film preferably has a normalized molecular orientation MORc of 1.0 to 15.0, more preferably 2.0 to 10.0, and 4.0 to 10.0. Further preferred.
If the normalized molecular orientation MORc is 1.0 or more, there are many optically active polymer molecular chains (for example, polylactic acid molecular chains) arranged in the stretching direction, and as a result, the rate of formation of oriented crystals increases. High piezoelectricity can be expressed.
If the normalized molecular orientation MORc is 15.0 or less, the longitudinal crack strength is further improved.
Moreover, from the viewpoint of further improving the adhesion between the polymer piezoelectric film and the intermediate layer, the normalized molecular orientation MORc is preferably 7.0 or less.

規格化分子配向MORcは、例えば、高分子圧電フィルムが延伸フィルムである場合には、延伸前の加熱処理条件(加熱温度及び加熱時間)や、延伸条件(延伸温度及び延伸速度)等によって制御されうる。   For example, when the polymer piezoelectric film is a stretched film, the normalized molecular orientation MORc is controlled by the heat treatment conditions (heating temperature and heating time) before stretching, the stretching conditions (stretching temperature and stretching speed), and the like. sell.

なお、規格化分子配向MORcは、位相差量(レターデーション)をフィルムの厚さで除した複屈折率Δnに変換することもできる。具体的には、レターデーションは大塚電子株式会社製RETS100を用いて測定することができる。またMORcとΔnとは大凡、直線的な比例関係にあり、かつΔnが0の場合、MORcは1になる。
例えば、ヘリカルキラル高分子(A)がポリ乳酸系高分子であり、かつ、高分子圧電フィルムの複屈折率Δnを測定波長550nmで測定した場合、規格化分子配向MORcの好ましい範囲の下限である2.0は、複屈折率Δn 0.005に変換できる。また、後述する、高分子圧電フィルムの規格化分子配向MORcと結晶化度の積の好ましい範囲の下限である40は、高分子圧電フィルムの複屈折率Δnと結晶化度の積が0.1に変換することができる。
The normalized molecular orientation MORc can be converted into a birefringence Δn obtained by dividing the retardation amount (retardation) by the thickness of the film. Specifically, retardation can be measured using RETS100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. MORc and Δn are approximately in a linear proportional relationship, and when Δn is 0, MORc is 1.
For example, when the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer and the birefringence Δn of the polymer piezoelectric film is measured at a measurement wavelength of 550 nm, it is the lower limit of the preferred range of the normalized molecular orientation MORc. 2.0 can be converted to birefringence Δn 0.005. Further, 40, which is the lower limit of the preferred range of the product of the normalized molecular orientation MORc and crystallinity of the polymer piezoelectric film described later, is the product of the birefringence Δn and crystallinity of the polymer piezoelectric film of 0.1 Can be converted to

〔結晶化度〕
高分子圧電フィルムの結晶化度は、DSC法によって求められるものである。
本発明にかかる高分子圧電フィルムの結晶化度は、20%〜80%である。結晶化度が20%以上であることにより、高分子圧電フィルムの圧電性が高く維持される。結晶化度が80%以下であることにより、高分子圧電フィルムの透明性が高く維持され、また、結晶化度が80%以下であることにより、延伸時に白化や破断がおきにくいので、高分子圧電フィルムを製造しやすい。
従って、高分子圧電フィルムの結晶化度は20%〜80%であるが、上記結晶化度は、好ましくは25%〜70%であり、より好ましくは30%〜50%である。
[Crystallinity]
The crystallinity of the polymer piezoelectric film is determined by the DSC method.
The degree of crystallinity of the polymer piezoelectric film according to the present invention is 20% to 80%. When the degree of crystallinity is 20% or more, the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film is maintained high. When the degree of crystallinity is 80% or less, the transparency of the polymer piezoelectric film is maintained high, and when the degree of crystallinity is 80% or less, whitening and breakage hardly occur during stretching. Easy to manufacture piezoelectric film.
Therefore, the crystallinity of the polymer piezoelectric film is 20% to 80%, but the crystallinity is preferably 25% to 70%, more preferably 30% to 50%.

〔規格化分子配向MORcと結晶化度との積〕
高分子圧電フィルムの規格化分子配向MORcと結晶化度との積は40〜700であり、好ましくは75〜680、より好ましくは90〜660、さらに好ましくは125〜650、特に好ましくは150〜350である。上記の積が40〜700の範囲にあれば、高分子圧電フィルムの圧電性と透明性とのバランスが良好であり、かつ寸法安定性も高く、後述する圧電素子として好適に用いることができる。
本発明にかかる高分子圧電フィルムでは、例えば、高分子圧電フィルムを製造する際の結晶化及び延伸の条件を調整することにより、上記の積を上記範囲に調整することができる。
[Product of normalized molecular orientation MORc and crystallinity]
The product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity of the polymer piezoelectric film is 40 to 700, preferably 75 to 680, more preferably 90 to 660, still more preferably 125 to 650, and particularly preferably 150 to 350. It is. When the above product is in the range of 40 to 700, the polymer piezoelectric film has a good balance between the piezoelectricity and transparency, and has high dimensional stability, and can be suitably used as a piezoelectric element described later.
In the polymer piezoelectric film according to the present invention, for example, the product can be adjusted to the above range by adjusting the crystallization and stretching conditions when the polymer piezoelectric film is produced.

〔形状及び膜厚〕
高分子圧電フィルムの形状には特に制限はないが、フィルム形状が好ましい。
また、高分子圧電フィルムの膜厚(例えば、フィルム形状である場合の高分子圧電フィルムの膜厚)には特に制限はないが、10μm〜400μmが好ましく、20μm〜200μmがより好ましく、20μm〜100μmが更に好ましく、20μm〜80μmが特に好ましい。但し、高分子圧電フィルムが複数層からなる多層膜の場合には、上記膜厚は多層膜全体における厚さを表す。
[Shape and film thickness]
Although there is no restriction | limiting in particular in the shape of a polymeric piezoelectric film, A film shape is preferable.
The film thickness of the polymer piezoelectric film (for example, the film thickness of the polymer piezoelectric film in the case of a film shape) is not particularly limited, but is preferably 10 μm to 400 μm, more preferably 20 μm to 200 μm, and more preferably 20 μm to 100 μm. Is more preferable, and 20 μm to 80 μm is particularly preferable. However, when the polymer piezoelectric film is a multilayer film composed of a plurality of layers, the film thickness represents the thickness of the entire multilayer film.

<導電層(電極)>
導電層は、高分子圧電フィルムから発生する電荷を検出するための電極である。導電層は、高分子圧電フィルムの一方の面の全面に設けられていてもよいが、パターニングされていることがよい。
<Conductive layer (electrode)>
The conductive layer is an electrode for detecting charges generated from the polymer piezoelectric film. The conductive layer may be provided on the entire surface of one surface of the polymer piezoelectric film, but is preferably patterned.

導電層は、透明導電層であってもよく、非透明導電層であってもよい。但し、導電層は、タッチパネル等の製品に積層体を利用する場合、透過率の低下及び呈色を抑制する観点から、透明導電層であることがよい。
ここで、「透明」とは、導電層の内部ヘイズが20%以下、全光線透過率が80%以上であることをいう。
尚、導電層の内部ヘイズHcは、以下の式により計算される。
Hc=H−Hp
H:高分子圧電フィルムと導電層との積層体の内部ヘイズ
Hp:導電層形成前または導電層を除去した後の高分子圧電フィルムの内部ヘイズ
但し、高分子圧電フィルムの内部ヘイズの測定方法は前述の通りである。積層体の内部ヘイズも、高分子圧電フィルムの内部ヘイズと同様の方法によって測定する。
ここで、導電層の全光線透過率も、導電層の内部ヘイズHcと同様の方法によって測定する。
The conductive layer may be a transparent conductive layer or a non-transparent conductive layer. However, when a laminated body is used for a product such as a touch panel, the conductive layer is preferably a transparent conductive layer from the viewpoint of suppressing a decrease in transmittance and coloration.
Here, “transparent” means that the internal haze of the conductive layer is 20% or less and the total light transmittance is 80% or more.
The internal haze Hc of the conductive layer is calculated by the following formula.
Hc = H-Hp
H: Internal haze of laminated body of polymer piezoelectric film and conductive layer Hp: Internal haze of polymer piezoelectric film before formation of conductive layer or after removal of conductive layer However, a method for measuring the internal haze of the polymer piezoelectric film is As described above. The internal haze of the laminate is also measured by the same method as the internal haze of the polymer piezoelectric film.
Here, the total light transmittance of the conductive layer is also measured by the same method as the internal haze Hc of the conductive layer.

〔材料〕
導電層の材料としては、金属膜や導電性金属酸化物膜、導電性高分子膜、金属または導電性金属酸化物を含む樹脂等の導電性組成物等、導通を示すものであれば、特に限定されるものではない。
透明導電層の材料としては、透過率の低下及び呈色を抑制する観点から、例えば、酸化インジウム−スズ、インジウム酸化物、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−亜鉛等を用いることが好ましい。尚、これらの酸化物は、金属等のドーパントがドープされていてもよい。また、これら酸化物は、結晶状態でも非晶状態でもよい。また、透明導電層の材料には、銀ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、グラフェン、又は、それらを含む樹脂組成物を用いることもできる。
このような透明導電層の表面抵抗としては、デバイスの消費電力の観点から2000Ω/sq以下が好ましく、1000Ω/sqがより好ましく、500Ω/sq以下がさらに好ましく、200Ω/sq以下が特に好ましい。
一方、非透明導電層の材料としては、金、銀、白金、銅、アルミニウム、カーボンブラック、若しくはこれらの複合物、又はこれらを含有するペースト材料が好ましい。
〔material〕
As a material for the conductive layer, a metal film, a conductive metal oxide film, a conductive polymer film, a conductive composition such as a metal or a resin containing a conductive metal oxide, or the like, as long as it exhibits conductivity, particularly It is not limited.
As a material for the transparent conductive layer, for example, indium tin oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium zinc oxide, or the like is preferably used from the viewpoint of suppressing a decrease in transmittance and coloration. Note that these oxides may be doped with a dopant such as a metal. These oxides may be in a crystalline state or an amorphous state. Moreover, silver nanowire, a carbon nanotube, graphene, or the resin composition containing them can also be used for the material of a transparent conductive layer.
The surface resistance of such a transparent conductive layer is preferably 2000 Ω / sq or less, more preferably 1000 Ω / sq, further preferably 500 Ω / sq, and particularly preferably 200 Ω / sq from the viewpoint of power consumption of the device.
On the other hand, as the material for the non-transparent conductive layer, gold, silver, platinum, copper, aluminum, carbon black, a composite thereof, or a paste material containing these is preferable.

〔膜厚〕
導電層の膜厚は、透過率の低下及び呈色を抑制する観点から、5nm〜500nmが好ましく、10nm〜200nmがより好ましく、10nm〜60nmが更に好ましい。
[Film thickness]
The thickness of the conductive layer is preferably 5 nm to 500 nm, more preferably 10 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 60 nm, from the viewpoint of suppressing the decrease in transmittance and coloration.

〔形成方法〕
導電層を形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できるが、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法、電子線蒸着法、ゾル−ゲル法、ウェットコーティング法が挙げられる。
(Formation method)
As a method for forming the conductive layer, known methods that have been generally used can be appropriately used. For example, vacuum deposition, sputtering, ion plating, CVD, electron beam deposition, sol-gel Method and wet coating method.

<保護フィルム>
保護フィルムは、例えば、基材と、基材の一方の主面上に積層された粘着層とを有するフィルムが挙げられる。なお、保護フィルムは、基材の単層構成としてもよい。この場合、保護フィルムは、例えば、静電的に、又は保護フィルム自体の粘着性により高分子圧電フィルム又は機能層(中間層)の面に配置される。
<Protective film>
As for a protective film, the film which has a base material and the adhesion layer laminated | stacked on one main surface of a base material is mentioned, for example. In addition, a protective film is good also as a single layer structure of a base material. In this case, the protective film is disposed on the surface of the polymer piezoelectric film or the functional layer (intermediate layer), for example, electrostatically or due to the adhesiveness of the protective film itself.

〔材料〕
基材の材料としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン/ポリプロピレン共重合樹脂、環状ポリオレフィン、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、フッ素樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリブテン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、アセチルセルロース樹脂等が挙げられる。
尚、基材は、これら樹脂の層の多層体であってもよい。
〔material〕
Examples of the base material include polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene / polypropylene copolymer resin, cyclic polyolefin, polyester resin, nylon resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, and polycarbonate resin. , Polymethyl methacrylate resin, polyurethane resin, fluororesin, polyacrylonitrile, polybutene resin, polyimide resin, polyarylate resin, acetylcellulose resin and the like.
The base material may be a multilayer body of these resin layers.

