JP2015181160A - Conducting pattern forming method, and conductive wiring line - Google Patents

Conducting pattern forming method, and conductive wiring line Download PDF

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夏樹 菰田
伸明 長
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a conducting pattern forming method by which a break of a conducting pattern accompanying volume contraction is suppressed when forming a thick conducting pattern of a low resistance value on a base material; and a conductive wiring line formed by the forming method.SOLUTION: A conducting pattern forming method for forming a conducting pattern 1 arranged by laminating a first pattern 11 and a second pattern 12 comprises the steps of: forming the first pattern 11 on a base material 2 by printing an ink composition for conductor formation on a base material 2, and solidifying the ink composition; and forming the second pattern 12 on the first pattern 11 by printing an ink composition for conductor formation on the first pattern 11, and solidifying the ink composition. In the conducting pattern forming method, the second pattern 12 is made thicker than the first pattern 11; and the percentage of the blend amount of volatile components removed from the ink compositions by vaporizing the ink compositions used for forming the first pattern 11 and the second pattern 12 in a condition for forming the second pattern 12 is 20 mass% or more to the total amount of blended components.

Description

本発明は、導電パターンの形成方法、及び該形成方法で形成された導電性配線に関する。   The present invention relates to a method for forming a conductive pattern, and a conductive wiring formed by the method.

印刷法を利用して、基材上に導電パターンを形成する方法が種々検討されており、この方法を導電性配線の形成に応用することで、環境負荷が小さく、フレキシブルでオンデマンドな電子機器を開発することが期待されている。通常、この場合に用いるインク組成物は、金属又は金属を形成する材料が配合されてなるものであり、加熱処理することで金属を形成する。   Various methods for forming a conductive pattern on a substrate by using a printing method have been studied. By applying this method to the formation of conductive wiring, a flexible, on-demand electronic device with low environmental impact Is expected to develop. Usually, the ink composition used in this case is a mixture of a metal or a material that forms the metal, and the metal is formed by heat treatment.

一方、抵抗値が低い導電性配線を形成するためには、例えば、配線を厚くすることが有効である。また、例えば、13.56MHzのRFID用アンテナ等での配線では、チップ駆動で必要な電流量を賄うために、配線を厚くすることが求められている。このような観点からも、基材上に厚い導電性配線を形成することが重要となる。   On the other hand, in order to form a conductive wiring having a low resistance value, for example, it is effective to increase the thickness of the wiring. For example, in wiring with a 13.56 MHz RFID antenna or the like, it is required to make the wiring thick in order to cover the amount of current necessary for chip driving. From this point of view, it is important to form a thick conductive wiring on the substrate.

これに対して、印刷法へ適用できる、導電体を形成可能なインク組成物としては、例えば、銀粒子等の導電性粒子とバインダーを必須成分とする導電ペースト(特許文献1参照)、銀ナノ粒子を含む銀インク組成物(特許文献2参照)、β−ケトカルボン酸銀が配合されてなる銀インク組成物(特許文献3参照)が開示されている。   On the other hand, as an ink composition that can be applied to a printing method and can form a conductor, for example, a conductive paste (see Patent Document 1) containing silver and other conductive particles and a binder as essential components, silver nano A silver ink composition containing particles (see Patent Document 2) and a silver ink composition (see Patent Document 3) containing silver β-ketocarboxylate are disclosed.

特開2001−217639号公報JP 2001-217639 A 特表2010−500475号公報Special table 2010-500475 gazette 特開2012−046728号公報JP 2012-046728 A

しかし、特許文献1で開示されているインク組成物は、バインダーを含むため、導電性配線を厚くしたとしても、抵抗値を低くできないという問題点があった。
また、特許文献2及び3で開示されているインク組成物は、バインダーが不要であるが、その代わりに溶媒成分を比較的多量に含むものであり、基材上に厚塗りした場合には、金属を形成するための加熱処理時に、溶媒の除去に伴って体積が収縮して、結果として形成される導電性配線には断線が生じるという問題点があった。
However, since the ink composition disclosed in Patent Document 1 contains a binder, there is a problem in that the resistance value cannot be lowered even if the conductive wiring is thickened.
In addition, the ink compositions disclosed in Patent Documents 2 and 3 do not require a binder, but instead contain a relatively large amount of a solvent component, and when thickly coated on a substrate, At the time of the heat treatment for forming the metal, there is a problem that the volume shrinks as the solvent is removed, and the resulting conductive wiring is disconnected.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基材上に抵抗値が低く且つ厚い導電パターンを形成するときに、体積の収縮に伴う導電パターンの断線が抑制される導電パターンの形成方法、及び該形成方法で形成された導電性配線を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and when forming a conductive pattern having a low resistance value and a large thickness on a substrate, formation of a conductive pattern in which disconnection of the conductive pattern due to volume shrinkage is suppressed. It is an object to provide a method and a conductive wiring formed by the forming method.

上記課題を解決するため、本発明は、導電体を形成するためのインク組成物を基材上に印刷し、固化させることにより、前記基材上に第一パターンを形成し、導電体を形成するためのインク組成物をさらに前記第一パターン上に印刷し、固化させることにより、前記第一パターン上に第二パターンを形成して、前記第一パターン及び第二パターンが積層されてなる導電パターンを形成する導電パターンの形成方法において、前記第二パターンは前記第一パターンよりも厚く、前記第一パターン及び第二パターンの形成に用いるインク組成物は、前記第二パターンの形成条件で気化して前記インク組成物から除かれる揮発性成分の配合量の割合が、配合成分の総量に対して20質量%以上であることを特徴とする導電パターンの形成方法を提供する。
本発明の導電パターンの形成方法は、前記第二パターン形成時に、インク組成物の固化を、相対湿度40%以上の雰囲気下での加熱処理により行うことが好ましい。
また、本発明は、前記導電パターンの形成方法で形成されたことを特徴とする導電性配線を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention prints an ink composition for forming a conductor on a base material and solidifies it to form a first pattern on the base material, thereby forming a conductor. An ink composition for printing is further printed on the first pattern and solidified to form a second pattern on the first pattern, and the first pattern and the second pattern are laminated. In the method of forming a conductive pattern for forming a pattern, the second pattern is thicker than the first pattern, and the ink composition used for forming the first pattern and the second pattern is formed under the conditions for forming the second pattern. Provided is a method for forming a conductive pattern characterized in that the proportion of the volatile component blended and removed from the ink composition is 20% by mass or more based on the total amount of the blended component That.
In the method for forming a conductive pattern of the present invention, it is preferable that the ink composition is solidified by heat treatment in an atmosphere having a relative humidity of 40% or more when the second pattern is formed.
The present invention also provides a conductive wiring formed by the method for forming a conductive pattern.

本発明によれば、基材上に抵抗値が低く且つ厚い導電パターンを形成するときに、体積の収縮に伴う導電パターンの断線が抑制される導電パターンの形成方法、及び該形成方法で形成された導電性配線が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when forming a conductive pattern with a low resistance value on a base material and a thick conductive pattern, the formation method of the conductive pattern by which the disconnection of the conductive pattern accompanying volume shrinkage is suppressed, and this formation method are formed. Conductive wiring is provided.

本発明に係る導電パターンを、基材と共に模式的に例示する断面図である。It is sectional drawing which illustrates typically the conductive pattern which concerns on this invention with a base material. 本発明に係る導電パターンの形成方法を模式的に説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating typically the formation method of the conductive pattern which concerns on this invention. 導電パターンの撮像データであり、(a)は実施例1における導電パターンの、(b)は比較例1における導電パターンの、それぞれの撮像データである。It is imaging data of a conductive pattern, (a) is each imaging data of the conductive pattern in Example 1, and (b) is each imaging data of the conductive pattern in Comparative Example 1. 実施例1における導電パターンの断面の走査型電子顕微鏡(SEM)による撮像データである。It is the imaging data by the scanning electron microscope (SEM) of the cross section of the conductive pattern in Example 1. FIG.

本発明に係る導電パターンの形成方法は、導電体を形成するためのインク組成物を基材上に印刷し、固化させることにより、前記基材上に第一パターンを形成し、導電体を形成するためのインク組成物をさらに前記第一パターン上に印刷し、固化させることにより、前記第一パターン上に第二パターンを形成して、前記第一パターン及び第二パターンが積層されてなる導電パターンを形成する導電パターンの形成方法において、前記第二パターンは前記第一パターンよりも厚く、前記第一パターン及び第二パターンの形成に用いるインク組成物は、前記第二パターンの形成条件で気化して前記インク組成物から除かれる揮発性成分の配合量の割合が、配合成分の総量に対して20質量%以上であることを特徴とする。
かかる製造方法によれば、導電パターンの形成に用いるインク組成物として、揮発性成分の配合量の割合が高いものを用いて、厚い導電パターンを形成しても、揮発性成分の除去に伴う体積の収縮に起因する断線の発生が、導電パターンにおいて顕著に抑制される。また、インク組成物としてバインダーが配合されていないものを用いることで、抵抗値が低い導電パターンを形成できる。
In the method for forming a conductive pattern according to the present invention, an ink composition for forming a conductor is printed on a substrate and solidified to form a first pattern on the substrate, thereby forming a conductor. An ink composition for printing is further printed on the first pattern and solidified to form a second pattern on the first pattern, and the first pattern and the second pattern are laminated. In the method of forming a conductive pattern for forming a pattern, the second pattern is thicker than the first pattern, and the ink composition used for forming the first pattern and the second pattern is formed under the conditions for forming the second pattern. The proportion of the volatile component blended and removed from the ink composition is 20% by mass or more based on the total amount of the blended components.
According to this manufacturing method, even if a thick conductive pattern is formed using an ink composition used for forming a conductive pattern with a high proportion of the volatile component, the volume accompanying removal of the volatile component The occurrence of disconnection due to the contraction of the conductive pattern is significantly suppressed in the conductive pattern. Moreover, a conductive pattern having a low resistance value can be formed by using an ink composition containing no binder.

<<導電パターン>>
図1は、本発明に係る方法で形成された導電パターンを、基材と共に模式的に例示する断面図である。
ここに示す導電パターン1は、基材2上に受容層3を介して設けられたものであり、受容層3側から第一パターン11及び第二パターン12がこの順に積層されて構成されている。すなわち、ここに示す導電パターン付き基材1’は、基材2上に受容層3及び導電パターン1がこの順に積層されたものである。
<< Conductive pattern >>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a conductive pattern formed by a method according to the present invention together with a substrate.
The conductive pattern 1 shown here is provided on the base material 2 via the receiving layer 3, and the first pattern 11 and the second pattern 12 are laminated in this order from the receiving layer 3 side. . That is, the base material 1 ′ with a conductive pattern shown here is obtained by laminating the receiving layer 3 and the conductive pattern 1 on the base material 2 in this order.

<基材>
基材2は、目的に応じて任意の形状を選択でき、例えば、フィルム状又はシート状であることが好ましく、厚さが0.5〜5000μmであることが好ましく、0.5〜2500μmであることがより好ましい。基材2の厚さが前記下限値以上であることで、受容層3の構造をより安定して保持でき、基材2の厚さが前記上限値以下であることで、受容層3や導電パターン1形成時の取り扱い性がより良好となる。
<Base material>
The base material 2 can select arbitrary shapes according to the objective, For example, it is preferable that it is a film form or a sheet form, it is preferable that thickness is 0.5-5000 micrometers, and it is 0.5-2500 micrometers. It is more preferable. When the thickness of the base material 2 is equal to or higher than the lower limit value, the structure of the receiving layer 3 can be more stably maintained. The handleability when forming the pattern 1 becomes better.

基材2の材質は特に限定されず、目的に応じて選択すればよいが、後述するインク組成物の加熱処理による導電パターン1形成時に変質しない耐熱性を有するものが好ましい。
基材2の材質として具体的には、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリメチルペンテン(PMP)、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のアクリル樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、ポリアミド(PA)、ポリイミド、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート(PTT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンナフタレート(PBN)、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリウレタン、ポリフェニレンエーテル(PPE)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)、ポリアリレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等の合成樹脂が例示できる。
また、基材2の材質としては、上記以外にも、ガラス、シリコン等のセラミックスや、紙が例示できる。
また、基材2は、ガラスエポキシ樹脂、ポリマーアロイ等の、二種以上の材質を併用したものでもよい。
The material of the substrate 2 is not particularly limited and may be selected according to the purpose. However, a material having heat resistance that does not change when the conductive pattern 1 is formed by heat treatment of the ink composition described later is preferable.
Specifically, the material of the substrate 2 is polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polymethylpentene (PMP), polycycloolefin, polystyrene (PS). , Acrylic resin such as polyvinyl acetate (PVAc) and polymethyl methacrylate (PMMA), AS resin, ABS resin, polyamide (PA), polyimide, polyamideimide (PAI), polyacetal, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polytrimethylene terephthalate (PTT), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene naphthalate (PBN), polyphenylene sulfide (PPS), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES) , Polyether ketone (PEK), polyether ether ketone (PEEK), polycarbonate (PC), polyurethane, polyphenylene ether (PPE), modified polyphenylene ether (m-PPE), polyarylate, epoxy resin, melamine resin, phenol resin, A synthetic resin such as urea resin can be exemplified.
Moreover, as a material of the base material 2, in addition to the above, ceramics such as glass and silicon, and paper can be exemplified.
The substrate 2 may be a combination of two or more materials such as glass epoxy resin and polymer alloy.

基材2は、単層からなるものでもよいし、二層以上の複数層からなるものでもよい。基材2が複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよく、一部の層のみが異なっていてもよい。そして、複数層が互いに異なる場合、これら複数層の組み合わせは特に限定されない。ここで、複数層が互いに異なるとは、各層の材質及び厚さの少なくとも一方が互いに異なることを意味する。
なお、基材2が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい基材2の厚さとなるようにするとよい。
The substrate 2 may be composed of a single layer, or may be composed of two or more layers. When the base material 2 consists of multiple layers, these multiple layers may be the same as or different from each other. That is, all the layers may be the same, all the layers may be different, or only some of the layers may be different. And when several layers differ from each other, the combination of these several layers is not specifically limited. Here, the plurality of layers being different from each other means that at least one of the material and the thickness of each layer is different from each other.
In addition, when the base material 2 consists of multiple layers, it is good to make it the thickness of the total of each layer be the thickness of said preferable base material 2.

<受容層>
受容層3は、導電パターン1(第一パターン11)と基材2との密着性を向上させるものである。すなわち、受容層3及び導電パターン1(第一パターン11)、並びに受容層3及び基材2は、それぞれ密着性が高く、受容層3を介して設けられた導電パターン1は、基材2からの剥離が抑制される。
なお、導電パターン付き基材1’において、受容層3は設けられていなくてもよい。
<Receptive layer>
The receiving layer 3 improves the adhesiveness between the conductive pattern 1 (first pattern 11) and the substrate 2. That is, the receiving layer 3 and the conductive pattern 1 (first pattern 11), and the receiving layer 3 and the base material 2 have high adhesion, respectively. Is prevented from peeling.
In addition, in the base material 1 ′ with a conductive pattern, the receiving layer 3 may not be provided.

受容層3は、各種樹脂(ベース樹脂)の硬化により形成されたものが好ましく、この場合、樹脂の種類は基材2の種類に応じて、適宜選択すればよく、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれでもよい。
受容層3で好ましいものとしては、ウレタン(メタ)アクリレートを用いて形成されたものが例示でき、より好ましいものとしては、ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートを用いて形成されたものが例示できる。このような受容層3は、導電パターン付き基材1’を高温高湿条件下に置いた場合の、基材2(受容層3)からの導電パターン1(第一パターン11)の剥離を抑制する効果が高い。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を含む概念とする。
The receiving layer 3 is preferably formed by curing various resins (base resins). In this case, the type of the resin may be appropriately selected according to the type of the substrate 2, and the photocurable resin and the thermosetting resin may be selected. Any of the functional resins may be used.
A preferable example of the receiving layer 3 is one formed using urethane (meth) acrylate, and a more preferable example is one formed using polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate. Such a receiving layer 3 suppresses peeling of the conductive pattern 1 (first pattern 11) from the base material 2 (receiving layer 3) when the substrate 1 ′ with conductive pattern is placed under high temperature and high humidity conditions. High effect.
In this specification, “(meth) acrylate” is a concept including both “acrylate” and “methacrylate”.

