JP6408124B2 - Film wound layer and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、高分子圧電フィルムを有するフィルム巻層体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a film wound body having a polymer piezoelectric film and a method for producing the same.

近年、光学活性を有する脂肪族系ポリエステル(例えばポリ乳酸系高分子)を用いた高分子圧電材料が報告されている。
例えば、ポリ乳酸の成型物を延伸処理することで、常温で、10pC/N程度の圧電率を示す高分子圧電材料が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
また、ポリ乳酸結晶を高配向にするために、鍛造法と呼ばれる特殊な配向方法により18pC/N程度の高い圧電性を出すことも報告されている(例えば、特許文献2参照)。
特許文献1:特開平5−152638号公報
特許文献2:特開2005−213376号公報
In recent years, polymer piezoelectric materials using optically active aliphatic polyesters (for example, polylactic acid polymers) have been reported.
For example, a polymer piezoelectric material that exhibits a piezoelectric constant of about 10 pC / N at room temperature by stretching a molded product of polylactic acid has been disclosed (for example, see Patent Document 1).
In addition, in order to make polylactic acid crystals highly oriented, it has also been reported that high piezoelectricity of about 18 pC / N is obtained by a special orientation method called a forging method (see, for example, Patent Document 2).
Patent Document 1: JP-A-5-152638 Patent Document 2: JP-A-2005-213376

ところで、高分子圧電体上には、高分子圧電体の保護や、高分子圧電体と他の部材(高分子フィルム、ガラス、電極等)との接着等を目的として、少なくとも一部が高分子圧電体に接触する層を設ける場合がある。かかる層としては、接着層が用いられる場合がある。
また、高分子圧電体を利用して実際にセンサやアクチュエータをデバイスとして製造する際、工業的にはロールトゥロールでの連続プロセスを採用することが生産性の観点から好ましい。そのためには高分子圧電体が長尺で巻き取られた回巻体(ロール体)を供給する必要がある。この時、高分子圧電体のロール体が接着層を備えていれば、後工程で接着層を形成する必要が無く、工程の簡略化が可能である。さらに、接着層を形成した状態でロールトゥロールでの連続プロセスを採用することができるため、デバイスを製造するまでのトータルの生産性が向上する。
ここで、ロールトゥロールの連続プロセスでは、ロール間の高分子圧電体にたわみが生じないようにする必要があり、高分子圧電体には工程の流れ方向(MD方向)に向かって張力が発生する。さらに、ポリ乳酸などの脂肪族系ポリエステル(ヘリカルキラル高分子)を含む高分子圧電体は耐熱性が低く、高分子圧電体に接着層を形成する工程で熱がかかると、張力によって高分子圧電体に伸びが生じ、高分子圧電体の寸法変化率を悪化させることがあり、あるいは、熱によりポリ乳酸などの脂肪族系ポリエステルが分解され、高分子圧電体の耐湿熱性を悪化させることがある。
また、高分子圧電体に圧電性を発現させるためには、分子鎖を一方向に配向させることが好ましいが、配向方向に引裂け易いという問題がある。
そのため、寸法変化率が悪化し、かつ、分子鎖が主に一方向に配向した高分子圧電体をデバイスとして利用しようとしたとき、高分子圧電体と積層する他部材との収縮差によって高分子圧電体にクラックが生じるおそれがある。
By the way, on the polymer piezoelectric material, at least a part of the polymer piezoelectric material is used for the purpose of protecting the polymer piezoelectric material or bonding the polymer piezoelectric material to another member (polymer film, glass, electrode, etc.). In some cases, a layer in contact with the piezoelectric body is provided. An adhesive layer may be used as such a layer.
Further, when a sensor or an actuator is actually manufactured as a device using a polymer piezoelectric material, it is industrially preferable to adopt a roll-to-roll continuous process from the viewpoint of productivity. For this purpose, it is necessary to supply a wound body (roll body) in which a polymer piezoelectric body is wound in a long length. At this time, if the roll body of the polymer piezoelectric body has an adhesive layer, it is not necessary to form the adhesive layer in a subsequent process, and the process can be simplified. Furthermore, since a continuous process by roll-to-roll can be employed in a state where the adhesive layer is formed, the total productivity until the device is manufactured is improved.
Here, in the roll-to-roll continuous process, it is necessary to prevent bending of the polymer piezoelectric material between the rolls, and tension is generated in the polymer piezoelectric material in the process flow direction (MD direction). To do. Furthermore, polymer piezoelectric materials containing aliphatic polyesters (helical chiral polymers) such as polylactic acid have low heat resistance, and when heat is applied in the process of forming an adhesive layer on the polymer piezoelectric material, the polymer piezoelectric material is subjected to tension. The body may be stretched and the dimensional change rate of the polymer piezoelectric material may be deteriorated, or the aliphatic polyester such as polylactic acid may be decomposed by heat to deteriorate the heat and moisture resistance of the polymer piezoelectric material. .
Further, in order to develop piezoelectricity in the polymer piezoelectric material, it is preferable to align the molecular chain in one direction, but there is a problem that it is easy to tear in the alignment direction.
For this reason, when trying to use as a device a polymer piezoelectric body in which the dimensional change rate is deteriorated and the molecular chain is mainly oriented in one direction, the polymer due to the shrinkage difference between the polymer piezoelectric body and the other member laminated. There is a risk of cracks in the piezoelectric body.

本発明者は、鋭意検討の結果、ポリエステル(ヘリカルキラル高分子)を含む高分子圧電体と接着層等の機能層とを有する積層フィルムをロール状に巻回してなるフィルム巻層体では、ヘリカルキラル高分子を含む高分子圧電体の寸法変化率を小さくすることで、加熱したときの高分子圧電フィルムへのクラックの発生が抑制され、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性が向上することを見出した。   As a result of diligent study, the present inventor has found that in a film wound layer obtained by winding a laminated film having a polymer piezoelectric material containing polyester (helical chiral polymer) and a functional layer such as an adhesive layer in a roll shape, By reducing the dimensional change rate of a piezoelectric polymer containing a chiral polymer, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the polymer piezoelectric film when heated, and to improve the moisture and heat resistance of the polymer piezoelectric film. I found it.

本発明は上記に鑑みなされたものであり、加熱したときの高分子圧電フィルムへのクラックの発生が抑制され、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性に優れるフィルム巻層体及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and provides a film wound layer body that suppresses the occurrence of cracks in a polymer piezoelectric film when heated and is excellent in moisture and heat resistance of the polymer piezoelectric film, and a method for producing the same. The purpose is to do.

前記課題を達成するための具体的手段は、例えば以下の通りである。
<1> 重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと前記結晶化度との積が40〜700である高分子圧電フィルムと、前記高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面上に設けられた機能層(X)と、を有する積層フィルムがロール状に巻回してなり、前記積層フィルムから前記機能層(X)を除去して得られた前記高分子圧電フィルムを、100℃で30分間加熱したときの寸法変化率が、MD方向に1.0%以下であるフィルム巻層体。
<2> 前記機能層(X)の酸価は、10mgKOH/g以下である<1>に記載のフィルム巻層体。
<3> 前記機能層(X)は、接着層である<1>又は<2>に記載のフィルム巻層体。
<4> 前記機能層(X)の酸価は、0.01mgKOH/g以上である<1>〜<3>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<5> 前記機能層(X)中の全窒素量は、0.05質量%〜10質量%である、<1>〜<4>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<6> 前記機能層(X)は、前記高分子圧電フィルムに接触している<1>〜<5>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<7> 前記積層フィルムは、前記高分子圧電フィルムと前記機能層(X)との間に、屈折率調整層、易接着層、ハードコート層、帯電防止層、及びアンチブロック層の少なくとも1つの層を有する<1>〜<6>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<8> 前記高分子圧電フィルムは、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、前記ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜10質量部含む<1>〜<7>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<9> 前記安定化剤(B)は、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)と、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を1分子内に2以上有する重量平均分子量が1000〜60000の安定化剤(B2)と、を含む<8>に記載のフィルム巻層体。
<10> 前記高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが50%以下であり、かつ、25℃において応力−電荷法で測定した圧電定数d14が1pC/N以上である<1>〜<9>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<11> 前記高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが13%以下であり、かつ、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、前記ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜2.8質量部含む<1>〜<10>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<12> 前記ヘリカルキラル高分子(A)は、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有するポリ乳酸系高分子である<1>〜<11>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
Specific means for achieving the above object are as follows, for example.
<1> A helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, crystallinity obtained by DSC method of 20% to 80%, and microwave transmission A polymer piezoelectric film in which the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is 40 to 700 when the standard thickness measured by a type molecular orientation meter is 50 μm, and at least one of the polymer piezoelectric films The polymer piezoelectric film obtained by removing the functional layer (X) from the laminated film, the laminated film having a functional layer (X) provided on the main surface of the laminated film wound in a roll shape The film winding layered body whose dimensional change rate when heated at 100 ° C. for 30 minutes is 1.0% or less in the MD direction.
<2> The film wound layer according to <1>, wherein the acid value of the functional layer (X) is 10 mgKOH / g or less.
<3> The film layered product according to <1> or <2>, wherein the functional layer (X) is an adhesive layer.
<4> The wound film layer according to any one of <1> to <3>, wherein the acid value of the functional layer (X) is 0.01 mgKOH / g or more.
<5> The film winding layer body according to any one of <1> to <4>, wherein the total nitrogen amount in the functional layer (X) is 0.05% by mass to 10% by mass.
<6> The film wound layer according to any one of <1> to <5>, wherein the functional layer (X) is in contact with the polymer piezoelectric film.
<7> The laminated film includes at least one of a refractive index adjusting layer, an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and an antiblock layer between the polymer piezoelectric film and the functional layer (X). The film winding layered body according to any one of <1> to <6>, having a layer.
<8> The polymer piezoelectric film includes a stabilizer (B) having a weight average molecular weight of 200 to 60000 having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. <1>-<7> The film winding layered body as described in any one of 0.01 mass part-10 mass parts is included with respect to 100 mass parts of helical chiral polymers (A).
<9> The stabilizer (B) is a stabilizer (B1) having a weight average molecular weight of 200 to 900 having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. And a stabilizer (B2) having a weight average molecular weight of 1,000 to 60000 having two or more functional groups selected from the group consisting of carbodiimide group, epoxy group and isocyanate group in one molecule <8 > Film-wrapped layered body according to
<10> The piezoelectric polymer film is 50% or less internal haze to visible light, and the stress at 25 ° C. - piezoelectric constant d 14 measured by the charge method is 1 pC / N or more <1> to <9> The film winding layered body according to any one of 9>.
<11> The polymer piezoelectric film has an internal haze with respect to visible light of 13% or less and a weight average molecular weight having at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. <1> to <10> containing 0.01 to 2.8 parts by mass of the stabilizer (B) having a molecular weight of 200 to 60000 with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (A). The film-wrapped layer described in 1.
<12> The helical chiral polymer (A) is any one of <1> to <11>, which is a polylactic acid polymer having a main chain including a repeating unit represented by the following formula (1). The film winding layered body of description.

<13> 前記ヘリカルキラル高分子(A)は、光学純度が95.00%ee以上である<1>〜<12>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<14> 前記高分子圧電フィルム中における前記ヘリカルキラル高分子(A)の含有量は、80質量%以上である<1>〜<13>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<15> 前記積層フィルムは、さらに、前記機能層(X)から見て前記高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側に配置された離型フィルムと、を有する<1>〜<14>のいずれか1つに記載のフィルム巻層体。
<16> 前記積層フィルムは、MD方向の長さが10m以上である<15>に記載のフィルム巻層体。
<13> The film wound layer according to any one of <1> to <12>, wherein the helical chiral polymer (A) has an optical purity of 95.00% ee or more.
<14> The film wound layer according to any one of <1> to <13>, wherein the content of the helical chiral polymer (A) in the polymer piezoelectric film is 80% by mass or more.
<15> The laminated film further includes a release film disposed on the side opposite to the side on which the polymer piezoelectric film is disposed when viewed from the functional layer (X). <1> to <14> The film winding layered body according to any one of 14>.
<16> The laminated film according to <15>, wherein the laminated film has a length in the MD direction of 10 m or more.

<17> <15>又は<16>に記載のフィルム巻層体の製造方法であって、前記離型フィルムの主面に前記機能層(X)を形成するための機能層形成剤を付与して前記機能層(X)を形成する工程と、前記機能層(X)から見て前記離型フィルムが配置されている側とは反対側にて、前記機能層(X)と前記高分子圧電フィルムとを貼り合わせて前記積層フィルムを形成する工程と、形成した前記積層フィルムをロール状に巻回する工程と、を含むフィルム巻層体の製造方法。
<18> <15>又は<16>に記載のフィルム巻層体の製造方法であって、前記高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面に前記機能層(X)を形成するための機能層形成剤を塗布し、塗布した前記機能層形成剤を90℃以下の温度で乾燥させて機能層(X)を形成する工程と、前記機能層(X)から見て前記高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側にて、前記機能層(X)と前記離型フィルムとを貼り合わせて前記積層フィルムを形成する工程と、形成した前記積層フィルムをロール状に巻回する工程と、を含むフィルム巻層体の製造方法。
<19> 前記機能層(X)は接着層であり、前記機能層形成剤は接着剤である<17>又は<18>に記載のフィルム巻層体の製造方法。
<17> The method for producing a film-layered body according to <15> or <16>, wherein a functional layer forming agent for forming the functional layer (X) is provided on the main surface of the release film. The functional layer (X) and the polymer piezoelectric film are formed on the opposite side of the step of forming the functional layer (X) and the side on which the release film is disposed as viewed from the functional layer (X). The manufacturing method of the film winding layer body which includes the process of bonding a film together and forming the said laminated | multilayer film, and the process of winding the formed said laminated | multilayer film in roll shape.
<18> A method for producing a wound film body according to <15> or <16>, wherein the functional layer is formed to form the functional layer (X) on at least one main surface of the polymer piezoelectric film. Coating the functional layer forming agent and drying the coated functional layer forming agent at a temperature of 90 ° C. or less to form the functional layer (X), and the polymer piezoelectric film as viewed from the functional layer (X). A step of bonding the functional layer (X) and the release film to form the laminated film on the side opposite to the side on which the laminated film is formed, a step of winding the formed laminated film into a roll, and The manufacturing method of the film winding layer body containing this.
<19> The method according to <17> or <18>, wherein the functional layer (X) is an adhesive layer, and the functional layer forming agent is an adhesive.

本発明によれば、加熱したときの高分子圧電フィルムへのクラックの発生が抑制され、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性に優れるフィルム巻層体及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, generation | occurrence | production of the crack to a polymeric piezoelectric film when heated can be suppressed, and the film winding layer body which is excellent in the heat-and-moisture resistance of a polymeric piezoelectric film, and its manufacturing method can be provided.

本発明の第一実施形態にて、離型フィルムに接着層を形成してフィルム巻層体を製造する方法を示す概略図である。In 1st embodiment of this invention, it is the schematic which shows the method of forming an adhesive layer in a release film and manufacturing a film winding layered body. 本発明の第二実施形態にて、高分子圧電フィルムに接着層を形成してフィルム巻層体を製造する方法を示す概略図である。In 2nd embodiment of this invention, it is the schematic which shows the method of forming an adhesive layer in a polymeric piezoelectric film and manufacturing a film winding layered body.

以下、本発明のフィルム巻層体の一実施形態について説明する。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「フィルム」は、一般的に「フィルム」と呼ばれているものだけでなく、一般的に「シート」と呼ばれているものをも包含する概念である。
また、本明細書において、「(メタ)アクリル基」とは、アクリル基及びメタクリル基の少なくとも一方を表す。
Hereinafter, one embodiment of the film wound layer of the present invention is described.
In this specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
Further, in the present specification, “film” is a concept including not only what is generally called “film” but also what is generally called “sheet”.
Moreover, in this specification, "(meth) acryl group" represents at least one of an acryl group and a methacryl group.

また、本明細書において、フィルム面とはフィルムの主面を意味している。ここで、「主面」とは、高分子圧電フィルムの表面の中で、最も面積の大きい面をいう。本発明で用いる高分子圧電フィルムは、主面を2つ以上有してもよい。例えば、高分子圧電フィルムが、10mm×0.3mm四方の面Aと、3mm×0.3mm四方の面Bと、10mm×3mm四方の面Cとをそれぞれ2面ずつ有する場合、当該高分子圧電フィルムの主面は面Cであり、2つの主面を有する。
なお、本明細書中において、「MD方向」とはフィルムの流れる方向(Machine Direction)であり、「TD方向」とは、前記MD方向と直交し、フィルムの主面と平行な方向(Transverse Direction)である。
Moreover, in this specification, a film surface means the main surface of a film. Here, the “main surface” means the surface having the largest area among the surfaces of the polymer piezoelectric film. The polymer piezoelectric film used in the present invention may have two or more main surfaces. For example, when the polymer piezoelectric film has two surfaces A each having a 10 mm × 0.3 mm square surface A, a 3 mm × 0.3 mm square surface B, and a 10 mm × 3 mm square surface C, the polymer piezoelectric film The main surface of the film is surface C, which has two main surfaces.
In the present specification, the “MD direction” is a direction in which the film flows (Machine Direction), and the “TD direction” is a direction perpendicular to the MD direction and parallel to the main surface of the film (Transverse Direction). ).

<フィルム巻層体>
本発明の一実施形態に係るフィルム巻層体は、重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと前記結晶化度との積が40〜700である高分子圧電フィルムと、前記高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面上に設けられた機能層(X)と、を有する積層フィルムがロール状に巻回してなり、前記積層フィルムから前記機能層(X)を除去して得られた前記高分子圧電フィルムを、100℃で30分間加熱したときの寸法変化率が、MD方向に1.0%以下である。
<Film wound layer>
The film wound layer according to an embodiment of the present invention includes a helical chiral polymer (A) having an optical activity having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, and has a crystallinity of 20% obtained by a DSC method. Polymer piezoelectric, which is ˜80% and the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity when the reference thickness measured by a microwave transmission type molecular orientation meter is 50 μm is 40 to 700 A laminated film having a film and a functional layer (X) provided on at least one main surface of the polymer piezoelectric film is wound in a roll shape, and the functional layer (X) is formed from the laminated film. The dimensional change rate when the polymer piezoelectric film obtained by the removal is heated at 100 ° C. for 30 minutes is 1.0% or less in the MD direction.

本実施形態に係るフィルム巻層体は、高分子圧電フィルムと、高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面上に設けられた機能層(X)と、を有する積層フィルムがロール状に巻回してなり、かつ、積層フィルムから機能層(X)を除去して得られた高分子圧電フィルムを、100℃で30分間加熱したときの寸法変化率が、MD方向に1.0%以下である。そのため、例えば、フィルム巻層体を用いて積層体を形成した場合に、加熱したときの高分子圧電フィルムへのクラックの発生が抑制され、かつ、高分子圧電フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)の分解が抑制されており、高分子圧電フィルムの耐湿熱性に優れる。さらに、上記高分子圧電フィルムを、100℃で30分間加熱したときの寸法変化率がMD方向に1.0%以下であるため、寸法安定性に優れ、スピーカーやタッチパネルなどのデバイス等に組み込まれ使用される際に、寸法が変化しにくく、デバイス等の誤作動の発生が抑制される。   In the film wound layer according to the present embodiment, a laminated film having a polymer piezoelectric film and a functional layer (X) provided on at least one main surface of the polymer piezoelectric film is wound in a roll shape. The dimensional change rate when the polymer piezoelectric film obtained by removing the functional layer (X) from the laminated film is heated at 100 ° C. for 30 minutes is 1.0% or less in the MD direction. Therefore, for example, when a laminated body is formed using a film wound layer body, the occurrence of cracks in the polymer piezoelectric film when heated is suppressed, and the helical chiral polymer ( The decomposition of A) is suppressed, and the polymer piezoelectric film is excellent in heat and moisture resistance. Furthermore, since the dimensional change rate when the polymer piezoelectric film is heated at 100 ° C. for 30 minutes is 1.0% or less in the MD direction, it has excellent dimensional stability and is incorporated in devices such as speakers and touch panels. When used, the dimensions hardly change, and the occurrence of malfunctions of devices and the like is suppressed.

また、本実施形態に係るフィルム巻層体は、高分子圧電フィルムを有し、この高分子圧電フィルムは、重量平均分子量(Mw)が、5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)(以下、「ヘリカルキラル高分子(A)」ともいう)を含む。ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量が、5万以上であることにより、ヘリカルキラル高分子(A)を成形体としたときの機械的強度が向上する。ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量が、100万以下であることにより、成形(例えば押出成形)によって高分子圧電フィルムを得る際の成形性が向上する。   Moreover, the film wound body according to the present embodiment has a polymer piezoelectric film, and this polymer piezoelectric film has a helical chiral high molecular weight having an optical activity of a weight average molecular weight (Mw) of 50,000 to 1,000,000. The molecule (A) (hereinafter also referred to as “helical chiral polymer (A)”) is included. When the weight average molecular weight of the helical chiral polymer (A) is 50,000 or more, the mechanical strength when the helical chiral polymer (A) is formed into a molded body is improved. When the weight average molecular weight of the helical chiral polymer (A) is 1,000,000 or less, the moldability when a polymer piezoelectric film is obtained by molding (for example, extrusion molding) is improved.

高分子圧電フィルムは、DSC法で得られる結晶化度が、20%〜80%である。このため、高分子圧電フィルムは、圧電性、透明性及び縦裂強度(特定方向についての引裂強さ)のバランスがよく、また高分子圧電フィルムを延伸するときに、白化や破断がおきにくく製造しやすい。
より詳細には、結晶化度が20%以上であることにより、高分子圧電フィルムの圧電性が高く維持され、結晶化度が80%以下であることにより、高分子圧電フィルムの縦裂強度及び透明性が低下することを抑制できる。
The polymer piezoelectric film has a crystallinity of 20% to 80% obtained by the DSC method. For this reason, the piezoelectric polymer film has a good balance of piezoelectricity, transparency and longitudinal tear strength (tear strength in a specific direction), and it is difficult to whiten or break when the polymer piezoelectric film is stretched. It's easy to do.
More specifically, when the crystallinity is 20% or more, the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film is maintained high, and when the crystallinity is 80% or less, the longitudinal crack strength and It can suppress that transparency falls.

高分子圧電フィルムは、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと結晶化度との積が40〜700である。この範囲に調整することで、高分子圧電フィルムの圧電性と透明性とのバランスが良好であり、かつ寸法安定性も高く、縦裂強度の低下が抑制される。   The polymer piezoelectric film has a product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity of 40 to 700 when the reference thickness measured by a microwave transmission type molecular orientation meter is 50 μm. By adjusting to this range, the balance between the piezoelectricity and transparency of the polymer piezoelectric film is good, the dimensional stability is also high, and the decrease in longitudinal crack strength is suppressed.

[高分子圧電フィルム]
本実施形態に係るフィルム巻層体は、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと前記結晶化度との積が40〜700である。
以下、高分子圧電フィルムの物性、高分子圧電フィルムに含まれる成分などについて詳細に説明する。
[Polymer piezoelectric film]
The film wound body according to the present embodiment includes a helical chiral polymer (A) having optical activity, has a crystallinity of 20% to 80% obtained by the DSC method, and has a microwave transmission molecular orientation. The product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity when the reference thickness measured by the meter is 50 μm is 40 to 700.
Hereinafter, physical properties of the polymer piezoelectric film, components contained in the polymer piezoelectric film, and the like will be described in detail.

〔光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)〕
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムは、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含んでいる。光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)とは、分子構造が螺旋構造である分子光学活性を有し、重量平均分子量が5万〜100万である高分子をいう。
ヘリカルキラル高分子(A)としては、例えば、ポリペプチド、セルロース、セルロース誘導体、ポリ乳酸系高分子、ポリプロピレンオキシド、ポリ(β―ヒドロキシ酪酸)等を挙げることができる。前記ポリペプチドとしては、例えば、ポリ(グルタル酸γ−ベンジル)、ポリ(グルタル酸γ−メチル)等が挙げられる。前記セルロース誘導体としては、例えば、酢酸セルロース、シアノエチルセルロース等が挙げられる。
[Helical Chiral Polymer with Optical Activity (A)]
The polymer piezoelectric film used in the present embodiment includes a helical chiral polymer (A) having optical activity. The helical chiral polymer (A) having optical activity refers to a polymer having molecular optical activity in which the molecular structure is a helical structure and having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000.
Examples of the helical chiral polymer (A) include polypeptides, cellulose, cellulose derivatives, polylactic acid polymers, polypropylene oxide, poly (β-hydroxybutyric acid), and the like. Examples of the polypeptide include poly (glutarate γ-benzyl), poly (glutarate γ-methyl), and the like. Examples of the cellulose derivative include cellulose acetate and cyanoethyl cellulose.