粘着層の材料としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤(例えばポリエチレンオリゴマー粘着剤等)、セルロース系粘着剤(例えば糊等)、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、等が挙げられる。これらの中でも、粘着層の材料としては、耐湿性及び粘着性の観点から、EVA系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着が好ましく、EVA系粘着剤がより好ましい。   Examples of the material for the adhesive layer include ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) adhesives, acrylic adhesives, rubber adhesives, polyolefin adhesives (eg, polyethylene oligomer adhesives), and cellulose adhesives. (For example, glue), silicone adhesive, urethane adhesive, vinyl alkyl ether adhesive, polyvinyl alcohol adhesive, polyvinyl pyrrolidone adhesive, polyacrylamide adhesive, and the like. Among these, as the material for the adhesive layer, EVA adhesives, acrylic adhesives, and rubber adhesives are preferable from the viewpoint of moisture resistance and adhesiveness, and EVA adhesives are more preferable.

ここで、アクリル系粘着剤の粘着性ポリマーとしては、例えば、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソオクチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピルなどのアルキル基の炭素数が1〜10の(メタ)アクリル酸エステルと、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチルなどの官能基含有不飽和単量体とを含む単量体混合物の共重合物が好適に挙げられる。
ゴム系粘着剤の粘着性ポリマーとしては、例えば、スチレン/ブタジエンランダム共重合体、スチレン/イソプレン系ブロック共重合体、天然ゴム等が好適に挙げられる。
Here, examples of the adhesive polymer of the acrylic adhesive include, for example, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, isooctyl acrylate, butyl methacrylate, propyl methacrylate, and the like ( A copolymer of a monomer mixture containing a (meth) acrylic acid ester and a functional group-containing unsaturated monomer such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, hydroxyethyl acrylate, and hydroxyethyl methacrylate. Preferably mentioned.
Preferable examples of the adhesive polymer of the rubber adhesive include styrene / butadiene random copolymer, styrene / isoprene block copolymer, and natural rubber.

〔特性〕
保護フィルムの粘着力(保護フィルムを貼り合せる対象物(高分子圧電フィルム又は機能層)に対する保護フィルムの粘着力)は、0.01N/50mm〜1.5N/50mmが好ましく、0.02N/50mm〜1.0N/50mmがより好ましい。保護フィルムの粘着力を上記範囲とすると、積層体からの保護フィルムの剥れを抑制すると共に、保護フィルムを剥離するときに容易な保護フィルムの剥離が実現され易くなる。
なお、保護フィルムの粘着力は、保護フィルムを有する積層体から保護フィルムを引っ張り試験機にて300mm/分の速度で180°方向に引っ張ることにより測定される値である。
〔Characteristic〕
The adhesive strength of the protective film (the adhesive strength of the protective film to the object (polymer piezoelectric film or functional layer) to which the protective film is bonded) is preferably 0.01 N / 50 mm to 1.5 N / 50 mm, preferably 0.02 N / 50 mm. -1.0 N / 50 mm is more preferable. When the adhesive strength of the protective film is within the above range, peeling of the protective film from the laminate is suppressed, and easy peeling of the protective film is easily realized when peeling the protective film.
The adhesive strength of the protective film is a value measured by pulling the protective film from the laminate having the protective film in a 180 ° direction at a speed of 300 mm / min with a tensile tester.

〔膜厚〕
保護フィルムの膜厚は、特に限定されるものではないが、保護機能を高める観点から、厚みを5μm以上の範囲が好ましく、10μm〜100μmの範囲がより好ましく、20μm〜80μmが更に好ましく、30μm〜50μmの範囲が特に好ましい。
ここで、基材の膜厚は、9μm〜99μmの範囲が好ましく、19μm〜79μmの範囲がより好ましく、29μm〜49μmの範囲が更に好ましい。一方、粘着層の膜厚は、1μm〜20μmの範囲が好ましく、3μm〜10μmの範囲がより好ましい。
[Film thickness]
The thickness of the protective film is not particularly limited, but from the viewpoint of enhancing the protective function, the thickness is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm to 100 μm, even more preferably 20 μm to 80 μm, and even more preferably 30 μm to 30 μm. A range of 50 μm is particularly preferred.
Here, the film thickness of the substrate is preferably in the range of 9 μm to 99 μm, more preferably in the range of 19 μm to 79 μm, and still more preferably in the range of 29 μm to 49 μm. On the other hand, the thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1 μm to 20 μm, and more preferably in the range of 3 μm to 10 μm.

〔形成方法〕
保護フィルムを形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できる。例えば、保護フィルムは、保護フィルムを形成する樹脂を製膜機により押出製膜することで形成される。また、ウェットコート法により形成してもよい。保護フィルムをウェットコート法で形成する場合は、保護フィルムを形成するための材料(樹脂、添加剤等)が分散または溶解されたコート液(保護フィルム用塗工液)を高分子圧電フィルム上に塗布することで形成される。
具体的には、基材となる材料と粘着層となる材料とを多層製膜機により押出製膜して、保護フィルムを形成する。
尚、保護フィルムの離型性(剥離性)を向上させる観点から、コロナ処理やイトロ処理、オゾン処理、プラズマ処理などによって保護フィルムの表面を処理することもできる。
(Formation method)
As a method of forming the protective film, a known method that has been generally used can be appropriately used. For example, the protective film is formed by extruding a resin for forming the protective film with a film forming machine. Further, it may be formed by a wet coating method. When forming a protective film by the wet coat method, a coating liquid (coating liquid for protective film) in which a material (resin, additive, etc.) for forming the protective film is dispersed or dissolved is applied onto the polymer piezoelectric film. It is formed by coating.
Specifically, the material to be the base material and the material to be the adhesive layer are formed by extrusion using a multilayer film forming machine to form a protective film.
In addition, from the viewpoint of improving the releasability (peelability) of the protective film, the surface of the protective film can be treated by corona treatment, itro treatment, ozone treatment, plasma treatment, or the like.

保護フィルムの市販品としては、例えば、株式会社サンエー化研のPACシリーズ、積水化学工業株式会社の622シリーズ、大王加工紙工業株式会社のFMシリーズ、株式会社スミロンのVシリーズ等が挙げられる。   Examples of commercially available protective films include the PAC series from Sanei Kaken Co., Ltd., the 622 series from Sekisui Chemical Co., Ltd., the FM series from Daio Paper Industries Co., Ltd., and the V series from Sumilon Corporation.

<機能層(中間層)>
機能層(中間層)は、本発明の積層体において、高分子圧電フィルムと保護フィルムとの間、及び、高分子圧電フィルムと導電層の間の少なくとも一方に、任意に設けられる層である。
<Functional layer (intermediate layer)>
The functional layer (intermediate layer) is a layer arbitrarily provided in at least one of the polymer piezoelectric film and the protective film and between the polymer piezoelectric film and the conductive layer in the laminate of the present invention.

〔材料〕
機能層の材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属や金属酸化物等の無機物;樹脂等の有機物;樹脂と微粒子とを含む複合組成物;などが挙げられる。
〔material〕
The material for the functional layer is not particularly limited, and examples thereof include inorganic substances such as metals and metal oxides; organic substances such as resins; composite compositions containing resins and fine particles.

樹脂としては、温度や活性エネルギー線で硬化させることで得られる硬化物を利用することもできる。つまり、樹脂としては、硬化性樹脂を利用することもできる。
硬化性樹脂としては、例えばアクリル系化合物、メタクリル系化合物、ビニル系化合物、アリル系化合物、ウレタン系化合物、エポキシ系化合物、エポキシド系化合物、グリシジル系化合物、オキセタン系化合物、メラミン系化合物、セルロース系化合物、エステル系化合物、シラン系化合物、シリコーン系化合物、シロキサン系化合物、シリカ−アクリルハイブリット化合物、及びシリカ−エポキシハイブリット化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料が挙げられる。
これらの中でも、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、シラン系化合物がより好ましい。
As resin, the hardened | cured material obtained by making it harden | cure with temperature or an active energy ray can also be utilized. That is, a curable resin can also be used as the resin.
Examples of the curable resin include acrylic compounds, methacrylic compounds, vinyl compounds, allyl compounds, urethane compounds, epoxy compounds, epoxide compounds, glycidyl compounds, oxetane compounds, melamine compounds, and cellulose compounds. And at least one material selected from the group consisting of ester compounds, silane compounds, silicone compounds, siloxane compounds, silica-acrylic hybrid compounds, and silica-epoxy hybrid compounds.
Among these, acrylic compounds, epoxy compounds, and silane compounds are more preferable.

金属としては、例えば、Al、Si、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、In、Sn、W、Ag、Au、Pd、Pt、Sb、Ta及びZrから選ばれる少なくとも一つ、又は、これらの合金が挙げられる。
金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化タンタル、又は、これらの複合酸化物が挙げられる。
Examples of the metal include at least one selected from Al, Si, Ti, V, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, In, Sn, W, Ag, Au, Pd, Pt, Sb, Ta, and Zr. Or an alloy thereof.
Examples of the metal oxide include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, niobium oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, tantalum oxide, Or these complex oxides are mentioned.

微粒子としては、上述したような金属酸化物の無機微粒子;フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂などの樹脂微粒子;などが挙げられる。さらに、微粒子としては、これらの無機微粒子又は有機微粒子の内部に空孔を有する中空微粒子も挙げられる。
微粒子の平均一次粒径としては、透明性の観点から1nm以上500nm以下が好ましく、5nm以上300nm以下がより好ましく、10nm以上200nm以下が更に好ましい。500nm以下であることで可視光の散乱が抑制され、1nm以上であることで微粒子の二次凝集が抑制され、透明性の維持の観点から望ましい。
Examples of the fine particles include inorganic fine particles of metal oxide as described above; fine resin particles such as fluorine resin, silicone resin, styrene resin, and acrylic resin. Furthermore, examples of the fine particles include hollow fine particles having pores inside these inorganic fine particles or organic fine particles.
The average primary particle size of the fine particles is preferably from 1 nm to 500 nm, more preferably from 5 nm to 300 nm, and even more preferably from 10 nm to 200 nm, from the viewpoint of transparency. Scattering of visible light is suppressed when it is 500 nm or less, and secondary aggregation of fine particles is suppressed when it is 1 nm or more, which is desirable from the viewpoint of maintaining transparency.

〔膜厚〕
機能層の膜厚は、特に限定されるものではないが、0.01μm〜10μmの範囲が好ましい。
厚さが0.01μm以上であることにより、例えば機能層が後述するハードコート層などの機能を発現する。
一方、厚さが10μm以下であることにより、積層体において電極(導電層)を設けた際に電極により大きな電荷が発生する。
[Film thickness]
Although the film thickness of a functional layer is not specifically limited, The range of 0.01 micrometer-10 micrometers is preferable.
When the thickness is 0.01 μm or more, for example, the functional layer exhibits functions such as a hard coat layer described later.
On the other hand, when the thickness is 10 μm or less, a large charge is generated in the electrode when the electrode (conductive layer) is provided in the laminate.

上記厚さの上限値は、より好ましくは6μm以下であり、更に好ましくは3μm以下である。また、下限値はより好ましくは0.2μm以上であり、更に好ましくは0.3μm以上である。   The upper limit value of the thickness is more preferably 6 μm or less, and further preferably 3 μm or less. Further, the lower limit value is more preferably 0.2 μm or more, and further preferably 0.3 μm or more.

但し、機能層が複数の機能層からなる多層膜の場合には、上記厚さは多層膜全体における厚さを表す。また、機能層は高分子圧電フィルムの両面にあってもよい。また、機能層の屈折率は、それぞれが異なる値であってもよい。   However, in the case where the functional layer is a multilayer film composed of a plurality of functional layers, the above thickness represents the thickness of the entire multilayer film. The functional layer may be on both sides of the polymer piezoelectric film. Further, the refractive indexes of the functional layers may be different values.

〔機能層の種類(用途)〕
機能層としては、様々な機能層が挙げられる。機能層として、例えば、易接着層、ハードコート層、屈折率調整層、アンチリフレクション層、アンチグレア層、易滑層、アンチブロック層、保護層、接着層、帯電防止層、放熱層、紫外線吸収層、アンチニュートンリング層、光散乱層、偏光層、ガスバリア層、色相調整層などが挙げられる。また、機能層としては、これらの機能のうちの2つ以上を兼ね備えた層であってもよい。これらの中でも、機能層としては、屈折率調整層、易接着層、ハードコート層、帯電防止層、及びアンチブロック層の少なくとも1つが好ましい。
高分子圧電フィルムの両方の主面側に機能層を備える場合は、2つの機能層は同じ機能層であっても、異なる機能層であっても良い。
[Type of functional layer (use)]
Examples of the functional layer include various functional layers. As functional layers, for example, easy adhesion layer, hard coat layer, refractive index adjustment layer, anti-reflection layer, anti-glare layer, easy slip layer, anti-block layer, protective layer, adhesive layer, antistatic layer, heat dissipation layer, ultraviolet absorption layer , An anti-Newton ring layer, a light scattering layer, a polarizing layer, a gas barrier layer, a hue adjusting layer, and the like. The functional layer may be a layer having two or more of these functions. Among these, as the functional layer, at least one of a refractive index adjusting layer, an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and an antiblock layer is preferable.
When the functional layers are provided on both main surfaces of the polymer piezoelectric film, the two functional layers may be the same functional layer or different functional layers.