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、ベース樹脂(プレポリマー)であり、特に限定されないが、重量平均分子量が2000〜20000であるものが好ましく、2300〜17000であるものがより好ましい。重量平均分子量がこのような範囲であることで、高温高湿条件下に置いた場合の導電パターン1の剥離抑制効果がより高くなる。なお、本明細書において、樹脂や、ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート等のベース樹脂の重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)によりポリスチレン換算基準で求められたものである。   The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate is a base resin (prepolymer) and is not particularly limited, but preferably has a weight average molecular weight of 2000 to 20000, more preferably 2300 to 17000. When the weight average molecular weight is in such a range, the effect of suppressing peeling of the conductive pattern 1 when placed under a high temperature and high humidity condition becomes higher. In addition, in this specification, the weight average molecular weight of base resins, such as resin and polycarbonate frame | skeleton containing urethane (meth) acrylate, is calculated | required on the polystyrene conversion basis by GPC (gel permeation chromatography).

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、その硬化物である塗膜の、JIS K 5600−5−4に準拠した鉛筆硬度が、2B以下となるものが好ましく、6B以下となるものがより好ましい。   The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate is preferably a cured film of which the pencil hardness according to JIS K 5600-5-4 is 2B or less, and more preferably 6B or less. .

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、20〜60℃において、粘度が40Pa・s以下であるものが好ましく、10Pa・s以下であるものがより好ましい。前記粘度がこのような範囲であることで、溶媒と混合して後述する受容層用組成物を調製する際に、撹拌し易く、取り扱い性がより良好となる。
なお、本明細書において「粘度」とは、特に断りのない限り、超音波振動式粘度計を用いて測定したものを意味する。
The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate preferably has a viscosity of 20 Pa · s or less at 20 to 60 ° C., more preferably 10 Pa · s or less. When the viscosity is in such a range, when the composition for a receiving layer described later is prepared by mixing with a solvent, it is easy to stir and handleability becomes better.
In this specification, “viscosity” means a value measured using an ultrasonic vibration viscometer unless otherwise specified.

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、その硬化物である塗膜のガラス転移点(Tg)が、−18〜35℃となるものが好ましく、−15〜30℃となるものがより好ましい。   The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate preferably has a glass transition point (Tg) of a cured film of -18 to 35 ° C, more preferably -15 to 30 ° C.

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、その硬化物である塗膜のヤング率が、1〜300N/mmとなるものが好ましく、3〜250N/mmとなるものがより好ましい。 The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate preferably has a Young's modulus of a cured film of 1 to 300 N / mm 2 , more preferably 3 to 250 N / mm 2 .

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、その硬化物である塗膜の硬化収縮率が、2〜7%となるものが好ましく、3〜6%となるものがより好ましい。   The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate preferably has a cured shrinkage of 2 to 7%, more preferably 3 to 6%, as a cured product.

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、その硬化物である塗膜の機械強度が、2〜50N/mmとなるものが好ましく、3〜45N/mmとなるものがより好ましい。 The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate is preferably a cured product having a mechanical strength of 2 to 50 N / mm 2, and more preferably 3 to 45 N / mm 2 .

前記ポリカーボネート骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートは、ポリカーボネート骨格を有するウレタンアクリレート(以下、「ポリカーボネート骨格含有ウレタンアクリレート」と記載することがある)であることが好ましい。   The polycarbonate skeleton-containing urethane (meth) acrylate is preferably a urethane acrylate having a polycarbonate skeleton (hereinafter sometimes referred to as “polycarbonate skeleton-containing urethane acrylate”).

受容層3は、各種樹脂(ベース樹脂)の硬化により形成されたものである場合、その硬化物の含有量が90質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましい。前記硬化物の含有量が前記下限値以上であることで、受容層3を設けたことによる効果がより高くなる。   When the receiving layer 3 is formed by curing various resins (base resins), the content of the cured product is preferably 90% by mass or more, and more preferably 95% by mass or more. The effect by having provided the receiving layer 3 becomes higher because content of the said hardened | cured material is more than the said lower limit.

基材2の一方の主面(受容層3が形成されている表面)2aを上方から見下ろすように、導電パターン付き基材1’を平面視したときの、受容層3の形状は、目的に応じて任意に設定でき、後述する導電パターン1の形状を考慮して設定すればよい。例えば、基材2の表面全面に受容層3が設けられていてもよいし、基材2の表面のうち、一部のみに受容層3が設けられていてもよく、この場合、受容層3はパターニングされていてもよい。   The shape of the receiving layer 3 when the substrate 1 ′ with a conductive pattern is viewed in plan so that one main surface (the surface on which the receiving layer 3 is formed) 2a of the substrate 2 is looked down from above is Depending on the shape of the conductive pattern 1 to be described later, it may be set arbitrarily. For example, the receiving layer 3 may be provided on the entire surface of the base material 2, or the receiving layer 3 may be provided on only a part of the surface of the base material 2. May be patterned.

受容層3の厚さは、0.001〜20μmであることが好ましく、0.002〜5μmであることがより好ましい。受容層3の厚さが前記下限値以上であることで、導電パターン1の密着性がより向上し、受容層3の厚さが前記上限値以下であることで、受容層3の構造をより安定して保持できる。   The thickness of the receiving layer 3 is preferably 0.001 to 20 μm, and more preferably 0.002 to 5 μm. When the thickness of the receiving layer 3 is not less than the lower limit, the adhesion of the conductive pattern 1 is further improved, and when the thickness of the receiving layer 3 is not more than the upper limit, the structure of the receiving layer 3 is further improved. It can be held stably.

<導電パターン>
導電パターン1は、第一パターン11及び第二パターン12がこの順に積層されてなり、第二パターン12は、第一パターン11の表面11aの全面に設けられていてもよいし、第一パターン11の表面11aの一部のみに設けられていてもよい。
<Conductive pattern>
The conductive pattern 1 is formed by laminating a first pattern 11 and a second pattern 12 in this order, and the second pattern 12 may be provided on the entire surface 11 a of the first pattern 11. It may be provided only on a part of the surface 11a.

第二パターン12は第一パターン11よりも厚くなっている。すなわち、第一パターン11の厚さH11と、第二パターン12の厚さH12とは、H12>H11の関係を満たす。この条件を満たせば、第一パターン11の厚さH11と、第二パターン12の厚さH12とは、特に限定されない。ただし、例えば、以下に示すように、導電パターン1の厚さ(H11+H12)は、厚いことが好ましい。 The second pattern 12 is thicker than the first pattern 11. That is, the thickness H 11 of the first pattern 11, the thickness H 12 of the second pattern 12, satisfy the relationship of H 12> H 11. If this condition is satisfied, the thickness H 11 of the first pattern 11, the thickness H 12 of the second pattern 12 is not particularly limited. However, for example, as shown below, it is preferable that the thickness (H 11 + H 12 ) of the conductive pattern 1 is thick.

第一パターン11の厚さH11は、16μm以下であることが好ましく、13μm以下であることがより好ましく、10μm以下であることが特に好ましい。H11が前記上限値以下であることで、導電パターン1の断線抑制効果がより高くなる。
また、第一パターン11の厚さH11は、0.5μm以上であることが好ましく、1.0μm以上であることがより好ましく、1.5μm以上であることが特に好ましい。H11が前記下限値以上であることで、導電パターン1を容易に厚くできる。
第二パターン12の厚さH12は、100μm以下であることが好ましく、85μm以下であることがより好ましく、75μm以下であることが特に好ましい。H12が前記上限値以下であることで、導電パターン1の断線抑制効果がより高くなる。
また、第二パターン12の厚さH12は、30μm以上であることが好ましく、40μm以上であることがより好ましく、45μm以上であることが特に好ましい。H12が前記下限値以上であることで、導電パターン1を容易に厚くできる。
The thickness H 11 of the first pattern 11 is preferably 16μm or less, more preferably at most 13 .mu.m, particularly preferably 10μm or less. By H 11 is equal to or less than the upper limit, breakage inhibiting effect of the conductive pattern 1 becomes higher.
The thickness H 11 of the first pattern 11, is preferably 0.5μm or more, more preferably 1.0μm or more, and particularly preferably 1.5μm or more. By H 11 is equal to or more than the lower limit, the conductive pattern 1 can be easily thicker.
The thickness H 12 is the second pattern 12, is preferably 100μm or less, more preferably at most 85 .mu.m, particularly preferably 75μm or less. By H 12 is equal to or less than the upper limit, breakage inhibiting effect of the conductive pattern 1 becomes higher.
The thickness H 12 of the second pattern 12 is preferably 30μm or more, more preferably 40μm or more, and particularly preferably 45μm or more. By H 12 is equal to or more than the lower limit, the conductive pattern 1 can be easily thicker.

なお、上述の導電パターン1の厚さ(H11+H12)は、好ましいものの一例であり、導電パターン1の厚さはこれらに限定されない。
例えば、第一パターン11の厚さH11は、好ましくは7μm以下、より好ましくは5μm以下、特に好ましくは3μm以下であってもよい。
また、第一パターン11の厚さH11は、好ましくは0.3μm以上、より好ましくは0.5μm以上、特に好ましくは0.7μm以上であってもよい。
第二パターン12の厚さH12は、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、特に好ましくは10μm以下であってもよい。
また、第二パターン12の厚さH12は、好ましくは0.9μm以上、より好ましくは1.2μm以上、特に好ましくは1.5μm以上であってもよい。
The thickness of the above-mentioned conductive pattern 1 (H 11 + H 12) is an example of a preferred, the thickness of the conductive pattern 1 is not limited to these.
For example, the thickness H 11 of the first pattern 11 is preferably 7μm or less, more preferably 5μm or less, particularly preferably may be 3μm or less.
The thickness H 11 of the first pattern 11 is preferably 0.3μm or more, more preferably 0.5μm or more, particularly preferably may be 0.7μm or more.
The thickness H 12 of the second pattern 12 is preferably 30μm or less, more preferably 20μm or less, particularly preferably may be 10μm or less.
The thickness H 12 is the second pattern 12 is preferably 0.9μm or more, more preferably 1.2μm or more, and particularly preferably may be 1.5μm or more.

基材2の一方の主面2aを上方から見下ろすように、導電パターン付き基材1’を平面視したときの、導電パターン1の形状は、目的に応じて任意に設定でき、受容層3の表面3aの全面に導電パターン1が設けられていてもよいし、受容層3の表面3aのうち、一部のみに導電パターン1が設けられていてもよい。
導電パターン1は、例えば、導電性配線として有用である。
The shape of the conductive pattern 1 when the substrate 1 ′ with a conductive pattern is viewed in plan so that one main surface 2a of the substrate 2 is looked down from above can be arbitrarily set according to the purpose. The conductive pattern 1 may be provided on the entire surface 3a, or the conductive pattern 1 may be provided on only a part of the surface 3a of the receiving layer 3.
The conductive pattern 1 is useful as a conductive wiring, for example.

第一パターン11及び第二パターン12の材質は、これらパターンを後述する方法で形成でき、導電性を有するものである限り、特に限定されないが、通常は金属であるか、又は金属を主成分とするものが好ましい。ここで、「金属を主成分とする」とは、金属の比率が、見かけ上金属だけからなるとみなし得る程度に十分に高いことを意味し、第一パターン11及び第二パターン12中の金属の比率は、好ましくは99質量%以上である。第一パターン11及び第二パターン12中の金属の比率の上限値は、例えば、99.9質量%、99.8質量%、99.7質量%、99.6質量%、99.5質量%、99.4質量%、99.3質量%、99.2質量%及び99.1質量%のいずれかとすることができる。
また、第一パターン11及び第二パターン12は、材質が互いに同一でも異なっていてもよく、例えば、金属種等の導電性成分が互いに同一でも異なっていてもよいが、導電性成分が互いに同一であることが好ましく、材質(構成成分とその比率)が互いに同一であることがより好ましい。
そして、前記金属は銀又は銅であることが好ましく、銀であることがより好ましい。
The material of the first pattern 11 and the second pattern 12 is not particularly limited as long as the pattern can be formed by a method described later and has conductivity, but is usually a metal or a metal as a main component. Those that do are preferred. Here, “having a metal as a main component” means that the ratio of metals is sufficiently high so that it can be regarded as consisting of only metals, and the metal in the first pattern 11 and the second pattern 12 The ratio is preferably 99% by mass or more. The upper limit of the ratio of the metal in the first pattern 11 and the second pattern 12 is, for example, 99.9% by mass, 99.8% by mass, 99.7% by mass, 99.6% by mass, 99.5% by mass. 99.4 mass%, 99.3 mass%, 99.2 mass%, and 99.1 mass%.
The first pattern 11 and the second pattern 12 may be made of the same material or different materials. For example, the conductive components such as metal species may be the same or different, but the conductive components are the same. It is preferable that the materials (components and their ratios) are the same.
And it is preferable that the said metal is silver or copper, and it is more preferable that it is silver.

導電パターン1は、その厚さ(H11+H12)が厚くても、後述する方法で形成することで、断線が抑制される。
導電パターン1は導電性に優れ、例えば、金属の形成材料として、後述するβ−ケトカルボン酸銀等を用いて形成した場合には、体積抵抗率を好ましくは30μΩ・cm以下、より好ましくは25μΩ・cm以下、さらに好ましくは20μΩ・cm以下、特に好ましくは17μΩ・cm以下とすることが可能である。
Even if the conductive pattern 1 is thick (H 11 + H 12 ), disconnection is suppressed by forming the conductive pattern 1 by a method described later.
The conductive pattern 1 is excellent in conductivity. For example, when formed using a β-ketocarboxylate described later as a metal forming material, the volume resistivity is preferably 30 μΩ · cm or less, more preferably 25 μΩ · cm. cm or less, more preferably 20 μΩ · cm or less, and particularly preferably 17 μΩ · cm or less.

導電パターン付き基材1’は、図1に示すものに限定されず、他の構成が追加されたり、一部構成が適宜変更されたものでもよい。例えば、基材2上に受容層3及び導電パターン1以外のその他の層を備えたものでもよく、前記その他の層としては、受容層3及び導電パターン1を被覆するオーバーコート層(図示略)が例示できる。
また、ここでは、導電パターン付き基材1’として基材2の一方の主面2a上に受容層3を介して導電パターン1を備えたものを示しているが、導電パターン付き基材1’は、基材2の他方の主面2b上にも同様に(基材2の両方の主面上に)受容層3を介して導電パターン1を備えたものでもよい。
The base material 1 ′ with a conductive pattern is not limited to that shown in FIG. 1, and other configurations may be added, or some configurations may be appropriately changed. For example, another layer other than the receiving layer 3 and the conductive pattern 1 may be provided on the substrate 2, and the other layer may be an overcoat layer (not shown) that covers the receiving layer 3 and the conductive pattern 1. Can be illustrated.
Moreover, although what has provided the conductive pattern 1 through the receiving layer 3 on the one main surface 2a of the base material 2 as the base material 1 'with a conductive pattern is shown here, the base material 1' with the conductive pattern May be provided with the conductive pattern 1 on the other main surface 2b of the base material 2 in the same manner (on both main surfaces of the base material 2) via the receiving layer 3.