ヘリカルキラル高分子(A)は、高分子圧電フィルムの圧電性を向上する観点から、光学純度が95.00%ee以上であることが好ましく、97.00%ee以上であることがより好ましく、99.00%ee以上であることがさらに好ましく、99.99%ee以上であることが特に好ましい。望ましくは100.00%eeである。ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度を上記範囲とすることで、圧電性を発現する高分子結晶のパッキング性が高くなり、その結果、圧電性が高くなるものと考えられる。   From the viewpoint of improving the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film, the helical chiral polymer (A) preferably has an optical purity of 95.00% ee or more, more preferably 97.00% ee or more. It is more preferably 99.00% ee or more, and particularly preferably 99.99% ee or more. Desirably, it is 100.00% ee. By setting the optical purity of the helical chiral polymer (A) within the above range, the packing property of the polymer crystal that exhibits piezoelectricity is enhanced, and as a result, the piezoelectricity is considered to be enhanced.

本実施形態において、ヘリカルキラル高分子(A)の光学純度は、下記式にて算出した値である。
光学純度(%ee)=100×|L体量−D体量|/(L体量+D体量)
すなわち、『「ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕との量差(絶対値)」を「ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕との合計量」で割った(除した)数値』に、『100』をかけた(乗じた)値を、光学純度とする。
In the present embodiment, the optical purity of the helical chiral polymer (A) is a value calculated by the following formula.
Optical purity (% ee) = 100 × | L body weight−D body weight | / (L body weight + D body weight)
That is, “the amount difference (absolute value) between the amount of L-form [mass%] of helical chiral polymer (A) and the amount of D-form [mass%] of helical chiral polymer (A)” (absolute value) ”is expressed as“ helical chiral “100” is obtained by dividing (dividing by) the total amount of the amount (mass%) of the L isomer of the polymer (A) and the amount of the D isomer (mass%) of the helical chiral polymer (A). The value obtained by multiplying (multiplying) by is defined as optical purity.

なお、ヘリカルキラル高分子(A)のL体の量〔質量%〕とヘリカルキラル高分子(A)のD体の量〔質量%〕は、高速液体クロマトグラフィ(HPLC)を用いた方法により得られる値を用いる。具体的な測定の詳細については後述する。   The amount of L-form [mass%] of the helical chiral polymer (A) and the amount of D-form [mass%] of the helical chiral polymer (A) can be obtained by a method using high performance liquid chromatography (HPLC). Use the value. Details of the specific measurement will be described later.

以上のヘリカルキラル高分子(A)の中でも、光学純度を上げ、圧電性を向上させる観点から、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有する高分子が好ましい。   Among the above helical chiral polymers (A), a polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1) is preferable from the viewpoint of increasing optical purity and improving piezoelectricity.

前記式(1)で表される繰り返し単位を主鎖とする化合物としては、ポリ乳酸系高分子が挙げられる。中でも、ポリ乳酸が好ましく、L−乳酸のホモポリマー(PLLA)又はD−乳酸のホモポリマー(PDLA)が最も好ましい。   Examples of the compound having the repeating unit represented by the formula (1) as a main chain include polylactic acid polymers. Among them, polylactic acid is preferable, and L-lactic acid homopolymer (PLLA) or D-lactic acid homopolymer (PDLA) is most preferable.

前記ポリ乳酸系高分子とは、「ポリ乳酸」、「L−乳酸又はD−乳酸と、共重合可能な多官能性化合物とのコポリマー」、又は、両者の混合物をいう。前記「ポリ乳酸」は、乳酸がエステル結合によって重合し、長く繋がった高分子であり、ラクチドを経由するラクチド法、溶媒中で乳酸を減圧下加熱し、水を取り除きながら重合させる直接重合法などによって製造できることが知られている。前記「ポリ乳酸」としては、L−乳酸のホモポリマー、D−乳酸のホモポリマー、L−乳酸及びD−乳酸の少なくとも一方の重合体を含むブロックコポリマー、L−乳酸及びD−乳酸の少なくとも一方の重合体を含むグラフトコポリマーが挙げられる。   The polylactic acid polymer refers to “polylactic acid”, “copolymer of L-lactic acid or D-lactic acid and a copolymerizable polyfunctional compound”, or a mixture of both. The above-mentioned “polylactic acid” is a polymer in which lactic acid is polymerized by an ester bond and is connected for a long time, a lactide method via lactide, a direct polymerization method in which lactic acid is heated in a solvent under reduced pressure and polymerized while removing water. It is known that can be manufactured by. Examples of the “polylactic acid” include a homopolymer of L-lactic acid, a homopolymer of D-lactic acid, a block copolymer containing at least one polymer of L-lactic acid and D-lactic acid, and at least one of L-lactic acid and D-lactic acid. The graft copolymer containing the polymer of these is mentioned.

前記「共重合可能な多官能性化合物」としては、グリコール酸、ジメチルグリコール酸、3−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ酪酸、2−ヒドロキシプロパン酸、3−ヒドロキシプロパン酸、2−ヒドロキシ吉草酸、3−ヒドロキシ吉草酸、4−ヒドロキシ吉草酸、5−ヒドロキシ吉草酸、2−ヒドロキシカプロン酸、3−ヒドロキシカプロン酸、4−ヒドロキシカプロン酸、5−ヒドロキシカプロン酸、6−ヒドロキシカプロン酸、6−ヒドロキシメチルカプロン酸、マンデル酸等のヒドロキシカルボン酸、グリコリド、β−メチル−δ−バレロラクトン、γ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等の環状エステル、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、テレフタル酸等の多価カルボン酸、これらの無水物、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ヘキサンジメタノール等の多価アルコール、セルロース等の多糖類、α−アミノ酸等のアミノカルボン酸等を挙げることができる。   Examples of the “copolymerizable polyfunctional compound” include glycolic acid, dimethyl glycolic acid, 3-hydroxybutyric acid, 4-hydroxybutyric acid, 2-hydroxypropanoic acid, 3-hydroxypropanoic acid, 2-hydroxyvaleric acid, 3 -Hydroxyvaleric acid, 4-hydroxyvaleric acid, 5-hydroxyvaleric acid, 2-hydroxycaproic acid, 3-hydroxycaproic acid, 4-hydroxycaproic acid, 5-hydroxycaproic acid, 6-hydroxycaproic acid, 6-hydroxy Hydroxycarboxylic acids such as methyl caproic acid and mandelic acid, glycolides, cyclic esters such as β-methyl-δ-valerolactone, γ-valerolactone, and ε-caprolactone, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid , Pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, Polycarboxylic acids such as candioic acid and terephthalic acid, anhydrides thereof, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1, 4-butanediol, 2,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, tetramethylene Examples include glycols, polyhydric alcohols such as 1,4-hexanedimethanol, polysaccharides such as cellulose, and aminocarboxylic acids such as α-amino acids.

上記「共重合可能な多官能性化合物」としては、例えば、国際公開第2013/054918号パンフレットの段落0028に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the “copolymerizable polyfunctional compound” include the compounds described in paragraph 0028 of International Publication No. 2013/054918 pamphlet.

前記「L−乳酸又はD−乳酸と、共重合可能な多官能性化合物とのコポリマー」としては、らせん結晶を生成可能なポリ乳酸シーケンスを有する、ブロックコポリマー又はグラフトコポリマーが挙げられる。   Examples of the “copolymer of L-lactic acid or D-lactic acid and a copolymerizable polyfunctional compound” include a block copolymer or a graft copolymer having a polylactic acid sequence capable of forming a helical crystal.

また、ヘリカルキラル高分子(A)中のコポリマー成分に由来する構造の濃度は20mol%以下であることが好ましい。例えば、ヘリカルキラル高分子(A)がポリ乳酸系高分子の場合、ポリ乳酸系高分子中の乳酸に由来する構造と、乳酸と共重合可能な化合物(コポリマー成分)に由来する構造と、のモル数の合計に対して、前記コポリマー成分が20mol%以下であることが好ましい。   The concentration of the structure derived from the copolymer component in the helical chiral polymer (A) is preferably 20 mol% or less. For example, when the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer, a structure derived from lactic acid in the polylactic acid polymer and a structure derived from a compound copolymerizable with lactic acid (copolymer component) The copolymer component is preferably 20 mol% or less based on the total number of moles.

ヘリカルキラル高分子(A)(例えばポリ乳酸系高分子)は、例えば、特開昭59−096123号公報、及び特開平7−033861号公報に記載されている乳酸を直接脱水縮合して得る方法や、米国特許2,668,182号及び4,057,357号等に記載されている乳酸の環状二量体であるラクチドを用いて開環重合させる方法などにより製造することができる。
さらに、前記の各製造方法により得られたヘリカルキラル高分子(A)(例えばポリ乳酸系高分子)は、光学純度を95.00%ee以上とするために、例えば、ポリ乳酸をラクチド法で製造する場合、晶析操作により光学純度を95.00%ee以上の光学純度に向上させたラクチドを、重合することが好ましい。
The helical chiral polymer (A) (for example, polylactic acid polymer) is obtained by, for example, directly dehydrating and condensing lactic acid described in JP-A-59-096123 and JP-A-7-033861. Alternatively, it can be produced by a ring-opening polymerization method using lactide which is a cyclic dimer of lactic acid described in US Pat. Nos. 2,668,182 and 4,057,357.
Furthermore, the helical chiral polymer (A) (for example, polylactic acid polymer) obtained by each of the production methods described above is prepared by, for example, converting polylactic acid by the lactide method so that the optical purity is 95.00% ee or more. When manufacturing, it is preferable to polymerize lactide whose optical purity is improved to 95.00% ee or higher by crystallization operation.

≪ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量≫
本実施形態で用いるヘリカルキラル高分子(A)は、重量平均分子量(Mw)が、5万〜100万である。
ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量が、5万以上であることにより、ヘリカルキラル高分子(A)を成形体としたときの機械的強度が向上する。ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量は、成形体としたときの機械的強度をより向上させる観点から、10万以上であることが好ましく、15万以上であることがさらに好ましい。
一方、ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量が、100万以下であることにより、成形(例えば押出成形)によって高分子圧電フィルムを得る際の成形性が向上する。ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量は、高分子圧電フィルムを得る際の成形性をより向上させる観点から、80万以下であることが好ましく、30万以下であることがさらに好ましい。
≪Weight average molecular weight of helical chiral polymer (A) ≫
The helical chiral polymer (A) used in the present embodiment has a weight average molecular weight (Mw) of 50,000 to 1,000,000.
When the weight average molecular weight of the helical chiral polymer (A) is 50,000 or more, the mechanical strength when the helical chiral polymer (A) is formed into a molded body is improved. The weight average molecular weight of the helical chiral polymer (A) is preferably 100,000 or more, and more preferably 150,000 or more, from the viewpoint of further improving the mechanical strength when formed into a molded body.
On the other hand, when the weight average molecular weight of the helical chiral polymer (A) is 1,000,000 or less, the moldability when a polymer piezoelectric film is obtained by molding (for example, extrusion molding) is improved. The weight average molecular weight of the helical chiral polymer (A) is preferably 800,000 or less, and more preferably 300,000 or less, from the viewpoint of further improving the moldability when obtaining a polymer piezoelectric film.

また、ヘリカルキラル高分子(A)の分子量分布(Mw/Mn)は、高分子圧電フィルムの強度の観点から、1.1〜5であることが好ましく、1.2〜4であることがより好ましい。さらに1.4〜3であることが好ましい。なお、ヘリカルキラル高分子(A)(例えば、ポリ乳酸系高分子)の重量平均分子量Mwと、分子量分布(Mw/Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用い、下記GPC測定方法により、測定される。   Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) is preferably 1.1 to 5 and more preferably 1.2 to 4 from the viewpoint of the strength of the polymer piezoelectric film. preferable. Furthermore, it is preferable that it is 1.4-3. In addition, the weight average molecular weight Mw and the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) (for example, polylactic acid polymer) are measured by the following GPC measurement method using gel permeation chromatography (GPC). Measured.

−GPC測定装置−
Waters社製GPC−100
−カラム−
昭和電工株式会社製、Shodex LF−804
−サンプルの調製−
ヘリカルキラル高分子(A)を40℃で溶媒(例えば、クロロホルム)へ溶解させ、濃度1mg/mLのサンプル溶液を準備する。
−測定条件−
サンプル溶液0.1mLを溶媒〔クロロホルム〕、温度40℃、1mL/分の流速でカラムに導入する。
-GPC measuring device-
Waters GPC-100
-Column-
Showex Denko KK, Shodex LF-804
-Sample preparation-
The helical chiral polymer (A) is dissolved in a solvent (for example, chloroform) at 40 ° C. to prepare a sample solution having a concentration of 1 mg / mL.
-Measurement conditions-
0.1 mL of the sample solution is introduced into the column at a solvent [chloroform], a temperature of 40 ° C., and a flow rate of 1 mL / min.

カラムで分離されたサンプル溶液中のサンプル濃度を示差屈折計で測定する。ポリスチレン標準試料にてユニバーサル検量線を作成し、ヘリカルキラル高分子(A)の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を算出する。   The sample concentration in the sample solution separated by the column is measured with a differential refractometer. A universal calibration curve is created with a polystyrene standard sample, and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the helical chiral polymer (A) are calculated.

ヘリカルキラル高分子(A)の例であるポリ乳酸系高分子としては、市販のポリ乳酸を用いてもよい。市販のポリ乳酸としては、例えば、PURAC社製のPURASORB(PD、PL)、三井化学株式会社製のLACEA(H−100、H−400)、NatureWorks LLC社製のIngeoTM biopolymer、等が挙げられる。Commercially available polylactic acid may be used as the polylactic acid polymer that is an example of the helical chiral polymer (A). Commercially available polylactic acid, for example, PURAC Co. PURASORB (PD, PL), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. LACEA (H-100, H- 400), NatureWorks LLC Corp. Ingeo TM Biopolymer, include equal .

ヘリカルキラル高分子(A)としてポリ乳酸系高分子を用いるとき、ポリ乳酸系高分子の重量平均分子量(Mw)を5万以上とするためには、ラクチド法、又は直接重合法によりヘリカルキラル高分子(A)を製造することが好ましい。   When a polylactic acid polymer is used as the helical chiral polymer (A), in order to increase the weight average molecular weight (Mw) of the polylactic acid polymer to 50,000 or more, the helical chiral polymer can be obtained by the lactide method or the direct polymerization method. It is preferable to produce the molecule (A).

本実施形態で用いる高分子圧電フィルムは、既述のヘリカルキラル高分子(A)を1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムについて、ヘリカルキラル高分子(A)の含有量(2種以上である場合には総含有量。以下同じ。)には特に制限はないが、高分子圧電フィルム全質量に対して、80質量%以上であることが好ましい。
上記含有量が80質量%以上であることにより、圧電定数がより大きくなる傾向がある。
The piezoelectric polymer film used in the present embodiment may contain only one kind of the above-described helical chiral polymer (A), or may contain two or more kinds.
In the polymer piezoelectric film used in the present embodiment, the content of the helical chiral polymer (A) (the total content when there are two or more types; the same shall apply hereinafter) is not particularly limited, but the polymer piezoelectric film It is preferable that it is 80 mass% or more with respect to the total mass.
When the content is 80% by mass or more, the piezoelectric constant tends to be larger.

≪MD寸法変化率≫
本実施形態に係るフィルム巻層体では、積層フィルムから機能層(X)を除去して得られた高分子圧電フィルムを、100℃で30分間加熱したときのMD方向の寸法変化率(MD寸法変化率)が、1.0%以下である。寸法変化率が小さいほど寸法安定性が高いことを示す。MD方向の寸法変化率は、以下のようにして求められる。
まず、積層フィルムから機能層(X)を除去し、延伸方向(MD方向)に50mm、延伸方向と直交する方向(TD方向)に50mmカットして、50mm×50mmの矩形フィルムを切り出す。なお、積層フィルムが離型フィルム、他の層等を有する場合には、機能層(X)とともに離型フィルム、他の層等も除去する。この矩形フィルムを100℃にセットしたオーブン中に吊り下げて、30分間アニール処理する。その後、アニール処理前後のMD方向のフィルム矩形辺長の寸法を高精度デジタル測長機(株式会社ミツトヨ製、ライトマチックVL−50AS)で測定する。そして、下式に従い、寸法変化率(%)を算出し、寸法安定性を評価する。
(式)寸法変化率(%)=100×|(アニール前のMD方向の辺長)−(アニール後のMD方向の辺長)|/(アニール前のMD方向の辺長)
≪MD dimensional change rate≫
In the film wound layer according to this embodiment, the dimensional change rate (MD dimension) in the MD direction when the polymer piezoelectric film obtained by removing the functional layer (X) from the laminated film is heated at 100 ° C. for 30 minutes. Change rate) is 1.0% or less. A smaller dimensional change rate indicates higher dimensional stability. The dimensional change rate in the MD direction is obtained as follows.
First, the functional layer (X) is removed from the laminated film, cut to 50 mm in the stretching direction (MD direction) and 50 mm in a direction (TD direction) perpendicular to the stretching direction, and a 50 mm × 50 mm rectangular film is cut out. In addition, when a laminated | multilayer film has a mold release film, another layer, etc., a mold release film, another layer, etc. are removed with functional layer (X). This rectangular film is suspended in an oven set at 100 ° C. and annealed for 30 minutes. Thereafter, the dimension of the film rectangular side length in the MD direction before and after the annealing treatment is measured with a high-precision digital length measuring device (manufactured by Mitutoyo Corporation, Lightmatic VL-50AS). And according to the following formula, a dimensional change rate (%) is calculated, and dimensional stability is evaluated.
(Expression) Dimensional change rate (%) = 100 × | (side length in MD direction before annealing) − (side length in MD direction after annealing) | / (side length in MD direction before annealing)

上記MD方向の寸法変化率は、寸法安定性をより高める観点から、0.9%以下であることが好ましく、0.8%以下であることがより好ましい。   The dimensional change rate in the MD direction is preferably 0.9% or less and more preferably 0.8% or less from the viewpoint of further improving the dimensional stability.

≪結晶化度≫
高分子圧電フィルムの結晶化度は、DSC法によって求められるものである。高分子圧電フィルムの結晶化度は20%〜80%であり、30%〜70%が好ましく、35%〜60%がより好ましい。前記範囲に結晶化度があれば、高分子圧電フィルムの圧電性、透明性、縦裂強度のバランスがよく、また高分子圧電フィルムを延伸するときに、白化や破断がおきにくく製造しやすい。
結晶化度が20%以上であることにより、高分子圧電フィルムの圧電性が高く維持される。
また、結晶化度が80%以下であることにより、縦裂強度及び透明性が低下することを抑制できる。
≪Crystallinity≫
The crystallinity of the polymer piezoelectric film is determined by the DSC method. The crystallinity of the polymer piezoelectric film is 20% to 80%, preferably 30% to 70%, and more preferably 35% to 60%. If the crystallinity is within the above range, the piezoelectricity, transparency, and longitudinal tear strength of the polymer piezoelectric film are well balanced, and when the polymer piezoelectric film is stretched, whitening and breakage are unlikely to occur and it is easy to manufacture.
When the degree of crystallinity is 20% or more, the piezoelectricity of the polymer piezoelectric film is maintained high.
Moreover, it can suppress that longitudinal crack strength and transparency fall because a crystallinity degree is 80% or less.

例えば、高分子圧電フィルムを製造する際の結晶化及び延伸の条件を調整することにより、高分子圧電フィルムの結晶化度を20%〜80%の範囲に調整することができる。   For example, the crystallinity of the polymer piezoelectric film can be adjusted in the range of 20% to 80% by adjusting the crystallization and stretching conditions when producing the polymer piezoelectric film.

≪規格化分子配向MORc≫
高分子圧電フィルムの規格化分子配向MORcは、2.0〜15.0であることが好ましい。規格化分子配向MORcは、ヘリカルキラル高分子(A)の配向の度合いを示す指標である「分子配向度MOR」に基づいて定められる値である。規格化分子配向MORcが2.0以上であれば、延伸方向に配列するヘリカルキラル高分子(A)の分子鎖(例えばポリ乳酸分子鎖)が多く、その結果、配向結晶の生成する率が高くなり、高分子圧電フィルムはより高い圧電性を発現することが可能となる。規格化分子配向MORcが15.0以下であれば、高分子圧電フィルムの縦裂強度が更に向上する。
≪Standardized molecular orientation MORc≫
The normalized molecular orientation MORc of the polymer piezoelectric film is preferably 2.0 to 15.0. The normalized molecular orientation MORc is a value determined based on the “molecular orientation degree MOR” which is an index indicating the degree of orientation of the helical chiral polymer (A). If the normalized molecular orientation MORc is 2.0 or more, there are many molecular chains (for example, polylactic acid molecular chains) of the helical chiral polymer (A) arranged in the stretching direction, and as a result, the rate of formation of oriented crystals is high. Thus, the polymer piezoelectric film can exhibit higher piezoelectricity. If the normalized molecular orientation MORc is 15.0 or less, the longitudinal tear strength of the polymer piezoelectric film is further improved.

ここで、分子配向度MOR(Molecular Orientation Ratio)は、以下のようなマイクロ波測定法により測定される。すなわち、高分子圧電フィルムを、周知のマイクロ波透過型分子配向計(マイクロ波分子配向度測定装置ともいう)のマイクロ波共振導波管中に、マイクロ波の進行方向に高分子圧電フィルムの面(フィルム面)が垂直になるように配置する。そして、振動方向が一方向に偏ったマイクロ波を試料に連続的に照射した状態で、高分子圧電フィルムをマイクロ波の進行方向と垂直な面内で0〜360°回転させて、試料を透過したマイクロ波強度を測定することにより分子配向度MORを求める。   Here, the molecular orientation degree MOR (Molecular Orientation Ratio) is measured by the following microwave measurement method. That is, the surface of the polymer piezoelectric film in the microwave traveling direction in the microwave resonant waveguide of a known microwave transmission type molecular orientation meter (also referred to as a microwave molecular orientation degree measuring device). Arrange so that (film surface) is vertical. Then, in a state where the sample is continuously irradiated with the microwave whose vibration direction is biased in one direction, the polymer piezoelectric film is rotated 0 to 360 ° in a plane perpendicular to the traveling direction of the microwave, and the sample is transmitted. The degree of molecular orientation MOR is obtained by measuring the measured microwave intensity.

規格化分子配向MORcは、基準厚さtcを50μmとしたときの分子配向度MORであって、下記式により求めることができる。
MORc=(tc/t)×(MOR−1)+1
(tc:補正したい基準厚さ、t:高分子圧電フィルムの厚さ)
規格化分子配向MORcは、公知の分子配向計、例えば王子計測機器株式会社製マイクロ波方式分子配向計MOA−2012AやMOA−6000等により、4GHzもしくは12GHz近傍の共振周波数で測定することができる。
The normalized molecular orientation MORc is a molecular orientation degree MOR when the reference thickness tc is 50 μm, and can be obtained by the following formula.
MORc = (tc / t) × (MOR-1) +1
(Tc: reference thickness to be corrected, t: thickness of polymer piezoelectric film)
The normalized molecular orientation MORc can be measured with a known molecular orientation meter such as a microwave molecular orientation meter MOA-2012A or MOA-6000 manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., at a resonance frequency in the vicinity of 4 GHz or 12 GHz.

高分子圧電フィルムは、規格化分子配向MORcが3.0〜15.0であることがより好ましく、3.5〜10.0であることがさらに好ましく、4.0〜8.0であることが特に好ましい。
また、高分子圧電フィルムと中間層との密着性をより向上させる観点からは、規格化分子配向MORcは、7.0以下であることが好ましい。
The polymer piezoelectric film preferably has a normalized molecular orientation MORc of 3.0 to 15.0, more preferably 3.5 to 10.0, and 4.0 to 8.0. Is particularly preferred.
Moreover, from the viewpoint of further improving the adhesion between the polymer piezoelectric film and the intermediate layer, the normalized molecular orientation MORc is preferably 7.0 or less.

規格化分子配向MORcは、例えば、高分子圧電フィルムが延伸フィルムである場合には、延伸前の加熱処理条件(加熱温度及び加熱時間)、延伸の条件(延伸倍率、延伸温度及び延伸速度)等によって制御されうる。   The normalized molecular orientation MORc is, for example, when the polymer piezoelectric film is a stretched film, heat treatment conditions (heating temperature and heating time) before stretching, stretching conditions (stretching ratio, stretching temperature and stretching speed), etc. Can be controlled by.