また、機能層を形成することにより、高分子圧電フィルム表面のダイラインや打痕などの欠陥が埋められ、外観が向上するという効果もある。この場合は高分子圧電フィルムと機能層との屈折率差が小さいほど高分子圧電フィルムと機能層と界面の反射が低減し、より外観が向上する。   Further, by forming the functional layer, defects such as die lines and dents on the surface of the polymer piezoelectric film are filled, and the appearance is improved. In this case, the smaller the refractive index difference between the polymer piezoelectric film and the functional layer, the more the reflection at the interface between the polymer piezoelectric film and the functional layer is reduced, and the appearance is further improved.

〔形成方法〕
機能層を形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できるが、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着(CVD)法、めっき法などのドライコーティング法、ウェットコート法が挙げられる。ウェットコート法としては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、グラビアコート法が挙げられる。
例えば、機能層が硬化樹脂である場合、硬化樹脂層を形成するための材料(硬化性樹脂、添加剤、溶剤等)が分散または溶解されたコート液を塗布することで、硬化樹脂層が形成される。
(Formation method)
As a method for forming the functional layer, known methods that have been generally used can be appropriately used. For example, dry methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating, chemical vapor deposition (CVD), and plating can be used. Examples thereof include a coating method and a wet coating method. Examples of the wet coating method include a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a bar coating method, and a gravure coating method.
For example, when the functional layer is a cured resin, the cured resin layer is formed by applying a coating liquid in which a material (curable resin, additive, solvent, etc.) for forming the cured resin layer is dispersed or dissolved. Is done.

機能層が硬化樹脂層である場合、さらに必要に応じて、上記の通り塗布された前記材料(硬化性樹脂等)に対して乾燥により溶剤を揮発させたり、熱や活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化性樹脂を硬化させる。   When the functional layer is a cured resin layer, if necessary, the solvent (such as a curable resin) applied as described above is volatilized by drying, or heat or active energy rays (ultraviolet rays, electrons, etc.) are dried. The curable resin is cured by irradiation.

尚、硬化樹脂層に含まれる材料としては、上記硬化性樹脂の中でも、活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化された活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂を含むことで、製造効率が向上し、また硬化樹脂層の形成によって生じる高分子圧電フィルムの性能低下をより抑制することができる。   In addition, as a material contained in a cured resin layer, the active energy ray cured resin hardened | cured by irradiation of active energy rays (an ultraviolet ray, an electron beam, radiation, etc.) among the said curable resin is preferable. By including the active energy ray curable resin, the production efficiency is improved, and the performance degradation of the polymer piezoelectric film caused by the formation of the cured resin layer can be further suppressed.

また、上記硬化樹脂層は、架橋密度を高める観点から、三次元架橋構造を有する三次元架橋樹脂を含むことが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said cured resin layer contains the three-dimensional crosslinked resin which has a three-dimensional crosslinked structure from a viewpoint of raising a crosslinking density.

三次元架橋構造を有する硬化物を作製する手段としては、硬化性樹脂として重合性官能基を3つ以上有するモノマー(3官能以上のモノマー)を用いる方法、重合性官能基を3つ以上有する架橋剤(3官能以上の架橋剤)を用いる方法等が挙げられ、また架橋剤として有機過酸化物などの架橋剤を用いる方法も挙げられる。尚、これらの手段を複数組み合わせて用いてもよい。   As a means for producing a cured product having a three-dimensional crosslinked structure, a method using a monomer having three or more polymerizable functional groups (a monomer having three or more functional groups) as a curable resin, or a crosslinking having three or more polymerizable functional groups. Examples include a method using a crosslinking agent (a trifunctional or higher functional crosslinking agent), and a method using a crosslinking agent such as an organic peroxide as a crosslinking agent. A plurality of these means may be used in combination.

3官能以上のモノマーとしては、例えば、1分子中に3つ以上の(メタ)アクリル基を有する(メタ)アクリル化合物や、1分子中に3つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the tri- or higher functional monomer include (meth) acrylic compounds having three or more (meth) acrylic groups in one molecule, and epoxy compounds having three or more epoxy groups in one molecule. .

本明細書中において、「(メタ)アクリル基」とは、アクリル基及びメタクリル基の少なくとも一方を表す。
また、「1分子中に3つ以上の(メタ)アクリル基を有する」とは、1分子中にアクリル基及びメタクリル基の少なくとも一方を有し、かつ、1分子中におけるアクリル基及びメタクリル基の総数が3つ以上であることを指す。
In the present specification, “(meth) acrylic group” represents at least one of an acrylic group and a methacrylic group.
Further, “having three or more (meth) acrylic groups in one molecule” means having at least one of an acrylic group and a methacrylic group in one molecule, and an acrylic group and a methacrylic group in one molecule. The total number is 3 or more.

ここで、硬化樹脂層に含まれる材料が三次元架橋構造を有する硬化物であるか否かを確認する方法としては、ゲル分率を測定する方法が挙げられる。
具体的には、硬化樹脂層を溶剤に24時間浸漬した後の不溶分からゲル分率を導くことができる。特に溶剤が水などの親水性の溶媒でも、トルエンのような新油性の溶媒でも、ゲル分率が一定以上のものが三次元架橋構造を有すると推定することができる。
Here, as a method for confirming whether or not the material contained in the cured resin layer is a cured product having a three-dimensional cross-linked structure, a method of measuring the gel fraction can be mentioned.
Specifically, the gel fraction can be derived from the insoluble matter after the cured resin layer is immersed in a solvent for 24 hours. In particular, it can be presumed that a solvent having a gel fraction of a certain level or more has a three-dimensional crosslinked structure, whether the solvent is a hydrophilic solvent such as water or a new oily solvent such as toluene.

ウェットコート法による硬化樹脂層の用途としては、前記に列挙した何れの層にも適用が可能である。ウェットコート法の場合、コート液を高分子圧電フィルムの延伸前原反に塗工した後に高分子圧電フィルムを延伸しても、高分子圧電フィルム原反を延伸後にコート液を塗布してもよい。
ウェットコート法による硬化樹脂層の(1層の)厚さとしては、数十nm〜10μmの範囲が好ましい。
また硬化樹脂層にはその目的に応じて屈折率調整剤や紫外線吸収剤、レベリング剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤などの各種有機物、無機物を添加することもできる。
尚、高分子圧電フィルム表面と硬化樹脂層との密着性や、高分子圧電フィルム表面への塗工性を向上させる観点から、コロナ処理やイトロ処理、オゾン処理、プラズマ処理などによって高分子圧電フィルム表面を処理することもできる。
The use of the cured resin layer by the wet coat method can be applied to any of the above-listed layers. In the case of the wet coating method, the polymer piezoelectric film may be stretched after the coating liquid has been applied to the original film before stretching of the polymer piezoelectric film, or the coating liquid may be applied after stretching the polymer piezoelectric film original film.
The thickness (one layer) of the cured resin layer by wet coating is preferably in the range of several tens of nm to 10 μm.
Moreover, various organic substances and inorganic substances such as a refractive index adjusting agent, an ultraviolet absorber, a leveling agent, an antistatic agent, and an antiblocking agent can be added to the cured resin layer according to the purpose.
From the viewpoint of improving the adhesion between the surface of the polymer piezoelectric film and the cured resin layer and the coating property on the surface of the polymer piezoelectric film, the polymer piezoelectric film can be treated by corona treatment, itro treatment, ozone treatment, plasma treatment, etc. The surface can also be treated.

〔比誘電率〕
また、機能層としての硬化樹脂層の比誘電率は1.5以上であることが好ましく、更には2.0以上20000以下がより好ましく、2.5以上10000以下が更に好ましい。
比誘電率が上記範囲であることにより、積層体における硬化樹脂層上に更に中間層(他の機能層)を介して電極(導電層)を設けた際に電極により大きな電荷が発生する。
[Relative permittivity]
The relative dielectric constant of the cured resin layer as the functional layer is preferably 1.5 or more, more preferably 2.0 or more and 20000 or less, and further preferably 2.5 or more and 10,000 or less.
When the relative dielectric constant is in the above range, a large charge is generated in the electrode when an electrode (conductive layer) is further provided on the cured resin layer in the laminate via an intermediate layer (other functional layer).

尚、硬化樹脂層の比誘電率は、以下の方法により測定される。
高分子圧電フィルムの片面に硬化樹脂層を形成した後、昭和真空SIP−600を用いて高分子圧電フィルムと硬化樹脂層との積層体の両面に約50nmのAlを蒸着する。この積層体より50mm×50mmのフィルムを切り出す。この試験片をHEWLETT PACKARD社製LCR METER 4284Aに接続して静電容量Cを測定し、以下の式で硬化樹脂層の比誘電率εcを計算する。
εc=(C×d×2.7)/(ε×2.7×S−C×dp)
d:硬化樹脂層厚さ、ε:真空誘電率、S:試験片面積、dp:高分子圧電フィルムの厚さ
The relative dielectric constant of the cured resin layer is measured by the following method.
After forming a cured resin layer on one side of the polymer piezoelectric film, Al of about 50 nm is deposited on both sides of the laminate of the polymer piezoelectric film and the cured resin layer using Showa Vacuum SIP-600. A 50 mm × 50 mm film is cut out from this laminate. This test piece is connected to LCR METER 4284A manufactured by HEWLETT PACKARD, the capacitance C is measured, and the relative dielectric constant εc of the cured resin layer is calculated by the following equation.
εc = (C × d × 2.7) / (ε 0 × 2.7 × S−C × dp)
d: thickness of cured resin layer, ε 0 : vacuum dielectric constant, S: test piece area, dp: thickness of polymer piezoelectric film

〔機能層の内部ヘイズ〕
また、機能層の内部ヘイズは、10%以下であることが好ましく、更には0.0%以上5%以下がより好ましく、0.01%以上2%以下が更に好ましい。
内部ヘイズが上記範囲であることにより、優れた透明性が発揮され、例えばタッチパネル等として有効に利用し得る。
[Internal haze of functional layer]
The internal haze of the functional layer is preferably 10% or less, more preferably 0.0% or more and 5% or less, and further preferably 0.01% or more and 2% or less.
When the internal haze is in the above range, excellent transparency is exhibited, and it can be effectively used as a touch panel, for example.

尚、機能層の内部ヘイズHcは、以下の式により計算される。
Hc=H−Hp
H:高分子圧電フィルムと機能層との積層体の内部ヘイズ
Hp:機能層形成前または機能層を除去した後の高分子圧電フィルムの内部ヘイズ
但し、高分子圧電フィルムの内部ヘイズの測定方法は前述の通りである。積層体の内部ヘイズも、高分子圧電フィルムの内部ヘイズと同様の方法によって測定する。
The internal haze Hc of the functional layer is calculated by the following formula.
Hc = H-Hp
H: Internal haze of laminate of polymer piezoelectric film and functional layer Hp: Internal haze of polymer piezoelectric film before functional layer formation or after functional layer is removed However, a method for measuring the internal haze of the polymer piezoelectric film is As described above. The internal haze of the laminate is also measured by the same method as the internal haze of the polymer piezoelectric film.

<粘着層>
〔材料〕
粘着層は、粘着性を有する層である。粘着層としては両面をセパレータでラミネートしてある両面テープ(OCA;Optical Clear Adhensive)の粘着層を用いることができる。
また、上記粘着層は、溶剤系、無溶剤系、水系などの粘着コート液、UV硬化型OCR(Optical Clear Resin)、ホットメルト接着剤、などを用いて形成することもできる。
<Adhesive layer>
〔material〕
The adhesive layer is a layer having adhesiveness. As the adhesive layer, an adhesive layer of a double-sided tape (OCA; Optical Clear Adhesive) in which both surfaces are laminated with a separator can be used.
The pressure-sensitive adhesive layer can also be formed using a solvent-based, solvent-free, water-based or other pressure-sensitive adhesive coating solution, UV curable OCR (Optical Clear Resin), hot melt adhesive, or the like.

OCAとしては、光学用透明粘着シートLUCIACSシリーズ(日東電工株式会社製)や高透明両面テープ5400Aシリーズ(積水化学工業株式会社製)、光学粘着シートOpteriaシリーズ(リンテック株式会社製)、高透明性接着剤転写テープシリーズ(住友スリーエム株式会社製)、SANCUARYシリーズ(株式会社サンエー化研製)などが挙げられる。   As OCA, optical transparent adhesive sheet LUCIACS series (manufactured by Nitto Denko Corporation), highly transparent double-sided tape 5400A series (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), optical adhesive sheet Optia series (manufactured by Lintec Corporation), high transparency adhesive Agent transfer tape series (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), SANCUARY series (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.), etc.

粘着コート液としては、SKダインシリーズ(綜研化学株式会社製)、ファインタックシリーズ(DIC株式会社製)、ボンコートシリーズ、LKGシリーズ(藤倉化成株式会社製)、コーポニールシリーズ(日本合成化学工業株式会社製)などが挙げられる。   Adhesive coating solutions include SK Dyne Series (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), Fine Tack Series (manufactured by DIC Corporation), Bon Coat Series, LKG Series (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), and Coponille Series (Nippon Gosei Chemical Co., Ltd. Company-made).