<<導電パターンの形成方法>>
図1に示す導電パターン1の形成方法について、以下、説明する。図2は、本発明に係る導電パターンの形成方法を模式的に説明するための断面図である。
本発明に係る形成方法では、図2(b)に示すように、基材2上に第一パターン11を形成する(以下、本工程を「第一パターン形成工程」と略記することがある)。ここでは、第一パターン11として、基材2上に受容層3を介して設けられているものを例示しており、この場合には、基材2上に受容層3を形成し(以下、本工程を「受容層形成工程」と略記することがある)、この受容層3上に第一パターン11を形成する。
<< Method for Forming Conductive Pattern >>
A method for forming the conductive pattern 1 shown in FIG. 1 will be described below. FIG. 2 is a cross-sectional view for schematically explaining the method for forming a conductive pattern according to the present invention.
In the forming method according to the present invention, as shown in FIG. 2B, the first pattern 11 is formed on the substrate 2 (hereinafter, this step may be abbreviated as “first pattern forming step”). . Here, the first pattern 11 is illustrated as being provided on the substrate 2 via the receptor layer 3, and in this case, the receptor layer 3 is formed on the substrate 2 (hereinafter referred to as the first pattern 11). This step may be abbreviated as “receiving layer forming step”), and the first pattern 11 is formed on the receiving layer 3.

<受容層形成工程>
本工程では、図2(a)に示すように、基材2の表面(一方の主面)2a上に受容層3を形成する。
受容層3は、例えば、その主たる構成成分となる前記硬化物(硬化樹脂)を形成するための樹脂(ベース樹脂)、重合開始剤及び溶媒が配合されてなる組成物(以下、「受容層用組成物」と略記することがある)を調製し、これを基材2上に付着させ、光照射又は加熱等の手段により前記樹脂を硬化させることにより形成できる。このとき、必要に応じて乾燥処理、加熱処理等のその他の処理を行ってもよく、加熱処理は乾燥処理を兼ねるものであってもよい。
<Receptive layer forming step>
In this step, as shown in FIG. 2A, the receiving layer 3 is formed on the surface (one main surface) 2a of the substrate 2.
The receiving layer 3 is, for example, a composition comprising a resin (base resin), a polymerization initiator, and a solvent for forming the cured product (cured resin), which is a main component thereof (hereinafter referred to as “receiving layer use”). The composition may be abbreviated as “composition”, and may be deposited on the substrate 2 and the resin may be cured by means such as light irradiation or heating. At this time, other processes such as a drying process and a heating process may be performed as necessary, and the heating process may also serve as a drying process.

前記重合開始剤は、特に限定されず、用いる樹脂の種類に応じて適宜選択すればよい。   The said polymerization initiator is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind of resin to be used.

前記溶媒は、重合反応を阻害しないものであればよく、シクロヘキサノン、1,2−ジメトキシエタン(ジメチルセロソルブ)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等、公知のものから適宜選択すればよい。   The solvent may be any solvent that does not inhibit the polymerization reaction, and may be appropriately selected from known solvents such as cyclohexanone, 1,2-dimethoxyethane (dimethyl cellosolve), propylene glycol monomethyl ether acetate, and the like.

前記樹脂、重合開始剤及び溶媒は、それぞれ一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよく、二種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   The resins, polymerization initiators and solvents may be used singly or in combination of two or more. When two or more are used in combination, their combination and ratio can be arbitrarily adjusted. .

受容層用組成物において、配合成分の総量に対する前記樹脂の配合量の割合は、30〜70質量%であることが好ましく、40〜60質量%であることがより好ましい。
受容層用組成物において、配合成分の総量に対する前記重合開始剤の配合量の割合は、1〜10質量%であることが好ましく、1〜4質量%であることがより好ましい。
受容層用組成物において、配合成分の総量に対する前記溶媒の配合量の割合は、15〜65質量%であることが好ましく、25〜60質量%であることがより好ましい。
In the composition for the receiving layer, the ratio of the amount of the resin to the total amount of the components is preferably 30 to 70% by mass, and more preferably 40 to 60% by mass.
In the composition for the receiving layer, the ratio of the amount of the polymerization initiator to the total amount of the compounding components is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 1 to 4% by mass.
In the composition for the receiving layer, the ratio of the amount of the solvent to the total amount of the components is preferably 15 to 65% by mass, and more preferably 25 to 60% by mass.

受容層用組成物は、前記樹脂、重合開始剤及び溶媒以外に、さらにこれらに該当しないその他の成分が配合されてなるものでもよい。
前記その他の成分は、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されない。
受容層用組成物における前記その他の成分は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよく、二種以上を併用する場合で、それらの組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
受容層用組成物において、配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
In addition to the resin, the polymerization initiator, and the solvent, the receiving layer composition may be blended with other components not corresponding to these.
The other components can be arbitrarily selected according to the purpose and are not particularly limited.
The other components in the composition for the receiving layer may be used singly or in combination of two or more. In the case of using two or more in combination, the combination and ratio thereof are arbitrary. Can be adjusted.
In the composition for the receiving layer, the ratio of the amount of the other components to the total amount of the components is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

受容層用組成物は、前記樹脂、重合開始剤、溶媒、及び必要に応じて前記その他の成分を配合することで得られる。各成分の配合後は、得られたものをそのまま受容層用組成物としてもよいし、必要に応じて引き続き公知の精製操作を行って得られたものを受容層用組成物としてもよい。   The composition for receiving layer is obtained by mix | blending the said resin, a polymerization initiator, a solvent, and the said other component as needed. After the blending of each component, the obtained product may be used as it is as the composition for the receiving layer, or the product obtained by performing a known purification operation as necessary may be used as the composition for the receiving layer.

各成分の配合時には、すべての成分を添加してからこれらを混合してもよいし、一部の成分を順次添加しながら混合してもよく、すべての成分を順次添加しながら混合してもよい。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサー、三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を使用して混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
At the time of blending each component, all the components may be added and then mixed, or some components may be mixed while being added sequentially, or all components may be mixed while being added sequentially. Good.
The mixing method is not particularly limited, a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer, a three-roller, a kneader, a bead mill or the like; a method of mixing by adding ultrasonic waves, etc. What is necessary is just to select suitably from a well-known method.

受容層用組成物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部の成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。溶解していない成分を均一に分散させる場合には、例えば、上記の三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を用いて分散させる方法を適用するのが好ましい。   In the composition for the receiving layer, all the compounding components may be dissolved, or a part of the components may be dispersed without dissolving, but it is preferable that all the compounding components are dissolved, It is preferable that the components which are not dissolved are uniformly dispersed. In the case of uniformly dispersing the undissolved component, for example, it is preferable to apply a method of dispersing using the above-described three-roll, kneader or bead mill.

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、40〜60℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間も、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、5分〜12時間であることが好ましく、1〜6時間であることがより好ましく、2〜4時間であることがさらに好ましい。
The temperature at the time of blending is not particularly limited as long as each blending component does not deteriorate, but it is preferably 40 to 60 ° C. And the temperature at the time of mixing | blending is good to adjust suitably so that the mixture obtained by mix | blending may become the viscosity which is easy to stir according to the kind and quantity of a mixing | blending component.
Further, the blending time is not particularly limited as long as each blending component does not deteriorate, but it is preferably 5 minutes to 12 hours, more preferably 1 to 6 hours, and further preferably 2 to 4 hours. .

受容層用組成物は、例えば、印刷法、塗布法、浸漬法等の公知の方法で基材2上に付着させることができる。
前記印刷法としては、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディップ式印刷法、インクジェット式印刷法、ディスペンサー式印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法、スプレー印刷法等が例示できる。
前記塗布法としては、スピンコーター、エアーナイフコーター、カーテンコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ロールコーター、ゲートロールコーター、バーコーター、ロッドコーター、グラビアコーター等の各種コーターや、ワイヤーバー等を用いる方法が例示できる。
The composition for receiving layer can be made to adhere on the base material 2 by well-known methods, such as a printing method, the apply | coating method, and the immersion method, for example.
Examples of the printing method include screen printing method, flexographic printing method, offset printing method, dip printing method, ink jet printing method, dispenser printing method, gravure printing method, gravure offset printing method, pad printing method, spray printing method and the like. Can be illustrated.
Examples of the coating method include spin coaters, air knife coaters, curtain coaters, die coaters, blade coaters, roll coaters, gate roll coaters, bar coaters, rod coaters, gravure coaters, and other methods such as wire bars. It can be illustrated.

受容層形成工程においては、基材2上に付着させる受容層用組成物の量、又は受容層用組成物における前記樹脂の配合量を調節することで、受容層3の厚さを調節できる。
例えば、受容層用組成物の基材2上への付着時の厚さは、0.1〜1000μmであることが好ましく、0.1〜100μmであることがより好ましく、1〜10μmであることがより好ましい。
In the receiving layer forming step, the thickness of the receiving layer 3 can be adjusted by adjusting the amount of the receiving layer composition to be deposited on the substrate 2 or the blending amount of the resin in the receiving layer composition.
For example, the thickness at the time of adhesion of the composition for receiving layer on the substrate 2 is preferably 0.1 to 1000 μm, more preferably 0.1 to 100 μm, and 1 to 10 μm. Is more preferable.

受容層用組成物の乾燥処理及び加熱処理は、いずれも公知の方法で行えばよく、例えば、常圧下、減圧下及び送風条件下のいずれで行ってもよく、大気下及び不活性ガス雰囲気下のいずれでおこなってもよい。そして、処理温度も特に限定されず、目的に応じて適宜設定すればよい。例えば、乾燥処理は、加熱乾燥処理及び常温乾燥処理のいずれでもよく、加熱乾燥処理の場合であれば、例えば、好ましくは60〜100℃、2〜10分の条件で行うことができる。   The receptor layer composition may be dried and heated by any known method, for example, under normal pressure, reduced pressure, or blowing conditions, and may be performed in air or in an inert gas atmosphere. Any of these may be used. The treatment temperature is not particularly limited, and may be set as appropriate according to the purpose. For example, the drying treatment may be either a heat drying treatment or a room temperature drying treatment. In the case of a heat drying treatment, for example, the drying treatment can be preferably performed at 60 to 100 ° C. for 2 to 10 minutes.

受容層形成工程においては、受容層用組成物を付着させる前に、基材2を加熱処理(アニール処理)してもよい。基材2を加熱処理しておくことで、本工程において受容層用組成物を加熱処理したときや、後述する導電パターンの形成時において、インク組成物を加熱(焼成)処理したときに、基材2の収縮が抑制され、寸法安定性が向上する。
受容層用組成物を付着させる前の、基材2の加熱処理の条件は、基材2の種類に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、60〜200℃で10〜60分間加熱処理することが好ましく、例えば、後述する銀インク組成物を用いる場合には、その加熱(焼成)処理の条件と同じでもよい。
In the receiving layer forming step, the substrate 2 may be heat-treated (annealed) before the receiving layer composition is attached. By subjecting the base material 2 to heat treatment, when the composition for receiving layer is heat-treated in this step, or when the ink composition is heat-treated (baked) at the time of forming a conductive pattern to be described later, Shrinkage of the material 2 is suppressed and dimensional stability is improved.
The conditions for the heat treatment of the base material 2 before adhering the composition for the receiving layer may be appropriately adjusted according to the type of the base material 2 and are not particularly limited, but are heated at 60 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes. For example, when a silver ink composition to be described later is used, the conditions may be the same as those for the heating (firing) treatment.

また、本発明においては、受容層用組成物を付着させる前に、基材2の受容層3の形成面をプラズマ処理してもよい。基材2をプラズマ処理しておくことで、後述する導電パターンの形成時において、受容層3上でインク組成物の滲みが抑制されることがある。
プラズマ処理は公知の方法で行えばよく、例えば、大気圧プラズマ処理の場合には、電圧290〜300W、気流速度1.0〜5.0m/分等の条件で行うことができる。
Moreover, in this invention, you may plasma-treat the formation surface of the receiving layer 3 of the base material 2 before making the composition for receiving layers adhere. By subjecting the substrate 2 to plasma treatment, bleeding of the ink composition on the receiving layer 3 may be suppressed during the formation of a conductive pattern described later.
The plasma treatment may be performed by a known method. For example, in the case of atmospheric pressure plasma treatment, it can be performed under conditions of a voltage of 290 to 300 W, an air velocity of 1.0 to 5.0 m / min, and the like.

<第一パターン形成工程>
第一パターン11は、図2(b)に示すように、導電体を形成するためのインク組成物を受容層3(受容層3の表面3a)上に印刷し、この印刷した前記インク組成物を固化させることにより、形成する。受容層3を設けない場合には、前記インク組成物を基材2(基材2の表面2a)上に印刷し、固化させればよい。なお、本明細書において「インク組成物の固化」とは、特に断りのない限り、インク組成物から前記揮発性成分を低減又は除去することを意味し、その条件によっては、導電体の形成も含むものとする。
<First pattern formation process>
As shown in FIG. 2B, the first pattern 11 is formed by printing an ink composition for forming a conductor on the receiving layer 3 (the surface 3a of the receiving layer 3), and the printed ink composition. It is formed by solidifying. When the receiving layer 3 is not provided, the ink composition may be printed on the substrate 2 (surface 2a of the substrate 2) and solidified. In the present specification, “solidification of the ink composition” means to reduce or remove the volatile component from the ink composition unless otherwise specified. Depending on the conditions, the formation of a conductor may also occur. Shall be included.

前記インク組成物は、導電体を形成するためのものであり、導電体の形成材料が配合されてなり、後述する第二パターン12の形成条件(導電体を形成する条件)で気化して、このインク組成物から除かれる揮発性成分の配合量の割合が、配合成分の総量に対して20質量%以上、好ましくは23質量%以上のものである。このように、本工程においては、揮発性成分の配合量の割合が高いインク組成物を用いる。
また、前記インク組成物は、溶液及び分散液のいずれでもよいが、分散液である場合には、非溶解物が均一に分散されたものが好ましい。
The ink composition is for forming a conductor, is formed by blending a conductor forming material, and is vaporized under the formation conditions (conditions for forming a conductor) of the second pattern 12 described later. The proportion of the volatile component to be removed from the ink composition is 20% by mass or more, preferably 23% by mass or more, based on the total amount of the compounding components. Thus, in this step, an ink composition having a high proportion of volatile components is used.
The ink composition may be either a solution or a dispersion, but in the case of a dispersion, it is preferable that the non-dissolved material is uniformly dispersed.

前記揮発性成分は、特に限定されない。例えば、前記インク組成物として後述する銀インク組成物を用いる場合には、揮発性成分として、後述する含窒素化合物、還元剤、アルコール、アルコール以外の溶媒等が例示できる。   The volatile component is not particularly limited. For example, when a silver ink composition described later is used as the ink composition, examples of the volatile component include a nitrogen-containing compound, a reducing agent, alcohol, a solvent other than alcohol, and the like described later.

本工程で形成される第一パターン11は、上述のように厚さが薄い。すなわち、インク組成物の印刷層の厚さが薄いため、このインク組成物を固化させても、揮発性成分の除去に伴う体積の収縮の程度が小さく、結果として形成される第一パターン11において、断線の発生が抑制される。   The first pattern 11 formed in this step is thin as described above. That is, since the thickness of the printing layer of the ink composition is thin, even when this ink composition is solidified, the degree of volume shrinkage due to the removal of volatile components is small, and as a result, in the first pattern 11 formed as a result The occurrence of disconnection is suppressed.

本工程におけるインク組成物の印刷方法は、特に限定されず、受容層用組成物の場合と同様でよく、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディップ式印刷法、インクジェット式印刷法、ディスペンサー式印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法、スプレー印刷法等が例示できる。   The printing method of the ink composition in this step is not particularly limited, and may be the same as in the case of the composition for the receiving layer. Screen printing method, flexographic printing method, offset printing method, dip printing method, inkjet printing method, Examples thereof include a dispenser printing method, a gravure printing method, a gravure offset printing method, a pad printing method, and a spray printing method.

