JP2015184203A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015184203A5
JP2015184203A5 JP2014062440A JP2014062440A JP2015184203A5 JP 2015184203 A5 JP2015184203 A5 JP 2015184203A5 JP 2014062440 A JP2014062440 A JP 2014062440A JP 2014062440 A JP2014062440 A JP 2014062440A JP 2015184203 A5 JP2015184203 A5 JP 2015184203A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
defect inspection
laser
light source
oblique
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014062440A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6273162B2 (ja
JP2015184203A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2014062440A priority Critical patent/JP6273162B2/ja
Priority claimed from JP2014062440A external-priority patent/JP6273162B2/ja
Priority to US14/638,305 priority patent/US9310318B2/en
Publication of JP2015184203A publication Critical patent/JP2015184203A/ja
Publication of JP2015184203A5 publication Critical patent/JP2015184203A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6273162B2 publication Critical patent/JP6273162B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (10)

  1. レーザ光を発射する光源と、
    該光源より発射されたレーザを試料に対物レンズを介して垂直な方向から照明する垂直
    照明ユニットと、
    前記光源より発射されたレーザを試料に斜め方向から照明する斜方照明ユニットと、
    を備えた欠陥検査装置であって、
    前記垂直照明ユニットは、前記光源より発射されたレーザを直線偏光に変換する偏光変
    換部を有し、該偏光変換部を透過した前記レーザを前記試料のラインパターンの長手方向
    に直交する方向に偏光させた状態で前記試料に形成したラインパターンに照射する
    ことを特徴とする欠陥検査装置。
  2. 請求項１記載の欠陥検査装置であって、前記垂直照明ユニットは、前記光源より発射さ
    れたレーザを一方向に長い線状に集光して前記試料に前記集光したレーザの長手方向を前
    記試料に形成されたラインパターンの長手方向に合わせ、前記一方向に長い線状に集光し
    たレーザを前記ラインパターンの長手方向に直交する方向に偏光させた状態で前記試料に
    形成したラインパターンに照射することを特徴とする欠陥検査装置。
  3. 請求項１記載の欠陥検査装置であって、前記斜方照明ユニットは、前記光源より発射さ
    れたレーザを一方向に長い線状に集光して偏光の状態をp偏光にして前記試料に照射する
    ことを特徴とする欠陥検査装置。
  4. 請求項１乃至３の何れかに記載の欠陥検査装置であって、前記垂直照明ユニット及び前
    記斜方照明ユニットは、前記光源より発射されたレーザを偏光方向が反対の二つの偏光に
    分離する偏光分離部と、該偏光分離部で分離させた偏光方向が反対の二つの偏光を直線状
    に集光させるレンズ部とを備えていることを特徴とする欠陥検査装置。
  5. 請求項１記載の欠陥検査装置であって、前記垂直照明ユニット又は前記斜方照明ユニッ
    トによりレーザが照射された前記試料から反射散乱された光のうち検出光学系ユニットの
    対物レンズの外側の斜め方向に反射散乱された光を集光して検出する斜方検出光学系ユニ
    ットを備えることを特徴とする欠陥検査装置。
  6. 光源より発射されたレーザを試料に対物レンズを介して垂直な方向から照明、または、
    前記光源より発射されたレーザを前記試料に斜め方向から照明し、
    前記垂直な方向から照明することを、前記光源より発射されたレーザを直線偏光に変換
    し、該直線偏光に変換した前記レーザを前記ラインパターンの長手方向に直交する方向に
    偏光させた状態で前記試料に形成したラインパターンに照射する
    ことを特徴とする欠陥検査方法。
  7. 請求項６記載の欠陥検査方法であって、前記垂直な方向から照明することを、前記光源
    より発射されたレーザを一方向に長い線状に集光して前記試料に前記集光したレーザの長
    手方向を前記試料に形成されたラインパターンの長手方向に合わせ、前記一方向に長い線
    状に集光したレーザを前記ラインパターンの長手方向に直交する方向に偏光させた状態で
    前記試料に形成したラインパターンに照射することを特徴とする欠陥検査方法。
  8. 請求項６記載の欠陥検査方法であって、前記斜め方向から照明することを、前記光源より発射されたレーザを一方向に長い線状に集光して偏光の状態をp偏光にして前記試料に照射することを特徴とする欠陥検査方法。
  9. 請求項６乃至８の何れかに記載の欠陥検査方法であって、前記垂直な方向から照明する
    こと及び前記斜め方向から照明することを、前記光源より発射されたレーザを偏光方向が反対の二つの偏光に分離し、該分離させた偏光方向が反対の二つの偏光をレンズで直線状に集光させることにより照明することを特徴とする欠陥検査方法。
  10. 請求項６記載の欠陥検査方法であって、前記垂直な方向からの照明又は前記斜め方向からの照明によりレーザが照射された前記試料から反射散乱された光のうち前記対物レンズの外側の斜め方向に反射散乱された光を集光して検出することを特徴とする欠陥検査方法。
JP2014062440A 2014-03-25 2014-03-25 欠陥検査方法及びその装置 Expired - Fee Related JP6273162B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014062440A JP6273162B2 (ja) 2014-03-25 2014-03-25 欠陥検査方法及びその装置
US14/638,305 US9310318B2 (en) 2014-03-25 2015-03-04 Defect inspection method and defect inspection device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014062440A JP6273162B2 (ja) 2014-03-25 2014-03-25 欠陥検査方法及びその装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015184203A JP2015184203A (ja) 2015-10-22
JP2015184203A5 true JP2015184203A5 (ja) 2016-12-01
JP6273162B2 JP6273162B2 (ja) 2018-01-31