粘着層としては、高分子圧電フィルムの加熱を防ぐ観点から、OCAの粘着層、OCRを用いて形成された粘着層、高分子圧電フィルム以外の部材に粘着コート液を塗布して形成した粘着層、高分子圧電フィルム以外の部材にホットメルト接着剤を使用して形成した粘着層が好ましい。   As the adhesive layer, from the viewpoint of preventing the heating of the polymer piezoelectric film, an OCA adhesive layer, an adhesive layer formed using OCR, an adhesive layer formed by applying an adhesive coating solution to a member other than the polymer piezoelectric film An adhesive layer formed using a hot melt adhesive on a member other than the polymer piezoelectric film is preferred.

粘着層の材料としては、特に限定されるものではないが、樹脂を含むことが好ましい。
樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ウレタン樹脂、セルロース系樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン−エポキシ系樹脂、塩化ビニル樹脂、クロロプレンゴム系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、シリコーン系樹脂、変性シリコーン系樹脂、水性高分子-イソシアネート系樹脂、スチレン-ブタジエンゴム系樹脂、ニトリルゴム系樹脂、アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、臭素樹脂、デンプン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a material of an adhesion layer, It is preferable that resin is included.
Examples of the resin include acrylic resin, methacrylic resin, urethane resin, cellulose resin, vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate resin, epoxy resin, nylon-epoxy resin, vinyl chloride resin, chloroprene rubber resin, and cyanoacrylate resin. Resin, silicone resin, modified silicone resin, aqueous polymer-isocyanate resin, styrene-butadiene rubber resin, nitrile rubber resin, acetal resin, phenol resin, polyamide resin, polyimide resin, melamine resin, urea resin, bromine Resins, starch resins, polyester resins, polyolefin resins and the like can be mentioned.

〔膜厚〕
粘着層の膜厚は、特に限定されるものではないが、粘着層の密着力の維持と透過率の低下を抑制する観点から、厚みを5μm以上の範囲が好ましく、7μm〜100μmの範囲がより好ましく、7μm〜60μmが更に好ましく、10μm〜30μmの範囲が特に好ましい。
[Film thickness]
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but the thickness is preferably in the range of 5 μm or more, more preferably in the range of 7 μm to 100 μm, from the viewpoint of maintaining the adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer and suppressing the decrease in transmittance. 7 μm to 60 μm is more preferable, and a range of 10 μm to 30 μm is particularly preferable.

〔粘着層の酸価〕
粘着層の酸価は、透過率の低下及び呈色を抑制する観点から、0.01mgKOH/g〜10mgKOH/gが好ましく、0.05mgKOH/g〜5mgKOH/gがより好ましく、0.1mgKOH/g〜1mgKOH/gがさらに好ましい。粘着層の酸価を、0.01mgKOH/g〜10mgKOH/gとすることで、高分子圧電フィルムの安定性(特に、耐湿熱性)を保ちつつ、かつ、高分子圧電フィルムと酸価を有する層との密着力を高めることができる。
本発明の積層体において、粘着層の酸価は、粘着層1g中の遊離酸を中和するのに要するKOHの量(mg)を指す。このKOHの量(mg)は、溶媒に溶解又は膨潤させた粘着層を、フェノールフタレインを指示薬として0.005M KOH(水酸化カリウム)エタノール溶液によって滴定することにより測定される。
[Acid value of adhesive layer]
The acid value of the adhesive layer is preferably 0.01 mgKOH / g to 10 mgKOH / g, more preferably 0.05 mgKOH / g to 5 mgKOH / g, and 0.1 mgKOH / g from the viewpoint of suppressing the decrease in transmittance and coloration. More preferred is ˜1 mg KOH / g. By maintaining the acid value of the adhesive layer at 0.01 mg KOH / g to 10 mg KOH / g, the layer having the acid value with the polymer piezoelectric film while maintaining the stability of the polymer piezoelectric film (particularly heat and moisture resistance) It is possible to increase the adhesion with.
In the laminate of the present invention, the acid value of the adhesive layer refers to the amount (mg) of KOH required to neutralize the free acid in 1 g of the adhesive layer. The amount (mg) of KOH is measured by titrating an adhesive layer dissolved or swollen in a solvent with a 0.005 M KOH (potassium hydroxide) ethanol solution using phenolphthalein as an indicator.

<離型フィルム>
〔材料〕
離型フィルムの材料としては、離型性(剥離性)を有する材料が好適に用いられる。離型フィルムは、単独のフィルムであってもよく、複数層からなる多層フィルムであってもよい。離型フィルムが、複数層からなる多層フィルムである場合、離型フィルムは、離型性を有する材料が粘着層と対向する面に設けられた構造に形成されていることが好ましい。この場合、離型フィルムは、基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成されていてもよい。
<Release film>
〔material〕
As the material for the release film, a material having releasability (peelability) is preferably used. The release film may be a single film or a multilayer film composed of a plurality of layers. When the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, the release film is preferably formed in a structure in which a material having releasability is provided on the surface facing the adhesive layer. In this case, the release film may be formed in a structure including a base material and a material having releasability.

離型性を有する材料としては、例えば、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン樹脂;ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素樹脂、ポリ塩化ビニル、スチレン(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、エチレン酢酸ビニル等のビニル樹脂;等が挙げられる。
また、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、ワックス樹脂等が挙げられる。
離型フィルムは、これらの単独のフィルムであってもよく、複数層からなる多層フィルムであってもよい。この場合、離型フィルムは、離型性を有する材料が粘着層と対向する面に設けられた構造に形成されていることが好ましい。中でも、粘着層との剥離性をより向上させる点から、粘着層と対向する面に設ける離型性を有する材料は、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、アルキッド樹脂、ワックス樹脂を用いることがより好ましく、シリコーン樹脂を用いることがさらに好ましい。
Specific examples of the releasable material include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate; olefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene; polytetrafluoroethylene, polyfluorinated Fluorine resins such as vinylidene, polyvinyl chloride, styrene (meth) acrylic acid copolymers, styrene (meth) acrylic acid ester copolymers, vinyl resins such as polystyrene and ethylene vinyl acetate; and the like.
In addition, polyurethane resin, polyimide resin, polyamide resin, silicone resin, acrylic silicone resin, melamine resin, alkyd resin, wax resin, and the like can be given.
The release film may be a single film of these or a multilayer film composed of a plurality of layers. In this case, the release film is preferably formed in a structure in which a material having releasability is provided on a surface facing the adhesive layer. Among these, a silicone resin, a fluororesin, a polyester resin, a polyolefin resin, an alkyd resin, and a wax resin are used as the material having releasability provided on the surface facing the adhesive layer in order to further improve the peelability from the adhesive layer. It is more preferable to use a silicone resin.

シリコーン樹脂としては、例えば、両末端シラノール官能性ジメチルポリシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサン又はメチルメトキシシロキサンとを有機錫系触媒の存在下で反応させたもの(熱縮合反応型);分子鎖両末端又は両末端及び側鎖にビニル基を有するメチルビニルポリシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとを白金系触媒の存在下で反応させたもの(熱付加反応型);アルケニル基とメルカプト基を含有するシロキサンに光重合剤を加えたもの(紫外線硬化型(ラジカル付加型));熱付加反応型と同じ白金系触媒を用いたもの(紫外線硬化型(ヒドロシリル型));(メタ)アクリル基を含有するシロキサンに光重合剤を加えたもの(紫外線硬化型(ラジカル重合型));エポキシ基を含有するシロキサンにオニウム塩光開始剤を添加したもの(紫外線硬化型(カチオン重合型));ラジカル重合性基含有シロキサン(電子線硬化型、但し官能基はなくてもよく、また光開始剤がなくてもよい);が挙げられる。また、シリコーン樹脂の形態は、溶剤型、エマルジョン型、無溶剤型等の中から適宜選択して用いることができる。   Examples of silicone resins include those obtained by reacting silanol-functional dimethylpolysiloxane with methylhydrogenpolysiloxane or methylmethoxysiloxane in the presence of an organotin catalyst (thermal condensation reaction type); Or a reaction of methyl vinyl polysiloxane having vinyl groups at both ends and side chains with methyl hydrogen polysiloxane in the presence of a platinum-based catalyst (thermal addition reaction type); siloxane containing alkenyl group and mercapto group With photopolymerization agent added (ultraviolet curing type (radical addition type)); using the same platinum catalyst as thermal addition reaction type (ultraviolet curing type (hydrosilyl type)); containing (meth) acrylic group Siloxane and photopolymerization agent (UV curable type (radical polymerization type)); Siloxy containing epoxy group Onium salt photoinitiator (ultraviolet curable type (cationic polymerization type)); radical polymerizable group-containing siloxane (electron beam curable type, but no functional group, no photoinitiator) May also be included). Moreover, the form of the silicone resin can be appropriately selected from a solvent type, an emulsion type, a solventless type, and the like.

〔基材〕
離型フィルムが複数層からなる多層フィルムである場合、基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、トリアセチルセルロース、セロハン、レーヨン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、芳香族ポリアミド、若しくはポリスルホン等の樹脂が挙げられ、これらの一軸又は二軸延伸フィルム;不織布;発泡体等が挙げられる。また、基材としては、ガラス;金属箔;セラミック;紙等の中から選択することもできる。
〔Base material〕
When the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, as a substrate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, triacetyl cellulose, cellophane, rayon, polystyrene, polycarbonate, Examples thereof include resins such as polyimide, polyamide, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyethersulfone, aromatic polyamide, and polysulfone, and these include uniaxially or biaxially stretched films; nonwoven fabrics; foams and the like. The substrate can be selected from glass, metal foil, ceramic, paper and the like.

〔その他の材料〕
離型フィルムには、粘着層と対向する面以外の層に、必要に応じて、帯電防止剤、オリゴマー移行抑制剤、平滑化剤、易接着剤等のその他の材料を含む層を設けてもよい。例えば、離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成される場合には、基材と離型性を有する材料とが互いに対向する面、及び基材の離型性を有する材料と対向する面と反対側の面のいずれか一方、または両方の面に、上記のその他の材料を含む層を設けることができる。
[Other materials]
If necessary, the release film may be provided with a layer containing other materials such as an antistatic agent, an oligomer migration inhibitor, a smoothing agent, and an easy-adhesive layer on a layer other than the surface facing the adhesive layer. Good. For example, when the release film is formed in a structure including a base material and a material having releasability, the surface where the base material and the material having releasability face each other, and the releasability of the base material A layer containing the above-described other material can be provided on either or both of the surface opposite to the surface facing the material having the above.

〔膜厚〕
離型フィルムの膜厚は、特に限定されるものではないが、離型のしやすさ及びハンドリングの観点から、厚みを5μm以上の範囲が好ましく、10μm〜100μmの範囲がより好ましく、20μm〜80μmの範囲が更に好ましく、30μm〜80μmの範囲が特に好ましい。
[Film thickness]
The film thickness of the release film is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of release and handling, the thickness is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm to 100 μm, and 20 μm to 80 μm. Is more preferable, and the range of 30 μm to 80 μm is particularly preferable.

〔離型フィルムの剥離可能性(離型性)〕
離型フィルムを剥離可能にするためには、粘着層と高分子圧電フィルムとの粘着力が粘着層と離型フィルムとの粘着力よりも大きいことが好ましい。
[Peelability of release film (release property)]
In order to make the release film peelable, the adhesive force between the adhesive layer and the polymer piezoelectric film is preferably larger than the adhesive force between the adhesive layer and the release film.

〔形成方法〕
離型フィルムを形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できる。例えば、離型フィルムは、離型フィルムを形成する樹脂を製膜機により押出製膜することで形成されてもよい。離型フィルムが、複数層からなる多層フィルムである場合には、製膜した各々の離型フィルムを接着剤により多層に形成してもよく、多層製膜機により共押出製膜して多層に形成してもよい。
また、離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成された複数層からなる多層フィルムである場合、製膜した基材と、製膜した離型性を有する材料とを接着剤により多層に形成してもよく、製膜した基材上に離型性を有する材料を押出製膜して多層に形成してもよく、または基材を構成する材料と、離型性を有する材料とを多層製膜機により共押出製膜して多層に形成してもよい。
さらに、ウェットコート法により形成してもよい。例えば、離型フィルムをウェットコート法で形成する場合、離型フィルムを形成するための材料(樹脂、添加剤等)が分散または溶解されたコート液(離型フィルム用塗工液)を粘着層上に塗布することで形成させることができる。また、離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成された複数層からなる多層フィルムである場合、離型フィルム用塗工液を基材上に塗布することで形成させることができる。
(Formation method)
As a method for forming the release film, a known method that has been generally used can be appropriately used. For example, the release film may be formed by extruding a resin for forming the release film with a film forming machine. When the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, each of the formed release films may be formed into a multilayer with an adhesive, and co-extruded to form a multilayer by a multilayer film forming machine. It may be formed.
Further, when the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers formed in a structure including a base material and a material having releasability, the formed base material and the formed material having releasability May be formed in multiple layers with an adhesive, or may be formed into multiple layers by extrusion-forming a material having releasability on the formed base material, or the material constituting the base material and the mold release The material having the property may be co-extruded with a multilayer film forming machine to form a multilayer.
Further, it may be formed by a wet coating method. For example, when a release film is formed by a wet coating method, a coating liquid (release film coating liquid) in which a material (resin, additive, etc.) for forming the release film is dispersed or dissolved is used as an adhesive layer. It can be formed by coating on top. In addition, when the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers formed in a structure including a substrate and a material having releasability, it is formed by applying a release film coating solution onto the substrate. Can be made.