印刷したインク組成物は固化させるが、この過程で揮発性成分の少なくとも一部が除かれて、第一パターン11を形成する。そして、このときの固化では、導電体の形成まで行ってもよいし、導電体の形成までは行わずにインク組成物の乾燥を行うのにとどめてもよい。第一パターン11は、後述する第二パターン12を形成するための土台としても機能するが、印刷したインク組成物は、このような土台を形成できる程度に乾燥されていればよい。これは、後述する第二パターン12の形成時に、インク組成物からの導電体の形成を必ず行うためであり、このときに第二パターン12と同時に第一パターン11でも導電体の形成を行うようにすることで、工程を簡略化できる。また、本工程でのインク組成物の固化をインク組成物の乾燥を行うのにとどめることで、本工程で形成された第一パターン11は、例えば、インク組成物の固化のための過度な加熱処理が抑制されて、結果として断線の発生がより高度に抑制される。なお、インク組成物の固化で、導電体の形成までは行わずにインク組成物の乾燥を行うのにとどめるとは、この固化の過程でインク組成物において導電体の形成が全く生じないことを意味するものではなく、この固化の過程で導電体の形成に伴うインク組成物の性状変化が無視し得る程度の、微量の導電体の形成が生じることも包含する。   Although the printed ink composition is solidified, at least a part of the volatile component is removed in this process to form the first pattern 11. The solidification at this time may be performed up to the formation of the conductor, or may be limited to the drying of the ink composition without performing the formation of the conductor. Although the 1st pattern 11 functions also as a base for forming the 2nd pattern 12 mentioned below, the printed ink composition should just be dried to such an extent that such a foundation can be formed. This is because the conductor is always formed from the ink composition when the second pattern 12 described later is formed. At this time, the conductor is also formed in the first pattern 11 simultaneously with the second pattern 12. By doing so, the process can be simplified. Moreover, the solidification of the ink composition in this step is limited to the drying of the ink composition, so that the first pattern 11 formed in this step can be heated excessively for solidifying the ink composition, for example. Processing is suppressed, and as a result, occurrence of disconnection is suppressed to a higher degree. If the ink composition is solidified and only the ink composition is dried without performing the formation of the conductor, it means that no conductor is formed in the ink composition during the solidification process. It does not mean that the formation of a very small amount of a conductor that causes negligible changes in the properties of the ink composition accompanying the formation of the conductor during the solidification process is included.

本工程において、インク組成物の固化は、短時間で行うという観点では、加熱処理により行うことが好ましい。   In this step, the ink composition is preferably solidified by heat treatment from the viewpoint of performing in a short time.

本工程において、インク組成物の加熱処理で、導電体の形成までは行わずにインク組成物の乾燥を行うのにとどめる場合には、この加熱処理時の温度(加熱温度)は、インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、50〜110℃であることが好ましく、70〜90℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、0.2〜12時間であることが好ましく、0.4〜5時間であることがより好ましい。このような加熱処理時の条件は、インク組成物として後述する銀インク組成物を用いた場合に、特に好適である。
また、本工程において、インク組成物の加熱処理で、導電体の形成まで行う場合には、この加熱処理時の温度(加熱温度)は、インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、60〜200℃であることが好ましく、70〜180℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、0.2〜12時間であることが好ましく、0.4〜10時間であることがより好ましい。このような加熱処理時の条件は、インク組成物として後述する銀インク組成物を用いた場合に、特に好適である。
In this step, when the ink composition is heat-treated and only the ink composition is dried without performing the formation of the conductor, the temperature during the heat-treatment (heating temperature) is the ink composition. Although it should just adjust suitably according to the kind of compounding component, it is preferable that it is 50-110 degreeC, and it is more preferable that it is 70-90 degreeC. Moreover, what is necessary is just to adjust a heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that it is 0.2 to 12 hours, and it is more preferable that it is 0.4 to 5 hours. Such heat treatment conditions are particularly suitable when a silver ink composition described later is used as the ink composition.
Further, in this step, when the heat treatment of the ink composition is performed until the formation of the conductor, the temperature (heating temperature) at the time of the heat treatment is appropriately adjusted according to the type of the composition component of the ink composition. However, it is preferably 60 to 200 ° C, more preferably 70 to 180 ° C. Moreover, what is necessary is just to adjust heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that it is 0.2 to 12 hours, and it is more preferable that it is 0.4 to 10 hours. Such heat treatment conditions are particularly suitable when a silver ink composition described later is used as the ink composition.

インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、本工程において、加熱温度は130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。   When the ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and subjected to heating (firing) treatment, in this step, the heating temperature is preferably less than 130 ° C, more preferably 125 ° C or less, It is particularly preferable that the temperature be 120 ° C. or lower.

本工程におけるインク組成物の加熱処理の方法は、特に限定されず、例えば、電気炉による加熱、感熱方式の熱ヘッドによる加熱、遠赤外線照射による加熱等で行うことができる。また、銀インク組成物の加熱処理は、大気下で行ってもよいし、不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、常圧下及び減圧下のいずれで行ってもよい。   The method for heat treatment of the ink composition in this step is not particularly limited, and for example, heating by an electric furnace, heating by a thermal head, heating by far infrared irradiation, or the like can be performed. Moreover, the heat treatment of the silver ink composition may be performed in the air, in an inert gas atmosphere, or may be performed under normal pressure or reduced pressure.

本工程においては、受容層3上に付着させるインク組成物の量、又はインク組成物における導電体の形成成分の配合量を調節することで、第一パターン11の厚さを調節できる。   In this step, the thickness of the first pattern 11 can be adjusted by adjusting the amount of the ink composition deposited on the receiving layer 3 or the blending amount of the conductor-forming component in the ink composition.

本発明においては、前記インク組成物として、金属又は金属の形成材料が配合されてなる金属インク組成物を用いることが好ましい。
配合される金属又は金属の形成材料は、一種のみでもよいし、二種以上でもよく、二種以上である場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
In the present invention, it is preferable to use a metal ink composition containing a metal or a metal forming material as the ink composition.
The metal or metal forming material to be blended may be only one kind, or two or more kinds, and in the case of two or more kinds, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

配合される金属は、粒子状又は繊維状(チューブ状、ワイヤー状等)であることが好ましく、ナノ粒子又はナノワイヤーであることがより好ましい。そして、配合される金属は、銀又は銅であることが好ましい。
なお、本明細書において、「ナノ粒子」とは、粒径が1nm以上1000nm未満、好ましくは1〜100nmである粒子を意味し、「ナノワイヤー」とは、幅が1nm以上1000nm未満、好ましくは1〜100nmであるワイヤーを意味する。
The metal to be blended is preferably in the form of particles or fibers (tube shape, wire shape, etc.), and more preferably nanoparticles or nanowires. And it is preferable that the metal mix | blended is silver or copper.
In the present specification, “nanoparticle” means a particle having a particle size of 1 nm or more and less than 1000 nm, preferably 1 to 100 nm, and “nanowire” means a width of 1 nm or more and less than 1000 nm, preferably It means a wire that is 1 to 100 nm.

配合される金属の形成材料は、該当する金属原子(元素)を有し、分解等の構造変化によって金属を生じるものであればよく、金属塩、金属錯体、有機金属化合物(金属−炭素結合を有する化合物)等が例示できる。前記金属塩及び金属錯体は、有機基を有する金属化合物及び有機基を有しない金属化合物のいずれでもよい。なかでも金属の形成材料は、金属塩であることが好ましく、銀塩又は銅塩であることがより好ましい。
また、金属の形成材料は、加熱によって分解し、金属を形成するものが好ましい。
金属の形成材料を用いることで、かかる材料から金属が生じ、この金属を含む第一パターン11が形成される。
The metal forming material to be blended may be any material having a corresponding metal atom (element) and capable of generating a metal by structural change such as decomposition, metal salt, metal complex, organometallic compound (metal-carbon bond). Compound) and the like. The metal salt and the metal complex may be any of a metal compound having an organic group and a metal compound having no organic group. Among these, the metal forming material is preferably a metal salt, and more preferably a silver salt or a copper salt.
The metal forming material is preferably one that decomposes by heating to form a metal.
By using a metal forming material, a metal is generated from the material, and the first pattern 11 including the metal is formed.

本発明においては、前記インク組成物として、銀の形成材料が配合されてなる銀インク組成物を用いることが好ましい。
以下、銀インク組成物について、より詳細に説明する。
In the present invention, it is preferable to use a silver ink composition containing a silver forming material as the ink composition.
Hereinafter, the silver ink composition will be described in more detail.

[カルボン酸銀]
金属銀の形成材料としては、式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀が例示できる。
本発明において、カルボン酸銀は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
前記カルボン酸銀は、式「−COOAg」で表される基を有していれば特に限定されない。例えば、式「−COOAg」で表される基の数は1個のみでもよいし、2個以上でもよい。また、カルボン酸銀中の式「−COOAg」で表される基の位置も特に限定されない。
[Silver carboxylate]
Examples of the metal silver forming material include silver carboxylate having a group represented by the formula “—COOAg”.
In this invention, silver carboxylate may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.
The silver carboxylate is not particularly limited as long as it has a group represented by the formula “—COOAg”. For example, the number of groups represented by the formula “—COOAg” may be only one, or two or more. Further, the position of the group represented by the formula “—COOAg” in the silver carboxylate is not particularly limited.

前記カルボン酸銀は、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀(以下、「β−ケトカルボン酸銀(1)」と略記することがある)及び下記一般式(4)で表されるカルボン酸銀(以下、「カルボン酸銀(4)」と略記することがある)からなる群から選択される一種以上であることが好ましい。
なお、本明細書においては、単なる「カルボン酸銀」との記載は、特に断りの無い限り、「β−ケトカルボン酸銀(1)」及び「カルボン酸銀(4)」だけではなく、これらを包括する、「式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀」を意味するものとする。
The silver carboxylate is represented by the following general formula (1) β-ketocarboxylate silver (hereinafter sometimes abbreviated as “β-ketocarboxylate (1)”) and the following general formula (4). It is preferably one or more selected from the group consisting of silver carboxylates (hereinafter sometimes abbreviated as “silver carboxylate (4)”).
In the present specification, the simple description of “silver carboxylate” is not limited to “silver β-ketocarboxylate (1)” and “silver carboxylate (4)”, unless otherwise specified. It is intended to mean “silver carboxylate having a group represented by the formula“ —COOAg ””.

(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY −」、「CY −」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY −」で表される基であり;
はそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;Rは炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. 1 2 − ”,“ CY 1 3 − ”,“ R 1 —CHY 1 — ”,“ R 2 O— ”,“ R 5 R 4 N— ”,“ (R 3 O) 2 CY 1 — ”or“ R 6 —C (═O) —CY 1 2 — ”;
Y 1 is each independently a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or a hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms or a phenyl group; R 2 is an aliphatic having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a hydroxyl group or a group represented by the formula “AgO—”;
X 1 is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, N - phthaloyl-3-aminopropyl group, 2-ethoxyethyl vinyl group, or the general formula "R 7 O -", "R 7 S -", "R 7 -C (= O) -" or "R 7 -C ( ═O) —O— ”;
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )

(式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基又は式「−C(=O)−OAg」で表される基であり、前記脂肪族炭化水素基がメチレン基を有する場合、1個以上の該メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。) (In the formula, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group or a group represented by the formula “—C (═O) —OAg”, and the aliphatic hydrocarbon group is a methylene group. And one or more of the methylene groups may be substituted with a carbonyl group.)

(β−ケトカルボン酸銀(1))
β−ケトカルボン酸銀(1)は、前記一般式(1)で表される。
式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY −」、「CY −」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY −」で表される基である。
(Silver β-ketocarboxylate (1))
The β-ketocarboxylate silver (1) is represented by the general formula (1).
In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY 1 ” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. " 2- ", "CY 1 3- ", "R 1 -CHY 1- ", "R 2 O-", "R 5 R 4 N-", "(R 3 O) 2 CY 1- " or "R 6- C (═O) —CY 1 2 — ”.

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状(脂肪族環式基)のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。また、前記脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基及び不飽和脂肪族炭化水素基のいずれでもよい。そして、前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜10であることが好ましく、1〜6であることがより好ましい。Rにおける好ましい前記脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が例示できる。   The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R may be any of linear, branched and cyclic (aliphatic cyclic group), and when it is cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. . Further, the aliphatic hydrocarbon group may be either a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Preferred examples of the aliphatic hydrocarbon group for R include an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

Rにおける直鎖状又は分枝鎖状の前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、3−エチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,1−ジメチルペンチル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3,3−ジメチルペンチル基、4,4−ジメチルペンチル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、4−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、1−プロピルブチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、5−エチルヘキシル基、1,1−ジメチルヘキシル基、2,2−ジメチルヘキシル基、3,3−ジメチルヘキシル基、4,4−ジメチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、2−プロピルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基が例示できる。
Rにおける環状の前記アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、トリシクロデシル基が例示できる。
Examples of the linear or branched alkyl group represented by R include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n -Pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4- Methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 3-ethylbutyl group 1-ethyl-1-methylpropyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, -Methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3,3-dimethylpentyl group 4,4-dimethylpentyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 4-ethylpentyl group, 2,2,3-trimethylbutyl group, 1-propylbutyl group, n -Octyl group, isooctyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl Group, 4-ethylhexyl group, 5-ethylhexyl group, 1,1-dimethylhexyl group, 2,2-dimethylhexyl group, 3, -Dimethylhexyl group, 4,4-dimethylhexyl group, 5,5-dimethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 2-propylpentyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group And pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group and icosyl group.
Examples of the cyclic alkyl group in R include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, norbornyl group, isobornyl group, 1-adamantyl group, 2- Examples thereof include an adamantyl group and a tricyclodecyl group.

Rにおける前記アルケニル基としては、ビニル基(エテニル基、−CH=CH)、アリル基(2−プロペニル基、−CH−CH=CH)、1−プロペニル基(−CH=CH−CH)、イソプロペニル基(−C(CH)=CH)、1−ブテニル基(−CH=CH−CH−CH)、2−ブテニル基(−CH−CH=CH−CH)、3−ブテニル基(−CH−CH−CH=CH)、シクロヘキセニル基、シクロペンテニル基等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が二重結合(C=C)に置換された基が例示できる。
Rにおける前記アルキニル基としては、エチニル基(−C≡CH)、プロパルギル基(−CH−C≡CH)等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が三重結合(C≡C)に置換された基が例示できる。
Examples of the alkenyl group in R include a vinyl group (ethenyl group, —CH═CH 2 ), an allyl group (2-propenyl group, —CH 2 —CH═CH 2 ), and a 1-propenyl group (—CH═CH—CH). 3 ), isopropenyl group (—C (CH 3 ) ═CH 2 ), 1-butenyl group (—CH═CH—CH 2 —CH 3 ), 2-butenyl group (—CH 2 —CH═CH—CH 3). ), 3-butenyl group (—CH 2 —CH 2 —CH═CH 2 ), cyclohexenyl group, cyclopentenyl group and the like, one single bond (C—C) between carbon atoms of the alkyl group in R Is a group in which is substituted with a double bond (C═C).
As the alkynyl group in R, one single bond (C—C) between carbon atoms of the alkyl group in R, such as ethynyl group (—C≡CH), propargyl group (—CH 2 —C≡CH) and the like. ) Is substituted with a triple bond (C≡C).

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が例示できる。また、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての置換基が同一であってもよいし、すべての置換基が異なっていてもよく、一部の置換基のみが異なっていてもよい。   In the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R, one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, and preferred examples of the substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. . Moreover, the number and position of substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other. That is, all the substituents may be the same, all the substituents may be different, or only some of the substituents may be different.