なお、規格化分子配向MORcは、位相差量(レターデーション)をフィルムの厚さで除した複屈折率Δnに変換することもできる。具体的には、レターデーションは大塚電子株式会社製RETS100を用いて測定することができる。またMORcとΔnとは大凡、直線的な比例関係にあり、かつΔnが0の場合、MORcは1になる。
例えば、ヘリカルキラル高分子(A)がポリ乳酸系高分子であり、かつ、高分子圧電フィルムの複屈折率Δnを測定波長550nmで測定した場合、規格化分子配向MORcが2.0であれば、複屈折率Δn 0.005に変換でき、規格化分子配向MORcが4.0であれば、複屈折率Δn 0.01に変換できる。
The normalized molecular orientation MORc can be converted into a birefringence Δn obtained by dividing the retardation amount (retardation) by the thickness of the film. Specifically, retardation can be measured using RETS100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. MORc and Δn are approximately in a linear proportional relationship, and when Δn is 0, MORc is 1.
For example, when the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer and the birefringence Δn of the polymer piezoelectric film is measured at a measurement wavelength of 550 nm, the normalized molecular orientation MORc is 2.0. The birefringence Δn 0.005 can be converted, and if the normalized molecular orientation MORc is 4.0, the birefringence Δn 0.01 can be converted.

≪規格化分子配向MORcと結晶化度との積≫
本実施形態において、高分子圧電フィルムの結晶化度と規格化分子配向MORcとの積は40〜700である。この範囲に調整することで、高分子圧電フィルムの圧電性と透明性とのバランスが良好であり、かつ寸法安定性も高く、縦裂強度の低下が抑制される。
高分子圧電フィルムの規格化分子配向MORcと結晶化度との積は、より好ましくは40〜600、さらに好ましくは100〜500、特に好ましくは125〜400、特に好ましくは150〜300である。
≪Product of normalized molecular orientation MORc and crystallinity≫
In this embodiment, the product of the crystallinity of the polymer piezoelectric film and the normalized molecular orientation MORc is 40 to 700. By adjusting to this range, the balance between the piezoelectricity and transparency of the polymer piezoelectric film is good, the dimensional stability is also high, and the decrease in longitudinal crack strength is suppressed.
The product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity of the polymer piezoelectric film is more preferably 40 to 600, still more preferably 100 to 500, particularly preferably 125 to 400, and particularly preferably 150 to 300.

例えば、高分子圧電フィルムを製造する際の結晶化及び延伸の条件を調整することにより、上記の積を上記範囲に調整することができる。   For example, the above product can be adjusted to the above range by adjusting the crystallization and stretching conditions when the polymer piezoelectric film is produced.

また、規格化分子配向MORcは、高分子圧電フィルムを製造する際の結晶化の条件(例えば、加熱温度及び加熱時間)及び延伸の条件(例えば、延伸倍率、延伸温度及び延伸速度)によって制御されうる。   In addition, the normalized molecular orientation MORc is controlled by the crystallization conditions (for example, heating temperature and heating time) and the stretching conditions (for example, stretching ratio, stretching temperature, and stretching speed) when the polymer piezoelectric film is manufactured. sell.

≪圧電定数d14(応力−電荷法)≫
高分子圧電フィルムの圧電性は、例えば、高分子圧電フィルムの圧電定数d14を測定することによって評価することができる。
以下、応力−電荷法による圧電定数d14の測定方法の一例について説明する。
«Piezoelectric constant d 14 (stress - charge method)»
Piezoelectricity of polymeric piezoelectric film, for example, can be assessed by measuring the piezoelectric constant d 14 of the piezoelectric polymer film.
Hereinafter, the stress - describing an example of a method for measuring a piezoelectric constant d 14 due to charge method.

まず、高分子圧電フィルムを、延伸方向(MD方向)に対して45°なす方向に150mm、45°なす方向に直交する方向に50mmにカットして、矩形の試験片を作製する。次に、株式会社昭和真空製のSIP−600の試験台に得られた試験片をセットし、アルミニウム(以下、Alとする)の蒸着厚が約50nmとなるように、試験片の一方の面にAlを蒸着する。次いで試験片の他方の面に同様に蒸着して、試験片の両面にAlを被覆し、Alの導電層を形成する。   First, the polymer piezoelectric film is cut to 150 mm in a direction formed by 45 ° with respect to the stretching direction (MD direction) and 50 mm in a direction orthogonal to the direction formed by 45 ° to produce a rectangular test piece. Next, the test piece obtained on the SIP-600 test stand made by Showa Vacuum Co., Ltd. is set, and one side of the test piece is set so that the deposition thickness of aluminum (hereinafter referred to as Al) is about 50 nm. Al is vapor-deposited on the substrate. Next, vapor deposition is similarly performed on the other side of the test piece, and Al is coated on both sides of the test piece to form an Al conductive layer.

両面にAlの導電層が形成された150mm×50mmの試験片を、高分子圧電フィルムの延伸方向(MD方向)に対して45°なす方向に120mm、45°なす方向に直交する方向に10mmにカットして、120mm×10mmの矩形のフィルムを切り出す。これを、圧電定数測定用サンプルとする。   A test piece of 150 mm x 50 mm with an Al conductive layer formed on both sides is 120 mm in a direction of 45 ° with respect to the stretching direction (MD direction) of the polymer piezoelectric film, and 10 mm in a direction perpendicular to the direction of 45 °. Cut and cut out a rectangular film of 120 mm × 10 mm. This is a piezoelectric constant measurement sample.

得られたサンプルを、チャック間距離70mmとした引張試験機(AND社製、TENSILON RTG−1250)に、弛まないようにセットする。クロスヘッド速度5mm/minで、印加力が4Nと9N間を往復するように周期的に力を加える。このとき印加力に応じてサンプルに発生する電荷量を測定するため、静電容量Qm(F)のコンデンサーをサンプルに並列に接続し、このコンデンサーCm(95nF)の端子間電圧Vを、バッファアンプを介して測定する。以上の測定は25℃の温度条件下で行う。発生電荷量Q(C)は、コンデンサー容量Cmと端子間電圧Vmとの積として計算する。圧電定数d14は下式により計算される。
14=(2×t)/L×Cm・ΔVm/ΔF
t:サンプル厚(m)
L:チャック間距離(m)
Cm:並列接続コンデンサー容量(F)
ΔVm/ΔF:力の変化量に対する、コンデンサー端子間の電圧変化量比
The obtained sample is set in a tensile tester (manufactured by AND, TENSILON RTG-1250) with a distance between chucks of 70 mm so as not to be loosened. A force is periodically applied so that the applied force reciprocates between 4N and 9N at a crosshead speed of 5 mm / min. At this time, in order to measure the amount of charge generated in the sample according to the applied force, a capacitor having a capacitance Qm (F) is connected in parallel to the sample, and the voltage V between the terminals of the capacitor Cm (95 nF) is converted into a buffer amplifier. Measure through. The above measurement is performed under a temperature condition of 25 ° C. The generated charge amount Q (C) is calculated as the product of the capacitor capacitance Cm and the terminal voltage Vm. Piezoelectric constant d 14 is calculated by the following equation.
d 14 = (2 × t) / L × Cm · ΔVm / ΔF
t: Sample thickness (m)
L: Distance between chucks (m)
Cm: Capacitor capacity in parallel (F)
ΔVm / ΔF: Ratio of change in voltage between capacitor terminals to change in force

圧電定数d14は高ければ高いほど、高分子圧電フィルムに印加される電圧に対する高分子圧電フィルムの変位、逆に高分子圧電フィルムに印加される力に対し発生する電圧が大きくなり、高分子圧電フィルムとしては有用である。
具体的には、本実施形態における高分子圧電フィルムにおいて、25℃における応力−電荷法で測定した圧電定数d14は、1pC/N以上が好ましく、3pC/N以上がより好ましく、5pC/N以上がさらに好ましく、6pC/N以上が特に好ましい。また圧電定数d14の上限は特に限定されないが、透明性などのバランスの観点からは、ヘリカルキラル高分子を用いた高分子圧電フィルムでは50pC/N以下が好ましく、30pC/N以下がより好ましい。
また、同様に透明性とのバランスの観点からは共振法で測定した圧電定数d14が15pC/N以下であることが好ましい。
The higher the piezoelectric constant d 14 is, the larger the displacement of the polymer piezoelectric film with respect to the voltage applied to the polymer piezoelectric film, and conversely, the voltage generated with respect to the force applied to the polymer piezoelectric film increases. It is useful as a film.
Specifically, in the polymeric piezoelectric film in the present embodiment, the stress at 25 ° C. - piezoelectric constant d 14 measured by the charge method is preferably at least 1 pC / N, more preferably at least 3pC / N, 5pC / N or more Is more preferable, and 6 pC / N or more is particularly preferable. The upper limit of the piezoelectric constant d 14 is not particularly limited, from the viewpoint of the balance, such as transparency, preferably less 50pc / N is a polymer piezoelectric film using a helical chiral polymer, more preferably at most 30 pC / N.
From the viewpoint of the balance with similarly transparency is preferably a piezoelectric constant d 14 measured by a resonance method is not more than 15pC / N.

≪透明性(内部ヘイズ)≫
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムの透明性は、例えば、目視観察やヘイズ測定により評価することができる。
高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズ(以下、単に「内部ヘイズ」ともいう)が50%以下であることが好ましく、20%以下であることがより好ましく、13%以下であることがさらに好ましく、5%以下であることがさらに好ましく、2.0%以下であることが特に好ましく、1.0%以下であることがもっとも好ましい。
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムの内部ヘイズは、低ければ低いほどよいが、圧電定数などとのバランスの観点からは、0.01%〜15%であることが好ましく、0.01%〜10%であることがより好ましく、0.1%〜5%であることがさらに好ましく、0.1%〜1.0%であることが特に好ましい。
≪Transparency (internal haze) ≫
The transparency of the polymer piezoelectric film used in the present embodiment can be evaluated by, for example, visual observation or haze measurement.
The polymer piezoelectric film preferably has an internal haze with respect to visible light (hereinafter also simply referred to as “internal haze”) of 50% or less, more preferably 20% or less, and further preferably 13% or less. Preferably, it is more preferably 5% or less, particularly preferably 2.0% or less, and most preferably 1.0% or less.
The lower the internal haze of the polymer piezoelectric film used in the present embodiment, the better. However, from the viewpoint of balance with the piezoelectric constant, etc., 0.01% to 15% is preferable, and 0.01% to It is more preferably 10%, further preferably 0.1% to 5%, and particularly preferably 0.1% to 1.0%.

本実施形態において、「内部ヘイズ」とは、高分子圧電フィルムの外表面の形状によるヘイズを除外したヘイズを指す。
また、ここでいう「内部ヘイズ」は、高分子圧電フィルムに対して、JIS−K7105に準拠して、25℃で測定したときの値である。
In the present embodiment, “internal haze” refers to haze excluding haze due to the shape of the outer surface of the polymer piezoelectric film.
Further, the “internal haze” here is a value when measured at 25 ° C. in accordance with JIS-K7105 with respect to the polymer piezoelectric film.

より詳細には、内部ヘイズ(以下、「内部ヘイズH1」ともいう)は、以下のようにして測定された値を指す。
即ち、まず、シリコーンオイルで満たした光路長10mmのセルについて、光路長方向のヘイズ(以下、「ヘイズH2」ともいう)を測定した。次いで、このセルのシリコーンオイルに高分子圧電フィルムを、セルの光路長方向とフィルムの法線方向とが平行となるように浸漬させ、高分子圧電フィルムが浸漬されたセルの光路長方向のヘイズ(以下、「ヘイズH3」ともいう)を測定する。ヘイズH2及びヘイズH3は、いずれもJIS−K7105に準拠して25℃で測定する。
測定されたヘイズH2及びヘイズH3に基づき、下記式に従って内部ヘイズH1を求める。
内部ヘイズ(H1)=ヘイズ(H3)−ヘイズ(H2)
More specifically, the internal haze (hereinafter also referred to as “internal haze H1”) refers to a value measured as follows.
Specifically, first, a haze in the optical path length direction (hereinafter also referred to as “haze H2”) was measured for a cell having an optical path length of 10 mm filled with silicone oil. Next, the polymer piezoelectric film is immersed in the silicone oil of the cell so that the optical path length direction of the cell and the normal direction of the film are parallel, and the haze in the optical path length direction of the cell in which the polymer piezoelectric film is immersed (Hereinafter also referred to as “haze H3”). Both haze H2 and haze H3 are measured at 25 ° C. in accordance with JIS-K7105.
Based on the measured haze H2 and haze H3, the internal haze H1 is obtained according to the following formula.
Internal haze (H1) = Haze (H3) -Haze (H2)

ヘイズH2及びヘイズH3の測定は、例えばヘイズ測定機〔東京電色社製、TC−HIII DPK〕を用いて行うことができる。
また、シリコーンオイルとしては、例えば、信越化学工業株式会社製の「信越シリコーン(商標)、型番KF−96−100CS」を用いることができる。
The haze H2 and the haze H3 can be measured using, for example, a haze measuring machine [manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., TC-HIII DPK].
As the silicone oil, for example, “Shin-Etsu Silicone (trademark), model number KF-96-100CS” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used.

また、高分子圧電フィルムの厚さには特に制限はないが、10μm〜400μmが好ましく、20μm〜200μmがより好ましく、20μm〜100μmが更に好ましく、20μm〜80μmが特に好ましい。   The thickness of the polymer piezoelectric film is not particularly limited, but is preferably 10 μm to 400 μm, more preferably 20 μm to 200 μm, still more preferably 20 μm to 100 μm, and particularly preferably 20 μm to 80 μm.

〔安定化剤(B)〕
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムは、安定化剤(B)として、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の化合物を含有してもよい。これにより、高分子圧電フィルムの耐湿熱性がより向上する。
更に、高分子圧電フィルムは、安定化剤(B)として、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を1分子内に1つ有することが好ましい。
安定化剤(B)としては、国際公開第2013/054918号の段落0039〜0055に記載された「安定化剤(B)」を用いることができる。
[Stabilizer (B)]
The polymer piezoelectric film used in the present embodiment has a weight average molecular weight of 200 to 60000 having at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group as a stabilizer (B). A compound may be contained. Thereby, the heat-and-moisture resistance of a polymeric piezoelectric film improves more.
Furthermore, the polymer piezoelectric film preferably has one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group in one molecule as the stabilizer (B).
As the stabilizer (B), “stabilizer (B)” described in paragraphs 0039 to 0055 of International Publication No. 2013/054918 can be used.

安定化剤(B)として用い得る、一分子中にカルボジイミド基を含む化合物(カルボジイミド化合物)としては、モノカルボジイミド化合物、ポリカルボジイミド化合物、環状カルボジイミド化合物が挙げられる。
モノカルボジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド、等が好適である。
また、ポリカルボジイミド化合物としては、種々の方法で製造したものを使用することができる。従来のポリカルボジイミドの製造方法(例えば、米国特許第2941956号明細書、特公昭47−33279号公報、J.0rg.Chem.28,2069−2075(1963)、Chemical Review 1981,Vol.81 No.4、p619−621)により、製造されたものを用いることができる。具体的には特許4084953号公報に記載のカルボジイミド化合物を用いることもできる。
ポリカルボジイミド化合物としては、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)、ポリ(N,N’−ジ−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド)、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド、等が挙げられる。
環状カルボジイミド化合物は、特開2011−256337号公報、特開2013−256485号公報に記載の方法などに基づいて合成することができる。
カルボジイミド化合物としては、市販品を用いてもよく、例えば、東京化成工業株式会社製、B2756(商品名)、日清紡ケミカル株式会社製、カルボジライトLA−1、ラインケミー社製、Stabaxol P、Stabaxol P400、Stabaxol I(いずれも商品名)等が挙げられる。
Examples of the compound containing a carbodiimide group (carbodiimide compound) that can be used as the stabilizer (B) include a monocarbodiimide compound, a polycarbodiimide compound, and a cyclic carbodiimide compound.
As the monocarbodiimide compound, dicyclohexylcarbodiimide, bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide, and the like are preferable.
Moreover, as a polycarbodiimide compound, what was manufactured by the various method can be used. Conventional methods for producing polycarbodiimides (for example, U.S. Pat. No. 2,941,956, JP-B-47-33279, J.0rg.Chem.28, 2069-2075 (1963), Chemical Review 1981, Vol. 81 No. 1). 4, p619-621) can be used. Specifically, a carbodiimide compound described in Japanese Patent No. 4084953 can also be used.
Examples of the polycarbodiimide compound include poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide), poly (N, N′-di-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide), poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2, 4-carbodiimide and the like.
The cyclic carbodiimide compound can be synthesized based on the method described in JP2011-256337A and JP2013-256485A.
Commercially available products may be used as the carbodiimide compound, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., B2756 (trade name), Nisshinbo Chemical Co., Ltd., Carbodilite LA-1, Rhein Chemie, Stabaxol P, Stabaxol P400, Stabaxol. I (both are trade names).

安定化剤(B)として用い得る、一分子中にイソシアネート基を含む化合物(イソシアネート化合物)としては、イソシアン酸3−(トリエトキシシリル)プロピル、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、等が挙げられる。   Examples of the compound (isocyanate compound) containing an isocyanate group in one molecule that can be used as the stabilizer (B) include 3- (triethoxysilyl) propyl isocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate. Diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,2′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, Etc.

安定化剤(B)として用い得る、一分子中にエポキシ基を含む化合物(エポキシ化合物)としては、フェニルグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。   Examples of the compound (epoxy compound) containing an epoxy group in one molecule that can be used as the stabilizer (B) include phenyl glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A-diglycidyl ether. Phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, epoxidized polybutadiene and the like.

安定化剤(B)の重量平均分子量は、上述のとおり200〜60000であるが、200〜30000がより好ましく、300〜18000がさらに好ましい。
安定化剤(B)の重量平均分子量が上記範囲内であると、安定化剤がより移動しやすくなり、耐湿熱性の改良効果がより効果的に奏される。
安定化剤(B)の重量平均分子量は、200〜900であることが特に好ましい。なお、重量平均分子量200〜900は、数平均分子量200〜900とほぼ一致する。また、重量平均分子量200〜900の場合、分子量分布が1.0である場合があり、この場合には、「重量平均分子量200〜900」を、単に「分子量200〜900」と言い換えることもできる。
As described above, the weight average molecular weight of the stabilizer (B) is 200 to 60000, more preferably 200 to 30000, and still more preferably 300 to 18000.
When the weight average molecular weight of the stabilizer (B) is within the above range, the stabilizer is more easily moved, and the effect of improving the heat and moisture resistance is more effectively exhibited.
The weight average molecular weight of the stabilizer (B) is particularly preferably 200 to 900. In addition, the weight average molecular weight 200-900 substantially corresponds with the number average molecular weight 200-900. Further, when the weight average molecular weight is 200 to 900, the molecular weight distribution may be 1.0. In this case, “weight average molecular weight 200 to 900” can be simply referred to as “molecular weight 200 to 900”. .

高分子圧電フィルムが安定化剤(B)を含有する場合、高分子圧電フィルムは、安定化剤(B)を1種のみ含有してもよいし、2種以上含有してもよい。
高分子圧電フィルムがヘリカルキラル高分子(A)及び安定化剤(B)を含む場合、安定化剤(B)の含有量(2種以上である場合には総含有量。以下同じ。)は、ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対し、0.01質量部〜10質量部であることが好ましく、0.01質量部〜5質量部であることがより好ましく、0.01質量部〜3質量部であることがさらに好ましく、0.01質量部〜2.8質量部であることがさらに好ましく、0.1質量部〜2.8質量部であることがさらに好ましく、0.5質量部〜2質量部であることが特に好ましい。
上記含有量が0.01質量部以上であると、耐湿熱性がより向上する。
また、上記含有量が10質量部以下であると、透明性の低下がより抑制される。
When the polymer piezoelectric film contains the stabilizer (B), the polymer piezoelectric film may contain only one kind of stabilizer (B) or two or more kinds.
When the polymer piezoelectric film contains the helical chiral polymer (A) and the stabilizer (B), the content of the stabilizer (B) (when there are two or more kinds, the total content; the same shall apply hereinafter). , Preferably from 0.01 parts by weight to 10 parts by weight, more preferably from 0.01 parts by weight to 5 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the helical chiral polymer (A). It is more preferably ~ 3 parts by mass, further preferably 0.01 parts by mass to 2.8 parts by mass, further preferably 0.1 parts by mass to 2.8 parts by mass, and 0.5 It is especially preferable that it is 2 mass parts.
When the content is 0.01 parts by mass or more, the heat and humidity resistance is further improved.
Moreover, the transparency fall is suppressed more as the said content is 10 mass parts or less.

安定化剤(B)の好ましい態様としては、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有し、かつ、数平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)と、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を1分子内に2以上有し、かつ、重量平均分子量が1000〜60000の安定化剤(B2)と、を併用するという態様が挙げられる。なお、数平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)の重量平均分子量は、大凡200〜900であり、安定化剤(B1)の数平均分子量と重量平均分子量とはほぼ同じ値となる。
安定化剤(B)として安定化剤(B1)と安定化剤(B2)とを併用する場合、安定化剤(B1)を多く含むことが透明性向上の観点から好ましい。
具体的には、安定化剤(B1)100質量部に対して、安定化剤(B2)が10質量部〜150質量部の範囲であることが、透明性と耐湿熱性の両立という観点から好ましく、30質量部〜100質量部の範囲であることがより好ましく、50質量部〜100質量部の範囲であることが特に好ましい。
A preferred embodiment of the stabilizer (B) is a stabilizer having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group, and having a number average molecular weight of 200 to 900. (B1) and a stabilizer having two or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group in one molecule and having a weight average molecular weight of 1000 to 60000 ( B2) is used in combination. The weight average molecular weight of the stabilizer (B1) having a number average molecular weight of 200 to 900 is about 200 to 900, and the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the stabilizer (B1) are almost the same value. .
When the stabilizer (B1) and the stabilizer (B2) are used in combination as the stabilizer (B), it is preferable to contain a large amount of the stabilizer (B1) from the viewpoint of improving the transparency.
Specifically, it is preferable that the stabilizer (B2) is in the range of 10 parts by mass to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the stabilizer (B1) from the viewpoint of achieving both transparency and wet heat resistance. The range of 30 to 100 parts by mass is more preferable, and the range of 50 to 100 parts by mass is particularly preferable.

本実施形態で用いられる高分子圧電フィルムは、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有し、かつ、重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜10質量部含むことがより好ましい。
本実施形態で用いられる高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが13%以下であり、かつ、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種類以上の官能基を有し、かつ、重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜2.8質量部含むことがさらに好ましい。これにより、高分子圧電フィルムは、圧電性、透明性及び耐湿熱性のバランスにより優れる。
The polymeric piezoelectric film used in this embodiment has one or more functional groups selected from the group consisting of carbodiimide groups, epoxy groups, and isocyanate groups, and has a weight average molecular weight of 200 to 60000. More preferably, (B) is contained in an amount of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (A).
The polymer piezoelectric film used in the present embodiment has an internal haze with respect to visible light of 13% or less, and one or more functional groups selected from the group consisting of carbodiimide groups, epoxy groups, and isocyanate groups. Moreover, it is more preferable that the stabilizer (B) having a weight average molecular weight of 200 to 60,000 is contained in an amount of 0.01 to 2.8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (A). Thereby, the polymer piezoelectric film is more excellent in the balance of piezoelectricity, transparency and wet heat resistance.

以下、安定化剤(B)の具体例(安定化剤SS−1〜SS−3)を示す。   Hereinafter, specific examples (stabilizers SS-1 to SS-3) of the stabilizer (B) will be shown.