離型性を有する材料をウェットコート法により形成する場合、上記離型性を有する材料を溶液又はエマルション液等の塗布液とし、これをロールコーター、コンマコーター、ダイコーター、メイヤーバーコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター等の公知の方法で粘着層上、又は基材上に塗布・乾燥することで形成してもよい。
なお、離型フィルムが、複数層からなる多層フィルムである場合には、離型フィルムの粘着層と対向する面と反対側の面、又は離型フィルムの粘着層と対向する面と反対側の面と接する基材等に、コロナ放電処理、フレーム処理、オゾン処理等の表面活性化処理、あるいはアンカー処理剤を用いたアンカーコーティング処理を施してもよい。これらのような処理によって多層フィルムの密着性が向上するため、粘着層との離型より向上させることができる。
When a material having releasability is formed by a wet coating method, the material having releasability is used as a coating solution such as a solution or an emulsion liquid, and this is used as a roll coater, comma coater, die coater, Mayer bar coater, reverse roll. You may form by apply | coating and drying on an adhesion layer or a base material by well-known methods, such as a coater and a gravure coater.
When the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, the surface opposite to the surface facing the adhesive layer of the release film, or the surface opposite to the surface facing the adhesive layer of the release film. A surface activation treatment such as a corona discharge treatment, a flame treatment, an ozone treatment, or an anchor coating treatment using an anchor treatment agent may be applied to a base material in contact with the surface. Since the adhesiveness of the multilayer film is improved by such treatment, it can be improved from the release from the adhesive layer.

<引き出し電極>
引き出し電極の構成成分及び形成方法としては、導電層(電極)と同様の構成成分及び形成方法が挙げられる。
引き出し電極としてはFPC(フレキシブルプリント基板)などが挙げられる。
<Extraction electrode>
Constituent components and forming methods of the extraction electrode include the same constituent components and forming method as the conductive layer (electrode).
Examples of the extraction electrode include FPC (flexible printed circuit board).

取り出し電極の接続方法としては、例えば、導電層(電極)の端部に対して、ACF(異方性導電フィルム)、ACP(異方性導電ペースト)、はんだ等を用いて接続する方法が挙げられる。   Examples of the connection method of the extraction electrode include a method of connecting to the end of the conductive layer (electrode) using ACF (anisotropic conductive film), ACP (anisotropic conductive paste), solder, or the like. It is done.

<基材>
導電層(電極)が設けられ、保護フィルムを剥離した後の積層体と貼り合わせる基材の材料としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン/ポリプロピレン共重合樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、フッ素樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリブテン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、アセチルセルロース樹脂等が挙げられる。
<Base material>
Examples of the material of the base material that is provided with the conductive layer (electrode) and is bonded to the laminate after peeling off the protective film include, for example, polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene / polypropylene copolymer resin, cyclic polyolefin resin, polyester resin, Nylon resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polycarbonate resin, polymethyl methacrylate resin, polyurethane resin, fluororesin, polyacrylonitrile, polybutene resin, polyimide resin, polyarylate resin, acetylcellulose resin Etc.

基材の厚みとしては、1μm〜100μmが好ましく、5μm〜80μmがより好ましく、10μm〜50μmがさらに好ましい。   The thickness of the substrate is preferably 1 μm to 100 μm, more preferably 5 μm to 80 μm, and even more preferably 10 μm to 50 μm.

<積層体の物性>
〔熱寸法安定性(熱収縮率)〕
本発明の積層体は、保護フィルムを剥離した状態で、150℃で30分間加熱したときの熱収縮率が、MD方向及びTD方向共に2.0%以下であることが好ましい。
積層体は、形成された導電層を結晶化させる工程や、積層体をデバイスとして利用する際の導電層と外部回路との接続工程等で、積層体の全体や一部が加熱される場合があるが、熱収縮率が大きい場合、形成された電極層の破損やパターンズレ、引出電極との接続不良、積層体の変形が発生する可能性があるため、熱収縮率が低い方が好ましい。
積層体の熱寸法安定性は、150℃で、30分間処理したときの熱収縮率を、MD方向及びTD方向でそれぞれ測定し、その熱収縮率で評価される。具体的には、以下の方法により、積層体の熱収縮率を算出する。
<Physical properties of the laminate>
[Thermal dimensional stability (thermal shrinkage)]
In the laminate of the present invention, the thermal shrinkage rate when heated at 150 ° C. for 30 minutes with the protective film peeled is preferably 2.0% or less in both the MD direction and the TD direction.
In the laminated body, the whole or a part of the laminated body may be heated in the step of crystallizing the formed conductive layer or the step of connecting the conductive layer and the external circuit when using the laminated body as a device. However, when the thermal contraction rate is large, the formed electrode layer may be damaged or misaligned, poor connection with the extraction electrode, or the laminate may be deformed. Therefore, it is preferable that the thermal contraction rate is low.
The thermal dimensional stability of the laminate is evaluated by measuring the thermal shrinkage rate when treated at 150 ° C. for 30 minutes in the MD direction and the TD direction, respectively. Specifically, the thermal contraction rate of the laminate is calculated by the following method.

積層体の熱収縮率は、MD方向に100mm×TD方向に100mmの正方形に切り出したサンプル片(保護フィルムを剥離したサンプル片)を、150℃のオーブンに30分静置し、オーブンから取り出した後、室温にてサンプル片のMD方向およびTD方向の寸法を測定する。測定した値を使用し、以下の計算式から熱収縮率を算出する。   The heat shrinkage rate of the laminate was determined by taking a sample piece (sample piece from which the protective film had been peeled) cut into a 100 mm square in the MD direction and a 100 mm square in the TD direction for 30 minutes in an oven at 150 ° C., and taking it out of the oven. Then, the dimension of MD direction and TD direction of a sample piece is measured at room temperature. Using the measured value, the heat shrinkage rate is calculated from the following formula.

熱収縮率=100×(オーブンに静置する前のサンプル片の寸法−オーブンに静置後、室温で測定したサンプル片の寸法)/オーブンに静置する前のサンプル片の寸法   Heat shrinkage rate = 100 × (size of sample piece before standing in oven−size of sample piece measured at room temperature after standing in oven) / size of sample piece before standing in oven

<積層体の用途>
本発明の積層体は、スピーカー、ヘッドホン、タッチパネル、リモートコントローラー、マイクロホン、水中マイクロホン、超音波トランスデューサ、超音波応用計測器、圧電振動子、機械的フィルター、圧電トランス、遅延装置、センサー、加速度センサー、衝撃センサー、振動センサー、感圧センサー、触覚センサー、電界センサー、音圧センサー、ディスプレイ、ファン、ポンプ、可変焦点ミラー、遮音材料、防音材料、キーボード、音響機器、情報処理機、計測機器、医用機器などの種々の分野で利用することができる。
また、本発明の積層体は、表示装置と組み合わせたタッチパネルとして用いることもできる。表示装置としては、例えば、液晶パネル、有機ELパネルなどを用いることもできる。
また、本発明の積層体は、感圧センサーとして、他方式のタッチパネル(位置検出部材)と組み合わせて用いることもできる。位置検出部材の検出方式としては抗膜方式、静電容量方式、表面弾性波方式、赤外線方式、光学方式等が挙げられる。
<Use of laminate>
The laminate of the present invention includes a speaker, a headphone, a touch panel, a remote controller, a microphone, an underwater microphone, an ultrasonic transducer, an ultrasonic applied measuring instrument, a piezoelectric vibrator, a mechanical filter, a piezoelectric transformer, a delay device, a sensor, an acceleration sensor, Shock sensor, vibration sensor, pressure sensor, tactile sensor, electric field sensor, sound pressure sensor, display, fan, pump, variable focus mirror, sound insulation material, sound insulation material, keyboard, sound equipment, information processing machine, measurement equipment, medical equipment It can be used in various fields such as.
Moreover, the laminated body of this invention can also be used as a touchscreen combined with the display apparatus. As the display device, for example, a liquid crystal panel, an organic EL panel, or the like can be used.
Moreover, the laminated body of this invention can also be used in combination with the touch panel (position detection member) of another system as a pressure sensor. Examples of the detection method of the position detection member include an anti-film method, a capacitance method, a surface acoustic wave method, an infrared method, and an optical method.

また、積層体を繰り返し重ね、積層圧電素子として用いることもできる。例としては積層体を繰り返し重ね、最後に電極(導電層)で覆われていない積層体の面を電極(導電層)で覆ったものが挙げられる。
また積層圧電素子に複数の積層体における高分子圧電フィルムが含まれる場合は、ある層の高分子圧電フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)の光学活性がL体ならば、他の層の高分子圧電フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)はL体であってもD体であってもよい。高分子圧電フィルムの配置は圧電素子の用途に応じて適宜調整することができる。
Moreover, a laminated body can be repeatedly stacked and used as a laminated piezoelectric element. As an example, a laminate is repeatedly stacked, and finally the surface of the laminate that is not covered with an electrode (conductive layer) is covered with an electrode (conductive layer).
Further, when the laminated piezoelectric element includes polymer piezoelectric films in a plurality of laminated bodies, if the optical activity of the helical chiral polymer (A) contained in the polymer piezoelectric film of a certain layer is L, the other layers The helical chiral polymer (A) contained in the polymer piezoelectric film may be L-form or D-form. The arrangement of the polymer piezoelectric film can be appropriately adjusted according to the use of the piezoelectric element.

例えば、L体のヘリカルキラル高分子(A)を主たる成分として含む高分子圧電フィルムの第1の層が電極を介してL体のヘリカルキラル高分子(A)を主たる成分として含む第2の高分子圧電フィルムと積層される場合は、第1の高分子圧電フィルムの一軸延伸方向(主たる延伸方向)を、第2の高分子圧電フィルムの一軸延伸方向(主たる延伸方向)と交差、好ましくは直交させると、第1の高分子圧電フィルムと第2の高分子圧電フィルムの変位の向きを揃えることができ、積層圧電素子全体としての圧電性が高まるので好ましい。   For example, the first layer of the polymer piezoelectric film containing the L-form helical chiral polymer (A) as the main component contains the second high-density polymer containing the L-form helical chiral polymer (A) as the main component via the electrode. When laminated with a molecular piezoelectric film, the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the first polymer piezoelectric film intersects, preferably orthogonal, with the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the second polymer piezoelectric film. This is preferable because the direction of displacement of the first polymer piezoelectric film and the second polymer piezoelectric film can be made uniform, and the piezoelectricity of the entire laminated piezoelectric element is enhanced.

一方、L体のヘリカルキラル高分子(A)を主たる成分として含む高分子圧電フィルムの第1の層が電極を介してD体のヘリカルキラル高分子(A)を主たる成分として含む第2の高分子圧電フィルムと積層される場合は、第1の高分子圧電フィルムの一軸延伸方向(主たる延伸方向)を、第2の高分子圧電フィルムの一軸延伸方向(主たる延伸方向)と略平行となるように配置すると第1の高分子圧電フィルムと第2の高分子圧電フィルムの変位の向きを揃えることができ、積層圧電素子全体としての圧電性が高まるので好ましい。   On the other hand, the first layer of the piezoelectric polymer film containing the L-form helical chiral polymer (A) as the main component contains the second high-density polymer containing the D-form helical chiral polymer (A) as the main component via the electrode. When laminated with a molecular piezoelectric film, the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the first polymeric piezoelectric film is substantially parallel to the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the second polymeric piezoelectric film. It is preferable that the first polymer piezoelectric film and the second polymer piezoelectric film can be arranged in the same direction, and the piezoelectricity of the entire laminated piezoelectric element is enhanced.

本発明の積層体を用いた前記圧電素子は、スピーカーやタッチパネル等、上述の種々の圧電デバイスに応用することができる。特に、透明性のある電極を備えた圧電素子は、スピーカー、タッチパネル、アクチュエータ等への応用に好適である。   The piezoelectric element using the laminate of the present invention can be applied to the above-described various piezoelectric devices such as speakers and touch panels. In particular, a piezoelectric element provided with a transparent electrode is suitable for application to a speaker, a touch panel, an actuator, and the like.

<積層体の製造方法>
積層体の製造方法の一例として、高分子圧電フィルムと、高分子圧電フィルムの両面に導電層及び保護フィルムに有する積層体の製造方法について説明する。
まず、高分子圧電フィルムを製造する。高分子圧電フィルムを製造する方法としては、例えば、既述の光学活性高分子を含む非晶状態のシートに対して結晶化及び延伸(いずれが先であってもよい)を施す方法が挙げられる。
<Method for producing laminate>
As an example of the manufacturing method of a laminated body, the manufacturing method of the polymeric piezoelectric film and the laminated body which has a conductive layer and a protective film on both surfaces of a polymeric piezoelectric film are demonstrated.
First, a polymer piezoelectric film is manufactured. Examples of a method for producing a polymer piezoelectric film include a method of crystallizing and stretching (any of which may be first) on an amorphous sheet containing the optically active polymer described above. .