Rにおけるフェニル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基(−OH)、シアノ基(−C≡N)、フェノキシ基(−O−C)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
置換基である前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
The phenyl group in R may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent, and the preferred substituent is a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms. , A monovalent group formed by bonding the aliphatic hydrocarbon group to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group (—OH), a cyano group (—C≡N), a phenoxy group (—O— C 6 H 5 ) and the like can be exemplified, and the number and position of substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group that is a substituent include the same aliphatic hydrocarbon groups as those described above for R except that the number of carbon atoms is 1 to 16.

RにおけるYは、それぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子である。そして、一般式「R−CY −」、「CY −」及び「R−C(=O)−CY −」においては、それぞれ複数個のYは、互いに同一でも異なっていてもよい。 Y 1 in R is independently a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or a hydrogen atom. In the general formulas “R 1 —CY 1 2 —”, “CY 1 3 —” and “R 6 —C (═O) —CY 1 2 —”, a plurality of Y 1 may be the same as each other. May be different.

RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基(C−)であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるR及びRは、それぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基である。すなわち、R及びRは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数が1〜18である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
R 1 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms or a phenyl group (C 6 H 5 —), and the aliphatic hydrocarbon group in R 1 has 1 to 19 carbon atoms. Except for this point, the same aliphatic hydrocarbon groups as those in R can be exemplified.
R 2 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof are the same as the aliphatic hydrocarbon group in R.
R 3 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, and examples thereof are the same as the aliphatic hydrocarbon group in R except that the carbon number is 1 to 16.
R 4 and R 5 in R are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. That is, R 4 and R 5 may be the same as or different from each other, and examples thereof are the same as the aliphatic hydrocarbon group in R except that the number of carbon atoms is 1 to 18.
R 6 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a hydroxyl group, or a group represented by the formula “AgO—”, and the aliphatic hydrocarbon group in R 6 has 1 to 1 carbon atoms. Except for being 19, the same aliphatic hydrocarbon groups as those described above for R can be exemplified.

Rは、上記の中でも、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、一般式「R−C(=O)−CY −」で表される基、水酸基又はフェニル基であることが好ましい。そして、Rは、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であることが好ましい。 R is, among these, a linear or branched alkyl group, the general formula "R 6 -C (= O) -CY 1 2 - " group represented by be a hydroxyl group or a phenyl group preferable. R 6 is preferably a linear or branched alkyl group, a hydroxyl group, or a group represented by the formula “AgO—”.

一般式(1)において、Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基(C−CH−)、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基(C−O−CH=CH−)、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基である。
における炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基としては、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
In the general formula (1), each X 1 is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, or A benzyl group (C 6 H 5 —CH 2 —), a cyano group, an N-phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group (C 2 H 5 —O—CH═CH—), or a general formula “R 7 O— ”,“ R 7 S— ”,“ R 7 —C (═O) — ”or“ R 7 —C (═O) —O— ”.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in X 1 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group in R.

におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。
におけるフェニル基及びベンジル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ニトロ基(−NO)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
Examples of the halogen atom in X 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
In the phenyl group and benzyl group in X 1 , one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), nitro group (-NO 2) or the like can be exemplified, the number and position of the substituent is not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other.

におけるRは、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基(CS−)、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基(ビフェニル基、C−C−)である。Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜10である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。また、Rにおけるフェニル基及びジフェニル基の前記置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
がチエニル基又はジフェニル基である場合、これらの、Xにおいて隣接する基又は原子(酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基)との結合位置は、特に限定されない。例えば、チエニル基は、2−チエニル基及び3−チエニル基のいずれでもよい。
R 7 in X 1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group (C 4 H 3 S—), a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, or diphenyl group (biphenyl group, C 6 H 5 -C 6 H 4 -) is. Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 7 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group for R except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 10 carbon atoms. Further, examples of the substituent of the phenyl group and a diphenyl group in R 7, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) can be exemplified the like, the number and position of the substituent is not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other.
When R 7 is a thienyl group or a diphenyl group, there are no particular limitations on the bonding position of these groups with an adjacent group or atom (oxygen atom, sulfur atom, carbonyl group, carbonyloxy group) in X 1 . For example, the thienyl group may be a 2-thienyl group or a 3-thienyl group.

一般式(1)において、2個のXは、2個のカルボニル基で挟まれた炭素原子と二重結合を介して1個の基として結合していてもよく、このようなものとしては式「=CH−C−NO」で表される基が例示できる。 In the general formula (1), two X 1 s may be bonded as one group through a double bond with a carbon atom sandwiched between two carbonyl groups. A group represented by the formula “═CH—C 6 H 4 —NO 2 ” can be exemplified.

は、上記の中でも、水素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、ベンジル基、又は一般式「R−C(=O)−」で表される基であることが好ましく、少なくとも一方のXが水素原子であることが好ましい。 X 1 is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a benzyl group, or a group represented by the general formula “R 7 —C (═O) —” among the above. It is preferable that at least one X 1 is a hydrogen atom.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、2−メチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、アセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−エチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、プロピオニル酢酸銀(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリル酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイル酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、カプロイル酢酸銀(CH(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−n−ブチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCHCHCH)−C(=O)−OAg)、2−ベンジルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、ベンゾイル酢酸銀(C−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイルアセト酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリルアセト酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−アセチルピバロイル酢酸銀((CHC−C(=O)−CH(−C(=O)−CH)−C(=O)−OAg)、2−アセチルイソブチリル酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH(−C(=O)−CH)−C(=O)−OAg)、又はアセトンジカルボン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。 β-ketocarboxylate silver (1) is silver 2-methylacetoacetate (CH 3 —C (═O) —CH (CH 3 ) —C (═O) —OAg), silver acetoacetate (CH 3 —C (= O) —CH 2 —C (═O) —OAg), silver 2-ethylacetoacetate (CH 3 —C (═O) —CH (CH 2 CH 3 ) —C (═O) —OAg), silver propionyl acetate (CH 3 CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), isobutyryl silver acetate ((CH 3) 2 CH- C (= O) -CH 2 -C (= O) - OAg), silver pivaloyl acetate ((CH 3 ) 3 C—C (═O) —CH 2 —C (═O) —OAg), silver caproyl acetate (CH 3 (CH 2 ) 3 CH 2 —C (═O) ) -CH 2 -C (= O) -OAg), 2-n- Buchiruaseto silver acetate (CH 3 -C (= O) -CH (C H 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) -C (= O) -OAg), 2- benzyl acetoacetate silver (CH 3 -C (= O) -CH (CH 2 C 6 H 5) -C (= O) -OAg), silver benzoylacetate (C 6 H 5 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), Pibaroiruaseto silver acetate ((CH 3) 3 C- C (= O) -CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), isobutyryl acetoacetate silver ((CH 3) 2 CH- C (= O) -CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), 2- acetyl pivaloyl silver acetate ((CH 3) 3 C- C (= O) -CH (-C (= O) -CH 3) -C (= O) -OAg), 2- acetyl isobutyryl silver acetate ((CH 3) 2 CH- C (= O) -CH (-C (= O) -CH 3) -C (= O) - Ag), or is preferably acetone dicarboxylic silver (AgO-C (= O) -CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg).

β−ケトカルボン酸銀(1)は、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の後処理により形成された導電体(金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。原料や不純物が少ない程、例えば、形成された金属銀同士の接触が良好となり、導通が容易となり、抵抗率が低下する。   The β-ketocarboxylate (1) can further reduce the concentration of the remaining raw materials and impurities in the conductor (metal silver) formed by post-treatment such as drying treatment or heating (firing) treatment. The smaller the raw materials and impurities, for example, the better the contact between the formed metal silvers, the easier the conduction, and the lower the resistivity.

β−ケトカルボン酸銀(1)は、後述するように、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、好ましくは60〜210℃、より好ましくは60〜200℃という低温で分解し、金属銀を形成することが可能である。そして、還元剤と併用することで、より低温で分解して金属銀を形成する。還元剤については後ほど説明する。   The β-ketocarboxylate (1) is decomposed at a low temperature of preferably 60 to 210 ° C., more preferably 60 to 200 ° C. without using a reducing agent known in the art, as described later, It is possible to form metallic silver. And by using together with a reducing agent, it decomposes at a lower temperature to form metallic silver. The reducing agent will be described later.

本発明において、β−ケトカルボン酸銀(1)は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In this invention, (beta) -ketocarboxylate (1) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

(カルボン酸銀(4))
カルボン酸銀(4)は、前記一般式(4)で表される。
式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基(−COOH)又は式「−C(=O)−OAg」で表される基である。
における前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。ただし、Rにおける前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜15であることが好ましく、1〜10であることがより好ましい。
(Silver carboxylate (4))
The silver carboxylate (4) is represented by the general formula (4).
In the formula, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group (—COOH), or a group represented by the formula “—C (═O) —OAg”.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 8 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group for R except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 19 carbon atoms. However, the aliphatic hydrocarbon group for R 8 preferably has 1 to 15 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms.

における前記脂肪族炭化水素基がメチレン基(−CH−)を有する場合、1個以上の該メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。カルボニル基で置換されていてもよいメチレン基の数及び位置は特に限定されず、すべてのメチレン基がカルボニル基で置換されていてもよい。ここで「メチレン基」とは、単独の式「−CH−」で表される基だけでなく、式「−CH−」で表される基が複数個連なったアルキレン基中の1個の式「−CH−」で表される基も含むものとする。 When the aliphatic hydrocarbon group for R 8 has a methylene group (—CH 2 —), one or more of the methylene groups may be substituted with a carbonyl group. The number and position of the methylene groups that may be substituted with a carbonyl group are not particularly limited, and all methylene groups may be substituted with a carbonyl group. Here, the “methylene group” is not only a single group represented by the formula “—CH 2 —” but also one alkylene group in which a plurality of groups represented by the formula “—CH 2 —” are linked. And a group represented by the formula “—CH 2 —”.

カルボン酸銀(4)は、ピルビン酸銀(CH−C(=O)−C(=O)−OAg)、酢酸銀(CH−C(=O)−OAg)、酪酸銀(CH−(CH−C(=O)−OAg)、イソ酪酸銀((CHCH−C(=O)−OAg)、2−エチルへキサン酸銀(CH−(CH−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、ネオデカン酸銀(CH−(CH−C(CH−C(=O)−OAg)、シュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)、又はマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。また、上記のシュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)及びマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)の2個の式「−COOAg」で表される基のうち、1個が式「−COOH」で表される基となったもの(HO−C(=O)−C(=O)−OAg、HO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)も好ましい。 Silver carboxylate (4) is silver pyruvate (CH 3 —C (═O) —C (═O) —OAg), silver acetate (CH 3 —C (═O) —OAg), silver butyrate (CH 3 - (CH 2) 2 -C ( = O) -OAg), isobutyric acid silver ((CH 3) 2 CH- C (= O) -OAg), hexane silver 2-ethylhexyl (CH 3 - (CH 2 ) 3 —CH (CH 2 CH 3 ) —C (═O) —OAg), silver neodecanoate (CH 3 — (CH 2 ) 5 —C (CH 3 ) 2 —C (═O) —OAg), Shu It is preferably silver oxide (AgO—C (═O) —C (═O) —OAg) or silver malonate (AgO—C (═O) —CH 2 —C (═O) —OAg). Also, 2 of the silver oxalate (AgO-C (= O) -C (= O) -OAg) and malonic silver (AgO-C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg) Of the groups represented by the formula “—COOAg”, one is a group represented by the formula “—COOH” (HO—C (═O) —C (═O) —OAg, HO) -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg) it is also preferred.

カルボン酸銀(4)も、β−ケトカルボン酸銀(1)と同様に、乾燥処理や加熱(焼成)処理等の後処理により形成された導電体(金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。そして、還元剤と併用することで、より低温で分解して金属銀を形成する。   As in the case of silver β-ketocarboxylate (1), silver carboxylate (4) is also a conductor (metal silver) formed by post-treatment such as drying treatment or heating (firing) treatment. The concentration can be further reduced. And by using together with a reducing agent, it decomposes at a lower temperature to form metallic silver.

本発明において、カルボン酸銀(4)は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In this invention, silver carboxylate (4) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

前記カルボン酸銀は、2−メチルアセト酢酸銀、アセト酢酸銀、2−エチルアセト酢酸銀、プロピオニル酢酸銀、イソブチリル酢酸銀、ピバロイル酢酸銀、カプロイル酢酸銀、2−n−ブチルアセト酢酸銀、2−ベンジルアセト酢酸銀、ベンゾイル酢酸銀、ピバロイルアセト酢酸銀、イソブチリルアセト酢酸銀、アセトンジカルボン酸銀、ピルビン酸銀、酢酸銀、酪酸銀、イソ酪酸銀、2−エチルへキサン酸銀、ネオデカン酸銀、シュウ酸銀及びマロン酸銀からなる群から選択される一種以上であることが好ましい。
そして、これらカルボン酸銀の中でも、2−メチルアセト酢酸銀及びアセト酢酸銀は、後述する含窒素化合物(なかでもアミン化合物)との相溶性に優れ、銀インク組成物の高濃度化に、特に適したものとして挙げられる。
The silver carboxylate is silver 2-methylacetoacetate, silver acetoacetate, silver 2-ethylacetoacetate, silver propionylacetate, silver isobutyrylacetate, silver pivaloylacetate, silver caproylacetate, silver 2-n-butylacetoacetate, 2-benzylacetoacetate Silver acetate, silver benzoyl acetate, silver pivaloyl acetoacetate, silver isobutyryl acetoacetate, silver acetone dicarboxylate, silver pyruvate, silver acetate, silver butyrate, silver isobutyrate, silver 2-ethylhexanoate, silver neodecanoate, silver It is preferably at least one selected from the group consisting of silver oxide and silver malonate.
Among these silver carboxylates, silver 2-methylacetoacetate and silver acetoacetate are excellent in compatibility with the nitrogen-containing compounds (among others amine compounds) described later, and are particularly suitable for increasing the concentration of silver ink compositions. It is mentioned as a thing.

銀インク組成物において、前記金属銀の形成材料に由来する銀の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましい。このような範囲であることで、形成された導電体(金属銀)は品質により優れたものとなる。前記銀の含有量の上限値は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると25質量%であることが好ましい。
なお、本明細書において、「金属銀の形成材料に由来する銀」とは、特に断りの無い限り、銀インク組成物の製造時に配合された前記金属銀の形成材料中の銀を意味し、配合後に引き続き金属銀の形成材料を構成している銀と、配合後に金属銀の形成材料が分解して生じた分解物中の銀及び銀自体と、の両方を含む概念とする。
In the silver ink composition, the content of silver derived from the metal silver forming material is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. By being in such a range, the formed conductor (metal silver) becomes superior in quality. The upper limit of the silver content is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but it is preferably 25% by mass in consideration of handling properties and the like.
In the present specification, “silver derived from a metallic silver forming material” means silver in the metallic silver forming material blended during the production of the silver ink composition, unless otherwise specified. It is a concept that includes both silver constituting the metal silver forming material after blending, and silver and silver itself in the decomposition product generated by decomposition of the metal silver forming material after blending.