Family

ID=54189932

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014062440A Expired - Fee Related JP6273162B2 (ja) 2014-03-25 2014-03-25 欠陥検査方法及びその装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9310318B2 (ja)
JP (1) JP6273162B2 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9995850B2 (en) 2013-06-06 2018-06-12 Kla-Tencor Corporation System, method and apparatus for polarization control
CN105548215A (zh) * 2016-01-01 2016-05-04 广州兴森快捷电路科技有限公司 一种晕圈、pi裂纹的观察分析方法
WO2017175779A1 (ja) * 2016-04-08 2017-10-12 コニカミノルタ株式会社 光学測定装置、画像の生成方法および画像の生成プログラム
KR20190079560A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 주성엔지니어링(주) 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법
CN108982520A (zh) * 2018-08-03 2018-12-11 汕头超声显示器（二厂）有限公司 一种膜底可视缺陷的检测方法及装置
US10942135B2 (en) * 2018-11-14 2021-03-09 Kla Corporation Radial polarizer for particle detection
WO2020136785A1 (ja) * 2018-12-27 2020-07-02 株式会社日立ハイテク 欠陥検査装置および検査方法並びに光学モジュール
US11035790B2 (en) * 2018-12-31 2021-06-15 Industrial Cooperation Foundation Chonbuk National University Inspection apparatus and inspection method
US10948423B2 (en) 2019-02-17 2021-03-16 Kla Corporation Sensitive particle detection with spatially-varying polarization rotator and polarizer
CN113125456A (zh) * 2019-12-31 2021-07-16 深圳中科飞测科技股份有限公司 发光装置、检测方法、检测设备
KR20220023874A (ko) * 2020-08-20 2022-03-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 광학 성능 테스트용 광학 검사 기기 및 이를 이용한 광학 검사 방법
CN114371148B (zh) * 2022-01-19 2022-11-08 之江实验室 一种基于零椭偏暗场照明的散射干涉成像系统及方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4988223B2 (ja) * 2005-06-22 2012-08-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査装置およびその方法
JP4669995B2 (ja) 2006-08-02 2011-04-13 ナノフォトン株式会社 光学顕微鏡及び観察方法
JP2010025713A (ja) * 2008-07-18 2010-02-04 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP2010101714A (ja) * 2008-10-22 2010-05-06 Toshiba Corp パターン検査のためのパラメータ決定装置、プログラム、及び方法
JP2011122990A (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP5712079B2 (ja) * 2011-07-29 2015-05-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査装置および欠陥検査方法
JP2013061185A (ja) * 2011-09-12 2013-04-04 Toshiba Corp パターン検査装置およびパターン検査方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015184203A5 (ja)
JP2013190252A5 (ja)
JP2017517761A5 (ja)
WO2008152801A1 (ja) 検査装置、検査方法およびプログラム
WO2014005682A3 (de) Mikroskop und verfahren zur spim mikroskopie
ATE554416T1 (de) Kalibriervorrichtung und laser-scanning-mikroskop mit einer derartigen kalibriervorrichtung
MX360408B (es) Aparato de inspeccion.
WO2010150483A3 (en) Image pickup apparatus and image pickup method using optical coherence tomography
JP2008298767A5 (ja)
WO2016046714A3 (en) Microscope
EP2048543A3 (en) An optical focus sensor, an inspection apparatus and a lithographic apparatus
JP2014132695A5 (ja)
JP2008014849A5 (ja)
SG158756A1 (en) Hole inspection method and apparatus
WO2015076753A8 (en) Apparatus and method for selectively inspecting component sidewalls
WO2007023500A3 (en) Device and method for inspecting an object
WO2017174795A3 (de) Mikroskop und verfahren zur abbildung einer probe
JP2011040434A5 (ja) 表面検査装置および表面検査方法
MY167829A (en) Optical displacement gauge and optical displacement calculation method
JP2012502316A5 (ja)
JP2015152405A5 (ja)
JP2006105780A5 (ja)
JP5728395B2 (ja) 円筒内周面検査用光学系及び円筒内周面検査装置
JP2011040433A5 (ja) 表面検査装置および表面検査方法
EP2787731A3 (en) Image projection device and input object detection method