また、非晶状態のシートとは、光学活性高分子(ヘリカルキラル高分子(A))単体又は光学活性高分子を含む混合物を、光学活性高分子の融点Tm以上の温度に加熱し、その後、急冷して得られたシートを示す。急冷する温度としては、例えば、50℃が挙げられる。   The non-crystalline sheet is an optically active polymer (helical chiral polymer (A)) alone or a mixture containing the optically active polymer heated to a temperature equal to or higher than the melting point Tm of the optically active polymer, The sheet obtained by rapid cooling is shown. An example of the rapid cooling temperature is 50 ° C.

高分子圧電フィルムを製造する方法において、高分子圧電フィルム(または非晶状態のシート)の原料としては、前記光学活性高分子(ポリ乳酸系高分子など)を1種単独で用いてもよいし、既述の光学活性高分子(ポリ乳酸系高分子など)の2種以上の混合物、または、既述の光学活性高分子の少なくとも1種とその他の成分の少なくとも1種との混合物を用いてもよい。
上述の混合物は、溶融混練して得られた混合物であることが好ましい。
具体的には、例えば、光学活性高分子を混合する場合や、1種類以上の光学活性高分子にその他の成分(例えば上述の無機フィラーや結晶核剤)を混合する場合は、混合する光学活性高分子を(必要に応じその他の成分とともに)、溶融混練機〔東洋精機社製、ラボプラストミキサー〕を用い、ミキサー回転数30rpm〜70rpm、180℃〜250℃の条件で、5分〜20分間溶融混練することで、複数種の光学活性高分子のブレンド体や光学活性高分子と無機フィラーなどの他の成分とのブレンド体を得ることができる。
In the method for producing a polymer piezoelectric film, the optically active polymer (polylactic acid polymer or the like) may be used alone as a raw material for the polymer piezoelectric film (or amorphous sheet). Using a mixture of two or more optically active polymers (such as polylactic acid-based polymers) described above, or a mixture of at least one optically active polymer described above and at least one other component Also good.
The above mixture is preferably a mixture obtained by melt kneading.
Specifically, for example, when mixing an optically active polymer, or when mixing other components (for example, the above-described inorganic filler and crystal nucleating agent) with one or more types of optically active polymer, the optical activity to be mixed The polymer (along with other components as required) is used for 5 to 20 minutes under the conditions of mixer rotation speed 30 rpm to 70 rpm, 180 ° C. to 250 ° C. using a melt kneader (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., Laboplast mixer). By melt-kneading, a blend of a plurality of types of optically active polymers or a blend of optically active polymers and other components such as inorganic fillers can be obtained.

また、高分子圧電フィルムは、光学活性高分子を含むシート(好ましくは非晶状態のシート)を主として1軸方向に延伸する工程と、アニール処理工程と、をこの順で含む製造方法によっても製造できる。   The polymer piezoelectric film is also manufactured by a manufacturing method including a step of stretching a sheet containing an optically active polymer (preferably an amorphous sheet) mainly in a uniaxial direction and an annealing treatment step in this order. it can.

また、高分子圧電フィルムは、高分子圧電フィルムと中間層との密着力をより向上させ、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性及び引裂強さをより向上させる観点から、高分子圧電フィルムに含まれる高分子のアクリル末端の比率を調整してもよい。
具体的には、高分子圧電フィルムは、20mgの前記高分子圧電フィルムを0.6mLの重水素化クロロホルムに溶解させた溶液についてH−NMRスペクトルを測定し、測定されたH−NMRスペクトルに基づき、下記式(X)により、前記高分子圧電フィルムに含まれる高分子のアクリル末端の比率を求めたときに、前記高分子のアクリル末端の比率が、2.0×10−5〜10.0×10−5であってもよい。
前記高分子のアクリル末端の比率 = 前記高分子のアクリル末端に由来するピークの積分値/前記高分子の主鎖中のメチンに由来するピークの積分値 ・・・ 式(X)
また、高分子圧電フィルムは、色相を調整するために、着色剤を少なくとも1種含有していてもよい。着色剤として、例えば、黄色味を補正するためのブルーイング剤が挙げられる。
In addition, the polymer piezoelectric film is included in the polymer piezoelectric film from the viewpoint of further improving the adhesion between the polymer piezoelectric film and the intermediate layer, and further improving the moisture heat resistance and tear strength of the polymer piezoelectric film. You may adjust the ratio of the acrylic terminal of the polymer to be prepared.
Specifically, the polymer piezoelectric film was obtained by measuring a 1 H-NMR spectrum of a solution obtained by dissolving 20 mg of the polymer piezoelectric film in 0.6 mL of deuterated chloroform, and measuring the measured 1 H-NMR spectrum. Based on the following formula (X), when the ratio of the acrylic terminal of the polymer contained in the polymer piezoelectric film is determined, the ratio of the acrylic terminal of the polymer is 2.0 × 10 −5 to 10 −10. It may be 0.0 × 10 −5 .
Ratio of acrylic end of the polymer = integral value of peak derived from acrylic end of polymer / integral value of peak derived from methine in the main chain of the polymer Formula (X)
The polymeric piezoelectric film may contain at least one colorant in order to adjust the hue. Examples of the colorant include a bluing agent for correcting yellowishness.

次に、高分子圧電フィルムの一方の主面上に導電層を形成する。
導電層は、公知の方法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法、電子線蒸着法、ゾル−ゲル法、ウェットコーティング法)により高分子圧電フィルム上に導電層を形成した後、パターン形成手段(マスキング、リソグラフィ等)を用いて、導電層の一部を酸やアルカリでエッチングして形成することができる。また、高分子圧電フィルムの一部をパターンマスクやメンディングテープ等でマスキングした上で、公知の方法で高分子圧電フィルムの一部に導電層をパターニングして形成することができる。また、パートコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などにより、導電層の材料を含む組成物を、高分子圧電フィルムに部分的に付与して形成することができる。
Next, a conductive layer is formed on one main surface of the polymer piezoelectric film.
After the conductive layer is formed on the polymer piezoelectric film by a known method (vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, CVD method, electron beam deposition method, sol-gel method, wet coating method) Using a pattern forming means (masking, lithography, etc.), a part of the conductive layer can be etched with acid or alkali. Moreover, after masking a part of the polymer piezoelectric film with a pattern mask, a mending tape, or the like, a conductive layer can be formed on a part of the polymer piezoelectric film by a known method. Moreover, the composition containing the material of the conductive layer can be partially applied to the polymer piezoelectric film by a part coat method, a screen printing method, a gravure printing method, or the like.

次に、高分子圧電フィルムの他方の主面上に保護フィルムを形成する。
保護フィルムは、例えば、ロールtoロール方式等の周知な方法により、導電層が設けられた高分子圧電フィルムとラミネートすることで形成することができる。
Next, a protective film is formed on the other main surface of the polymer piezoelectric film.
The protective film can be formed by, for example, laminating with a polymer piezoelectric film provided with a conductive layer by a known method such as a roll-to-roll method.

以下に実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって制限されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples.

<製造例1:高分子圧電フィルム(ポリ乳酸フィルム:PLAフィルム)の作製>
ヘリカルキラル高分子(A)として、NatureWorks LLC社製のポリ乳酸系高分子(品名:IngeoTM biopolymer、銘柄:4032D、重量平均分子量Mw:20万、融点(Tm):166℃、ガラス転移温度(Tg):57℃〜60℃)を用意した。そして、ポリ乳酸系高分子100質量部に対して、後述する添加剤X(安定化剤(B))を1.0質量部添加し、ドライブレンドし、原料を作製した。
作製した原料を押出成形機ホッパーに入れて、220℃〜230℃に加熱しながらTダイから押し出し、50℃のキャストロールに0.3分間接触させて、厚さ150μmの予備結晶化シートを製膜した(予備結晶化工程)。予備結晶化シートの結晶化度を測定したところ6%であった。
得られた予備結晶化シートを70℃に加熱しながらロールtoロールで、延伸速度3m/分で延伸を開始し、3.5倍までMD方向に一軸延伸した(延伸工程)。得られたフィルムの厚さは47.2μmであった。
その後、一軸延伸したフィルムを、ロールtoロールで、145℃に加熱したロール上に15秒間接触させアニール処理し、高分子圧電フィルムを作製した(アニール処理工程)。
<Production Example 1: Production of Polymer Piezoelectric Film (Polylactic Acid Film: PLA Film)>
As helical chiral polymer (A), NatureWorks LLC Corp. polylactic acid polymer (product name: Ingeo TM Biopolymer, brand: 4032D, weight average molecular weight Mw: 20 million in the melting point (Tm): 166 ° C., a glass transition temperature ( Tg): 57 ° C. to 60 ° C.) was prepared. And 1.0 mass part of additive X (stabilizer (B)) mentioned later was added with respect to 100 mass parts of polylactic acid-type polymers, and it dry-blended and produced the raw material.
The prepared raw material is put into an extrusion molding machine hopper, extruded from a T-die while being heated to 220 ° C. to 230 ° C., and brought into contact with a 50 ° C. cast roll for 0.3 minutes to produce a 150 μm thick pre-crystallized sheet. Filmed (pre-crystallization step). The crystallinity of the pre-crystallized sheet was measured and found to be 6%.
The obtained pre-crystallized sheet was stretched at a stretching speed of 3 m / min with a roll-to-roll while heating to 70 ° C., and uniaxially stretched in the MD direction up to 3.5 times (stretching step). The thickness of the obtained film was 47.2 μm.
Thereafter, the uniaxially stretched film was subjected to annealing treatment with a roll to roll on a roll heated to 145 ° C. for 15 seconds to produce a polymer piezoelectric film (annealing treatment step).

−添加剤X(安定化剤(B))−
添加剤Xとしては、ラインケミー社製Stabaxol P400(20質量部)、ラインケミー社製Stabaxol I(50質量部)、及び日清紡ケミカル社製カルボジライトLA−1(30質量部)の混合物を用いた。
上記混合物における各成分の詳細は以下のとおりである。
Stabaxol I :ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド(分子量(=重量平均分子量):363)
Stabaxol P400 :ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド)(重量平均分子量:20000)
カルボジライトLA−1 :ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)(重量平均分子量:約2000)
-Additive X (stabilizer (B))-
As additive X, a mixture of Stabaxol P400 (20 parts by mass) manufactured by Rhein Chemie, Stabaxol I (50 parts by mass) manufactured by Rhein Chemie, and Carbodilite LA-1 (30 parts by mass) manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd. was used.
The detail of each component in the said mixture is as follows.
Stabaxol I: bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide (molecular weight (= weight average molecular weight): 363)
Stabaxol P400: poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide) (weight average molecular weight: 20000)
Carbodilite LA-1: poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide) (weight average molecular weight: about 2000)

<ヘリカルキラル高分子(A)の物性測定>
上記ヘリカルキラル高分子(A)について、以下の方法で光学純度を測定した。また、既述の方法で重量平均分子量及び分子量分布を測定した。結果を表1に示す。
<Measurement of physical properties of helical chiral polymer (A)>
The optical purity of the helical chiral polymer (A) was measured by the following method. Moreover, the weight average molecular weight and molecular weight distribution were measured by the above-mentioned method. The results are shown in Table 1.

〔光学純度〕
上記高分子圧電フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)(ポリ乳酸)の光学純度を、以下のようにして測定した。
[Optical purity]
The optical purity of the helical chiral polymer (A) (polylactic acid) contained in the polymer piezoelectric film was measured as follows.