[含窒素化合物]
前記銀インク組成物は、特に金属銀の形成材料が前記カルボン酸銀である場合、金属銀の形成材料以外に、さらに、炭素数25以下のアミン化合物及び第4級アンモニウム塩、アンモニア、並びに前記アミン化合物又はアンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩からなる群から選択される一種以上の含窒素化合物(以下、単に「含窒素化合物」と略記することがある)が配合されてなるものが好ましい。配合される含窒素化合物は、一種のみでよいし、二種以上でもよく、二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
以下、炭素数25以下のアミン化合物を「アミン化合物」、炭素数25以下の第4級アンモニウム塩を「第4級アンモニウム塩」、炭素数25以下のアミン化合物が酸と反応してなるアンモニウム塩を「アミン化合物由来のアンモニウム塩」、アンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩を「アンモニア由来のアンモニウム塩」と略記することがある。
[Nitrogen-containing compounds]
The silver ink composition, in particular, when the metal silver forming material is the silver carboxylate, in addition to the metal silver forming material, an amine compound having a carbon number of 25 or less, a quaternary ammonium salt, ammonia, and the above A compound in which one or more nitrogen-containing compounds selected from the group consisting of an ammonium salt formed by reacting an amine compound or ammonia with an acid (hereinafter sometimes simply referred to as “nitrogen-containing compound”) is preferable. . The nitrogen-containing compound to be blended may be only one kind, or two or more kinds. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.
Hereinafter, an amine compound having 25 or less carbon atoms is referred to as “amine compound”, a quaternary ammonium salt having 25 or less carbon atoms is referred to as “quaternary ammonium salt”, and an ammonium salt obtained by reacting an amine compound having 25 or less carbon atoms with an acid. Is sometimes abbreviated as “ammonium salt derived from an amine compound”, and an ammonium salt formed by reacting ammonia with an acid is sometimes abbreviated as “ammonium salt derived from ammonia”.

(アミン化合物、第4級アンモニウム塩)
前記アミン化合物は、炭素数が1〜25であり、第1級アミン、第2級アミン及び第3級アミンのいずれでもよい。また、前記第4級アンモニウム塩は、炭素数が4〜25である。前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩は、鎖状及び環状のいずれでもよい。また、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子(例えば、第1級アミンのアミノ基(−NH)を構成する窒素原子)の数は1個でもよいし、2個以上でもよい。
(Amine compound, quaternary ammonium salt)
The amine compound has 1 to 25 carbon atoms, and may be any of primary amine, secondary amine, and tertiary amine. The quaternary ammonium salt has 4 to 25 carbon atoms. The amine compound and the quaternary ammonium salt may be either chain or cyclic. Further, the number of nitrogen atoms constituting the amine moiety or ammonium salt moiety (for example, the nitrogen atom constituting the amino group (—NH 2 ) of the primary amine) may be one, or two or more.

前記第1級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいモノアルキルアミン、モノアリールアミン、モノ(ヘテロアリール)アミン、ジアミン等が例示できる。   Examples of the primary amine include monoalkylamines, monoarylamines, mono (heteroaryl) amines, and diamines in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、Rにおける前記アルキル基と同様のものが例示でき、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。
好ましい前記モノアルキルアミンとして、具体的には、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−ヘプチルアミン(2−アミノヘプタン)、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミンが例示できる。
The alkyl group constituting the monoalkylamine may be linear, branched or cyclic, and examples thereof are the same as the alkyl group in R, and are linear or branched having 1 to 19 carbon atoms. It is preferably a chain alkyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms.
Specific examples of preferable monoalkylamine include n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, 3-amino. Examples include pentane, 3-methylbutylamine, 2-heptylamine (2-aminoheptane), 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, and 1,2-dimethyl-n-propylamine.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が例示でき、炭素数が6〜10であることが好ましい。   Examples of the aryl group constituting the monoarylamine include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and the like, and preferably has 6 to 10 carbon atoms.

前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、芳香族環骨格を構成する原子として、ヘテロ原子を有するものであり、前記ヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ホウ素原子が例示できる。また、芳香族環骨格を構成する前記へテロ原子の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよい。2個以上である場合、これらへテロ原子は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、これらへテロ原子は、すべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部だけ異なっていてもよい。
前記ヘテロアリール基は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されないが、3〜12員環であることが好ましい。
The heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine has a heteroatom as an atom constituting the aromatic ring skeleton, and the heteroatom includes a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, and a boron atom. Can be illustrated. Moreover, the number of the said hetero atom which comprises an aromatic ring frame is not specifically limited, One may be sufficient and two or more may be sufficient. When there are two or more, these heteroatoms may be the same or different from each other. That is, these heteroatoms may all be the same, may all be different, or may be partially different.
The heteroaryl group may be monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (the number of atoms constituting the ring skeleton) is not particularly limited, but is preferably a 3- to 12-membered ring.

前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜4個有する単環状のものとしては、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペラジニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1個有する単環状のものとしては、フラニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1個有する単環状のものとしては、チエニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、モルホリニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チアゾリジニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜5個有する多環状のものとしては、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾロピリジル基、テトラゾロピリダジニル基、ジヒドロトリアゾロピリダジニル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ジチアナフタレニル基、ベンゾチオフェニル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
Examples of the monoaryl group having 1 to 4 nitrogen atoms as the heteroaryl group include pyrrolyl group, pyrrolinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazinyl group, pyridazinyl group, triazolyl group, and tetrazolyl group. , A pyrrolidinyl group, an imidazolidinyl group, a piperidinyl group, a pyrazolidinyl group, and a piperazinyl group are preferable, and a 3- to 8-membered ring is preferable, and a 5- to 6-membered ring is more preferable.
Examples of the monoaryl group having one oxygen atom as the heteroaryl group include a furanyl group, preferably a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monoaryl group having one sulfur atom as the heteroaryl group include a thienyl group, preferably a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monoaryl group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include an oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, and a morpholinyl group. It is preferable that it is a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monoaryl group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include a thiazolyl group, a thiadiazolyl group, and a thiazolidinyl group, and a 3- to 8-membered ring. Preferably, it is a 5-6 membered ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 5 nitrogen atoms as the heteroaryl group include indolyl group, isoindolyl group, indolizinyl group, benzimidazolyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, indazolyl group, benzotriazolyl group, tetra Examples include a zolopyridyl group, a tetrazolopyridazinyl group, and a dihydrotriazolopyridazinyl group, preferably a 7-12 membered ring, and more preferably a 9-10 membered ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 3 sulfur atoms as the heteroaryl group include a dithiaphthalenyl group and a benzothiophenyl group, preferably a 7 to 12 membered ring, preferably a 9 to 10 membered ring. More preferably, it is a ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include a benzoxazolyl group and a benzooxadiazolyl group. It is preferable that it is a 9-10 membered ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include a benzothiazolyl group and a benzothiadiazolyl group, and is a 7 to 12 membered ring. Preferably, it is a 9-10 membered ring.

前記ジアミンは、アミノ基を2個有していればよく、2個のアミノ基の位置関係は特に限定されない。好ましい前記ジアミンとしては、前記モノアルキルアミン、モノアリールアミン又はモノ(ヘテロアリール)アミンにおいて、アミノ基(−NH)を構成する水素原子以外の1個の水素原子が、アミノ基で置換されたものが例示できる。
前記ジアミンは炭素数が1〜10であることが好ましく、より好ましいものとしてはエチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタンが例示できる。
The diamine only needs to have two amino groups, and the positional relationship between the two amino groups is not particularly limited. As the preferred diamine, in the monoalkylamine, monoarylamine or mono (heteroaryl) amine, one hydrogen atom other than the hydrogen atom constituting the amino group (—NH 2 ) is substituted with an amino group. The thing can be illustrated.
The diamine preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, and 1,4-diaminobutane.

前記第2級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいジアルキルアミン、ジアリールアミン、ジ(ヘテロアリール)アミン等が例示できる。   Examples of the secondary amine include dialkylamine, diarylamine, di (heteroaryl) amine and the like in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
好ましい前記ジアルキルアミンとして、具体的には、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミンが例示できる。
The alkyl group that constitutes the dialkylamine is the same as the alkyl group that constitutes the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or 3 to 7 carbon atoms. A cyclic alkyl group is preferred. Two alkyl groups in one molecule of dialkylamine may be the same as or different from each other.
Specific examples of preferable dialkylamine include N-methyl-n-hexylamine, diisobutylamine, and di (2-ethylhexyl) amine.

前記ジアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。また、ジアリールアミン一分子中の2個のアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。   The aryl group constituting the diarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms. Two aryl groups in one molecule of diarylamine may be the same as or different from each other.

前記ジ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基と同様であり、6〜12員環であることが好ましい。また、ジ(ヘテロアリール)アミン一分子中の2個のヘテロアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。   The heteroaryl group constituting the di (heteroaryl) amine is the same as the heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine, and is preferably a 6-12 membered ring. Two heteroaryl groups in one molecule of di (heteroaryl) amine may be the same or different from each other.

前記第3級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいトリアルキルアミン、ジアルキルモノアリールアミン等が例示できる。   Examples of the tertiary amine include trialkylamine and dialkylmonoarylamine in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記トリアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、トリアルキルアミン一分子中の3個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、3個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。
好ましい前記トリアルキルアミンとして、具体的には、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンが例示できる。
The alkyl group constituting the trialkylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 19 carbon atoms, or 3 to 7 carbon atoms. The cyclic alkyl group is preferably. Further, the three alkyl groups in one molecule of trialkylamine may be the same as or different from each other. That is, all three alkyl groups may be the same, all may be different, or only a part may be different.
Preferable examples of the trialkylamine include N, N-dimethyl-n-octadecylamine and N, N-dimethylcyclohexylamine.

前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルモノアリールアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。
The alkyl group constituting the dialkyl monoarylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. 7 is a cyclic alkyl group. Two alkyl groups in one molecule of dialkyl monoarylamine may be the same or different from each other.
The aryl group constituting the dialkyl monoarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms.

本発明において、前記第4級アンモニウム塩としては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいハロゲン化テトラアルキルアンモニウム等が例示できる。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19であることが好ましい。また、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウム一分子中の4個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、4個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示できる。
好ましい前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムとして、具体的には、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミドが例示できる。
In the present invention, examples of the quaternary ammonium salt include halogenated tetraalkylammonium, in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group constituting the halogenated tetraalkylammonium is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and preferably has 1 to 19 carbon atoms. Further, the four alkyl groups in one molecule of the tetraalkylammonium halide may be the same as or different from each other. That is, all four alkyl groups may be the same, all may be different, or only a part may be different.
Examples of the halogen constituting the halogenated tetraalkylammonium include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
Specific examples of the preferred tetraalkylammonium halide include dodecyltrimethylammonium bromide.

ここまでは、主に鎖状のアミン化合物及び第4級有機アンモニウム塩について説明したが、前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩は、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子が環骨格構造(複素環骨格構造)の一部であるようなヘテロ環化合物であってもよい。すなわち、前記アミン化合物は環状アミンでもよく、前記第4級アンモニウム塩は環状アンモニウム塩でもよい。この時の環(アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子を含む環)構造は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されず、脂肪族環及び芳香族環のいずれでもよい。
環状アミンであれば、好ましいものとして、ピリジンが例示できる。
So far, the chain amine compound and the quaternary organic ammonium salt have been mainly described. However, in the amine compound and the quaternary ammonium salt, the nitrogen atom constituting the amine moiety or the ammonium salt moiety is a ring skeleton structure ( A heterocyclic compound which is a part of a heterocyclic skeleton structure) may be used. That is, the amine compound may be a cyclic amine, and the quaternary ammonium salt may be a cyclic ammonium salt. At this time, the ring (ring containing the nitrogen atom constituting the amine moiety or ammonium salt moiety) structure may be either monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (number of atoms constituting the ring skeleton) is also particularly limited. Any of an aliphatic ring and an aromatic ring may be sufficient.
If it is a cyclic amine, a pyridine can be illustrated as a preferable thing.

前記第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン及び第4級アンモニウム塩において、「置換基で置換されていてもよい水素原子」とは、アミン部位又はアンモニウム塩部位を構成する窒素原子に結合している水素原子以外の水素原子である。この時の置換基の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよく、前記水素原子のすべてが置換基で置換されていてもよい。置換基の数が複数の場合には、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、複数個の置換基はすべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部だけが異なっていてもよい。また、置換基の位置も特に限定されない。   In the primary amine, secondary amine, tertiary amine and quaternary ammonium salt, the “hydrogen atom optionally substituted with a substituent” means a nitrogen atom constituting an amine moiety or an ammonium salt moiety. A hydrogen atom other than a hydrogen atom bonded to. The number of substituents at this time is not particularly limited, and may be one or two or more, and all of the hydrogen atoms may be substituted with a substituent. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other. That is, the plurality of substituents may all be the same, may all be different, or only some may be different. Further, the position of the substituent is not particularly limited.

前記アミン化合物及び第4級アンモニウム塩における前記置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、トリフルオロメチル基(−CF)等が例示できる。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。 Examples of the substituent in the amine compound and the quaternary ammonium salt include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, and a trifluoromethyl group (—CF 3 ). Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、かかるアルキル基は、置換基としてアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は置換基として好ましくは炭素数が1〜5のアルキル基を有する、炭素数が3〜7の環状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するモノアルキルアミンとして、具体的には、2−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、2,3−ジメチルシクロヘキシルアミンが例示できる。
また、置換基である前記アリール基及びアルキル基は、さらに1個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、このようなハロゲン原子で置換された置換基を有するモノアルキルアミンとしては、2−ブロモベンジルアミンが例示できる。ここで、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。
When the alkyl group constituting the monoalkylamine has a substituent, the alkyl group has an aryl group as a substituent, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or a substituent Preferably, a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable, and specific examples of monoalkylamine having such a substituent include 2-phenylethylamine , Benzylamine, and 2,3-dimethylcyclohexylamine.
In addition, the aryl group and the alkyl group which are substituents may further have one or more hydrogen atoms substituted with halogen atoms, and as monoalkylamines having such substituents substituted with halogen atoms, And 2-bromobenzylamine. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基が置換基を有する場合、かかるアリール基は、置換基としてハロゲン原子を有する、炭素数が6〜10のアリール基が好ましく、このような置換基を有するモノアリールアミンとして、具体的には、ブロモフェニルアミンが例示できる。ここで、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。   When the aryl group constituting the monoarylamine has a substituent, the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms having a halogen atom as the substituent, and monoaryl having such a substituent. Specific examples of the amine include bromophenylamine. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、かかるアルキル基は、置換基として水酸基又はアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するジアルキルアミンとして、具体的には、ジエタノールアミン、N−メチルベンジルアミンが例示できる。   When the alkyl group constituting the dialkylamine has a substituent, the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms and having a hydroxyl group or an aryl group as a substituent, Specific examples of the dialkylamine having such a substituent include diethanolamine and N-methylbenzylamine.

前記アミン化合物は、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−ヘプチルアミン、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、2−フェニルエチルアミン、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、N−メチルベンジルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミン、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン又はN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンであることが好ましい。
そして、これらアミン化合物の中でも、2−エチルヘキシルアミンは、前記カルボン酸銀との相溶性に優れ、銀インク組成物の高濃度化に特に適しており、さらに形成される導電体の表面粗さの低減に特に適したものとして挙げられる。
The amine compound is n-propylamine, n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, 3-aminopentane, 3-methylbutylamine, 2-heptylamine, 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, 2-phenylethylamine, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, N-methyl-n-hexylamine, Diisobutylamine, N-methylbenzylamine, di (2-ethylhexyl) amine, 1,2-dimethyl-n-propylamine, N, N-dimethyl-n-octadecylamine or N, N-dimethylcyclohexylamine. It is preferable.
Among these amine compounds, 2-ethylhexylamine is excellent in compatibility with the silver carboxylate and is particularly suitable for increasing the concentration of the silver ink composition, and further the surface roughness of the formed conductor. It is mentioned as being particularly suitable for reduction.

(アミン化合物由来のアンモニウム塩)
本発明において、前記アミン化合物由来のアンモニウム塩は、前記アミン化合物が酸と反応してなるアンモニウム塩であり、前記酸は、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸でもよいし、酢酸等の有機酸でもよく、酸の種類は特に限定されない。
前記アミン化合物由来のアンモニウム塩としては、n−プロピルアミン塩酸塩、N−メチル−n−ヘキシルアミン塩酸塩、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン塩酸塩等が例示できるが、これらに限定されない。
(Ammonium salts derived from amine compounds)
In the present invention, the ammonium salt derived from the amine compound is an ammonium salt obtained by reacting the amine compound with an acid, and the acid may be an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or nitric acid, or an organic acid such as acetic acid. However, the type of acid is not particularly limited.
Examples of the ammonium salt derived from the amine compound include, but are not limited to, n-propylamine hydrochloride, N-methyl-n-hexylamine hydrochloride, N, N-dimethyl-n-octadecylamine hydrochloride and the like. .