以下、上記安定化剤SS−1〜SS−3について、化合物名、市販品等を示す。
・安定化剤SS−1 … 化合物名は、ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミドである。重量平均分子量(この例では、単なる「分子量」に等しい)は、363である。市販品としては、ラインケミー社製「Stabaxol I」、東京化成工業株式会社製「B2756」が挙げられる。
・安定化剤SS−2 … 化合物名は、ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)である。市販品としては、重量平均分子量約2000のものとして、日清紡ケミカル株式会社製「カルボジライトLA−1」が挙げられる。
・安定化剤SS−3 … 化合物名は、ポリ(1,3,5−トリイソプロピルフェニレン−2,4−カルボジイミド)である。市販品としては、重量平均分子量約3000のものとして、ラインケミー社製「Stabaxol P」が挙げられる。また、重量平均分子量20000のものとして、ラインケミー社製「Stabaxol P400」が挙げられる。
Hereinafter, about the stabilizer SS-1 to SS-3, a compound name, a commercial item, etc. are shown.
-Stabilizer SS-1 The compound name is bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide. The weight average molecular weight (in this example, simply equal to “molecular weight”) is 363. Examples of commercially available products include “Stabaxol I” manufactured by Rhein Chemie and “B2756” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
-Stabilizer SS-2 The compound name is poly (4,4'-dicyclohexylmethanecarbodiimide). As a commercially available product, “Carbodilite LA-1” manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd. may be mentioned as having a weight average molecular weight of about 2000.
-Stabilizer SS-3 The compound name is poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide). As a commercially available product, “Stabaxol P” manufactured by Rhein Chemie Co., Ltd. can be mentioned as having a weight average molecular weight of about 3000. Further, “Stabaxol P400” manufactured by Rhein Chemie is listed as having a weight average molecular weight of 20,000.

(酸化防止剤)
また、本実施形態で用いる高分子圧電フィルムは、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ホスファイト系化合物及びチオエーテル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
また、酸化防止剤として、ヒンダードフェノール系化合物又はヒンダードアミン系化合物を用いることがより好ましい。これにより、耐湿熱性及び透明性にも優れる高分子圧電フィルムを提供することができる。
(Antioxidant)
Moreover, the polymer piezoelectric film used in the present embodiment may contain an antioxidant. The antioxidant is preferably at least one compound selected from the group consisting of hindered phenol compounds, hindered amine compounds, phosphite compounds, and thioether compounds.
Moreover, it is more preferable to use a hindered phenol compound or a hindered amine compound as the antioxidant. Thereby, the polymeric piezoelectric film which is excellent also in heat-and-moisture resistance and transparency can be provided.

(その他の成分)
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムは、本発明の効果を損なわない限度において、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン樹脂やポリスチレン樹脂に代表される公知の樹脂や、シリカ、ヒドロキシアパタイト、モンモリロナイト等の無機フィラー、フタロシアニン等の公知の結晶核剤等、その他の成分を含有していてもよい。
なお、高分子圧電フィルムがヘリカルキラル高分子(A)以外の成分を含む場合、ヘリカルキラル高分子(A)以外の成分の含有量は、高分子圧電フィルム全質量に対して、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましい。
(Other ingredients)
The polymer piezoelectric film used in the present embodiment is a known resin typified by polyvinylidene fluoride, polyethylene resin and polystyrene resin, inorganic fillers such as silica, hydroxyapatite, and montmorillonite, as long as the effects of the present invention are not impaired. It may contain other components such as known crystal nucleating agents such as phthalocyanine.
When the polymer piezoelectric film contains components other than the helical chiral polymer (A), the content of components other than the helical chiral polymer (A) is 20% by mass or less based on the total mass of the polymer piezoelectric film. It is preferable that it is 10 mass% or less.

本実施形態で用いる高分子圧電フィルムは、本発明の効果を損なわない限度において、既述のヘリカルキラル高分子(A)(即ち、重量平均分子量(Mw)が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A))以外の光学活性を有するヘリカルキラル高分子を含んでいてもよい。   The polymer piezoelectric film used in the present embodiment has the above-described helical chiral polymer (A) (that is, optical activity having a weight average molecular weight (Mw) of 50,000 to 1,000,000) as long as the effects of the present invention are not impaired. The helical chiral polymer having optical activity other than the helical chiral polymer (A)) having the above may be included.

なお、高分子圧電フィルムは、透明性の観点からは、光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)以外の成分を含まないことが好ましい。   In addition, it is preferable that a polymeric piezoelectric film does not contain components other than the helical chiral polymer (A) which has optical activity from a transparency viewpoint.

−高分子圧電フィルムの製造方法−
本実施形態で用いる高分子圧電フィルムを製造する方法としては、結晶化度を20%〜80%に調整でき、かつ、規格化分子配向MORcと結晶化度との積を40〜700に調整できる方法であれば特に制限されない。
この方法として、例えば、ヘリカルキラル高分子(A)を含む組成物をフィルム状に成形する工程(成形工程)と、成形されたフィルムを延伸する工程(延伸工程)と、を含む方法によって好適に製造することができる。例えば、国際公開第2013/054918号の段落0065〜0099に記載の製造方法が挙げられる。
-Manufacturing method of polymer piezoelectric film-
As a method for producing the polymer piezoelectric film used in the present embodiment, the crystallinity can be adjusted to 20% to 80%, and the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity can be adjusted to 40 to 700. The method is not particularly limited.
As this method, for example, a method including a step of forming a composition containing the helical chiral polymer (A) into a film (molding step) and a step of stretching the formed film (stretching step) is preferable. Can be manufactured. For example, the manufacturing method as described in Paragraph 0065-0099 of international publication 2013/054918 is mentioned.

(成形工程)
成形工程は、ヘリカルキラル高分子(A)と、必要に応じ安定化剤(B)等のその他の成分と、を含む組成物を、ヘリカルキラル高分子(A)の融点Tm(℃)以上の温度に加熱してフィルム形状に成形する工程である。この成形工程により、ヘリカルキラル高分子(A)と、必要に応じ安定化剤(B)等のその他の成分と、を含むフィルムが得られる。
(Molding process)
In the molding step, a composition containing the helical chiral polymer (A) and, if necessary, other components such as a stabilizer (B), is added to a melting point Tm (° C.) or higher of the helical chiral polymer (A). It is a process of heating to temperature and forming into a film shape. By this forming step, a film containing the helical chiral polymer (A) and other components such as a stabilizer (B) as required is obtained.

なお、本明細書中において、ヘリカルキラル高分子(A)の融点Tm(℃)、及び、ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度(Tg)は、それぞれ、示差走査型熱量計(DSC)を用い、昇温速度10℃/分の条件でヘリカルキラル高分子(A)の温度を上昇させたときの融解吸熱曲線から求めた値を指す。融点(Tm)は、吸熱反応のピーク値として得られる値である。ガラス転移温度(Tg)は、溶融吸熱曲線の屈曲点として得られる値である。   In the present specification, the melting point Tm (° C.) of the helical chiral polymer (A) and the glass transition temperature (Tg) of the helical chiral polymer (A) are respectively a differential scanning calorimeter (DSC). Is a value obtained from a melting endothermic curve when the temperature of the helical chiral polymer (A) is raised at a temperature rising rate of 10 ° C./min. The melting point (Tm) is a value obtained as a peak value of the endothermic reaction. The glass transition temperature (Tg) is a value obtained as the inflection point of the melting endothermic curve.

上記組成物は、ヘリカルキラル高分子(A)と、必要に応じ安定化剤(B)等のその他の成分と、を混合することにより製造することができる。
上記混合は、溶融混練であってもよい。
具体的には、上記組成物は、ヘリカルキラル高分子(A)と、必要に応じ安定化剤(B)等のその他の成分と、を溶融混練機〔例えば、東洋精機製作所製のラボプラストミル〕に投入し、ヘリカルキラル高分子(A)の融点以上の温度に加熱して溶融混練することにより製造してもよい。この場合、本工程では、ヘリカルキラル高分子(A)の融点以上の温度に加熱して溶融混練することによって製造された組成物を、ヘリカルキラル高分子(A)の融点以上の温度に維持した状態でフィルム形状に成形する。
溶融混練の条件としては、例えば、ミキサー回転数30rpm〜70rpm、温度180℃〜250℃、混練時間5分間〜20分間、といった条件が挙げられる。
The said composition can be manufactured by mixing helical chiral polymer (A) and other components, such as a stabilizer (B) as needed.
The mixing may be melt kneading.
Specifically, the composition comprises a helical chiral polymer (A) and other components such as a stabilizer (B) if necessary, a melt kneader [for example, Labo Plast Mill manufactured by Toyo Seiki Seisakusho. ], And may be produced by melting and kneading by heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the helical chiral polymer (A). In this case, in this step, the composition produced by heating and melting and kneading at a temperature equal to or higher than the melting point of the helical chiral polymer (A) was maintained at a temperature equal to or higher than the melting point of the helical chiral polymer (A). It is formed into a film shape in the state.
Examples of the melt kneading conditions include a mixer rotation speed of 30 rpm to 70 rpm, a temperature of 180 ° C. to 250 ° C., and a kneading time of 5 minutes to 20 minutes.

本成形工程において、組成物をフィルム状に成形する方法としては、溶融押出成形、プレス成形、射出成形、カレンダー成形、キャスト法による成形方法が使用される。また、Tダイ押出成形法などによりフィルム状に成形してもよい。   In the main molding step, as a method of molding the composition into a film, a melt extrusion molding, a press molding, an injection molding, a calendar molding, or a molding method using a casting method is used. Further, it may be formed into a film by a T-die extrusion method or the like.

Tダイ押出成形法により組成物をフィルム状に成形する場合、例えば、押出温度を、200℃〜230℃に調整することが好ましく、220℃〜230℃に調整することがより好ましい。   When the composition is formed into a film by a T-die extrusion method, for example, the extrusion temperature is preferably adjusted to 200 ° C. to 230 ° C., more preferably 220 ° C. to 230 ° C.

成形工程では、組成物を上記温度に加熱し成形してフィルムとし、得られたフィルムを急冷してもよい。急冷により、本工程で得られるフィルムの結晶化度を調整することができる。
ここで、「急冷」とは、押出した直後に少なくともヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度Tg以下に冷やすことをいう。
本実施形態では、フィルムへの成形と急冷との間に他の処理が含まれないことが好ましい。
In the forming step, the composition may be heated to the above temperature to form a film, and the resulting film may be quenched. The crystallinity of the film obtained in this step can be adjusted by rapid cooling.
Here, “rapid cooling” means cooling immediately after extrusion to at least the glass transition temperature Tg of the helical chiral polymer (A).
In the present embodiment, it is preferable that no other treatment is included between the forming into a film and the rapid cooling.

急冷の方法は、水、氷水、エタノール、ドライアイスを入れたエタノール又はメタノール、液体窒素などの冷媒にフィルムを浸漬する方法;蒸気圧の低い液体スプレーをフィルムに吹き付け、蒸発潜熱によりフィルムを冷却する方法;等が挙げられる。   The method of rapid cooling is a method of immersing the film in a coolant such as water, ice water, ethanol, ethanol or dry ice, methanol, or liquid nitrogen; spraying a liquid spray with low vapor pressure on the film and cooling the film by latent heat of vaporization Method; and the like.

また、連続的にフィルムを冷却するには、ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度Tg以下の温度に管理された金属ロールとフィルムとを接触させるなどして、急冷することもできる。
また、冷却の回数は、1回のみであっても、2回以上であってもよい。
Moreover, in order to cool a film continuously, it can also cool rapidly by making the metal roll and film controlled to the temperature below the glass transition temperature Tg of helical chiral polymer (A) contact.
Moreover, the frequency | count of cooling may be only once or may be 2 times or more.

成形工程で得られるフィルム(即ち、後述の延伸工程に供されるフィルム)は、非晶状態のフィルムであってもよいし、予備結晶化されたフィルム(以下、「予備結晶化フィルム」ともいう)であってもよい。
ここで、非晶状態のフィルムとは、結晶化度が3%未満であるフィルムをいう。
また、予備結晶化フィルムとは、結晶化度が3%以上(好ましくは3%〜70%)であるフィルムを指す。
ここで、結晶化度は、高分子圧電フィルムの結晶化度と同様の方法によって測定される値を指す。
The film obtained in the molding step (that is, the film used in the stretching step described later) may be an amorphous film or a pre-crystallized film (hereinafter referred to as “pre-crystallized film”). ).
Here, the amorphous film refers to a film having a crystallinity of less than 3%.
The pre-crystallized film refers to a film having a crystallinity of 3% or more (preferably 3% to 70%).
Here, the crystallinity indicates a value measured by the same method as the crystallinity of the polymer piezoelectric film.

成形工程で得られるフィルム(非晶状態のフィルム、又は、予備結晶化フィルム)の厚さは、最終的に得られる高分子圧電フィルムの厚さと延伸倍率によって主に決められるが、好ましくは50μm〜1000μmであり、より好ましくは100μm〜800μm程度である。   The thickness of the film (amorphous film or pre-crystallized film) obtained in the molding step is mainly determined by the thickness of the polymer piezoelectric film finally obtained and the draw ratio, but preferably 50 μm to It is 1000 micrometers, More preferably, it is about 100 micrometers-800 micrometers.

予備結晶化フィルムは、ヘリカルキラル高分子(A)と、必要に応じ安定化剤(B)等のその他の成分と、を含む非晶状態のフィルムを加熱処理して結晶化させることで得ることができる。
非晶状態のフィルムを予備結晶化するための加熱温度Tは特に限定されないが、製造される高分子圧電フィルムの圧電性や透明性など高める点で、ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度Tgと以下の式の関係を満たし、結晶化度が3%〜70%になるように設定されることが好ましい。
Tg−40℃≦T≦Tg+40℃
(Tgは、ヘリカルキラル高分子(A)のガラス転移温度を表す)
The pre-crystallized film is obtained by heat-treating an amorphous film containing the helical chiral polymer (A) and other components such as a stabilizer (B) as necessary, and crystallizing it. Can do.
The heating temperature T for pre-crystallization of the amorphous film is not particularly limited, but the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A) is enhanced in terms of enhancing the piezoelectricity and transparency of the produced polymer piezoelectric film. It is preferable that the relationship between Tg and the following formula is satisfied and the crystallinity is set to 3% to 70%.
Tg−40 ° C. ≦ T ≦ Tg + 40 ° C.
(Tg represents the glass transition temperature of the helical chiral polymer (A))

非晶状態のフィルムを予備結晶化するための加熱時間は、最終的に得られる高分子圧電フィルムの、規格化分子配向MORcや結晶化度を考慮して適宜設定できる。
上記加熱時間は、5秒〜60分が好ましい。加熱時間が長くなるに従い、上記規格化分子配向MORcが高くなり、上記結晶化度が高くなる傾向となる。
例えば、ヘリカルキラル高分子(A)としてポリ乳酸系高分子を含む非晶状態のフィルムを予備結晶化する場合は、20℃〜170℃で、5秒〜60分加熱することが好ましい。
The heating time for pre-crystallization of the amorphous film can be appropriately set in consideration of the normalized molecular orientation MORc and crystallinity of the finally obtained polymer piezoelectric film.
The heating time is preferably 5 seconds to 60 minutes. As the heating time increases, the normalized molecular orientation MORc increases and the crystallinity tends to increase.
For example, when an amorphous film containing a polylactic acid polymer as the helical chiral polymer (A) is pre-crystallized, it is preferably heated at 20 ° C. to 170 ° C. for 5 seconds to 60 minutes.

非晶状態のフィルムを予備結晶化するには、例えば、上記の温度範囲に調整されたキャストロールを用いることができる。この予備結晶化用のキャストロールに、前述の静電密着法を利用して、高分子圧電フィルムを密着させて、予備結晶化するとともに、厚さのピークを調整することができる。例えば、フィルム全面を密着させるワイヤーピンニングを採用する場合、電極の位置の調整や材質、印加電圧等により、厚さのピークを調整することができる。   In order to pre-crystallize an amorphous film, for example, a cast roll adjusted to the above temperature range can be used. By using the electrostatic contact method described above, the polymer piezoelectric film is brought into close contact with the cast roll for preliminary crystallization to perform preliminary crystallization, and the thickness peak can be adjusted. For example, when adopting wire pinning that adheres the entire surface of the film, the peak of thickness can be adjusted by adjusting the position of the electrode, the material, the applied voltage, and the like.

(延伸工程)
延伸工程は、成形工程において得られたフィルム(例えば予備結晶化フィルム)を主として一軸方向に延伸する工程である。本工程により、延伸フィルムとして、主面の面積が大きな高分子圧電フィルムを得ることができる。
なお、主面の面積が大きいとは、高分子圧電フィルムの主面の面積が5mm以上であることをいう。また、主面の面積が10mm以上であることが好ましい。
(Stretching process)
The stretching step is a step of stretching a film (for example, a pre-crystallized film) obtained in the forming step mainly in a uniaxial direction. By this step, a polymer piezoelectric film having a large principal surface area can be obtained as a stretched film.
In addition, that the area of a main surface is large means that the area of the main surface of a polymeric piezoelectric film is 5 mm < 2 > or more. Moreover, it is preferable that the area of a main surface is 10 mm < 2 > or more.

また、フィルムを主として一軸方向に延伸することで、フィルムに含まれるヘリカルキラル高分子(A)の分子鎖を、一方向に配向させ、かつ高密度に整列させることができ、より高い圧電性が得られると推測される。連続プロセスにて一軸方向に延伸する方法としてはプロセスの流れ方向(MD方向)と延伸方向が一致した縦延伸であっても、プロセスの流れ方向に垂直な方向(TD方向)と延伸方向が一致した横延伸であっても良い。   In addition, by stretching the film mainly in the uniaxial direction, the molecular chains of the helical chiral polymer (A) contained in the film can be aligned in one direction and aligned at a high density, and higher piezoelectricity can be obtained. Presumed to be obtained. As a method of stretching in a uniaxial direction in a continuous process, even in the case of longitudinal stretching in which the process flow direction (MD direction) matches the stretching direction, the direction perpendicular to the process flow direction (TD direction) matches the stretching direction. Lateral stretching may be used.

フィルムの延伸温度は、一軸方向への延伸のように引張力のみでフィルムを延伸する場合、フィルム(又は、フィルム中のヘリカルキラル高分子(A))のガラス転移温度より10℃〜20℃程度高い温度範囲であることが好ましい。   The stretching temperature of the film is about 10 ° C. to 20 ° C. from the glass transition temperature of the film (or the helical chiral polymer (A) in the film) when the film is stretched only by a tensile force like stretching in a uniaxial direction. A high temperature range is preferred.

延伸処理における延伸倍率(主延伸倍率)は、2倍〜10倍が好ましく、3倍〜5倍がより好ましく、3倍〜4倍が更に好ましい。これにより、より高い圧電性及び透明性を有する高分子圧電フィルムが得られる。   The stretching ratio (main stretching ratio) in the stretching process is preferably 2 to 10 times, more preferably 3 to 5 times, and still more preferably 3 to 4 times. Thereby, a polymer piezoelectric film having higher piezoelectricity and transparency can be obtained.

なお、延伸工程において、圧電性を高めるための延伸(主延伸)をする際に、同時に又は逐次的に、前記主延伸の方向と交差(好ましくは、直交)する方向に成形工程において得られたフィルム(例えば、予備結晶化フィルム)を延伸(副次的延伸ともいう)してもよい。
なお、ここで言う「逐次的な延伸」とは、まず一軸方向に延伸した後に、前記延伸の方向と交差する方向に延伸する延伸方法をいう。
延伸工程にて副次的延伸を行なう場合、副次的延伸の延伸倍率は、1倍〜3倍が好ましく、1.1倍〜2.5倍がより好ましく、1.2倍〜2.0倍がさらに好ましい。これにより、高分子圧電フィルムの引裂強さをより高めることができる。
In the stretching process, when stretching (main stretching) for enhancing piezoelectricity, the molding process was performed in the direction intersecting (preferably orthogonally) the main stretching direction simultaneously or sequentially. A film (for example, a pre-crystallized film) may be stretched (also referred to as secondary stretching).
Here, “sequential stretching” refers to a stretching method in which stretching is performed in a uniaxial direction and then stretching in a direction intersecting with the stretching direction.
When secondary stretching is performed in the stretching step, the stretching ratio of the secondary stretching is preferably 1 to 3 times, more preferably 1.1 to 2.5 times, and 1.2 to 2.0. Double is more preferred. Thereby, the tearing strength of the polymer piezoelectric film can be further increased.

延伸工程において、予備結晶化フィルムの延伸を行なう場合には、延伸直前にフィルムを延伸しやすくするために予熱を行なってもよい。この予熱は、一般的には延伸前のフィルムを軟らかくし延伸しやすくするために行なわれるものであるため、前記延伸前のフィルムを結晶化してフィルムを硬くすることがない条件で行なわれるのが通常である。しかし、上述したように本実施形態においては、延伸前に予備結晶化を行なう場合があるため、前記予熱を、予備結晶化を兼ねて行なってもよい。具体的には、予備結晶化工程における加熱温度や加熱処理時間に合わせて、予熱を通常行なわれる温度よりも高い温度や長い時間行なうことで、予熱と予備結晶化を兼ねることができる。   In the stretching step, when the pre-crystallized film is stretched, preheating may be performed to facilitate stretching of the film immediately before stretching. This preheating is generally performed in order to soften the film before stretching and make it easy to stretch. Therefore, the preheating is performed under the condition that the film before stretching is not crystallized and hardened. It is normal. However, as described above, in the present embodiment, since pre-crystallization may be performed before stretching, the pre-heating may be performed together with pre-crystallization. Specifically, preheating and precrystallization can be performed by performing preheating at a temperature higher or longer than the normal temperature in accordance with the heating temperature and heat treatment time in the precrystallization step.

(アニール工程)
本実施形態の製造方法は、必要に応じ、アニール工程を有していてもよい。
アニール工程は、上記延伸工程において延伸されたフィルム(以下、「延伸フィルム」ともいう)を、アニール(熱処理)する工程である。アニール工程により、延伸フィルムの結晶化をより進行させることができ、より圧電性が高い高分子圧電フィルムを得ることができる。
また、主に、アニールによって延伸フィルムが結晶化する場合は、前述の成形工程における、予備結晶化の操作を省略できる場合がある。この場合、成形工程で得られるフィルム(即ち、延伸工程に供されるフィルム)として、非晶状態のフィルムを選択できる。
(Annealing process)
The manufacturing method of this embodiment may have an annealing process as needed.
The annealing step is a step of annealing (heat treatment) the film stretched in the stretching step (hereinafter also referred to as “stretched film”). By the annealing step, crystallization of the stretched film can be further advanced, and a polymer piezoelectric film having higher piezoelectricity can be obtained.
In addition, mainly when the stretched film is crystallized by annealing, the preliminary crystallization operation in the above-described forming step may be omitted. In this case, a film in an amorphous state can be selected as a film obtained in the molding process (that is, a film used in the stretching process).

本実施形態において、アニールの温度は、80℃〜160℃であることが好ましく、100℃〜155℃あることがより好ましい。   In the present embodiment, the annealing temperature is preferably 80 ° C. to 160 ° C., and more preferably 100 ° C. to 155 ° C.

アニール(熱処理)の方法としては特に限定されないが、延伸されたフィルムを、加熱ロールへの接触、熱風ヒータや赤外線ヒータを用いて直接加熱する方法;延伸されたフィルムを、加熱した液体(シリコーンオイル等)に浸漬することにより加熱する方法;等が挙げられる。   The method of annealing (heat treatment) is not particularly limited, but a method in which a stretched film is heated by contact with a heating roll or directly using a hot air heater or an infrared heater; a liquid in which the stretched film is heated (silicone oil) Etc.) and a method of heating by immersing in, etc .;

アニールは、延伸フィルムに一定の引張応力(例えば、0.01MPa〜100MPa)を印加し、延伸フィルムがたるまないようにしながら行うことが好ましい。   The annealing is preferably performed while applying a certain tensile stress (for example, 0.01 MPa to 100 MPa) to the stretched film so that the stretched film does not sag.

アニールの時間は、1秒〜5分であることが好ましく、5秒〜3分であることがより好ましく、10秒〜2分であることがさらに好ましい。アニールの時間が5分以下であると生産性に優れる。一方、アニールの時間が1秒以上であると、フィルムの結晶化度をより向上させることができる。   The annealing time is preferably 1 second to 5 minutes, more preferably 5 seconds to 3 minutes, and even more preferably 10 seconds to 2 minutes. When the annealing time is 5 minutes or less, the productivity is excellent. On the other hand, when the annealing time is 1 second or longer, the crystallinity of the film can be further improved.

アニールされた延伸フィルム(即ち、高分子圧電フィルム)は、アニール後に急冷することが好ましい。アニール工程で行われることがある「急冷」は、既述の成形工程で行われることがある「急冷」と同様である。
冷却の回数は、1回のみであっても、2回以上であってもよく、さらには、アニールと冷却とを交互に繰り返し行なうことも可能である。
The annealed stretched film (that is, the polymer piezoelectric film) is preferably rapidly cooled after annealing. The “rapid cooling” that may be performed in the annealing process is the same as the “rapid cooling” that may be performed in the above-described forming process.
The number of times of cooling may be only once, or may be two or more. Furthermore, annealing and cooling can be alternately repeated.