まず、50mLの三角フラスコに1.0gのサンプル(上記高分子圧電フィルム)を秤り込み、ここに、IPA(イソプロピルアルコール)2.5mL及び5.0mol/L水酸化ナトリウム溶液5mLを加え、サンプル溶液とした。
次に、このサンプル溶液が入った三角フラスコを温度40℃の水浴に入れ、ポリ乳酸が完全に加水分解するまで、約5時間攪拌した。
上記約5時間の撹拌後のサンプル溶液を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸溶液を20mL加えて中和し、三角フラスコを密栓してよくかき混ぜた。
次に、上記でかき混ぜたサンプル溶液の1.0mLを25mLのメスフラスコに取り分け、ここに下記組成の移動相を加え、25mLのHPLC試料溶液1を得た。
得られたHPLC試料溶液1をHPLC装置に5μL注入し、下記HPLC測定条件にてHPLC測定を行った。得られた測定結果から、ポリ乳酸のD体に由来するピークの面積とポリ乳酸のL体に由来するピークの面積とを求め、L体の量とD体の量とを算出した。得られた結果に基づき、光学純度(%ee)を求めた。
その結果、光学純度は、97.0%eeであった。なお、下記表1において、「LA」はポリ乳酸を表す。
−HPLC測定条件−
・カラム
光学分割カラム、(株)住化分析センター製 SUMICHIRAL OA5000
・HPLC装置
日本分光社製 液体クロマトグラフィ
・カラム温度
25℃
・移動相の組成
1.0mM−硫酸銅(II)緩衝液/IPA=98/2(V/V)
(この移動相において、硫酸銅(II)、IPA、及び水の比率は、硫酸銅(II)/IPA/水=156.4mg/20mL/980mLである。)
・移動相流量
1.0mL/分
・検出器
紫外線検出器(UV254nm)
First, 1.0 g sample (the above-mentioned polymer piezoelectric film) is weighed into a 50 mL Erlenmeyer flask, and 2.5 mL of IPA (isopropyl alcohol) and 5 mL of 5.0 mol / L sodium hydroxide solution are added to the sample. It was set as the solution.
Next, the Erlenmeyer flask containing the sample solution was placed in a water bath at a temperature of 40 ° C. and stirred for about 5 hours until the polylactic acid was completely hydrolyzed.
The sample solution after stirring for about 5 hours was cooled to room temperature, neutralized by adding 20 mL of 1.0 mol / L hydrochloric acid solution, and the Erlenmeyer flask was sealed and mixed well.
Next, 1.0 mL of the sample solution stirred above was placed in a 25 mL volumetric flask, and a mobile phase having the following composition was added thereto to obtain 25 mL of HPLC sample solution 1.
5 μL of the obtained HPLC sample solution 1 was injected into the HPLC apparatus, and HPLC measurement was performed under the following HPLC measurement conditions. From the obtained measurement results, the area of the peak derived from the D-form of polylactic acid and the area of the peak derived from the L-form of polylactic acid were determined, and the amount of L-form and the amount of D-form were calculated. Based on the obtained results, the optical purity (% ee) was determined.
As a result, the optical purity was 97.0% ee. In Table 1 below, “LA” represents polylactic acid.
-HPLC measurement conditions-
・ Column Optical resolution column, SUMICHIRAL OA5000 manufactured by Sumika Chemical Analysis Co., Ltd.
・ HPLC equipment: JASCO Corporation liquid chromatography column temperature: 25 ℃
-Composition of mobile phase 1.0 mM-copper (II) sulfate buffer / IPA = 98/2 (V / V)
(In this mobile phase, the ratio of copper (II) sulfate, IPA, and water is copper (II) sulfate / IPA / water = 156.4 mg / 20 mL / 980 mL).
・ Mobile phase flow rate 1.0mL / min ・ Detector UV detector (UV254nm)

<高分子圧電フィルムの物性測定>
上記高分子圧電フィルムについて、以下の方法で、融点Tm、結晶化度及び内部ヘイズを測定した。また、既述の方法で圧電定数(応力−電荷法)及び規格化分子配向MORcを測定した。結果を表1に示す。
<Measurement of physical properties of polymer piezoelectric film>
About the said polymeric piezoelectric film, melting | fusing point Tm, crystallinity, and internal haze were measured with the following method. In addition, the piezoelectric constant (stress-charge method) and the normalized molecular orientation MORc were measured by the methods described above. The results are shown in Table 1.

〔融点Tm及び結晶化度〕
高分子圧電フィルムを10mg正確に秤量し、示差走査型熱量計(パーキンエルマー社製DSC−1)を用い、昇温速度10℃/分の条件で測定し、融解吸熱曲線を得た。得られた融解吸熱曲線から、融点Tm及び結晶化度を得た。
[Melting point Tm and crystallinity]
10 mg of the polymer piezoelectric film was accurately weighed and measured using a differential scanning calorimeter (DSC-1 manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd.) at a temperature rising rate of 10 ° C./min to obtain a melting endotherm curve. The melting point Tm and the crystallinity were obtained from the obtained melting endotherm curve.

〔内部ヘイズ〕
以下の方法により、高分子圧電フィルムの内部ヘイズ(以下、内部ヘイズ(H1)ともいう)を得た。
まず、ガラス板2枚の間に、シリコーンオイル(信越化学工業株式会社製信越シリコーン(商標)、型番:KF96−100CS)のみを挟んだ積層体を準備し、この積層体の厚さ方向のヘイズ(以下、ヘイズ(H2)とする)を測定した。
次に、上記のガラス板2枚の間に、シリコーンオイルで表面を均一に塗らした上記高分子圧電フィルムを挟んだ積層体を準備し、この積層体の厚さ方向のヘイズ(以下、ヘイズ(H3)とする)を測定した。
次に、下記式のようにこれらの差をとることにより、高分子圧電フィルムの内部ヘイズ(H1)を得た。
内部ヘイズ(H1)=ヘイズ(H3)−ヘイズ(H2)
[Internal haze]
The internal haze (hereinafter also referred to as internal haze (H1)) of the polymer piezoelectric film was obtained by the following method.
First, a laminate in which only a silicone oil (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Shin-Etsu Silicone (trademark), model number: KF96-100CS) is sandwiched between two glass plates is prepared, and the haze in the thickness direction of the laminate is prepared. (Hereinafter referred to as haze (H2)) was measured.
Next, a laminate in which the polymer piezoelectric film having a surface uniformly coated with silicone oil is sandwiched between the two glass plates is prepared, and a haze in the thickness direction of the laminate (hereinafter, haze ( H3)) was measured.
Next, the internal haze (H1) of the polymer piezoelectric film was obtained by taking these differences as in the following formula.
Internal haze (H1) = Haze (H3) -Haze (H2)

ここで、ヘイズ(H2)及びヘイズ(H3)の測定は、それぞれ、下記測定条件下で下記装置を用いて行った。
測定装置:東京電色社製、HAZE METER TC−HIIIDPK
試料サイズ:幅30mm×長さ30mm
測定条件:JIS−K7105に準拠
測定温度:室温(25℃)
Here, the measurement of haze (H2) and haze (H3) was respectively performed using the following apparatus under the following measurement conditions.
Measuring device: manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., HAZE METER TC-HIIIDPK
Sample size: 30mm width x 30mm length
Measurement conditions: Conforms to JIS-K7105 Measurement temperature: Room temperature (25 ° C.)

<実施例1>
製造例1で作製した高分子圧電フィルムの一方の主面に対し、酸化スズを36質量%含有した酸化インジウムをターゲットとしてロールtoロールでスパッタリングを行い、高分子圧電フィルムの一方の主面の一部に実厚み15nm、屈折率1.95のITO層を導電層(電極)として形成した。
更に、導電層を形成した面とは反対の高分子圧電フィルムの主面に対し、ラミネータ―を用いたロールtoロールで、保護フィルム(株式会社サンエー化研製PAC−3−70:基材(LDPE層(低密度ポリエチレン樹脂層))/粘着層(EVA層)で構成されたフィルム)を貼り合わせて、導電層/高分子圧電フィルム/保護フィルムで構成される積層体を作製した。
<Example 1>
One main surface of the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 is sputtered by roll-to-roll using indium oxide containing 36% by mass of tin oxide as a target, and one main surface of the polymer piezoelectric film is obtained. An ITO layer having an actual thickness of 15 nm and a refractive index of 1.95 was formed as a conductive layer (electrode) on the part.
Furthermore, the main surface of the polymer piezoelectric film opposite to the surface on which the conductive layer is formed is a roll-to-roll using a laminator, and a protective film (PAC-3-70 manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd .: substrate (LDPE Layer (low density polyethylene resin layer)) / adhesive layer (EVA layer)) was laminated to produce a laminate composed of conductive layer / polymer piezoelectric film / protective film.

<実施例2>
保護フィルムを、株式会社サンエー化研製PAC−3−30(基材(PP層(ポリプロピレン樹脂層))/粘着層(EVA層)で構成されたフィルム)に変更した以外は、実施例1と同様にして導電層/高分子圧電フィルム/保護フィルムで構成される積層体を作製した。
<Example 2>
The same as in Example 1 except that the protective film was changed to PAC-3-30 (film composed of a base material (PP layer (polypropylene resin layer)) / adhesive layer (EVA layer)) manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd. Thus, a laminate composed of a conductive layer / polymer piezoelectric film / protective film was produced.

<実施例3>
保護フィルムを、株式会社サンエー化研製PAC−3−50THK(基材(LDPE層)/粘着層(特殊PO層(特殊ポリオレフィン樹脂層))で構成されたフィルム)に変更した以外は、実施例1と同様にして導電層/高分子圧電フィルム/保護フィルムで構成される積層体を作製した。
<Example 3>
Example 1 except that the protective film was changed to PAC-3-50THK (film made of base material (LDPE layer) / adhesive layer (special PO layer (special polyolefin resin layer))) manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd. In the same manner, a laminate composed of a conductive layer / polymer piezoelectric film / protective film was produced.

<比較例1>
保護フィルムを貼り合さなかった以外は、実施例1と同様にして導電層/高分子圧電フィルムで構成される積層体を作製した。
<Comparative Example 1>
A laminate composed of a conductive layer / polymer piezoelectric film was produced in the same manner as in Example 1 except that the protective film was not bonded.

<実施例4:屈折率調整層を有する積層体の作製>
固形分として、平均粒子径が0.02μmの酸化ジルコニウム微粒子を58質量%、ウレタンアクリレート(日本合成化学工業株式会社製、紫光UV7600B)42質量%及び光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式社製、IRGACURE 184)5質量%を混合した後、メチルエチルケトンで上記固形分が10質量%になるように希釈し、屈折率調整層用塗工液を調製した。
酸化ジルコニウム微粒子としては、酸化ジルコニウム微粒子の分散液(シーアイ化成株式会社製ZRMEK25%−F47)を使用し、固形分が上記質量部になるように分散液を混合した。
<Example 4: Production of a laminate having a refractive index adjusting layer>
As solid content, 58% by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle size of 0.02 μm, 42% by mass of urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Purple Light UV7600B), and a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Manufactured by IRGACURE 184) was mixed with 5% by mass, and diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content was 10% by mass, to prepare a coating solution for refractive index adjustment layer.
As the zirconium oxide fine particles, a dispersion of zirconium oxide fine particles (ZRMEK 25% -F47 manufactured by CI Kasei Co., Ltd.) was used, and the dispersion was mixed so that the solid content was the above-mentioned parts by mass.

次に、製造例1で作製した高分子圧電フィルムの一方の主面(導電層を形成する側の主面)に、上記屈折率調整層用塗工液をロールコーター(ライン速度10m/分)で塗布し、80℃に設定した乾燥炉を通過させて溶媒を乾燥後、メタルハライドランプで積算光量500mJ/cmの紫外線を照射することで厚さ100nmの屈折率調整層を形成した以外は、実施例1と同様にして、導電層/屈折率調整層/高分子圧電フィルム/保護フィルムで構成される積層体を作製した。 Next, the refractive index adjusting layer coating solution is applied to one main surface (main surface on which the conductive layer is formed) of the polymer piezoelectric film prepared in Production Example 1 using a roll coater (line speed: 10 m / min). Except that the refractive index adjustment layer having a thickness of 100 nm is formed by irradiating with a metal halide lamp an ultraviolet ray with an integrated light quantity of 500 mJ / cm 2 after passing through a drying oven set at 80 ° C. and drying the solvent. In the same manner as in Example 1, a laminate composed of conductive layer / refractive index adjusting layer / polymer piezoelectric film / protective film was produced.

<実施例5:屈折率調整層、及びアンチブロックハードコート層を有する積層体の作製>
屈折率調整層を形成する前の高分子圧電フィルムの両主面に以下の手順でアンチブロックハードコート層を形成した後に、屈折率調整層を形成した以外は、実施例4と同様にして、導電層/屈折率調整層/アンチブロックハードコート層/高分子圧電フィルム/アンチブロックハードコート層/保護フィルムで構成される積層体を作製した。
<Example 5: Production of a laminate having a refractive index adjusting layer and an anti-block hard coat layer>
Except for forming the refractive index adjustment layer after forming the anti-block hard coat layer on both main surfaces of the polymer piezoelectric film before forming the refractive index adjustment layer by the following procedure, A laminate composed of conductive layer / refractive index adjusting layer / anti-block hard coat layer / polymer piezoelectric film / anti-block hard coat layer / protective film was prepared.

−アンチブロックハードコート層の形成−
アンチブロックハードコート層は、高分子圧電フィルムの一方の主面に、アクリル樹脂系塗工液(東洋インキ製、アンチブロックハードコートLIODURAS TYAB−014)をロールコーター(ライン速度10m/分)で塗布し、80℃に設定した乾燥炉を通過させて、溶媒を乾燥後、メタルハライドランプで積算光量1000mJ/cmの紫外線を照射することで形成した。アンチブロックハードコート層の厚さは2μmであった。この工程を高分子圧電フィルムの他方の主面に対しても行い、高分子圧電フィルムの他方の主面にアンチブロックハードコート層を形成した。
-Formation of anti-block hard coat layer-
The anti-block hard coat layer is coated on one main surface of the polymer piezoelectric film with an acrylic resin coating liquid (manufactured by Toyo Ink, anti-block hard coat LIODURAS TYAB-014) with a roll coater (line speed 10 m / min). Then, after passing through a drying furnace set at 80 ° C. to dry the solvent, the film was formed by irradiating with a metal halide lamp an ultraviolet ray with an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 . The thickness of the anti-block hard coat layer was 2 μm. This process was also performed on the other main surface of the polymer piezoelectric film to form an anti-block hard coat layer on the other main surface of the polymer piezoelectric film.