(アンモニア由来のアンモニウム塩)
本発明において、前記アンモニア由来のアンモニウム塩は、アンモニアが酸と反応してなるアンモニウム塩であり、ここで酸としては、前記アミン化合物由来のアンモニウム塩の場合と同じものが例示できる。
前記アンモニア由来のアンモニウム塩としては、塩化アンモニウム等が例示できるが、これに限定されない。
(Ammonium salt derived from ammonia)
In the present invention, the ammonium salt derived from ammonia is an ammonium salt formed by reacting ammonia with an acid, and examples of the acid include the same ones as in the case of the ammonium salt derived from the amine compound.
Examples of the ammonium salt derived from ammonia include ammonium chloride, but are not limited thereto.

本発明においては、前記アミン化合物、第4級アンモニウム塩、アミン化合物由来のアンモニウム塩及びアンモニア由来のアンモニウム塩は、それぞれ一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
そして、前記含窒素化合物としては、前記アミン化合物、第4級アンモニウム塩、アミン化合物由来のアンモニウム塩及びアンモニア由来のアンモニウム塩からなる群から選択される一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
In the present invention, the amine compound, the quaternary ammonium salt, the ammonium salt derived from the amine compound and the ammonium salt derived from ammonia may be used singly or in combination of two or more. . When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.
And as said nitrogen-containing compound, you may use individually by 1 type selected from the group which consists of said amine compound, quaternary ammonium salt, ammonium salt derived from an amine compound, and ammonium salt derived from ammonia, More than one species may be used in combination. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

銀インク組成物において、前記含窒素化合物の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.3〜15モルであることが好ましく、0.3〜5モルであることがより好ましい。前記含窒素化合物の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物は安定性がより向上し、導電体(金属銀)の品質がより向上する。さらに、高温による加熱処理を行わなくても、より安定して導電体を形成できる。   In the silver ink composition, the compounding amount of the nitrogen-containing compound is preferably 0.3 to 15 mol, more preferably 0.3 to 5 mol, per mol of the metal silver forming material. preferable. When the blending amount of the nitrogen-containing compound is within such a range, the silver ink composition is further improved in stability and the quality of the conductor (metal silver) is further improved. Furthermore, the conductor can be formed more stably without performing heat treatment at a high temperature.

[還元剤]
前記銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料以外に、さらに還元剤が配合されてなるものでもよい。還元剤を配合することで、前記銀インク組成物は、金属銀をより形成し易くなり、例えば、加熱処理なし、又は低温での加熱処理でも、十分な導電性を有する導電体(金属銀)を形成できる。
[Reducing agent]
In addition to the metallic silver forming material, the silver ink composition may further contain a reducing agent. By blending a reducing agent, the silver ink composition can more easily form metallic silver. For example, a conductor (metal silver) having sufficient conductivity even without heat treatment or heat treatment at a low temperature. Can be formed.

前記還元剤は、シュウ酸、ヒドラジン及び下記一般式(5)で表される化合物(以下、「化合物(5)」と略記することがある)からなる群から選択される一種以上の還元性化合物(以下、単に「還元性化合物」と略記することがある)であることが好ましい。
H−C(=O)−R21 ・・・・(5)
(式中、R21は、炭素数20以下のアルキル基、アルコキシ基若しくはN,N−ジアルキルアミノ基、水酸基又はアミノ基である。)
The reducing agent is one or more reducing compounds selected from the group consisting of oxalic acid, hydrazine and a compound represented by the following general formula (5) (hereinafter sometimes abbreviated as “compound (5)”). (Hereinafter, sometimes simply abbreviated as “reducing compound”).
HC (= O) -R 21 (5)
(In the formula, R 21 represents an alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group, an N, N-dialkylamino group, a hydroxyl group, or an amino group.)

(還元性化合物)
前記還元性化合物は、シュウ酸(HOOC−COOH)、ヒドラジン(HN−NH)及び前記一般式(5)で表される化合物(化合物(5))からなる群から選択される一種以上のものである。すなわち、配合される還元性化合物は、一種のみでよいし、二種以上でもよく、二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
(Reducing compounds)
The reducing compound is one or more selected from the group consisting of oxalic acid (HOOC-COOH), hydrazine (H 2 N—NH 2 ) and the compound represented by the general formula (5) (compound (5)). belongs to. That is, the reducing compound to be blended may be only one kind, or two or more kinds. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

21における炭素数20以下のアルキル基は、炭素数が1〜20であり、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、前記一般式(1)のRにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。 The alkyl group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 1 to 20 carbon atoms, and may be linear, branched or cyclic, and is the same as the alkyl group in R of the general formula (1) The thing can be illustrated.

21における炭素数20以下のアルコキシ基は、炭素数が1〜20であり、R21における前記アルキル基が酸素原子に結合してなる一価の基が例示できる。 The alkoxy group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include monovalent groups in which the alkyl group in R 21 is bonded to an oxygen atom.

21における炭素数20以下のN,N−ジアルキルアミノ基は、炭素数が2〜20であり、窒素原子に結合している2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよく、該アルキル基はそれぞれ炭素数が1〜19である。ただし、これら2個のアルキル基の炭素数の合計値が2〜20である。
窒素原子に結合している前記アルキル基は、それぞれ直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、炭素数が1〜19である点以外は、前記一般式(1)のRにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。
The N, N-dialkylamino group having 20 or less carbon atoms in R 21 has 2 to 20 carbon atoms, and the two alkyl groups bonded to the nitrogen atom may be the same as or different from each other, Each alkyl group has 1 to 19 carbon atoms. However, the total value of the carbon number of these two alkyl groups is 2-20.
The alkyl group bonded to the nitrogen atom may be linear, branched or cyclic, respectively, and the alkyl in R of the general formula (1) except that it has 1 to 19 carbon atoms. The thing similar to group can be illustrated.

前記還元性化合物として、ヒドラジンは、一水和物(HN−NH・HO)を用いてもよい。 As the reducing compound, hydrazine may be a monohydrate (H 2 N—NH 2 .H 2 O).

前記還元性化合物で好ましいものとしては、ギ酸(H−C(=O)−OH);ギ酸メチル(H−C(=O)−OCH)、ギ酸エチル(H−C(=O)−OCHCH)、ギ酸ブチル(H−C(=O)−O(CHCH)等のギ酸エステル;プロパナール(H−C(=O)−CHCH)、ブタナール(H−C(=O)−(CHCH)、ヘキサナール(H−C(=O)−(CHCH)等のアルデヒド;ホルムアミド(H−C(=O)−NH)、N,N−ジメチルホルムアミド(H−C(=O)−N(CH)等のホルムアミド類(式「H−C(=O)−N(−)−」で表される基を有する化合物);シュウ酸が例示できる。 Preferred examples of the reducing compound include formic acid (HC (═O) —OH); methyl formate (HC (═O) —OCH 3 ), ethyl formate (HC (═O) —OCH). Formic acid esters such as 2 CH 3 ) and butyl formate (HC (═O) —O (CH 2 ) 3 CH 3 ); propanal (HC (═O) —CH 2 CH 3 ), butanal (H Aldehydes such as —C (═O) — (CH 2 ) 2 CH 3 ) and hexanal (HC— (O) — (CH 2 ) 4 CH 3 ); formamide (HC— (O) —NH 2 ), N, N-dimethylformamide (HC (═O) —N (CH 3 ) 2 ) and other formamides (groups represented by the formula “HC (═O) —N (—) —”) And oxalic acid.

銀インク組成物において、還元剤の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.04〜3.5モルであることが好ましく、0.06〜2.5モルであることがより好ましい。還元剤の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物は、より容易に、より安定して導電体(金属銀)を形成できる。   In the silver ink composition, the compounding amount of the reducing agent is preferably 0.04 to 3.5 mol, and preferably 0.06 to 2.5 mol per 1 mol of the metal silver forming material. Is more preferable. When the blending amount of the reducing agent is within such a range, the silver ink composition can form a conductor (metal silver) more easily and more stably.

[アルコール]
前記銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料以外に、さらにアルコールが配合されてなるものでもよい。
[alcohol]
The silver ink composition may further contain an alcohol in addition to the metal silver forming material.

前記アルコールは、下記一般式(2)で表されるアセチレンアルコール類(以下、「アセチレンアルコール(2)」と略記することがある)であることが好ましい。   The alcohol is preferably an acetylene alcohol represented by the following general formula (2) (hereinafter sometimes abbreviated as “acetylene alcohol (2)”).

(式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。) (In the formula, R ′ and R ″ are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.)

(アセチレンアルコール(2))
アセチレンアルコール(2)は、前記一般式(2)で表される。
式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。
R’及びR’’における炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。R’及びR’’における前記アルキル基としては、Rにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。
(Acetylene alcohol (2))
The acetylene alcohol (2) is represented by the general formula (2).
In the formula, R ′ and R ″ are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R ′ and R ″ may be linear, branched or cyclic, and when it is cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. Examples of the alkyl group in R ′ and R ″ include the same alkyl groups as in R.

R’及びR’’におけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基としては、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、シアノ基、フェノキシ基等が例示でき、Rにおけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基と同様である。そして、置換基の数及び位置は特に限定されず、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。   Examples of the substituent in which the hydrogen atom of the phenyl group in R ′ and R ″ may be substituted include a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, the aliphatic carbonization Examples thereof include a monovalent group formed by bonding a hydrogen group to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a phenoxy group, and the like, and the hydrogen atom of the phenyl group in R may be substituted. This is the same as the substituent. And the number and position of a substituent are not specifically limited, When there are two or more substituents, these several substituents may mutually be same or different.

R’及びR’’は、炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましい。   R ′ and R ″ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

好ましいアセチレンアルコール(2)としては、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オールが例示できる。   Examples of preferable acetylene alcohol (2) include 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 3-methyl-1-butyn-3-ol, and 3-methyl-1-pentyn-3-ol.

アセチレンアルコール(2)を用いる場合、銀インク組成物において、アセチレンアルコール(2)の配合量は、前記金属銀の形成材料の配合量1モルあたり0.03〜0.7モルであることが好ましく、0.05〜0.3モルであることがより好ましい。アセチレンアルコール(2)の前記配合量がこのような範囲であることで、銀インク組成物の安定性がより向上する。   When acetylene alcohol (2) is used, the amount of acetylene alcohol (2) in the silver ink composition is preferably 0.03 to 0.7 mole per mole of the metal silver forming material. 0.05 to 0.3 mol is more preferable. When the blending amount of acetylene alcohol (2) is within such a range, the stability of the silver ink composition is further improved.

前記アルコールは、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   The said alcohol may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

[その他の成分]
前記銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物、還元剤及びアルコール以外の、その他の成分が配合されてなるものでもよい。
銀インク組成物における前記その他の成分は、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されず、好ましいものとしては、アルコール以外の溶媒が例示でき、配合成分の種類や量に応じて任意に選択できる。
銀インク組成物における前記その他の成分は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
[Other ingredients]
The silver ink composition may contain other components other than the metal silver forming material, nitrogen-containing compound, reducing agent and alcohol.
The other components in the silver ink composition can be arbitrarily selected according to the purpose, and are not particularly limited. Preferred examples thereof include solvents other than alcohol, and can be arbitrarily selected according to the type and amount of compounding components. it can.
One of these other components in the silver ink composition may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物、並びに還元剤及びアルコールのいずれか一方又は両方が配合されてなるものが好ましく、前記カルボン酸銀、含窒素化合物、並びに還元剤及びアルコールのいずれか一方又は両方が配合されてなるものがより好ましい。   The silver ink composition preferably contains one or both of the metal silver forming material, the nitrogen-containing compound, and the reducing agent and alcohol. The silver carboxylate, the nitrogen-containing compound, and the reducing agent and More preferably, one or both of alcohols are blended.

銀インク組成物において、配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、0質量、すなわちその他の成分を配合しなくても、銀インク組成物は十分にその効果を発現する。   In the silver ink composition, the ratio of the blending amount of the other components to the total amount of the blending components is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and 0 mass, ie other components. Even if it is not added, the silver ink composition exhibits its effect sufficiently.

銀インク組成物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部又は全ての成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。   In the silver ink composition, all the compounding components may be dissolved, or some or all of the components may be dispersed without dissolving, but it is preferable that all the compounding components are dissolved. The undissolved component is preferably dispersed uniformly.

[銀インク組成物の製造方法]
銀インク組成物は、前記金属銀の形成材料、及び前記金属銀の形成材料以外の成分を配合することで得られる。各成分の配合後は、得られたものをそのまま銀インク組成物としてもよいし、必要に応じて引き続き公知の精製操作を行って得られたものを銀インク組成物としてもよい。本発明においては、特に前記金属銀の形成材料としてβ−ケトカルボン酸銀(1)を用いた場合、上記の各成分の配合時において、導電性を阻害する不純物が生成しないか、又はこのような不純物の生成量を極めて少量に抑制できるため、精製操作を行っていない銀インク組成物を用いても、十分な導電性を有する導電体(金属銀)が得られる。
[Method for producing silver ink composition]
The silver ink composition is obtained by blending components other than the metallic silver forming material and the metallic silver forming material. After the blending of each component, the resulting product may be used as it is as a silver ink composition, or a product obtained by performing a known purification operation as necessary may be used as a silver ink composition. In the present invention, in particular, when β-ketocarboxylate (1) is used as the material for forming the metal silver, impurities that impede conductivity are not generated at the time of blending the above components, or such Since the generation amount of impurities can be suppressed to a very small amount, a conductor (metal silver) having sufficient conductivity can be obtained even if a silver ink composition that has not been subjected to a purification operation is used.

各成分の配合時には、すべての成分を添加してからこれらを混合してもよいし、一部の成分を順次添加しながら混合してもよく、すべての成分を順次添加しながら混合してもよい。ただし、本発明においては、前記還元剤は滴下により配合することが好ましく、さらに滴下速度の変動を抑制することで、金属銀の表面粗さをより低減できる傾向にある。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサー、三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を使用して混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
銀インク組成物において、溶解していない成分を均一に分散させる場合には、例えば、上記の三本ロール、ニーダー又はビーズミル等を用いて分散させる方法を適用するのが好ましい。
At the time of blending each component, all the components may be added and then mixed, or some components may be mixed while being added sequentially, or all components may be mixed while being added sequentially. Good. However, in this invention, it is preferable to mix | blend the said reducing agent by dripping, and exists in the tendency which can further reduce the surface roughness of metal silver by suppressing the fluctuation | variation of dripping speed | rate.
The mixing method is not particularly limited, a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer, a three-roller, a kneader, a bead mill or the like; a method of mixing by adding ultrasonic waves, etc. What is necessary is just to select suitably from a well-known method.
In the silver ink composition, when the undissolved component is uniformly dispersed, for example, a method of dispersing using the above-described three rolls, kneader, bead mill or the like is preferably applied.

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜60℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間も、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、10分〜36時間であることが好ましい。
The temperature at the time of blending is not particularly limited as long as each blending component does not deteriorate, but is preferably −5 to 60 ° C. And the temperature at the time of mixing | blending is good to adjust suitably so that the mixture obtained by mix | blending may become the viscosity which is easy to stir according to the kind and quantity of a mixing | blending component.
Further, the blending time is not particularly limited as long as each blending component does not deteriorate, but it is preferably 10 minutes to 36 hours.