[機能層(X)]
機能層(X)は、高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面上に設けられた層である。機能層(X)は、高分子圧電フィルムを保護するための層、他の層と高分子圧電フィルムとを貼り合せる層などとして機能する。機能層(X)は、高分子圧電フィルムに接触していることが好ましい。
[Functional layer (X)]
The functional layer (X) is a layer provided on at least one main surface of the polymer piezoelectric film. The functional layer (X) functions as a layer for protecting the polymer piezoelectric film, a layer for bonding another layer and the polymer piezoelectric film, and the like. The functional layer (X) is preferably in contact with the polymer piezoelectric film.

機能層(X)としては、接着層であることが好ましい。なお、本明細書中では、「接着」は粘着を包含する概念であり、「接着層」には粘着層も含まれる。以下では、機能層(X)の一形態である接着層について説明する。   The functional layer (X) is preferably an adhesive layer. In the present specification, “adhesion” is a concept including adhesion, and “adhesion layer” includes an adhesion layer. Below, the contact bonding layer which is one form of functional layer (X) is demonstrated.

接着層は、接着性を有する層であり、接着層としては両面をセパレータでラミネートしてある両面テープ(OCA;Optical Clear Adhensive)を用いることができる。
また、上記接着層は、溶剤系、無溶剤系、水系などの粘着コート液、UV硬化型OCR(Optical Clear Resin)、ホットメルト接着剤、などを用いて形成することもできる。
The adhesive layer is an adhesive layer. As the adhesive layer, a double-sided tape (OCA; Optical Clear Adhesive) in which both surfaces are laminated with a separator can be used.
The adhesive layer can also be formed using a solvent-based, solvent-free, water-based or other adhesive coating solution, UV curable OCR (Optical Clear Resin), hot melt adhesive, or the like.

OCAとしては、光学用透明粘着シートLUCIACSシリーズ(日東電工株式会社製)や高透明両面テープ5400Aシリーズ(積水化学工業株式会社製)、光学粘着シートOpteriaシリーズ(リンテック株式会社製)、高透明性接着剤転写テープシリーズ(住友スリーエム株式会社製)、SANCUARYシリーズ(株式会社サンエー化研製)などが挙げられる。   As OCA, optical transparent adhesive sheet LUCIACS series (manufactured by Nitto Denko Corporation), highly transparent double-sided tape 5400A series (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), optical adhesive sheet Optia series (manufactured by Lintec Corporation), high transparency adhesive Agent transfer tape series (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), SANCUARY series (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.), etc.

粘着コート液(接着塗工液)としては、SKダインシリーズ(綜研化学株式会社製)、ファインタックシリーズ(DIC株式会社製)、ボンコートシリーズ、LKGシリーズ(藤倉化成株式会社製)、コーポニールシリーズ(日本合成化学工業株式会社製)などが挙げられる。   Adhesive coating liquids (adhesive coating liquids) include SK Dyne series (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), Fine Tack series (manufactured by DIC Corporation), Boncoat series, LKG series (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), and Coponil series. (Manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

接着層としては、高分子圧電フィルムの加熱を防ぐ観点から、OCAの接着層、OCRを用いて形成された接着層、高分子圧電フィルム以外の部材(例えば、後述する離型フィルム)に粘着コート液を塗布して形成した接着層、高分子圧電フィルム以外の部材にホットメルト接着剤を使用して形成した接着層が好ましい。   As an adhesive layer, from the viewpoint of preventing heating of the polymer piezoelectric film, an adhesive coating is applied to an OCA adhesive layer, an adhesive layer formed using OCR, or a member other than the polymer piezoelectric film (for example, a release film described later). An adhesive layer formed by applying a liquid and an adhesive layer formed using a hot melt adhesive on a member other than the polymer piezoelectric film are preferred.

接着層の材料としては、特に限定されるものではないが、樹脂を含むことが好ましい。
樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、ナイロン−エポキシ系樹脂、塩化ビニル系樹脂、クロロプレンゴム系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、シリコーン系樹脂、変性シリコーン系樹脂、水性高分子-イソシアネート系樹脂、スチレン-ブタジエンゴム系樹脂、ニトリルゴム系樹脂、アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、臭素樹脂、デンプン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a material of an contact bonding layer, It is preferable that resin is included.
Examples of the resin include acrylic resin, methacrylic resin, urethane resin, cellulose resin, vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate resin, epoxy resin, nylon-epoxy resin, vinyl chloride resin, chloroprene. Rubber resin, cyanoacrylate resin, silicone resin, modified silicone resin, aqueous polymer-isocyanate resin, styrene-butadiene rubber resin, nitrile rubber resin, acetal resin, phenol resin, polyamide resin, polyimide resin, Examples include melamine resin, urea resin, bromine resin, starch resin, polyester resin, and polyolefin resin.

機能層(X)の膜厚は、特に限定されるものではないが、機能層(X)の密着力の維持と透過率の低下とを抑制する観点から、厚みを5μm以上とすることが好ましく、7μm〜100μmとすることがより好ましく、7μm〜60μmとすることがさらに好ましく、10μm〜30μmとすることが特に好ましい。   The film thickness of the functional layer (X) is not particularly limited, but it is preferable that the thickness be 5 μm or more from the viewpoint of suppressing the adhesion of the functional layer (X) and reducing the transmittance. 7 μm to 100 μm is more preferable, 7 μm to 60 μm is further preferable, and 10 μm to 30 μm is particularly preferable.

−機能層(X)の酸価−
機能層(X)の酸価は、積層フィルムの湿熱環境下での劣化を抑制する観点から、10mgKOH/g以下であることが好ましく、5mgKOH/g以下であることがより好ましく、1mgKOH/g以下であることがさらに好ましい。
機能層(X)の酸価は、高分子圧電フィルムと機能層(X)との密着力をより向上させる観点から、0.01mgKOH/g以上であることが好ましく、0.05mgKOH/g以上であることがより好ましく、0.1mgKOH/g以上であることがさらに好ましい。
本明細書において、機能層(X)の酸価は、機能層(X)1g中の遊離酸を中和するのに要するKOHの量(mg)を指す。このKOHの量(mg)は、溶媒に溶解又は膨潤させた機能層(X)を、フェノールフタレインを指示薬として0.005M KOH(水酸化カリウム)エタノール溶液によって滴定することにより測定される。
-Acid value of functional layer (X)-
The acid value of the functional layer (X) is preferably 10 mgKOH / g or less, more preferably 5 mgKOH / g or less, from the viewpoint of suppressing deterioration of the laminated film in a wet and heat environment, and 1 mgKOH / g or less. More preferably.
The acid value of the functional layer (X) is preferably 0.01 mgKOH / g or more, more preferably 0.05 mgKOH / g or more from the viewpoint of further improving the adhesion between the polymer piezoelectric film and the functional layer (X). More preferably, it is more preferably 0.1 mgKOH / g or more.
In this specification, the acid value of the functional layer (X) refers to the amount (mg) of KOH required to neutralize the free acid in 1 g of the functional layer (X). The amount (mg) of KOH is measured by titrating the functional layer (X) dissolved or swollen in a solvent with a 0.005 M KOH (potassium hydroxide) ethanol solution using phenolphthalein as an indicator.

機能層(X)の全窒素量は、0.05質量%〜10質量%であることが好ましく、0.2質量%〜5質量%であることがより好ましい。これにより、脂肪族系ポリエステル高分子圧電フィルムの耐湿熱性が向上する。   The total amount of nitrogen in the functional layer (X) is preferably 0.05% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.2% by mass to 5% by mass. Thereby, the heat-and-moisture resistance of the aliphatic polyester polymer piezoelectric film is improved.

[その他の層]
本実施形態に係るフィルム巻層体では、積層フィルムは、高分子圧電フィルムと機能層(X)との間に、その他の層を有していてもよい。その他の層として、例えば、易接着層、ハードコート層、屈折率調整層、アンチリフレクション層、アンチグレア層、易滑層、アンチブロック層、保護層、帯電防止層、放熱層、紫外線吸収層、アンチニュートンリング層、光散乱層、偏光層、ガスバリア層、色相調整層などが挙げられる。また、その他の層としては、前述のその他の層がそれぞれ有する機能のうちの2つ以上を兼ね備えた層であってもよく、2つ以上の層が順番に積層されていてもよい。これらの中でも、その他の層としては、屈折率調整層、易接着層、ハードコート層、帯電防止層、及びアンチブロック層の少なくとも1つの層が好ましい。
高分子圧電フィルムの両方の主面側にその他の層を備える場合は、2つのその他の層は同じ層であっても、異なる層であってもよい。
[Other layers]
In the film wound layer according to the present embodiment, the laminated film may have other layers between the polymer piezoelectric film and the functional layer (X). Other layers include, for example, an easy adhesion layer, a hard coat layer, a refractive index adjustment layer, an antireflection layer, an antiglare layer, an easy slip layer, an antiblock layer, a protective layer, an antistatic layer, a heat dissipation layer, an ultraviolet absorption layer, an antilayer Examples include a Newton ring layer, a light scattering layer, a polarizing layer, a gas barrier layer, and a hue adjustment layer. Moreover, as another layer, the layer which has two or more of the functions which the above-mentioned other layer each has may be sufficient, and two or more layers may be laminated | stacked in order. Among these, as the other layers, at least one layer of a refractive index adjusting layer, an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and an antiblock layer is preferable.
When other layers are provided on both principal surface sides of the polymer piezoelectric film, the two other layers may be the same layer or different layers.

その他の層の材料としては、特に限定されるものではないが、例えば金属や金属酸化物等の無機物;樹脂等の有機物;樹脂と微粒子とを含む複合組成物;などが挙げられる。樹脂としては、例えば、温度や活性エネルギー線で硬化させることで得られる硬化物を利用することもできる。つまり、樹脂としては、硬化性樹脂を利用することもできる。   The material of the other layer is not particularly limited, and examples thereof include inorganic substances such as metals and metal oxides; organic substances such as resins; composite compositions containing resins and fine particles. As resin, the hardened | cured material obtained by making it harden | cure with temperature or an active energy ray can also be utilized, for example. That is, a curable resin can also be used as the resin.

硬化性樹脂としては、例えばアクリル系化合物、メタクリル系化合物、ビニル系化合物、アリル系化合物、ウレタン系化合物、エポキシ系化合物、エポキシド系化合物、グリシジル系化合物、オキセタン系化合物、メラミン系化合物、セルロース系化合物、エステル系化合物、シラン系化合物、シリコーン系化合物、シロキサン系化合物、シリカ−アクリルハイブリット化合物、及びシリカ−エポキシハイブリット化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料(硬化性樹脂)が挙げられる。
これらの中でも、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、シラン系化合物がより好ましい。
金属としては、例えば、Al、Si、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、In、Sn、W、Ag、Au、Pd、Pt、Sb、Ta及びZrから選ばれる少なくとも一つ、又は、これらの合金が挙げられる。
金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、及び酸化タンタル、またこれらの複合酸化物の少なくとも1つが挙げられる。
微粒子としては上述したような金属酸化物の微粒子や、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂などの樹脂微粒子などが挙げられる。さらにこれらの微粒子の内部に空孔を有する中空微粒子も挙げられる。
微粒子の平均一次粒径としては、透明性の観点から1nm以上500nm以下が好ましく、5nm以上300nm以下がより好ましく、10nm以上200nm以下が更に好ましい。500nm以下であることで可視光の散乱が抑制され、1nm以上であることで微粒子の二次凝集が抑制され、透明性の維持の観点から望ましい。
Examples of the curable resin include acrylic compounds, methacrylic compounds, vinyl compounds, allyl compounds, urethane compounds, epoxy compounds, epoxide compounds, glycidyl compounds, oxetane compounds, melamine compounds, and cellulose compounds. And at least one material (curable resin) selected from the group consisting of an ester compound, a silane compound, a silicone compound, a siloxane compound, a silica-acrylic hybrid compound, and a silica-epoxy hybrid compound.
Among these, acrylic compounds, epoxy compounds, and silane compounds are more preferable.
Examples of the metal include at least one selected from Al, Si, Ti, V, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, In, Sn, W, Ag, Au, Pd, Pt, Sb, Ta, and Zr. Or an alloy thereof.
Examples of the metal oxide include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, niobium oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, and tantalum oxide. And at least one of these composite oxides.
Examples of the fine particles include metal oxide fine particles as described above, and resin fine particles such as a fluorine resin, a silicone resin, a styrene resin, and an acrylic resin. Furthermore, hollow fine particles having pores inside these fine particles are also included.
The average primary particle size of the fine particles is preferably from 1 nm to 500 nm, more preferably from 5 nm to 300 nm, and even more preferably from 10 nm to 200 nm, from the viewpoint of transparency. Scattering of visible light is suppressed when it is 500 nm or less, and secondary aggregation of fine particles is suppressed when it is 1 nm or more, which is desirable from the viewpoint of maintaining transparency.

その他の層の膜厚は、特に限定されるものではないが、0.01μm〜10μmの範囲が好ましい。上記厚さの上限値は、より好ましくは6μm以下であり、更に好ましくは3μm以下である。また、下限値はより好ましくは0.2μm以上であり、更に好ましくは0.3μm以上である。
但し、その他の層が複数の層からなる多層膜の場合には、上記厚さは多層膜全体における厚さを表す。
The film thickness of the other layers is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm. The upper limit value of the thickness is more preferably 6 μm or less, and further preferably 3 μm or less. Further, the lower limit value is more preferably 0.2 μm or more, and further preferably 0.3 μm or more.
However, when the other layer is a multilayer film composed of a plurality of layers, the above thickness represents the thickness of the entire multilayer film.

その他の層を形成することにより、高分子圧電フィルム表面のダイラインや打痕などの欠陥が埋められ、外観が向上するという効果もある。この場合は高分子圧電フィルムとその他の層との屈折率差が小さいほど高分子圧電フィルムとその他の層と界面の反射が低減し、より外観が向上する。   By forming other layers, defects such as die lines and dents on the surface of the polymer piezoelectric film are filled, and the appearance is improved. In this case, the smaller the refractive index difference between the polymer piezoelectric film and the other layers, the lower the reflection at the interface between the polymer piezoelectric film and the other layers and the more the appearance is improved.

前述のその他の層を形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できるが、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着(CVD)法、めっき法などのドライコーティング法、ウェットコート法が挙げられる。ウェットコート法としては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、グラビアコート法が挙げられる。
例えば、その他の層が硬化性樹脂から形成される場合、硬化性樹脂、添加剤、溶剤等を含む材料が分散又は溶解されたコート液を塗布することで、その他の層が形成される。
As a method for forming the other layers described above, known methods that have been generally used can be used as appropriate. For example, vapor deposition, sputtering, ion plating, chemical vapor deposition (CVD), plating For example, dry coating methods and wet coating methods. Examples of the wet coating method include a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a bar coating method, and a gravure coating method.
For example, when the other layer is formed from a curable resin, the other layer is formed by applying a coating liquid in which a material containing a curable resin, an additive, a solvent, or the like is dispersed or dissolved.

さらに必要に応じて、上記の通り塗布された前記材料(硬化性樹脂等)に対して乾燥により溶剤を揮発させたり、熱や活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化性樹脂を硬化させたりしてもよい。   Further, if necessary, the solvent (volatilizing resin, etc.) applied as described above is volatilized by drying the solvent or irradiated with heat or active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, radiation, etc.). May be cured.

尚、上記硬化性樹脂の中でも、活性エネルギー線(紫外線、電子線、放射線等)照射により硬化された活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂を含むことで、製造効率が向上し、またその他の層の形成によって生じる高分子圧電フィルムの性能低下をより抑制することができる。   Among the curable resins, active energy ray curable resins cured by irradiation with active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, radiation, etc.) are preferable. By including the active energy ray curable resin, the production efficiency can be improved, and the performance degradation of the polymer piezoelectric film caused by the formation of other layers can be further suppressed.

また、上記その他の層が硬化性樹脂から形成される場合、その他の層は、架橋密度を高める観点から、三次元架橋構造を有する三次元架橋樹脂を含むことが好ましい。   Moreover, when the said other layer is formed from curable resin, it is preferable that another layer contains the three-dimensional crosslinked resin which has a three-dimensional crosslinked structure from a viewpoint of raising a crosslinking density.

三次元架橋構造を有する硬化物を作製する手段としては、硬化性樹脂として重合性官能基を3つ以上有するモノマー(3官能以上のモノマー)を用いる方法、重合性官能基を3つ以上有する架橋剤(3官能以上の架橋剤)を用いる方法等が挙げられ、また架橋剤として有機過酸化物などの架橋剤を用いる方法も挙げられる。尚、これらの手段を複数組み合わせて用いてもよい。   As a means for producing a cured product having a three-dimensional crosslinked structure, a method using a monomer having three or more polymerizable functional groups (a monomer having three or more functional groups) as a curable resin, or a crosslinking having three or more polymerizable functional groups. Examples include a method using a crosslinking agent (a trifunctional or higher functional crosslinking agent), and a method using a crosslinking agent such as an organic peroxide as a crosslinking agent. A plurality of these means may be used in combination.

3官能以上のモノマーとしては、例えば、1分子中に3つ以上の(メタ)アクリル基を有する(メタ)アクリル化合物や、1分子中に3つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the tri- or higher functional monomer include (meth) acrylic compounds having three or more (meth) acrylic groups in one molecule, and epoxy compounds having three or more epoxy groups in one molecule. .

また、「1分子中に3つ以上の(メタ)アクリル基を有する」とは、1分子中にアクリル基及びメタクリル基の少なくとも一方を有し、かつ、1分子中におけるアクリル基及びメタクリル基の総数が3つ以上であることを指す。   Further, “having three or more (meth) acrylic groups in one molecule” means having at least one of an acrylic group and a methacrylic group in one molecule, and an acrylic group and a methacrylic group in one molecule. The total number is 3 or more.

ここで、その他の層に含まれる材料が三次元架橋構造を有する硬化物であるか否かを確認する方法としては、ゲル分率を測定する方法が挙げられる。
具体的には、その他の層を溶剤に24時間浸漬した後の不溶分からゲル分率を導くことができる。特に溶剤が水などの親水性の溶媒でも、トルエンのような親油性の溶媒でも、ゲル分率が一定以上のものが三次元架橋構造を有すると推定することができる。
Here, as a method for confirming whether or not the material contained in the other layer is a cured product having a three-dimensional cross-linked structure, a method of measuring the gel fraction can be mentioned.
Specifically, the gel fraction can be derived from the insoluble matter after the other layers are immersed in a solvent for 24 hours. In particular, it can be estimated that a solvent having a gel fraction of a certain level or more has a three-dimensional crosslinked structure, whether the solvent is a hydrophilic solvent such as water or a lipophilic solvent such as toluene.

ウェットコート法の場合、コート液を高分子圧電フィルムの延伸前原反に塗工した後に高分子圧電フィルムを延伸しても、高分子圧電フィルム原反を延伸後にコート液を塗布してもよい。
ウェットコート法によるその他の層の(1層の)厚さとしては、数十nm〜10μmの範囲が好ましい。
またその他の層にはその目的に応じて屈折率調整剤や紫外線吸収剤、レベリング剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤などの各種有機物、無機物を添加することもできる。
尚、高分子圧電フィルム表面とその他の層との密着性や、高分子圧電フィルム表面への塗工性を向上させる観点から、コロナ処理やイトロ処理、オゾン処理、プラズマ処理などによって高分子圧電フィルム表面を処理することもできる。
In the case of the wet coating method, the polymer piezoelectric film may be stretched after the coating liquid has been applied to the original film before stretching of the polymer piezoelectric film, or the coating liquid may be applied after stretching the polymer piezoelectric film original film.
The thickness of the other layer (one layer) by the wet coating method is preferably in the range of several tens of nm to 10 μm.
In addition, various organic substances such as a refractive index adjusting agent, an ultraviolet absorber, a leveling agent, an antistatic agent, and an antiblocking agent, and inorganic substances can be added to the other layers according to the purpose.
From the viewpoint of improving the adhesion between the surface of the polymer piezoelectric film and other layers and the coating property on the surface of the polymer piezoelectric film, the polymer piezoelectric film can be treated by corona treatment, itro treatment, ozone treatment, plasma treatment, etc. The surface can also be treated.

[離型フィルム]
本実施形態に係るフィルム巻層体では、積層フィルムは、機能層(X)から見て高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側に配置された離型フィルムをさらに有することが好ましい。本実施形態に係るフィルム巻層体は、高分子圧電フィルムと、機能層(X)と、離型フィルムとを有する積層フィルムをロール状に巻回することで得られ、この積層フィルムは、MD方向の長さが10m以上であることが好ましい。
[Release film]
In the film wound layer according to the present embodiment, the laminated film preferably further includes a release film disposed on the side opposite to the side on which the polymer piezoelectric film is disposed when viewed from the functional layer (X). . The film wound layer according to the present embodiment is obtained by winding a laminated film having a polymer piezoelectric film, a functional layer (X), and a release film in a roll shape. The length in the direction is preferably 10 m or more.

離型フィルムの材料としては、離型性(剥離性)を有する材料が好適に用いられる。離型フィルムは、単独のフィルムであってもよく、複数層からなる多層フィルムであってもよい。離型フィルムが、複数層からなる多層フィルムである場合、離型フィルムは、離型性を有する材料が接着層と対向する面に設けられた構造に形成されていることが好ましい。この場合、離型フィルムは、基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成されていてもよい。   As the material for the release film, a material having releasability (peelability) is preferably used. The release film may be a single film or a multilayer film composed of a plurality of layers. When the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, the release film is preferably formed in a structure in which a material having releasability is provided on the surface facing the adhesive layer. In this case, the release film may be formed in a structure including a base material and a material having releasability.

離型性を有する材料としては、例えば、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン樹脂;ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素樹脂;ポリ塩化ビニル、スチレン(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、エチレン酢酸ビニル等のビニル樹脂;等が挙げられる。
また、離型性を有する材料としては、他にも、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、ワックス樹脂等が挙げられる。
離型フィルムは、これらの単独のフィルムであってもよく、複数層からなる多層フィルムであってもよい。この場合、離型フィルムは、離型性を有する材料が接着層と対向する面に設けられた構造に形成されていることが好ましい。中でも、接着層との剥離性をより向上させる点から、接着層と対向する面に設ける離型性を有する材料は、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、アルキッド樹脂、ワックス樹脂を用いることがより好ましく、シリコーン樹脂を用いることがさらに好ましい。
Specific examples of the releasable material include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate; olefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene; polytetrafluoroethylene, polyfluorinated Fluorine resins such as vinylidene; vinyl resins such as polyvinyl chloride, styrene (meth) acrylic acid copolymer, styrene (meth) acrylic acid ester copolymer, polystyrene, and ethylene vinyl acetate;
In addition, examples of the material having releasability include polyurethane resin, polyimide resin, polyamide resin, silicone resin, acrylic silicone resin, melamine resin, alkyd resin, and wax resin.
The release film may be a single film of these or a multilayer film composed of a plurality of layers. In this case, the release film is preferably formed in a structure in which a material having releasability is provided on the surface facing the adhesive layer. Among these, a silicone resin, a fluororesin, a polyester resin, a polyolefin resin, an alkyd resin, and a wax resin are used as the material having releasability provided on the surface facing the adhesive layer in order to further improve the peelability from the adhesive layer. It is more preferable to use a silicone resin.

シリコーン樹脂としては、例えば、両末端シラノール官能性ジメチルポリシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサン又はメチルメトキシシロキサンとを有機錫系触媒の存在下で反応させたもの(熱縮合反応型);分子鎖両末端又は両末端及び側鎖にビニル基を有するメチルビニルポリシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとを白金系触媒の存在下で反応させたもの(熱付加反応型);アルケニル基とメルカプト基を含有するシロキサンに光重合剤を加えたもの(紫外線硬化型(ラジカル付加型));熱付加反応型と同じ白金系触媒を用いたもの(紫外線硬化型(ヒドロシリル型));(メタ)アクリル基を含有するシロキサンに光重合剤を加えたもの(紫外線硬化型(ラジカル重合型));エポキシ基を含有するシロキサンにオニウム塩光開始剤を添加したもの(紫外線硬化型(カチオン重合型));ラジカル重合性基含有シロキサン(電子線硬化型、但し官能基はなくてもよく、また光開始剤がなくてもよい);が挙げられる。また、シリコーン樹脂の形態は、溶剤型、エマルジョン型、無溶剤型等の中から適宜選択して用いることができる。   Examples of silicone resins include those obtained by reacting silanol-functional dimethylpolysiloxane with methylhydrogenpolysiloxane or methylmethoxysiloxane in the presence of an organotin catalyst (thermal condensation reaction type); Or a reaction of methyl vinyl polysiloxane having vinyl groups at both ends and side chains with methyl hydrogen polysiloxane in the presence of a platinum-based catalyst (thermal addition reaction type); siloxane containing alkenyl group and mercapto group With photopolymerization agent added (ultraviolet curing type (radical addition type)); using the same platinum catalyst as thermal addition reaction type (ultraviolet curing type (hydrosilyl type)); containing (meth) acrylic group Siloxane and photopolymerization agent (UV curable type (radical polymerization type)); Siloxy containing epoxy group Onium salt photoinitiator (ultraviolet curable type (cationic polymerization type)); radical polymerizable group-containing siloxane (electron beam curable type, but no functional group, no photoinitiator) May also be included). Moreover, the form of the silicone resin can be appropriately selected from a solvent type, an emulsion type, a solventless type, and the like.