<特性>
各例で製造した積層体について、積層体(保護フィルムを剥離した積層体)の150℃30分間加熱後の熱収縮率差(MD方向の熱収縮率差、及びTD方向の熱収縮率差)を既述の方法に従った測定した。その結果を表2に示す。
<Characteristic>
About the laminated body manufactured in each example, the thermal shrinkage difference after heating the laminated body (laminated body with the protective film peeled off) at 150 ° C. for 30 minutes (thermal shrinkage difference in MD direction and thermal shrinkage ratio in TD direction) Was measured according to the method described above. The results are shown in Table 2.

<評価>
〔ラミネート評価〕
透明両面粘着テープ(日東電工社製LUCIACS CS9661TS、構成:離型フィルム/粘着層(25μm)/離型フィルム)の一方の離型フィルムを剥離しながら、各例で製造した積層体の導電層側に対して、ラミネータ―を用い、ロールtoロールで、一方の離型フィルムを剥離した透明両面粘着テープを貼り合わせた。
同様にして、各例で製造した積層体の導電層とは反対面側の保護フィルムを剥離しながら、かつ透明両面粘着テープの一方の離型フィルムを剥離しながら、積層体の導電層とは反対面側に対して、ラミネータ―を用い、ロールtoロールで、一方の離型フィルムを剥離した透明両面粘着テープを貼り合わせた。
以上により、離型フィルム/粘着層/積層体本体/粘着層/離型フィルムの評価用積層体を得た。
<Evaluation>
[Lamination evaluation]
Conductive layer side of the laminate manufactured in each example while peeling one release film of transparent double-sided adhesive tape (LUCIACS CS9661TS manufactured by Nitto Denko Corporation, composition: release film / adhesive layer (25 μm) / release film) On the other hand, using a laminator, a transparent double-sided pressure-sensitive adhesive tape from which one release film was peeled off was bonded by roll-to-roll.
Similarly, while peeling off the protective film on the side opposite to the conductive layer of the laminate produced in each example, and peeling off one release film of the transparent double-sided adhesive tape, what is the conductive layer of the laminate? A transparent double-sided pressure-sensitive adhesive tape from which one release film was peeled off was attached to the opposite surface side using a roll-to-roll using a laminator.
Thus, a laminate for evaluation of release film / adhesive layer / laminate body / adhesive layer / release film was obtained.

この評価用積層体1m中の目視検査を実施し、以下の基準で評価を行った。結果を表1に示す。
A:積層体と粘着層の間に巻き込まれた埃等の異物の数が3個/m以下
B:積層体と粘着層の間に巻き込まれた埃等の異物の数が4個/m以上、100個未満
C:積層体と粘着層の間に巻き込まれた埃等の異物の数が100個/m以上
A visual inspection was conducted in the evaluation laminate 1m 2 and the evaluation was performed according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: The number of foreign matters such as dust caught between the laminate and the adhesive layer is 3 / m 2 or less B: The number of foreign matters such as dust caught between the laminate and the adhesive layer is 4 / m 2 2 or more and less than 100 C: The number of foreign matters such as dust caught between the laminate and the adhesive layer is 100 / m 2 or more

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、ラミネート評価が良好であり、積層体と粘着層の間に、埃等の異物が巻き込まれることが抑制されることがわかる。これにより、本実施例の積層体は、押圧検出装置やそれを利用したデバイスを製造する際、中間工程での異物の巻き込みによる最終製品収率低下を抑制できることがわかる。   From the above results, it can be seen that in this example, the laminate evaluation is better than that of the comparative example, and foreign matter such as dust is suppressed from being caught between the laminate and the adhesive layer. Thereby, it turns out that the laminated body of a present Example can suppress the final product yield fall by the inclusion of the foreign material in an intermediate process, when manufacturing a press detection apparatus and a device using the same.

10 高分子圧電フィルム
12A 中間層(機能層)
12B 中間層(機能層)
14A 電極(導電層)
14B 電極(導電層)
16 保護フィルム
18A 引き出し電極
18B 引き出し電極
20A 粘着層
20B 粘着層
22A 離型フィルム
22B 離型フィルム
24 基材
10 Polymer piezoelectric film 12A Intermediate layer (functional layer)
12B Intermediate layer (functional layer)
14A electrode (conductive layer)
14B electrode (conductive layer)
16 Protective film 18A Lead electrode 18B Lead electrode 20A Adhesive layer 20B Adhesive layer 22A Release film 22B Release film 24 Base material

Claims (11)

重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと前記結晶化度との積が40〜700である高分子圧電フィルムと、
前記高分子圧電フィルムの一方の主面上に設けられた導電層と、
前記高分子圧電フィルムの他方の主面上に設けられた剥離可能な保護フィルムと、
を有する積層体。
Including a helical chiral polymer (A) having an optical activity with a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, crystallinity obtained by DSC method of 20% to 80%, and microwave transmission molecular orientation A polymer piezoelectric film in which the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is 40 to 700 when the reference thickness measured by the meter is 50 μm;
A conductive layer provided on one main surface of the polymer piezoelectric film;
A peelable protective film provided on the other main surface of the polymer piezoelectric film;
A laminate having
前記導電層が、パターニングされている請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the conductive layer is patterned. 前記高分子圧電フィルムと前記保護フィルムとの間、及び、前記高分子圧電フィルムと前記導電層の間の少なくとも一方に、機能層を有する請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の積層体。   3. The functional layer according to claim 1, further comprising a functional layer between at least one of the polymer piezoelectric film and the protective film and between the polymer piezoelectric film and the conductive layer. Laminated body. 前記機能層が、屈折率調整層、易接着層、ハードコート層、帯電防止層、及びアンチブロック層の少なくとも1つである請求項3に記載の積層体。   The laminate according to claim 3, wherein the functional layer is at least one of a refractive index adjusting layer, an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and an antiblock layer. 前記保護フィルムを剥離した積層体の150℃30分間加熱したときの熱収縮率が、MD方向及びTD方向共に2.0%以下である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の積層体。   The thermal contraction rate when the laminated body from which the protective film has been peeled is heated at 150 ° C for 30 minutes is 2.0% or less in both the MD direction and the TD direction. Laminated body. 前記導電層が、透明導電層である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の積層体。   The said conductive layer is a transparent conductive layer, The laminated body of any one of Claims 1-5. 前記高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが5%以下であり、かつ、25℃において応力−電荷法で測定した圧電定数d14が1pC/N以上である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の積層体。 The piezoelectric polymer film is 5% or less internal haze to visible light, and, 25 ° C. In the stress - of claims 1 to 6 piezoelectric constant d 14 measured by the charge method is 1 pC / N or more The laminated body of any one of Claims. 前記ヘリカルキラル高分子(A)が、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有するポリ乳酸系高分子である、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の積層体。

The said helical chiral polymer (A) is a polylactic acid-type polymer which has a principal chain containing the repeating unit represented by following formula (1), It is any one of Claims 1-7. Laminated body.

前記ヘリカルキラル高分子(A)は、光学純度が95.00%ee以上である請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の積層体。   The laminated body according to any one of claims 1 to 8, wherein the helical chiral polymer (A) has an optical purity of 95.00% ee or higher. 前記ヘリカルキラル高分子(A)の含有量が、80質量%以上である請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の積層体。   Content of the said helical chiral polymer (A) is 80 mass% or more, The laminated body of any one of Claims 1-9. 前記高分子圧電フィルムが、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、前記ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜10質量部含む請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の積層体。   The polymer piezoelectric film comprises a stabilizer (B) having a weight average molecular weight of 200 to 60,000 having at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. The laminate according to any one of claims 1 to 10, comprising 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the molecule (A).
JP2014213718A 2014-10-20 2014-10-20 laminate Pending JP2015186910A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014213718A JP2015186910A (en) 2014-10-20 2014-10-20 laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014213718A JP2015186910A (en) 2014-10-20 2014-10-20 laminate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015186910A true JP2015186910A (en) 2015-10-29

Family

ID=54429463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014213718A Pending JP2015186910A (en) 2014-10-20 2014-10-20 laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015186910A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017209082A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Piezoelectric sensor and display using said piezoelectric sensor
JP2017216450A (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Piezoelectric film
JP2017215960A (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Touch sensor
WO2017209084A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Touch sensor
JP2017215319A (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Piezoelectric sensor and display using piezoelectric sensor
WO2018101359A1 (en) * 2016-11-30 2018-06-07 株式会社ユポ・コーポレーション Piezoelectric element and musical instrument
CN108886090A (en) * 2016-03-28 2018-11-23 大金工业株式会社 Bimorph type piezoelectric film
WO2020159874A1 (en) * 2019-01-28 2020-08-06 C3Nano Inc. Thin flexible structures with surfaces with transparent conductive films and processes for forming the structures
WO2021049180A1 (en) * 2019-09-13 2021-03-18 株式会社ジャパンディスプレイ Piezoelectric sensor and method for manufacturing piezoelectric sensor
CN115362059A (en) * 2020-04-02 2022-11-18 株式会社吴羽 Laminated film, method for producing same, and use thereof

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108886090A (en) * 2016-03-28 2018-11-23 大金工业株式会社 Bimorph type piezoelectric film
CN108886090B (en) * 2016-03-28 2022-10-18 大金工业株式会社 Bimorph type piezoelectric film
KR102365236B1 (en) * 2016-05-30 2022-02-18 닛토덴코 가부시키가이샤 A piezoelectric sensor and a display using the piezoelectric sensor
WO2017209082A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Piezoelectric sensor and display using said piezoelectric sensor
JP2017216450A (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Piezoelectric film
JP7050426B2 (en) 2016-05-30 2022-04-08 日東電工株式会社 Piezoelectric sensor and display using the piezoelectric sensor
JP2017215960A (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Touch sensor
CN109196452A (en) * 2016-05-30 2019-01-11 日东电工株式会社 touch sensor
CN109196321A (en) * 2016-05-30 2019-01-11 日东电工株式会社 Piezoelectric transducer and the display for having used the piezoelectric transducer
KR20190012142A (en) * 2016-05-30 2019-02-08 닛토덴코 가부시키가이샤 Piezoelectric sensor and display using the piezoelectric sensor
KR20190013700A (en) * 2016-05-30 2019-02-11 닛토덴코 가부시키가이샤 Touch sensor
CN109196452B (en) * 2016-05-30 2022-03-22 日东电工株式会社 Touch sensor
JP2017215319A (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Piezoelectric sensor and display using piezoelectric sensor
WO2017209084A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 日東電工株式会社 Touch sensor
KR102342378B1 (en) * 2016-05-30 2021-12-22 닛토덴코 가부시키가이샤 touch sensor
TWI746560B (en) * 2016-05-30 2021-11-21 日商日東電工股份有限公司 Touch sensor
US11176918B2 (en) 2016-11-30 2021-11-16 Yupo Corporation Piezoelectric element and musical instrument
JPWO2018101359A1 (en) * 2016-11-30 2019-10-24 株式会社ユポ・コーポレーション Piezoelectric element and musical instrument
WO2018101359A1 (en) * 2016-11-30 2018-06-07 株式会社ユポ・コーポレーション Piezoelectric element and musical instrument
US11910525B2 (en) 2019-01-28 2024-02-20 C3 Nano, Inc. Thin flexible structures with surfaces with transparent conductive films and processes for forming the structures
WO2020159874A1 (en) * 2019-01-28 2020-08-06 C3Nano Inc. Thin flexible structures with surfaces with transparent conductive films and processes for forming the structures
JP2021043171A (en) * 2019-09-13 2021-03-18 株式会社ジャパンディスプレイ Piezoelectric sensor and manufacturing method therefor
JP7336327B2 (en) 2019-09-13 2023-08-31 株式会社ジャパンディスプレイ Piezoelectric sensor and method for manufacturing piezoelectric sensor
WO2021049180A1 (en) * 2019-09-13 2021-03-18 株式会社ジャパンディスプレイ Piezoelectric sensor and method for manufacturing piezoelectric sensor
CN115362059A (en) * 2020-04-02 2022-11-18 株式会社吴羽 Laminated film, method for producing same, and use thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015186910A (en) laminate
JP6101813B2 (en) Press detection device and press detection touch panel
JP6278947B2 (en) Laminate
JP2015186909A (en) laminate
JP6591041B2 (en) Laminated body
JP5933845B2 (en) Laminated body
JP6487178B2 (en) Laminate
JP6509876B2 (en) Polymer piezoelectric film
JP6408124B2 (en) Film wound layer and manufacturing method thereof
JP2015186908A (en) laminate
JP6328274B2 (en) Laminate
JP2019026691A (en) High molecule piezoelectric film and manufacturing method therefor, piezoelectric film piece and manufacturing method therefor, laminate and piezoelectric element