〔基材〕
離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成されている場合、基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、トリアセチルセルロース、セロハン、レーヨン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、芳香族ポリアミド、若しくはポリスルホン等の樹脂が挙げられ、これらの一軸又は二軸延伸フィルム、不織布、発泡体等が挙げられる。また、基材としては、ガラス、金属箔、セラミック、紙等の中から選択することもできる。
〔Base material〕
When the release film is formed in a structure including a substrate and a material having releasability, as the substrate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, triacetyl Examples of resins include cellulose, cellophane, rayon, polystyrene, polycarbonate, polyimide, polyamide, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyethersulfone, aromatic polyamide, and polysulfone. These uniaxially or biaxially stretched films, nonwovens, and foams Examples include the body. Moreover, as a base material, it can also select from glass, metal foil, ceramic, paper, etc.

離型フィルムには、接着層と対向する面以外の層に、必要に応じて、帯電防止剤、オリゴマー移行抑制剤、平滑化剤、易接着剤等のその他の材料を含む層を設けてもよい。例えば、離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成される場合には、基材と離型性を有する材料とが互いに対向する面、及び基材の離型性を有する材料と対向する面と反対側の面のいずれか一方、又は両方の面に、上記のその他の材料を含む層を設けることができる。   If necessary, the release film may be provided with a layer containing other materials such as an antistatic agent, an oligomer migration inhibitor, a smoothing agent, and an easy-adhesive agent on a layer other than the surface facing the adhesive layer. Good. For example, when the release film is formed in a structure including a base material and a material having releasability, the surface where the base material and the material having releasability face each other, and the releasability of the base material A layer containing the above-mentioned other material can be provided on either or both of the surface opposite to the surface facing the material having the above-described material.

離型フィルムの膜厚は、特に限定されるものではないが、離型のしやすさ及びハンドリングの観点から、5μm以上の範囲が好ましく、10μm〜100μmの範囲がより好ましく、20μm〜80μmの範囲が更に好ましく、30μm〜80μmの範囲が特に好ましい。   The film thickness of the release film is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of release and handling, a range of 5 μm or more is preferable, a range of 10 μm to 100 μm is more preferable, and a range of 20 μm to 80 μm. Is more preferable, and the range of 30 μm to 80 μm is particularly preferable.

離型フィルムを好適に剥離可能にするためには、接着層と高分子圧電フィルムとの接着力が接着層と離型フィルムとの接着力よりも大きいことが好ましい。   In order to suitably peel the release film, it is preferable that the adhesive force between the adhesive layer and the polymer piezoelectric film is larger than the adhesive force between the adhesive layer and the release film.

離型フィルムを形成する方法としては、従来一般的に用いられていた公知の方法が適宜使用できる。例えば、離型フィルムは、離型フィルムを形成する樹脂を製膜機により押出製膜することで形成されてもよい。離型フィルムが、複数層からなる多層フィルムである場合には、製膜した各々の離型フィルムを接着剤により多層に形成してもよく、多層製膜機により共押出製膜して多層に形成してもよい。
また、離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成された複数層からなる多層フィルムである場合、製膜した基材と、製膜した離型性を有する材料とを接着剤により多層に形成してもよく、製膜した基材上に離型性を有する材料を押出製膜して多層に形成してもよく、又は基材を構成する材料と、離型性を有する材料とを多層製膜機により共押出製膜して多層に形成してもよい。
As a method for forming the release film, a known method that has been generally used can be appropriately used. For example, the release film may be formed by extruding a resin for forming the release film with a film forming machine. When the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, each of the formed release films may be formed into a multilayer with an adhesive, and co-extruded to form a multilayer by a multilayer film forming machine. It may be formed.
Further, when the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers formed in a structure including a base material and a material having releasability, the formed base material and the formed material having releasability May be formed in multiple layers with an adhesive, or may be formed into multiple layers by extrusion-forming a material having releasability on the formed substrate, or the material constituting the substrate and the mold release The material having the property may be co-extruded with a multilayer film forming machine to form a multilayer.

さらに、ウェットコート法により形成してもよい。例えば、離型フィルムをウェットコート法で形成する場合、離型フィルムを形成するための材料(樹脂、添加剤等)が分散又は溶解されたコート液(離型フィルム用塗工液)を接着層上に塗布することで形成させることができる。また、離型フィルムが基材と離型性を有する材料とを含む構造に形成された複数層からなる多層フィルムである場合、離型フィルム用塗工液を基材上に塗布することで形成させることができる。   Further, it may be formed by a wet coating method. For example, when a release film is formed by a wet coating method, a coating solution (release film coating solution) in which a material (resin, additive, etc.) for forming the release film is dispersed or dissolved is used as an adhesive layer. It can be formed by coating on top. In addition, when the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers formed in a structure including a substrate and a material having releasability, it is formed by applying a release film coating solution onto the substrate. Can be made.

離型性を有する材料をウェットコート法により形成する場合、上記離型性を有する材料を溶液又はエマルション液等の塗布液とし、これをロールコーター、コンマコーター、ダイコーター、メイヤーバーコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター等の公知の方法で接着層上、又は基材上に塗布・乾燥することで形成してもよい。
なお、離型フィルムが、複数層からなる多層フィルムである場合には、離型フィルムの接着層と対向する面と反対側の面、又は離型フィルムの接着層と対向する面と反対側の面に接する基材等に、コロナ放電処理、フレーム処理、オゾン処理等の表面活性化処理、あるいはアンカー処理剤を用いたアンカーコーティング処理を施してもよい。これらのような処理によって多層フィルムの密着性が向上するため、接着層との離型性より向上させることができる。
When a material having releasability is formed by a wet coating method, the material having releasability is used as a coating solution such as a solution or an emulsion, and this is used as a roll coater, comma coater, die coater, Mayer bar coater, reverse roll. You may form by apply | coating and drying on a contact bonding layer or a base material by well-known methods, such as a coater and a gravure coater.
In addition, when the release film is a multilayer film composed of a plurality of layers, the surface opposite to the surface facing the adhesive layer of the release film, or the surface opposite to the surface facing the adhesive layer of the release film. A surface activation treatment such as a corona discharge treatment, a flame treatment, an ozone treatment, or an anchor coating treatment using an anchor treatment agent may be applied to a substrate in contact with the surface. Since the adhesiveness of the multilayer film is improved by such treatment, it can be improved from the releasability with the adhesive layer.

<フィルム巻層体の製造方法>
本発明に係るフィルム巻層体の製造方法の実施形態について、以下に説明する。フィルム巻層体の製造方法としては、例えば、離型フィルム上に機能層(X)を形成し、機能層(X)と高分子圧電フィルムとを貼り合わせた後にフィルム巻層体とする方法、高分子圧電フィルム上に機能層(X)を形成し、機能層(X)と離型フィルムとを貼り合わせた後にフィルム巻層体とする方法などが挙げられる。
<Method for producing film wound layer>
An embodiment of a method for producing a film wound layer according to the present invention will be described below. As a method for producing a film wound layer body, for example, a method in which a functional layer (X) is formed on a release film, and the functional layer (X) and a polymer piezoelectric film are bonded together to form a film wound layer body, Examples thereof include a method in which a functional layer (X) is formed on a polymer piezoelectric film, and the functional layer (X) and a release film are bonded together to form a film-wrapped layer.

[第一実施形態]
第一実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、離型フィルムの主面に機能層(X)を形成するための機能層形成剤を付与して機能層(X)を形成する工程と、機能層(X)から見て離型フィルムが配置されている側とは反対側にて、機能層(X)と高分子圧電フィルムとを貼り合わせて積層フィルムを形成する工程と、形成した積層フィルムをロール状に巻回する工程と、を含む。この製造方法では、離型フィルム上に形成した機能層(X)と、高分子圧電フィルムとを貼り合わせて積層フィルムを形成し、形成した積層フィルムをロール状に巻回してフィルム巻層体を製造している。
[First embodiment]
The method for producing a rolled film body according to the first embodiment includes a step of forming a functional layer (X) by applying a functional layer forming agent for forming the functional layer (X) on the main surface of the release film. Forming a laminated film by bonding the functional layer (X) and the polymer piezoelectric film on the side opposite to the side where the release film is disposed as viewed from the functional layer (X) Winding the laminated film into a roll. In this manufacturing method, the functional layer (X) formed on the release film and the polymer piezoelectric film are bonded together to form a laminated film, and the formed laminated film is wound into a roll to form a film wound layer body. Manufacture.

−機能層(X)の形成−
本実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、離型フィルムの主面に機能層(X)を形成するための機能層形成剤を付与して機能層(X)を形成する工程を含む。このとき、フィルム状又はシート状の材料(例えば、前述のOCA)を機能層形成剤として離型フィルムの主面に付与して機能層(X)を形成してもよく、液状の機能層形成剤(例えば、粘着コート液)を離型フィルムの主面に付与し、付与した機能層形成剤を乾燥させて機能層(X)を形成してもよい。このとき、機能層形成剤の乾燥温度は、50℃〜150℃であることが好ましく、70℃〜130℃であることがより好ましい。また、離型フィルムの主面に機能層(X)を付与する際は、塗工装置を用いてもよい。
-Formation of functional layer (X)-
The manufacturing method of the film winding layer body which concerns on this embodiment includes the process of providing the functional layer formation agent for forming a functional layer (X) in the main surface of a release film, and forming a functional layer (X). . At this time, a functional layer (X) may be formed by applying a film-like or sheet-like material (for example, the above-mentioned OCA) as a functional layer forming agent to the main surface of the release film to form a liquid functional layer. The functional layer (X) may be formed by applying an agent (for example, an adhesive coating solution) to the main surface of the release film and drying the applied functional layer forming agent. At this time, the drying temperature of the functional layer forming agent is preferably 50 ° C to 150 ° C, and more preferably 70 ° C to 130 ° C. Moreover, when providing functional layer (X) to the main surface of a release film, you may use a coating apparatus.

ここで、機能層(X)としては接着層が好ましく、機能層形成剤としては接着剤が好ましい。そのため、離型フィルムの主面に接着剤を付与して接着層を形成してもよい。接着剤としては、前述のOCA、溶剤系、無溶剤系、水系などの粘着コート液、UV硬化型OCR、ホットメルト接着剤などが挙げられる。   Here, the functional layer (X) is preferably an adhesive layer, and the functional layer forming agent is preferably an adhesive. Therefore, an adhesive layer may be formed by applying an adhesive to the main surface of the release film. Examples of the adhesive include the above-mentioned OCA, solvent-based, solvent-free, and water-based adhesive coating solutions, UV curable OCR, hot melt adhesive, and the like.

−積層フィルムの形成−
本実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、前述のように、機能層(X)を形成した後、機能層(X)から見て離型フィルムが配置されている側とは反対側にて、機能層(X)と高分子圧電フィルムとを貼り合わせて積層フィルムを形成する工程を含む。これにより、高分子圧電フィルムの主面の鉛直方向において、高分子圧電フィルム、機能層(X)及び離型フィルムがこの順に積層された三層の積層フィルムが得られる。
-Formation of laminated film-
As described above, the method for manufacturing a film wound body according to the present embodiment, after forming the functional layer (X), is opposite to the side on which the release film is disposed as viewed from the functional layer (X). And a step of laminating the functional layer (X) and the polymer piezoelectric film to form a laminated film. Thereby, in the vertical direction of the main surface of the polymer piezoelectric film, a three-layer laminated film in which the polymer piezoelectric film, the functional layer (X), and the release film are laminated in this order is obtained.

さらに、別の離型フィルムの主面に機能層(X)を形成し、この機能層(X)から見て離型フィルムが配置されている側とは反対側にて、この機能層(X)と、前述のように形成した三層の積層フィルムを構成する高分子圧電フィルムとを貼り合わせてもよい。これにより、高分子圧電フィルムの主面の鉛直方向において、離型フィルム、機能層(X)、高分子圧電フィルム、機能層(X)及び離型フィルムがこの順に積層された五層の積層フィルムが得られる。   Furthermore, the functional layer (X) is formed on the main surface of another release film, and on the side opposite to the side where the release film is disposed when viewed from the functional layer (X), the functional layer (X ) And a polymer piezoelectric film constituting the three-layer laminated film formed as described above may be bonded together. Thereby, in the vertical direction of the main surface of the polymer piezoelectric film, a release film, a functional layer (X), a polymer piezoelectric film, a functional layer (X) and a release film are laminated in this order in a five-layer laminated film. Is obtained.

また、積層フィルムの形成に用いられる高分子圧電フィルムは、少なくとも一方の主面に前述のその他の層が配置されていてもよい。これにより、積層フィルムの形成時に、機能層(X)と、高分子圧電フィルムとの間に、その他の層が配置される。   The polymer piezoelectric film used for forming the laminated film may have the other layers described above disposed on at least one main surface. Thereby, another layer is arrange | positioned between functional layer (X) and a polymeric piezoelectric film at the time of formation of a laminated | multilayer film.

−フィルム巻層体の製造−
本実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、形成した積層フィルムをロール状に巻回する工程と、を含む。これにより、ロール状のフィルム巻層体が得られる。
本実施形態の製造方法では、高分子圧電フィルムに機能層(X)を形成するのではなく、離型フィルムに機能層(X)を形成し、かつ形成した機能層(X)と高分子圧電フィルムとを貼り合わせている。そのため、高分子圧電フィルムを加熱する必要が無く、高分子圧電フィルムに伸びが生じることが抑制される。その結果、前述のようにして測定される寸法変化率を、MD方向に1.0%以下とすることができる。さらに、本実施形態の製造方法で得られるフィルム巻層体は、寸法安定性が高いため、加熱したときの高分子圧電フィルムへのクラックの発生が抑制され、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性に優れる。
-Production of film wound layer-
The manufacturing method of the film winding layer body which concerns on this embodiment includes the process of winding the formed laminated film in roll shape. Thereby, a roll-shaped film winding layer body is obtained.
In the manufacturing method of this embodiment, the functional layer (X) is not formed on the polymer piezoelectric film, but the functional layer (X) is formed on the release film, and the formed functional layer (X) and the polymer piezoelectric film are formed. The film is pasted together. Therefore, there is no need to heat the polymer piezoelectric film, and elongation of the polymer piezoelectric film is suppressed. As a result, the dimensional change rate measured as described above can be 1.0% or less in the MD direction. Furthermore, since the film wound layer obtained by the production method of the present embodiment has high dimensional stability, the occurrence of cracks in the polymer piezoelectric film when heated is suppressed, and the moisture and heat resistance of the polymer piezoelectric film is suppressed. Excellent.

以下、ロールトゥロールの連続プロセスにより、フィルム巻層体を製造する方法の一例を、図1を用いて示す。図1は、本発明の第一実施形態にて、離型フィルムに接着層を形成してフィルム巻層体を製造する方法を示す概略図である。   Hereinafter, an example of a method for producing a film wound layer body by a continuous roll-to-roll process will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic view showing a method for producing a film wound layer by forming an adhesive layer on a release film in the first embodiment of the present invention.

まず、フィルム巻層体製造装置10にて、ロール体に固定したロール状離型フィルム1から離型フィルム2を引き出し、引き出した離型フィルム2をもう一方のロール体で巻き取る。そして、ロール間の離型フィルム2に、塗工装置8を用いて接着剤3を塗工する。接着剤3を離型フィルム2に塗工した後、乾燥手段(乾燥炉)9により接着剤3を乾燥させ、離型フィルム2の主面に接着層4を形成する。   First, in the film winding layer manufacturing apparatus 10, the release film 2 is pulled out from the roll-shaped release film 1 fixed to the roll body, and the extracted release film 2 is wound up by the other roll body. Then, the adhesive 3 is applied to the release film 2 between the rolls using the coating device 8. After the adhesive 3 is applied to the release film 2, the adhesive 3 is dried by a drying means (drying furnace) 9 to form the adhesive layer 4 on the main surface of the release film 2.

また、ロール体に固定したロール状高分子圧電フィルム5から高分子圧電フィルム6を引き出し、引き出した高分子圧電フィルム6を、離型フィルム2に貼り合わせた後、離型フィルム2とともにロール体で巻き取る。そのため、離型フィルム2の主面に接着層4が形成されているとき、接着層4と高分子圧電フィルム6とを貼り合わせることで、積層フィルムが形成される。そして、形成した積層フィルムをロール状に巻回することで、フィルム巻層体7が得られる。   In addition, the polymer piezoelectric film 6 is pulled out from the roll-shaped polymer piezoelectric film 5 fixed to the roll body, and the pulled-out polymer piezoelectric film 6 is bonded to the release film 2, and then the release film 2 and the roll body are used together. Wind up. Therefore, when the adhesive layer 4 is formed on the main surface of the release film 2, a laminated film is formed by bonding the adhesive layer 4 and the polymer piezoelectric film 6 together. And the film winding layered body 7 is obtained by winding the formed laminated film in roll shape.

ロールトゥロールの連続プロセスでは、ロール間のフィルムには、フィルムの流れ方向(MD方向)に向かって張力が発生する。そのため、ポリ乳酸などの脂肪族系ポリエステルを含む高分子圧電フィルムをロール間に設け、接着層を形成するときに熱を高分子圧電フィルムに加えた場合、高分子圧電フィルムは耐熱性が低いことから、発生した張力により、高分子圧電フィルムに伸びが生じ、高分子圧電フィルムの寸法安定性が悪化してしまうおそれがある。   In the roll-to-roll continuous process, tension is generated in the film between the rolls in the film flow direction (MD direction). Therefore, when a polymer piezoelectric film containing an aliphatic polyester such as polylactic acid is provided between rolls and heat is applied to the polymer piezoelectric film when forming the adhesive layer, the polymer piezoelectric film has low heat resistance. Thus, the generated tension causes elongation in the polymer piezoelectric film, which may deteriorate the dimensional stability of the polymer piezoelectric film.

一方、図1に示すようなロールトゥロールの連続プロセスでは、離型フィルムに接着層を形成しているため、高分子圧電フィルムに熱を加える必要が無い。そのため、高分子圧電フィルムの伸びが抑制され、高分子圧電フィルムの寸法安定性を維持することができる。   On the other hand, in the roll-to-roll continuous process as shown in FIG. 1, since the adhesive layer is formed on the release film, it is not necessary to apply heat to the polymer piezoelectric film. Therefore, the elongation of the polymer piezoelectric film is suppressed, and the dimensional stability of the polymer piezoelectric film can be maintained.

[第二実施形態]
次に、第二実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法について説明する。なお、第一の実施形態と共通する事項については、その説明を省略する。第二実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、前記高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面に前記機能層(X)を形成するための機能層形成剤を塗布し、塗布した前記機能層形成剤を90℃以下の温度で乾燥させて機能層(X)を形成する工程と、前記機能層(X)から見て前記高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側にて、前記機能層(X)と前記離型フィルムとを貼り合わせて前記積層フィルムを形成する工程と、形成した前記積層フィルムをロール状に巻回する工程と、を含む。この製造方法では、機能層形成剤を90℃以下の温度で乾燥させて機能層(X)を高分子圧電フィルム上に形成した後、高分子圧電フィルム上に形成した機能層(X)と、離型フィルムとを貼り合わせて積層フィルムを形成し、形成した積層フィルムをロール状に巻回してフィルム巻層体を製造している。
[Second Embodiment]
Next, the manufacturing method of the film winding layered body which concerns on 2nd embodiment is demonstrated. Note that a description of matters common to the first embodiment is omitted. In the method for producing a film wound layer according to the second embodiment, the functional layer forming agent for forming the functional layer (X) is applied to at least one main surface of the polymer piezoelectric film, and the applied function is applied. The step of drying the layer forming agent at a temperature of 90 ° C. or lower to form the functional layer (X), and the side opposite to the side where the polymer piezoelectric film is disposed as viewed from the functional layer (X) And a step of bonding the functional layer (X) and the release film to form the laminated film, and a step of winding the formed laminated film into a roll. In this production method, after the functional layer forming agent is dried at a temperature of 90 ° C. or less to form the functional layer (X) on the polymer piezoelectric film, the functional layer (X) formed on the polymer piezoelectric film; A laminated film is formed by laminating with a release film, and the formed laminated film is wound into a roll to produce a film wound layer.

−機能層(X)の形成−
本実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面に機能層(X)を形成するための機能層形成剤を塗布し、塗布した機能層形成剤を90℃以下の温度で乾燥させて機能層(X)を形成する工程を含む。このとき、機能層形成剤の乾燥温度は、50℃〜90℃であることが好ましく、60℃〜80℃であることがより好ましい。これにより、高分子圧電フィルムの寸法安定性をより好適に維持することができる。
-Formation of functional layer (X)-
In the method for producing a film wound layer according to the present embodiment, a functional layer forming agent for forming the functional layer (X) is applied to at least one main surface of the polymer piezoelectric film, and the applied functional layer forming agent is applied. A step of drying at a temperature of 90 ° C. or less to form the functional layer (X). At this time, the drying temperature of the functional layer forming agent is preferably 50 ° C to 90 ° C, and more preferably 60 ° C to 80 ° C. Thereby, the dimensional stability of the polymer piezoelectric film can be more suitably maintained.

ここで、機能層(X)としては接着層が好ましく、機能層形成剤としては接着剤が好ましい。そのため、高分子圧電フィルムの主面に接着剤を付与して接着層を形成してもよい。接着剤としては、前述のOCA、溶剤系、無溶剤系、水系などの粘着コート液、UV硬化型OCR、ホットメルト接着剤などが挙げられる。   Here, the functional layer (X) is preferably an adhesive layer, and the functional layer forming agent is preferably an adhesive. Therefore, an adhesive layer may be formed by applying an adhesive to the main surface of the polymer piezoelectric film. Examples of the adhesive include the above-mentioned OCA, solvent-based, solvent-free, and water-based adhesive coating solutions, UV curable OCR, hot melt adhesive, and the like.

−積層フィルムの形成−
本実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、前述のように、機能層(X)を形成した後、機能層(X)から見て高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側にて、機能層(X)と離型フィルムとを貼り合わせて積層フィルムを形成する工程を含む。高分子圧電フィルムの一方の主面に機能層(X)を形成した場合、高分子圧電フィルムの主面の鉛直方向において、高分子圧電フィルム、機能層(X)及び離型フィルムがこの順に積層された三層の積層フィルムが得られる。高分子圧電フィルムの両方の主面に機能層(X)を形成した場合、高分子圧電フィルムの主面の鉛直方向において、離型フィルム、機能層(X)、高分子圧電フィルム、機能層(X)及び離型フィルムがこの順に積層された五層の積層フィルムが得られる。
-Formation of laminated film-
As described above, the method for producing a film wound layer according to the present embodiment is opposite to the side on which the polymer piezoelectric film is disposed as viewed from the functional layer (X) after the functional layer (X) is formed. On the side, a step of laminating the functional layer (X) and the release film to form a laminated film is included. When the functional layer (X) is formed on one main surface of the polymer piezoelectric film, the polymer piezoelectric film, the functional layer (X), and the release film are laminated in this order in the vertical direction of the main surface of the polymer piezoelectric film. A three-layer laminated film is obtained. When the functional layer (X) is formed on both main surfaces of the polymer piezoelectric film, in the vertical direction of the main surface of the polymer piezoelectric film, the release film, the functional layer (X), the polymer piezoelectric film, the functional layer ( A five-layer laminated film in which X) and the release film are laminated in this order is obtained.

−フィルム巻層体の製造−
本実施形態に係るフィルム巻層体の製造方法は、形成した積層フィルムをロール状に巻回する工程と、を含む。これにより、ロール状のフィルム巻層体が得られる。
本実施形態の製造方法では、高分子圧電フィルムに機能層(X)を形成するときに、高分子圧電フィルム上の機能層形成剤を90℃以下の温度で乾燥させている。そのため、高分子圧電フィルム上の機能層形成剤を90℃超の温度で乾燥させて機能層(X)を形成するときと比較して、高分子圧電フィルムの伸びが抑制されている。その結果、前述のようにして測定される寸法変化率を、MD方向に1.0%以下とすることができる。さらに、本実施形態の製造方法で得られるフィルム巻層体は、寸法安定性が高いため、加熱したときの高分子圧電フィルムへのクラックの発生が抑制され、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性に優れる。
-Production of film wound layer-
The manufacturing method of the film winding layer body which concerns on this embodiment includes the process of winding the formed laminated film in roll shape. Thereby, a roll-shaped film winding layer body is obtained.
In the manufacturing method of the present embodiment, when the functional layer (X) is formed on the polymer piezoelectric film, the functional layer forming agent on the polymer piezoelectric film is dried at a temperature of 90 ° C. or lower. Therefore, the elongation of the polymer piezoelectric film is suppressed as compared with the case where the functional layer forming agent on the polymer piezoelectric film is dried at a temperature higher than 90 ° C. to form the functional layer (X). As a result, the dimensional change rate measured as described above can be 1.0% or less in the MD direction. Furthermore, since the film wound layer obtained by the production method of the present embodiment has high dimensional stability, the occurrence of cracks in the polymer piezoelectric film when heated is suppressed, and the moisture and heat resistance of the polymer piezoelectric film is suppressed. Excellent.

以下、ロールトゥロールの連続プロセスにより、フィルム巻層体を製造する方法の一例を、図2を用いて示す。図2は、本発明の第二実施形態にて、離型フィルムに接着層を形成してフィルム巻層体を製造する方法を示す概略図である。   Hereinafter, an example of a method for producing a film wound layer body by a continuous roll-to-roll process will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic view showing a method for producing a film wound layer by forming an adhesive layer on a release film in the second embodiment of the present invention.

まず、フィルム巻層体製造装置20にて、ロール体に固定したロール状高分子圧電フィルム11から高分子圧電フィルム12を引き出し、引き出した高分子圧電フィルム12をもう一方のロール体で巻き取る。そして、ロール間の高分子圧電フィルム12に、塗工装置18を用いて接着剤13を塗工する。接着剤13を高分子圧電フィルム12に塗工した後、乾燥手段(乾燥炉)19により接着剤13を90℃以下の温度で乾燥させ、高分子圧電フィルム12の主面に接着層14を形成する。   First, in the film winding layer manufacturing apparatus 20, the polymer piezoelectric film 12 is pulled out from the roll-shaped polymer piezoelectric film 11 fixed to the roll body, and the pulled-out polymer piezoelectric film 12 is wound up by the other roll body. Then, the adhesive 13 is applied to the polymer piezoelectric film 12 between the rolls using the coating device 18. After the adhesive 13 is applied to the polymer piezoelectric film 12, the adhesive 13 is dried at a temperature of 90 ° C. or less by a drying means (drying furnace) 19 to form the adhesive layer 14 on the main surface of the polymer piezoelectric film 12. To do.

また、ロール体に固定したロール状離型フィルム15から離型フィルム16を引き出し、引き出した離型フィルム16を、高分子圧電フィルム12に貼り合わせた後、高分子圧電フィルム12ともにロール体で巻き取る。そのため、高分子圧電フィルム12の主面に接着層14が形成されているとき、接着層14と離型フィルム16とを貼り合わせることで積層フィルムが形成される。そして、形成した積層フィルムをロール状に巻回することで、フィルム巻層体17が得られる。   Further, after the release film 16 is pulled out from the roll-shaped release film 15 fixed to the roll body and the pulled-out release film 16 is bonded to the polymer piezoelectric film 12, the polymer piezoelectric film 12 is wound around the roll body. take. Therefore, when the adhesive layer 14 is formed on the main surface of the polymer piezoelectric film 12, a laminated film is formed by bonding the adhesive layer 14 and the release film 16 together. And the film winding layered body 17 is obtained by winding the formed laminated film in roll shape.

ロールトゥロールの連続プロセスでは、ロール間のフィルムには、フィルムの流れ方向(MD方向)に向かって張力が発生する。そのため、ポリ乳酸などの脂肪族系ポリエステルを含む高分子圧電フィルムをロール間に設け、接着層を形成するときに熱を高分子圧電フィルムに加えた場合、高分子圧電フィルムは耐熱性が低いことから、加えた熱によっては、発生した張力により、高分子圧電フィルムに伸びが生じ、高分子圧電フィルムの寸法安定性が悪化してしまうおそれがある。   In the roll-to-roll continuous process, tension is generated in the film between the rolls in the film flow direction (MD direction). Therefore, when a polymer piezoelectric film containing an aliphatic polyester such as polylactic acid is provided between rolls and heat is applied to the polymer piezoelectric film when forming the adhesive layer, the polymer piezoelectric film has low heat resistance. Therefore, depending on the applied heat, the tension generated may cause elongation of the polymer piezoelectric film, which may deteriorate the dimensional stability of the polymer piezoelectric film.

一方、本実施形態でのロールトゥロールの連続プロセスでは、高分子圧電フィルムに接着層を形成するときの接着剤の乾燥温度を90℃以下としているため、高分子圧電フィルムの伸びが抑制され、高分子圧電フィルムの寸法安定性を維持することができる。   On the other hand, in the continuous process of roll-to-roll in this embodiment, since the drying temperature of the adhesive when forming the adhesive layer on the polymer piezoelectric film is 90 ° C. or less, the elongation of the polymer piezoelectric film is suppressed, The dimensional stability of the polymer piezoelectric film can be maintained.

<フィルム巻層体の用途>
フィルム巻層体は、スピーカー、ヘッドホン、タッチパネル、リモートコントローラー、マイクロホン、水中マイクロホン、超音波トランスデューサ、超音波応用計測器、圧電振動子、機械的フィルター、圧電トランス、遅延装置、センサ、加速度センサ、衝撃センサ、振動センサ、感圧センサ、触覚センサ、電界センサ、音圧センサ、ディスプレイ、ファン、ポンプ、可変焦点ミラー、遮音材料、防音材料、キーボード、音響機器、情報処理機、計測機器、医用機器などの種々の分野で利用することができ、デバイスに用いた際のセンサ感度を高く維持することができる点から、特に各種センサの分野でフィルム巻層体を利用することが好ましい。
また、フィルム巻層体は、表示装置と組み合わせたタッチパネルとして用いることもできる。表示装置としては、例えば、液晶パネル、有機ELパネルなどを用いることもできる。
また、フィルム巻層体は、感圧センサとして、他方式のタッチパネル(位置検出部材)と組み合わせて用いることもできる。位置検出部材の検出方式としては抗膜方式、静電容量方式、表面弾性波方式、赤外線方式、光学方式等が挙げられる。
<Use of film wound layer>
Film wound body is speaker, headphone, touch panel, remote controller, microphone, underwater microphone, ultrasonic transducer, ultrasonic applied measuring instrument, piezoelectric vibrator, mechanical filter, piezoelectric transformer, delay device, sensor, acceleration sensor, impact Sensors, vibration sensors, pressure sensors, tactile sensors, electric field sensors, sound pressure sensors, displays, fans, pumps, variable focus mirrors, sound insulation materials, sound insulation materials, keyboards, acoustic equipment, information processing equipment, measurement equipment, medical equipment, etc. In particular, it is preferable to use a film-layered body in the field of various sensors from the viewpoint that the sensor sensitivity when used in a device can be maintained high.
Moreover, a film winding layered body can also be used as a touch panel combined with a display device. As the display device, for example, a liquid crystal panel, an organic EL panel, or the like can be used.
Moreover, a film winding layer body can also be used in combination with the touch panel (position detection member) of another system as a pressure-sensitive sensor. Examples of the detection method of the position detection member include an anti-film method, a capacitance method, a surface acoustic wave method, an infrared method, and an optical method.

以下、本発明のフィルム巻層体を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, although the film winding layered product of the present invention is explained more concretely by an example, the present invention is not limited to the following examples, unless the gist is exceeded.

<製造例1:高分子圧電フィルムの作製>
ヘリカルキラル高分子(A)として、NatureWorks LLC社製のポリ乳酸(PLA)(品名:IngeoTM biopolymer、銘柄:4032D、重量平均分子量Mw:20万)を用意し、このポリ乳酸99質量部に対して、下記添加剤X(安定化剤(B))を1質量部添加してドライブレンドし原料を調製した。
調製した原料を押出成形機ホッパーに入れて、220℃〜230℃に加熱しながらTダイから押出し、50℃のキャストロールに0.5分間接触させて、厚さ150μmの予備結晶化フィルムを製膜した(成形工程)。得られた予備結晶化フィルムの結晶化度を測定したところ4.91%であった。
得られた予備結晶化フィルムを70℃に加熱しながらロールツーロールで、延伸速度1650mm/分で延伸を開始し、3.5倍までMD方向に一軸延伸し、一軸延伸フィルムを得た(延伸工程)。
その後、一軸延伸フィルムを、ロールツーロールで、130℃に加熱したロール上に78秒間接触させアニール処理した後(アニール工程)、50℃に設定したロールで急冷し、さらにロール状に巻き取ることで、高分子圧電フィルムを得た。
<Production Example 1: Production of Polymer Piezoelectric Film>
As helical chiral polymer (A), NatureWorks LLC Corp. polylactic acid (PLA) (product name: Ingeo TM Biopolymer, brand: 4032D, weight average molecular weight Mw: 20 50,000) was prepared, to this polylactic acid 99 parts by weight Then, 1 part by mass of the following additive X (stabilizer (B)) was added and dry blended to prepare a raw material.
The prepared raw material is put into an extrusion molding machine hopper, extruded from a T die while being heated to 220 ° C. to 230 ° C., and brought into contact with a cast roll at 50 ° C. for 0.5 minutes to produce a pre-crystallized film having a thickness of 150 μm. Filmed (molding process). The crystallinity of the obtained pre-crystallized film was measured and found to be 4.91%.
The obtained pre-crystallized film was rolled to roll at 70 ° C. while being heated to 70 ° C., and was stretched at a stretching speed of 1650 mm / min, and uniaxially stretched in the MD direction up to 3.5 times to obtain a uniaxially stretched film (stretched) Process).
Thereafter, the uniaxially stretched film is subjected to annealing for 78 seconds on a roll heated to 130 ° C. by roll-to-roll (annealing step), then rapidly cooled with a roll set to 50 ° C., and further wound into a roll. Thus, a polymer piezoelectric film was obtained.

−添加剤X(安定化剤(B))−
添加剤Xとしては、ラインケミー社製Stabaxol I(70質量部)、及び日清紡ケミカル株式会社製カルボジライトLA−1(30質量部)の混合物を用いた。
上記混合物における各成分の詳細は以下のとおりである。
Stabaxol I … ビス−2,6−ジイソプロピルフェニルカルボジイミド(分子量(=重量平均分子量):363)
カルボジライトLA−1 … ポリ(4,4’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)(重量平均分子量:約2000)
-Additive X (stabilizer (B))-
As additive X, a mixture of Stabaxol I (70 parts by mass) manufactured by Rhein Chemie and Carbodilite LA-1 (30 parts by mass) manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd. was used.
The detail of each component in the said mixture is as follows.
Stabaxol I ... bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide (molecular weight (= weight average molecular weight): 363)
Carbodilite LA-1 Poly (4,4′-dicyclohexylmethanecarbodiimide) (weight average molecular weight: about 2000)

製造例1で用いたポリ乳酸の物性を以下の方法で測定した。結果は表1に示すとおりである。   The physical properties of the polylactic acid used in Production Example 1 were measured by the following method. The results are as shown in Table 1.

<光学純度>
製造例1で作製した高分子圧電フィルムに含まれるポリ乳酸の光学純度を、以下のようにして測定した。
まず、50mLの三角フラスコに1.0gのサンプル(上記高分子圧電フィルム)を秤り込み、ここに、IPA(イソプロピルアルコール)2.5mL及び5.0mol/L水酸化ナトリウム溶液5mLを加え、サンプル溶液とした。
次に、このサンプル溶液が入った三角フラスコを温度40℃の水浴に入れ、ポリ乳酸が完全に加水分解するまで、約5時間攪拌した。
上記約5時間の撹拌後のサンプル溶液を室温まで冷却した後、1.0mol/L塩酸溶液を20mL加えて中和し、三角フラスコを密栓してよくかき混ぜた。
次に、上記でかき混ぜたサンプル溶液の1.0mLを25mLのメスフラスコに取り分け、ここに下記組成の移動相を加え、25mLのHPLC試料溶液1を得た。
得られたHPLC試料溶液1をHPLC装置に5μL注入し、下記HPLC測定条件にてHPLC測定を行った。得られた測定結果から、ポリ乳酸のD体に由来するピークの面積とポリ乳酸のL体に由来するピークの面積とを求め、L体の量とD体の量とを算出した。得られた結果に基づき、光学純度(%ee)を求めた。
その結果、光学純度は、97.0%eeであった。なお、下記表1において、「LA」はポリ乳酸を表す。
−HPLC測定条件−
・カラム
光学分割カラム、(株)住化分析センター製 SUMICHIRAL OA5000
・HPLC装置
日本分光株式会社製 液体クロマトグラフィ
・カラム温度
25℃
・移動相の組成
1.0mM−硫酸銅(II)緩衝液/IPA=98/2(V/V)
(この移動相において、硫酸銅(II)、IPA、及び水の比率は、硫酸銅(II)/IPA/水=156.4mg/20mL/980mLである。)
・移動相流量
1.0mL/分
・検出器
紫外線検出器(UV254nm)
<Optical purity>
The optical purity of polylactic acid contained in the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 was measured as follows.
First, 1.0 g sample (the above-mentioned polymer piezoelectric film) is weighed into a 50 mL Erlenmeyer flask, and 2.5 mL of IPA (isopropyl alcohol) and 5 mL of 5.0 mol / L sodium hydroxide solution are added to the sample. It was set as the solution.
Next, the Erlenmeyer flask containing the sample solution was placed in a water bath at a temperature of 40 ° C. and stirred for about 5 hours until the polylactic acid was completely hydrolyzed.
The sample solution after stirring for about 5 hours was cooled to room temperature, neutralized by adding 20 mL of 1.0 mol / L hydrochloric acid solution, and the Erlenmeyer flask was sealed and mixed well.
Next, 1.0 mL of the sample solution stirred above was placed in a 25 mL volumetric flask, and a mobile phase having the following composition was added thereto to obtain 25 mL of HPLC sample solution 1.
5 μL of the obtained HPLC sample solution 1 was injected into the HPLC apparatus, and HPLC measurement was performed under the following HPLC measurement conditions. From the obtained measurement results, the area of the peak derived from the D-form of polylactic acid and the area of the peak derived from the L-form of polylactic acid were determined, and the amount of L-form and the amount of D-form were calculated. Based on the obtained results, the optical purity (% ee) was determined.
As a result, the optical purity was 97.0% ee. In Table 1 below, “LA” represents polylactic acid.
-HPLC measurement conditions-
・ Column Optical resolution column, SUMICHIRAL OA5000 manufactured by Sumika Chemical Analysis Co., Ltd.
・ HPLC apparatus, manufactured by JASCO Corporation, liquid chromatography, column temperature: 25 ° C
-Composition of mobile phase 1.0 mM-copper (II) sulfate buffer / IPA = 98/2 (V / V)
(In this mobile phase, the ratio of copper (II) sulfate, IPA, and water is copper (II) sulfate / IPA / water = 156.4 mg / 20 mL / 980 mL).
・ Mobile phase flow rate 1.0mL / min ・ Detector UV detector (UV254nm)

<重量平均分子量及び分子量分布>
ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用い、下記GPC測定方法により、ポリ乳酸の重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を測定した。
−GPC測定方法−
・測定装置
Waters社製GPC−100
・カラム
昭和電工株式会社製、Shodex LF−804
・サンプルの調製
製造例1で作製した高分子圧電フィルムを、40℃で溶媒〔クロロホルム〕へ溶解させ、濃度1mg/mLのサンプル溶液を準備した。
・測定条件
サンプル溶液0.1mLを溶媒(クロロホルム)、温度40℃、1mL/分の流速でカラムに導入し、カラムで分離されたサンプル溶液中のサンプル濃度を示差屈折計で測定した。ポリ乳酸の分子量は、ポリスチレン標準試料にてユニバーサル検量線を作成し、ポリ乳酸の重量平均分子量(Mw)を算出した。
<Weight average molecular weight and molecular weight distribution>
Using gel permeation chromatograph (GPC), the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of polylactic acid were measured by the following GPC measurement method.
-GPC measurement method-
・ Measurement device Waters GPC-100
・ Column Showa Denko KK, Shodex LF-804
Sample Preparation The polymer piezoelectric film prepared in Production Example 1 was dissolved in a solvent [chloroform] at 40 ° C. to prepare a sample solution having a concentration of 1 mg / mL.
Measurement conditions 0.1 mL of the sample solution was introduced into the column at a solvent (chloroform), a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 1 mL / min, and the sample concentration in the sample solution separated by the column was measured with a differential refractometer. For the molecular weight of polylactic acid, a universal calibration curve was prepared using a polystyrene standard sample, and the weight average molecular weight (Mw) of polylactic acid was calculated.

製造例1で作製した高分子圧電フィルムの特性を、以下の方法で測定した。結果は表1に示すとおりである。   The characteristics of the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 were measured by the following method. The results are as shown in Table 1.

<結晶化度>
製造例1で作製した高分子圧電フィルムを10mg正確に秤量し、示差走査型熱量計(パーキンエルマー社製DSC−1)を用い、昇温速度10℃/分の条件で測定し、融解吸熱曲線を得た。得られた融解吸熱曲線から、結晶化度を得た。
<Crystallinity>
10 mg of the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 was accurately weighed and measured using a differential scanning calorimeter (DSC-1 manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd.) at a temperature rising rate of 10 ° C./min. Got. The crystallinity was obtained from the obtained melting endotherm curve.

<規格化分子配向MORc>
製造例1で作製した高分子圧電フィルムについて、規格化分子配向MORcを、王子計測機器株式会社製マイクロ波方式分子配向計MOA−6000により測定した。基準厚さtcは、50μmに設定した。
<Normalized molecular orientation MORc>
About the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1, the normalized molecular orientation MORc was measured with a microwave molecular orientation meter MOA-6000 manufactured by Oji Scientific Instruments. The reference thickness tc was set to 50 μm.

<内部ヘイズ>
以下の方法により、製造例1で作製した高分子圧電フィルムの内部ヘイズ(以下、内部ヘイズ(H1)ともいう)を得た。
まず、ガラス板2枚の間に、シリコーンオイル(信越化学工業株式会社製信越シリコーン(商標)、型番:KF96−100CS)のみを挟んだ積層体を準備し、この積層体の厚さ方向のヘイズ(以下、ヘイズ(H2)とする)を測定した。
次に、上記のガラス板2枚の間に、シリコーンオイルで表面を均一に塗らした上記高分子圧電フィルムを挟んだ積層体を準備し、この積層体の厚さ方向のヘイズ(以下、ヘイズ(H3)とする)を測定した。
次に、下記式のようにこれらの差をとることにより、高分子圧電フィルムの内部ヘイズ(H1)を得た。
内部ヘイズ(H1)=ヘイズ(H3)−ヘイズ(H2)
<Internal haze>
The internal haze (hereinafter also referred to as internal haze (H1)) of the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 was obtained by the following method.
First, a laminate in which only a silicone oil (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Shin-Etsu Silicone (trademark), model number: KF96-100CS) is sandwiched between two glass plates is prepared, and the haze in the thickness direction of the laminate is prepared. (Hereinafter referred to as haze (H2)) was measured.
Next, a laminate in which the polymer piezoelectric film having a surface uniformly coated with silicone oil is sandwiched between the two glass plates is prepared, and a haze in the thickness direction of the laminate (hereinafter, haze ( H3)) was measured.
Next, the internal haze (H1) of the polymer piezoelectric film was obtained by taking these differences as in the following formula.
Internal haze (H1) = Haze (H3) -Haze (H2)

ここで、ヘイズ(H2)及びヘイズ(H3)の測定は、それぞれ、下記測定条件下で下記装置を用いて行った。
測定装置:東京電色社製、HAZE METER TC−HIIIDPK
試料サイズ:幅30mm×長さ30mm
測定条件:JIS−K7105に準拠
測定温度:室温(25℃)
Here, the measurement of haze (H2) and haze (H3) was respectively performed using the following apparatus under the following measurement conditions.
Measuring device: manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., HAZE METER TC-HIIIDPK
Sample size: 30mm width x 30mm length
Measurement conditions: Conforms to JIS-K7105 Measurement temperature: Room temperature (25 ° C.)

<圧電定数d14(応力−電荷法)>
前述した「応力−電荷法による圧電定数d14の測定方法の一例」に従い、高分子圧電フィルムの圧電定数(詳細には、圧電定数d14(応力−電荷法))を測定した。
<Piezoelectric constant d 14 (stress-charge method)>
The piezoelectric constant (specifically, the piezoelectric constant d 14 (stress-charge method)) of the polymer piezoelectric film was measured according to the above-described “example of method for measuring the piezoelectric constant d 14 by the stress-charge method”.

<製造例2:接着塗工液の調製>
アクリル系粘着剤SKダイン1811L(綜研化学株式会社製)10kg、硬化剤TD−75(綜研化学株式会社製)20g、及びトルエン1kgを混合し、接着塗工液を得た。
<Production Example 2: Preparation of adhesive coating solution>
Acrylic adhesive SK Dyne 1811L (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 10 kg, curing agent TD-75 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 20 g, and 1 kg of toluene were mixed to obtain an adhesive coating solution.

<製造例3:ハードコート層を有する高分子圧電フィルムの作製>
製造例1で作製した高分子圧電フィルムの一方の主面に、アクリル系樹脂コート液(東洋インキ社製、アンチブロックハードコートLIODURAS TYAB−014)をロールツーロールで塗工した。コート液が塗工された高分子圧電フィルムを80℃の加熱炉で乾燥した後、積算光量500mJ/cmの紫外線を照射して厚み2μmのハードコート層を形成した。さらに高分子圧電フィルムのもう一方の主面にも同様にして厚み2μmのハードコート層を形成して、両面にハードコート層が形成された高分子圧電フィルムを得た。
<Production Example 3: Production of a polymeric piezoelectric film having a hard coat layer>
On one main surface of the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1, an acrylic resin coating liquid (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., anti-block hard coat LIODURAS TYAB-014) was applied by roll-to-roll. The polymer piezoelectric film coated with the coating solution was dried in a heating furnace at 80 ° C. and then irradiated with ultraviolet rays having an integrated light amount of 500 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 2 μm. Further, a hard coat layer having a thickness of 2 μm was similarly formed on the other main surface of the polymer piezoelectric film to obtain a polymer piezoelectric film having hard coat layers formed on both surfaces.

〔実施例1〕
製造例2で得た接着塗工液を、離型フィルム(三井化学東セロ株式会社製SP−PET O3−BU)の離型面に対して、リバースグラビアコート方式、ライン速度2.5m/minにより塗布した。接着塗工液を塗布した離型フィルムに、温度100℃の乾燥炉を通過させて接着層を形成した。さらに接着層に対して離型フィルム(三井化学東セロ株式会社製SP−PET O3−BU)の離型面をラミネートしながら巻き取り、ロール状の積層体A(離型フィルム/接着層/離型フィルム)とした。そして、ロール状の積層体Aを1週間室温で保管して硬化を完了させた。接着層の厚みは25μmであった。
上記のようにして得たロール状の積層体Aの片側の離型フィルムをRtoR(ロールトゥロール)で剥離し、接着層に対して製造例1で作製した高分子圧電フィルムをラミネートしながら巻き取り、ロール状の積層体B(離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム)を得た。
さらに、別のロール状の積層体A(離型フィルム/接着層/離型フィルム)の片側の離型フィルムをRtoRで剥離し、露出させた接着層に対して積層体Bの高分子圧電フィルム面をラミネートしながら巻き取り、ロール状の積層体(フィルム巻層体:離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。
[Example 1]
The adhesive coating solution obtained in Production Example 2 is applied to the release surface of the release film (SP-PET O3-BU, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) using a reverse gravure coating method and a line speed of 2.5 m / min. Applied. The release film coated with the adhesive coating solution was passed through a drying furnace at a temperature of 100 ° C. to form an adhesive layer. Furthermore, it rolls up, laminating the mold release surface (SP-PET O3-BU made by Mitsui Chemicals, Inc.) to the adhesive layer, and roll-up laminate A (mold film / adhesive layer / mold release). Film). And the roll-shaped laminated body A was stored at room temperature for 1 week, and hardening was completed. The thickness of the adhesive layer was 25 μm.
The release film on one side of the roll-shaped laminate A obtained as described above is peeled off with RtoR (roll-to-roll), and wound while laminating the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 on the adhesive layer. As a result, a roll-shaped laminate B (release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film) was obtained.
Further, the release film on one side of another roll-shaped laminate A (release film / adhesive layer / release film) is peeled off by RtoR, and the polymer piezoelectric film of laminate B is exposed to the exposed adhesive layer. The film was rolled up while laminating the surface to obtain a roll-shaped laminate (film wound layer: release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film / adhesive layer / release film).

〔実施例2〕
製造例2で得た接着塗工液を、製造例1で製造した高分子圧電フィルムに対して、リバースグラビアコート方式、ライン速度2.5m/minにより塗布した。接着塗工液を塗布した高分子圧電フィルムに、温度70℃の乾燥炉を通過させて接着層を形成した。さらに接着層に対して離型フィルム(三井化学東セロ株式会社製SP−PET O3−BU)の離型面をラミネートしながら巻き取り、ロール状の積層体C(離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム)を得た。
さらに、ロール状の積層体Cの高分子圧電フィルム面に、前述と同様にして接着層を形成し、離型フィルム(三井化学東セロ株式会社製SP−PET O3−BU)の離型面をラミネートしながら巻き取り、ロール状の積層体(フィルム巻層体:離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。そして、ロール状の積層体を1週間室温で保管して硬化を完了させた。接着層の厚みはそれぞれ25μmであった。
[Example 2]
The adhesive coating solution obtained in Production Example 2 was applied to the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 by a reverse gravure coating method and a line speed of 2.5 m / min. The polymer piezoelectric film coated with the adhesive coating solution was passed through a drying furnace at a temperature of 70 ° C. to form an adhesive layer. Further, a laminate film C (release film / adhesive layer / polymer) was wound around the adhesive layer while laminating the release surface of the release film (SP-PET O3-BU manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). Piezoelectric film) was obtained.
Further, an adhesive layer is formed on the polymer piezoelectric film surface of the roll-shaped laminate C in the same manner as described above, and the release surface of the release film (SP-PET O3-BU manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is laminated. The film was wound while being rolled to obtain a roll-shaped laminate (film winding layer: release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film / adhesive layer / release film). Then, the roll-shaped laminate was stored at room temperature for 1 week to complete the curing. Each of the adhesive layers had a thickness of 25 μm.

〔実施例3〕
製造例1で作製した高分子圧電フィルムを、製造例3で作製したハードコート層を有する高分子圧電フィルムに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてロール状の積層体(フィルム巻層体:離型フィルム/接着層/ハードコート層を有する高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。
Example 3
A roll-shaped laminate (film winding layer) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 was changed to a polymer piezoelectric film having a hard coat layer produced in Production Example 3. Body: release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film having hard coat layer / adhesive layer / release film).

〔実施例4〕
製造例1で作製した高分子圧電フィルムを、製造例3で作製したハードコート層を有する高分子圧電フィルムに変更したこと以外は、実施例2と同様にしてロール状の積層体(フィルム巻層体:離型フィルム/接着層/ハードコート層を有する高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。そして、ロール状の積層体を1週間室温で保管して硬化を完了させた。
Example 4
A roll-shaped laminate (film winding layer) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 was changed to a polymer piezoelectric film having a hard coat layer produced in Production Example 3. Body: release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film having hard coat layer / adhesive layer / release film). Then, the roll-shaped laminate was stored at room temperature for 1 week to complete the curing.

〔比較例1〕
乾燥炉の温度を70℃から100℃に変更したこと以外は、実施例2と同様にしてロール状の積層体(フィルム巻層体:離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。そして、ロール状の積層体を1週間室温で保管して硬化を完了させた。接着層の厚みはそれぞれ25μmであった。
[Comparative Example 1]
Except that the temperature of the drying furnace was changed from 70 ° C. to 100 ° C., a roll-like laminate (film winding layer: release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film / adhesive layer / A release film) was obtained. Then, the roll-shaped laminate was stored at room temperature for 1 week to complete the curing. Each of the adhesive layers had a thickness of 25 μm.

〔比較例2〕
製造例2で得た接着塗工液を、製造例1で作製した高分子圧電フィルムに対し、アプリケーターでハンドコートし、温度100℃のオーブンで乾燥を行い、接着層を形成した。さらに、接着層に対して離型フィルム(三井化学東セロ株式会社製SP−PET O3−BU)の離型面をローラーで貼合し、枚葉の積層体(離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム)を得た。
さらに、上記枚葉の積層体の高分子圧電フィルム面に、前述と同様にして接着層を形成し、離型フィルム(三井化学東セロ株式会社製SP−PET O3−BU)の離型面をローラーで貼合し、枚葉の積層体(離型フィルム/接着層/高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。そして、枚葉の積層体を1週間室温で保管して硬化を完了させた。接着層の厚みはそれぞれ25μmであった。
[Comparative Example 2]
The adhesive coating liquid obtained in Production Example 2 was hand-coated with the applicator on the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1, and dried in an oven at a temperature of 100 ° C. to form an adhesive layer. Further, the release surface of the release film (SP-PET O3-BU manufactured by Mitsui Chemicals Tosero Co., Ltd.) is bonded to the adhesive layer with a roller, and a single wafer laminate (release film / adhesive layer / polymer). Piezoelectric film) was obtained.
Further, an adhesive layer is formed on the polymer piezoelectric film surface of the single-layer laminate in the same manner as described above, and the release surface of the release film (SP-PET O3-BU manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is used as a roller. The laminate (sheet release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film / adhesive layer / release film) was obtained. Then, the sheet stack was stored at room temperature for one week to complete the curing. Each of the adhesive layers had a thickness of 25 μm.

〔比較例3〕
製造例1で作製した高分子圧電フィルムを、製造例3で作製したハードコート層を有する高分子圧電フィルムに変更したこと以外は、比較例1と同様にしてロール状の積層体(フィルム巻層体:離型フィルム/接着層/ハードコート層を有する高分子圧電フィルム/接着層/離型フィルム)を得た。
[Comparative Example 3]
A roll-shaped laminate (film winding layer) was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the polymer piezoelectric film produced in Production Example 1 was changed to a polymer piezoelectric film having a hard coat layer produced in Production Example 3. Body: release film / adhesive layer / polymer piezoelectric film having hard coat layer / adhesive layer / release film).

実施例1〜4及び比較例1、3で得たロール状の積層体ならびに比較例2で得た枚葉の積層体について、接着層の酸価、MD寸法変化率、MDクラック及び耐湿熱性を以下のようにして評価した。
評価結果を、表2に示す。なお、表2中の「−」は、測定データなしを表す。
About the roll-shaped laminate obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 3 and the single-wafer laminate obtained in Comparative Example 2, the acid value of the adhesive layer, the MD dimensional change rate, the MD crack and the heat and moisture resistance Evaluation was performed as follows.
The evaluation results are shown in Table 2. In Table 2, “-” indicates no measurement data.

<接着層の酸価>
積層体から離型フィルムを剥離し、露出した接着層0.5gを溶媒(クロロホルム)に溶解させ、フェノールフタレインを指示薬として0.005M KOH(水酸化カリウム)エタノール溶液によって滴定することで酸価を求めた。
<Acid value of adhesive layer>
The release film is peeled from the laminate, 0.5 g of the exposed adhesive layer is dissolved in a solvent (chloroform), and titrated with 0.005M KOH (potassium hydroxide) ethanol solution using phenolphthalein as an indicator. Asked.

<MD寸法変化率>
積層体から離型フィルム及び接着層を除去して得られた高分子圧電フィルムを、延伸方向(MD方向)に50mm、延伸方向と直交する方向(TD方向)に50mmカットして、50mm×50mmの矩形フィルムを切り出した。この矩形フィルムを100℃にセットしたオーブン中に吊り下げて、30分間アニール処理した。その後、アニール処理前後のMD方向のフィルム矩形辺長の寸法を高精度デジタル測長機(株式会社ミツトヨ製、ライトマチックVL−50AS)で測定した。そして、下式に従い、寸法変化率(%)を算出し、寸法安定性を評価した。寸法変化率が小さいほど寸法安定性が高いことを示す。
(式)寸法変化率(%)=100×|(アニール前のMD方向の辺長)−(アニール後のMD方向の辺長)|/(アニール前のMD方向の辺長)
<MD dimensional change rate>
The polymer piezoelectric film obtained by removing the release film and the adhesive layer from the laminate is cut 50 mm in the stretching direction (MD direction) and 50 mm in the direction perpendicular to the stretching direction (TD direction), and is 50 mm × 50 mm. A rectangular film was cut out. This rectangular film was suspended in an oven set at 100 ° C. and annealed for 30 minutes. Thereafter, the dimensions of the film rectangular side length in the MD direction before and after the annealing treatment were measured with a high-precision digital length measuring machine (manufactured by Mitutoyo Corporation, Lightmatic VL-50AS). And according to the following formula, dimensional change rate (%) was calculated and dimensional stability was evaluated. A smaller dimensional change rate indicates higher dimensional stability.
(Expression) Dimensional change rate (%) = 100 × | (side length in MD direction before annealing) − (side length in MD direction after annealing) | / (side length in MD direction before annealing)

<MDクラック>
積層体の両面の離型フィルムを剥離し、露出した接着層に東レ製ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)(銘柄:ルミラーT60−50)を、2kgロールを用いて貼り付けた。これにより、5つの層が積層された積層構造体とした。つまり、積層構造体は、PET/接着層/高分子圧電フィルム/接着層/PETの5層からなる。
上記積層構造体をピナクル刃で50mm×50mmの正方形に打ち抜いた。そして、得られた積層構造体(50mm×50mm)を85℃で500時間加熱した。その後、室温にて24時間放置し、MD方向へのクラック発生有無を目視にて観察し、以下の基準で評価した。
A:積層構造体の高分子圧電フィルムにてクラックがない。
B:積層構造体の高分子圧電フィルムにクラックが発生している。
<MD crack>
The release films on both sides of the laminate were peeled, and Toray polyethylene terephthalate resin (PET) (brand: Lumirror T60-50) was attached to the exposed adhesive layer using a 2 kg roll. Thereby, it was set as the laminated structure by which five layers were laminated | stacked. That is, the laminated structure is composed of five layers of PET / adhesive layer / polymer piezoelectric film / adhesive layer / PET.
The laminated structure was punched into a 50 mm × 50 mm square with a pinnacle blade. And the obtained laminated structure (50 mm x 50 mm) was heated at 85 degreeC for 500 hours. Then, it was left to stand at room temperature for 24 hours, the presence or absence of the crack generation to MD direction was observed visually, and the following references | standards evaluated.
A: There is no crack in the polymer piezoelectric film of the laminated structure.
B: Cracks are generated in the polymer piezoelectric film of the laminated structure.

<耐湿熱性>
積層体の製造後24時間以内の高分子圧電フィルムの重量平均分子量を測定した(初期Mw)。次に、製造後24時間以内の積層体から、長手方向50mm×幅方向50mmの矩形の試験片を用意し、この試験片を85℃85%RHに保った恒温恒湿器内に吊り下げ、120時間保持した。この試験片について高分子圧電フィルムの重量平均分子量を測定し(耐湿熱試験後Mw)、下記式で表されるMw維持率について以下の基準で評価した。
式: Mw維持率=耐湿熱試験後Mw/初期Mw
〔評価基準〕
A:Mw維持率≧0.6
B:0.6>Mw維持率≧0.35
C:Mw維持率<0.35
<Heat and heat resistance>
The weight average molecular weight of the polymeric piezoelectric film within 24 hours after the production of the laminate was measured (initial Mw). Next, a rectangular test piece of 50 mm in the longitudinal direction and 50 mm in the width direction is prepared from the laminate within 24 hours after production, and the test piece is suspended in a constant temperature and humidity chamber maintained at 85 ° C. and 85% RH. Hold for 120 hours. With respect to this test piece, the weight average molecular weight of the polymer piezoelectric film was measured (Mw after the wet heat resistance test), and the Mw maintenance rate represented by the following formula was evaluated according to the following criteria.
Formula: Mw retention rate = Mw after wet heat resistance test / initial Mw
〔Evaluation criteria〕
A: Mw maintenance rate ≧ 0.6
B: 0.6> Mw maintenance rate ≧ 0.35
C: Mw maintenance rate <0.35

実施例1〜4では、高分子圧電フィルムのMD寸法変化率を1.0%以下のフィルム巻層体を作製した。このフィルム巻層体では、加熱したときに高分子圧電フィルムにクラックが発生せず、かつ、高分子圧電フィルムの耐湿熱性が優れている(特に、実施例1)。
一方、比較例1、3では、高分子圧電フィルムのMD寸法変化率を1.0%以上のフィルム巻層体を作製したが、このフィルム巻層体では、加熱したときに高分子圧電フィルムにクラックが発生した。また、比較例2では、枚葉の積層体を作製したが、高分子圧電フィルムの耐湿熱性が不十分であった。
In Examples 1 to 4, film wound layers having a MD dimensional change rate of the polymer piezoelectric film of 1.0% or less were produced. In this film-wrapped body, cracks do not occur in the polymer piezoelectric film when heated, and the polymer piezoelectric film has excellent moisture and heat resistance (particularly, Example 1).
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 3, a film wound layer body having a MD dimensional change rate of the polymer piezoelectric film of 1.0% or more was produced. A crack occurred. In Comparative Example 2, a single-wafer laminate was produced, but the heat resistance of the polymer piezoelectric film was insufficient.

2015年3月2日に出願された日本国特許出願2015−040385の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese Patent Application No. 2015-040385 filed on March 2, 2015 is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards mentioned in this specification are to the same extent as if each individual document, patent application, and technical standard were specifically and individually stated to be incorporated by reference, Incorporated herein by reference.

1、15 ロール状離型フィルム
2、16 離型フィルム
3、13 接着剤
4、14 接着層
5、11 ロール状高分子圧電フィルム
6、12 高分子圧電フィルム
7、17 フィルム巻層体
8、18 塗工装置
9、19 乾燥手段
10、20 フィルム巻層体製造装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,15 Roll-shaped release film 2,16 Release film 3,13 Adhesive 4,14 Adhesive layer 5,11 Roll-shaped polymeric piezoelectric film 6,12 Polymer piezoelectric film 7,17 Film wound layer body 8,18 Coating apparatus 9, 19 Drying means 10, 20 Film wound layer manufacturing apparatus

Claims (18)

重量平均分子量が5万〜100万である光学活性を有するヘリカルキラル高分子(A)を含み、DSC法で得られる結晶化度が20%〜80%であり、かつ、マイクロ波透過型分子配向計で測定される基準厚さを50μmとしたときの規格化分子配向MORcと前記結晶化度との積が40〜700である高分子圧電フィルムと、
前記高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面上に設けられた機能層(X)と、
を有する積層フィルムがロール状に巻回してなり、
前記積層フィルムから前記機能層(X)を除去して得られた前記高分子圧電フィルムを、100℃で30分間加熱したときの寸法変化率が、MD方向に1.0%以下であり、
前記機能層(X)中の全窒素量は、0.05質量%〜10質量%であるフィルム巻層体。
Including a helical chiral polymer (A) having an optical activity with a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000, crystallinity obtained by DSC method of 20% to 80%, and microwave transmission molecular orientation A polymer piezoelectric film in which the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is 40 to 700 when the reference thickness measured by the meter is 50 μm;
A functional layer (X) provided on at least one main surface of the polymer piezoelectric film;
A laminated film having a roll shape,
Wherein the functional layer from the laminated film the polymer piezoelectric film obtained by removing the (X), the dimensional change ratio when heated at 100 ° C. 30 minutes state, and are 1.0% or less in the MD direction,
Total nitrogen content in the functional layer (X) is 0.05% to 10% by mass Ru film wound layer body.
前記機能層(X)の酸価は、10mgKOH/g以下である請求項1に記載のフィルム巻層体。   The film winding layered product according to claim 1 whose acid value of said functional layer (X) is 10 mgKOH / g or less. 前記機能層(X)は、接着層である請求項1又は請求項2に記載のフィルム巻層体。   The film wound layer according to claim 1 or 2, wherein the functional layer (X) is an adhesive layer. 前記機能層(X)の酸価は、0.01mgKOH/g以上である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。   The film wound layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the acid value of the functional layer (X) is 0.01 mgKOH / g or more. 前記機能層(X)は、前記高分子圧電フィルムに接触している請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。   The film wound layer body according to any one of claims 1 to 4, wherein the functional layer (X) is in contact with the polymer piezoelectric film. 前記積層フィルムは、前記高分子圧電フィルムと前記機能層(X)との間に、屈折率調整層、易接着層、ハードコート層、帯電防止層、及びアンチブロック層の少なくとも1つの層を有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The laminated film has at least one layer of a refractive index adjusting layer, an easy adhesion layer, a hard coat layer, an antistatic layer, and an antiblock layer between the polymer piezoelectric film and the functional layer (X). The film winding layered product according to any one of claims 1 to 4 . 前記高分子圧電フィルムは、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、前記ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜10質量部含む請求項1〜請求項のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The polymeric piezoelectric film comprises a stabilizer (B) having a weight average molecular weight of 200 to 60,000 having at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. The film roll layered body according to any one of claims 1 to 6 , comprising 0.01 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the molecule (A). 前記安定化剤(B)は、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜900の安定化剤(B1)と、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を1分子内に2以上有する重量平均分子量が1000〜60000の安定化剤(B2)と、を含む請求項に記載のフィルム巻層体。 The stabilizer (B) includes a stabilizer (B1) having a weight average molecular weight of 200 to 900 having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group, and a carbodiimide group. , according to claim 7 including an epoxy group, and the weight average molecular weight having two or more one or more functional groups in one molecule selected from the group consisting of isocyanate groups stabilizers 1000-60000 and (B2), the Film winding layered body. 前記高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが50%以下であり、かつ、25℃において応力−電荷法で測定した圧電定数d14が1pC/N以上である請求項1〜請求項のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The piezoelectric polymer film is 50% or less internal haze to visible light, and, at 25 ° C. stress - of claims 1 to 8 piezoelectric constant d 14 measured by the charge method is 1 pC / N or more The film winding layered body according to any one of claims. 前記高分子圧電フィルムは、可視光線に対する内部ヘイズが13%以下であり、かつ、カルボジイミド基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選ばれる1種類以上の官能基を有する重量平均分子量が200〜60000の安定化剤(B)を、前記ヘリカルキラル高分子(A)100質量部に対して0.01質量部〜2.8質量部含む請求項1〜請求項のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The polymer piezoelectric film has an internal haze with respect to visible light of 13% or less, and a weight average molecular weight of 200 to 200 having at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group, and an isocyanate group. 60000 of stabilizer (B), according to any one of the helical chiral polymer (a) 100 mass claims comprising 0.01 parts by 2.8 parts by mass per unit claim 1 to claim 9 Film winding layered body. 前記ヘリカルキラル高分子(A)は、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む主鎖を有するポリ乳酸系高分子である請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。
The film according to any one of claims 1 to 10 , wherein the helical chiral polymer (A) is a polylactic acid polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1). Winding layered body.
前記ヘリカルキラル高分子(A)は、光学純度が95.00%ee以上である請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The film winding layer according to any one of claims 1 to 11 , wherein the helical chiral polymer (A) has an optical purity of 95.00% ee or higher. 前記高分子圧電フィルム中における前記ヘリカルキラル高分子(A)の含有量は、80質量%以上である請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The film winding layer according to any one of claims 1 to 12 , wherein a content of the helical chiral polymer (A) in the polymer piezoelectric film is 80% by mass or more. 前記積層フィルムは、さらに、前記機能層(X)から見て前記高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側に配置された離型フィルムと、を有する請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載のフィルム巻層体。 The laminated film is further of claims 1 to 13 having a release film disposed on the side opposite to the side where the piezoelectric polymer film as seen from the functional layer (X) is arranged The film winding layered body according to any one of claims. 前記積層フィルムは、MD方向の長さが10m以上である請求項14に記載のフィルム巻層体。 The film laminated layer according to claim 14 , wherein the laminated film has a length in the MD direction of 10 m or more. 請求項14又は請求項15に記載のフィルム巻層体の製造方法であって、
前記離型フィルムの主面に前記機能層(X)を形成するための機能層形成剤を付与して前記機能層(X)を形成する工程と、
前記機能層(X)から見て前記離型フィルムが配置されている側とは反対側にて、前記機能層(X)と前記高分子圧電フィルムとを貼り合わせて前記積層フィルムを形成する工程と、
形成した前記積層フィルムをロール状に巻回する工程と、
を含むフィルム巻層体の製造方法。
It is a manufacturing method of the film winding layered product according to claim 14 or 15 ,
Providing the functional layer forming agent for forming the functional layer (X) on the main surface of the release film to form the functional layer (X);
A step of bonding the functional layer (X) and the polymer piezoelectric film to form the laminated film on the side opposite to the side on which the release film is disposed when viewed from the functional layer (X). When,
A step of winding the formed laminated film into a roll,
The manufacturing method of the film winding layer body containing this.
請求項14又は請求項15に記載のフィルム巻層体の製造方法であって、
前記高分子圧電フィルムの少なくとも一方の主面に前記機能層(X)を形成するための機能層形成剤を塗布し、塗布した前記機能層形成剤を90℃以下の温度で乾燥させて機能層(X)を形成する工程と、
前記機能層(X)から見て前記高分子圧電フィルムが配置されている側とは反対側にて、前記機能層(X)と前記離型フィルムとを貼り合わせて前記積層フィルムを形成する工程と、
形成した前記積層フィルムをロール状に巻回する工程と、
を含むフィルム巻層体の製造方法。
It is a manufacturing method of the film winding layered product according to claim 14 or 15 ,
A functional layer forming agent for forming the functional layer (X) is applied to at least one main surface of the polymer piezoelectric film, and the applied functional layer forming agent is dried at a temperature of 90 ° C. or lower to form a functional layer. Forming (X);
A step of bonding the functional layer (X) and the release film together to form the laminated film on the side opposite to the side where the polymeric piezoelectric film is disposed as viewed from the functional layer (X) When,
A step of winding the formed laminated film into a roll,
The manufacturing method of the film winding layer body containing this.
前記機能層(X)は接着層であり、前記機能層形成剤は接着剤である請求項16又は請求項17に記載のフィルム巻層体の製造方法。 The method for producing a film wound layer body according to claim 16 or 17 , wherein the functional layer (X) is an adhesive layer, and the functional layer forming agent is an adhesive.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016140110A1 (en) * 2015-03-02 2016-09-09 三井化学株式会社 Film roll and method for producing same
JP6881790B2 (en) * 2017-05-26 2021-06-02 アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 Membrane structure and its manufacturing method
KR20220140840A (en) * 2020-04-02 2022-10-18 가부시끼가이샤 구레하 Laminated film, its manufacturing method and use
CN112038480B (en) * 2020-08-26 2021-10-29 南通纺织丝绸产业技术研究院 Piezoelectric fiber with Swiss roll structure and preparation method and application thereof

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003108018A (en) * 2001-09-28 2003-04-11 Mitsui Chemicals Inc Filter for display and plasma display device using it
JP2003103910A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Canon Inc Protector for medium to be recorded
EP2672539B1 (en) * 2011-10-13 2016-09-28 Mitsui Chemicals, Inc. Polymeric piezoelectric material and process for producing the same
JP6271121B2 (en) * 2012-10-26 2018-01-31 三井化学株式会社 Polymer piezoelectric material, method for producing the same, and composition for polymer piezoelectric material
EP2979861B1 (en) * 2013-03-29 2023-08-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Decorative sheet and decorative resin molded article
JP6402439B2 (en) * 2013-03-29 2018-10-10 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative resin molded product
CN105189106B (en) * 2013-04-10 2017-10-27 三井化学株式会社 Laminated body
US20170250336A1 (en) * 2014-07-02 2017-08-31 Mitsui Chemicals, Inc. Polymeric piezoelectric material, layered body, method of manufacturing polymeric piezoelectric material, and method of manufacturing layered body
WO2016140110A1 (en) * 2015-03-02 2016-09-09 三井化学株式会社 Film roll and method for producing same

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