[二酸化炭素]
銀インク組成物は、さらに二酸化炭素が供給されてなるものでもよい。このような銀インク組成物は高粘度となり、例えば、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法等の、インクを厚盛りすることが必要な印刷法への適用に好適である。
[carbon dioxide]
The silver ink composition may be further supplied with carbon dioxide. Such a silver ink composition has a high viscosity. For example, a flexographic printing method, a screen printing method, a gravure printing method, a gravure offset printing method, a pad printing method, etc. Suitable for application.

二酸化炭素は、銀インク組成物製造時のいずれの時期に供給してもよい。
そして、本発明においては、例えば、前記金属銀の形成材料及び含窒素化合物が配合されてなる第一の混合物に、二酸化炭素を供給して第二の混合物とし、必要に応じて前記第二の混合物に、さらに、前記還元剤を配合して、銀インク組成物を製造することが好ましい。また、前記アルコール又はその他の成分を配合する場合、これらは、第一の混合物及び第二の混合物のいずれか一方又は両方の製造時に配合でき、目的に応じて任意に選択できる。
Carbon dioxide may be supplied at any time during the production of the silver ink composition.
In the present invention, for example, carbon dioxide is supplied to the first mixture in which the metal silver forming material and the nitrogen-containing compound are blended to form a second mixture, and if necessary, the second mixture It is preferable that a silver ink composition is produced by further blending the reducing agent with the mixture. Moreover, when mix | blending the said alcohol or another component, these can be mix | blended at the time of manufacture of any one or both of a 1st mixture and a 2nd mixture, and can be arbitrarily selected according to the objective.

前記第一の混合物は、配合成分が異なる点以外は、上記の銀インク組成物と同様の方法で製造できる。   The first mixture can be produced by the same method as the above silver ink composition except that the blending components are different.

第一の混合物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部の成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。   The first mixture may have all of the compounding components dissolved, or may be in a state of being dispersed without dissolving some of the components, but preferably all of the compounding components are dissolved and dissolved. It is preferable that the components not dispersed are uniformly dispersed.

第一の混合物製造時の配合温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜30℃であることが好ましい。また、配合時間は、配合成分の種類や配合時の温度に応じて適宜調節すればよいが、例えば、0.5〜12時間であることが好ましい。   Although the compounding temperature at the time of manufacture of a 1st mixture is not specifically limited unless each compounding component deteriorates, it is preferable that it is -5-30 degreeC. Moreover, what is necessary is just to adjust a compounding time suitably according to the kind of compounding component, and the temperature at the time of a compounding, For example, it is preferable that it is 0.5 to 12 hours.

第一の混合物に供給される二酸化炭素(CO)は、ガス状及び固形状(ドライアイス)のいずれでもよく、ガス状及び固形状の両方でもよい。二酸化炭素が供給されることにより、この二酸化炭素が第一の混合物に溶け込み、第一の混合物中の成分に作用することで、得られる第二の混合物の粘度が上昇すると推測される。 Carbon dioxide (CO 2 ) supplied to the first mixture may be either gaseous or solid (dry ice), or both gaseous and solid. By supplying carbon dioxide, it is estimated that this carbon dioxide dissolves in the first mixture and acts on the components in the first mixture, thereby increasing the viscosity of the obtained second mixture.

二酸化炭素ガスの供給は、液体中にガスを吹き込む公知の各種方法で行えばよく、適した供給方法を適宜選択すればよい。例えば、配管の一端を第一の混合物中に浸漬し、他端を二酸化炭素ガスの供給源に接続して、この配管を通じて二酸化炭素ガスを第一の混合物に供給する方法が例示できる。この時、配管の端部から直接二酸化炭素ガスを供給してもよいが、例えば、多孔質性のものなど、ガスの流路となり得る空隙部が多数設けられ、導入されたガスを拡散させて微小な気泡として放出することが可能なガス拡散部材を配管の端部に接続し、このガス拡散部材を介して二酸化炭素ガスを供給してもよい。また、第一の混合物の製造時と同様の方法で、第一の混合物を撹拌しながら二酸化炭素ガスを供給してもよい。このようにすることで、効率的に二酸化炭素を供給できる。   Carbon dioxide gas may be supplied by various known methods of blowing gas into the liquid, and a suitable supply method may be selected as appropriate. For example, a method in which one end of a pipe is immersed in the first mixture, the other end is connected to a carbon dioxide gas supply source, and the carbon dioxide gas is supplied to the first mixture through the pipe. At this time, the carbon dioxide gas may be supplied directly from the end of the pipe. For example, a plurality of voids that can serve as gas flow paths, such as a porous one, are provided to diffuse the introduced gas. A gas diffusion member that can be discharged as minute bubbles may be connected to the end of the pipe, and the carbon dioxide gas may be supplied through the gas diffusion member. Moreover, you may supply a carbon dioxide gas, stirring the 1st mixture by the method similar to the time of manufacture of a 1st mixture. By doing in this way, carbon dioxide can be supplied efficiently.

二酸化炭素ガスの供給量は、供給先の第一の混合物の量や、目的とする銀インク組成物又は第二の混合物の粘度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。例えば、20〜25℃における粘度が5Pa・s以上である銀インク組成物を100〜1000g程度得るためには、二酸化炭素ガスを100L以上供給することが好ましく、200L以上供給することがより好ましい。なお、ここでは銀インク組成物の20〜25℃における粘度について説明したが、銀インク組成物の使用時の温度は、20〜25℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。   The supply amount of the carbon dioxide gas is not particularly limited as long as it is appropriately adjusted according to the amount of the first mixture at the supply destination and the viscosity of the target silver ink composition or the second mixture. For example, in order to obtain about 100 to 1000 g of a silver ink composition having a viscosity at 20 to 25 ° C. of 5 Pa · s or more, it is preferable to supply 100 L or more of carbon dioxide gas, and more preferably 200 L or more. In addition, although the viscosity at 20-25 degreeC of a silver ink composition was demonstrated here, the temperature at the time of use of a silver ink composition is not limited to 20-25 degreeC, It can select arbitrarily.

二酸化炭素ガスの流量は、必要とされる二酸化炭素ガスの供給量を考慮して適宜調節すればよいが、第一の混合物1gあたり0.5mL/分以上であることが好ましく、1mL/分以上であることがより好ましい。流量の上限値は特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると、混合物1gあたり40mL/分であることが好ましい。
そして、二酸化炭素ガスの供給時間は、必要とされる二酸化炭素ガスの供給量や、流量を考慮して適宜調節すればよい。
The flow rate of carbon dioxide gas may be appropriately adjusted in consideration of the required supply amount of carbon dioxide gas, but is preferably 0.5 mL / min or more per 1 g of the first mixture, and is 1 mL / min or more. It is more preferable that The upper limit value of the flow rate is not particularly limited, but is preferably 40 mL / min per 1 g of the mixture in consideration of handling properties and the like.
The carbon dioxide gas supply time may be appropriately adjusted in consideration of the required supply amount and flow rate of carbon dioxide gas.

二酸化炭素ガス供給時の第一の混合物の温度は、5〜70℃であることが好ましく、7〜60℃であることがより好ましく、10〜50℃であることが特に好ましい。前記温度が前記下限値以上であることで、より効率的に二酸化炭素を供給でき、前記温度が前記上限値以下であることで、不純物が少ないより良好な品質の銀インク組成物が得られる。   The temperature of the first mixture at the time of supplying carbon dioxide gas is preferably 5 to 70 ° C, more preferably 7 to 60 ° C, and particularly preferably 10 to 50 ° C. When the temperature is equal to or higher than the lower limit value, carbon dioxide can be supplied more efficiently, and when the temperature is equal to or lower than the upper limit value, a silver ink composition having better quality with fewer impurities can be obtained.

二酸化炭素ガスの流量及び供給時間、並びに二酸化炭素ガス供給時の前記温度は、それぞれの値を相互に考慮しながら適した範囲に調節すればよい。例えば、前記温度を低めに設定しても、二酸化炭素ガスの流量を多めに設定するか、二酸化炭素ガスの供給時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に二酸化炭素を供給できる。また、二酸化炭素ガスの流量を少なめに設定しても、前記温度を高めにするか、二酸化炭素ガスの供給時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に二酸化炭素を供給できる。すなわち、二酸化炭素ガスの流量、二酸化炭素ガス供給時の前記温度として例示した上記数値範囲の中の数値を、二酸化炭素ガスの供給時間も考慮しつつ柔軟に組み合わせることで、良好な品質の銀インク組成物が効率的に得られる。   The flow rate and supply time of the carbon dioxide gas, and the temperature at the time of supplying the carbon dioxide gas may be adjusted to a suitable range while considering each value. For example, even if the temperature is set lower, the carbon dioxide gas flow rate is set higher, the carbon dioxide gas supply time is set longer, or both are performed efficiently. Can supply carbon. Moreover, even if the flow rate of carbon dioxide gas is set to a small value, the carbon dioxide gas can be efficiently produced by increasing the temperature, setting the carbon dioxide gas supply time longer, or both. Can supply. That is, a silver ink of good quality can be obtained by flexibly combining the numerical values in the above numerical range exemplified as the flow rate of carbon dioxide gas and the temperature at the time of carbon dioxide gas supply while considering the supply time of carbon dioxide gas. A composition is obtained efficiently.

二酸化炭素ガスの供給は、第一の混合物を撹拌しながら行うことが好ましい。このようにすることで、供給した二酸化炭素ガスがより均一に第一の混合物中に拡散し、より効率的に二酸化炭素を供給できる。
この時の撹拌方法は、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物の製造時における前記混合方法の場合と同様でよい。
The carbon dioxide gas is preferably supplied while stirring the first mixture. By doing in this way, the supplied carbon dioxide gas diffuses more uniformly in the first mixture, and carbon dioxide can be supplied more efficiently.
The stirring method at this time may be the same as in the case of the mixing method at the time of producing the above silver ink composition not using carbon dioxide.

ドライアイス(固形状二酸化炭素)の供給は、第一の混合物中にドライアイスを添加することで行えばよい。ドライアイスは、全量を一括して添加してもよいし、分割して段階的に(添加を行わない時間帯を挟んで連続的に)添加してもよい。
ドライアイスの使用量は、上記の二酸化炭素ガスの供給量を考慮して調節すればよい。
ドライアイスの添加中及び添加後は、第一の混合物を撹拌することが好ましく、例えば、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物の製造時と同様の方法で撹拌することが好ましい。このようにすることで、効率的に二酸化炭素を供給できる。
撹拌時の温度は、二酸化炭素ガス供給時と同様でよい。また、撹拌時間は、撹拌温度に応じて適宜調節すればよい。
The supply of dry ice (solid carbon dioxide) may be performed by adding dry ice to the first mixture. The total amount of dry ice may be added all at once, or may be added stepwise (continuously across a time zone during which no addition is performed).
What is necessary is just to adjust the usage-amount of dry ice in consideration of the supply amount of said carbon dioxide gas.
During and after the addition of dry ice, the first mixture is preferably stirred. For example, the first mixture is preferably stirred in the same manner as in the production of the above silver ink composition without using carbon dioxide. By doing in this way, carbon dioxide can be supplied efficiently.
The temperature at the time of stirring may be the same as that at the time of supplying carbon dioxide gas. Moreover, what is necessary is just to adjust stirring time suitably according to stirring temperature.

第二の混合物の粘度は、銀インク組成物又は第二の混合物の取り扱い方法など、目的に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。例えば、銀インク組成物をスクリーン印刷法、フレキソ印刷法等の高粘度インクを使用する印刷法へ適用する場合には、第二の混合物の20〜25℃における粘度は、3Pa・s以上であることが好ましい。なお、ここでは第二の混合物の20〜25℃における粘度について説明したが、第二の混合物の使用時の温度は、20〜25℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。   The viscosity of the second mixture may be appropriately adjusted depending on the purpose, such as a silver ink composition or a method of handling the second mixture, and is not particularly limited. For example, when the silver ink composition is applied to a printing method using a high viscosity ink such as a screen printing method or a flexographic printing method, the viscosity of the second mixture at 20 to 25 ° C. is 3 Pa · s or more. It is preferable. In addition, although the viscosity at 20-25 degreeC of the 2nd mixture was demonstrated here, the temperature at the time of use of a 2nd mixture is not limited to 20-25 degreeC, It can select arbitrarily.

前記第二の混合物には、さらに、必要に応じて前記還元剤、アルコール及びその他の成分からなる群から選択される一種以上を配合して、銀インク組成物とすることができる。
このときの銀インク組成物は、配合成分が異なる点以外は、二酸化炭素を用いない上記の銀インク組成物と同様の方法で製造できる。そして、得られた銀インク組成物は、配合成分がすべて溶解していてもよいし、一部の成分が溶解せずに分散した状態であってもよいが、配合成分がすべて溶解していることが好ましく、溶解していない成分は均一に分散していることが好ましい。
If necessary, the second mixture may be further blended with one or more selected from the group consisting of the reducing agent, alcohol and other components to form a silver ink composition.
The silver ink composition at this time can be manufactured by the same method as the above silver ink composition not using carbon dioxide except that the blending components are different. The obtained silver ink composition may have all of the compounding components dissolved therein or may be in a state where some of the components are dispersed without dissolving, but all of the compounding components are dissolved. Preferably, the undissolved component is preferably dispersed uniformly.

前記還元剤配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜60℃であることが好ましい。そして、配合時の温度は、配合成分の種類及び量に応じて、配合して得られた混合物が撹拌し易い粘度となるように、適宜調節するとよい。
また、配合時間は、配合成分の種類や配合時の温度に応じて適宜調節すればよいが、例えば、0.5〜12時間であることが好ましい。
The temperature at the time of blending the reducing agent is not particularly limited as long as each blended component does not deteriorate, but is preferably −5 to 60 ° C. And the temperature at the time of mixing | blending is good to adjust suitably so that the mixture obtained by mix | blending may become the viscosity which is easy to stir according to the kind and quantity of a mixing | blending component.
Moreover, what is necessary is just to adjust a compounding time suitably according to the kind of compounding component, and the temperature at the time of a compounding, For example, it is preferable that it is 0.5 to 12 hours.

前記その他の成分は、先に説明したように、前記第一の混合物及び第二の混合物のいずれかの製造時に配合されてもよく、両方の製造時に配合されてもよい。すなわち、第一の混合物及び第二の混合物を経て銀インク組成物を製造する過程において、二酸化炭素以外の配合成分の総量に対する前記その他の成分の配合量の割合([その他の成分(質量)]/[金属銀の形成材料、含窒素化合物、還元剤、アルコール、及びその他の成分(質量)]×100)は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、0質量、すなわちその他の成分を配合しなくても、銀インク組成物は十分にその効果を発現する。   As described above, the other components may be blended during the production of either the first mixture or the second mixture, or may be blended during the production of both. That is, in the process of producing the silver ink composition through the first mixture and the second mixture, the ratio of the blended amount of the other components to the total amount of blended components other than carbon dioxide ([other components (mass)] / [Formation material of metallic silver, nitrogen-containing compound, reducing agent, alcohol, and other components (mass)] × 100) is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less. , 0 mass, that is, the silver ink composition exhibits its effect sufficiently even if other components are not blended.

二酸化炭素が供給されてなる銀インク組成物は、例えば、銀インク組成物をスクリーン印刷法、フレキソ印刷法等の高粘度インクを使用する印刷法へ適用する場合には、20〜25℃における粘度が、1Pa・s以上であることが好ましい。   The silver ink composition to which carbon dioxide is supplied is, for example, a viscosity at 20 to 25 ° C. when the silver ink composition is applied to a printing method using a high viscosity ink such as a screen printing method or a flexographic printing method. Is preferably 1 Pa · s or more.

例えば、還元剤の配合時には、得られる配合物(銀インク組成物)は比較的発熱し易い。そして、還元剤の配合時の温度が高い場合、この配合物は、後述する銀インク組成物の加熱処理時と同様の状態になるため、還元剤による前記金属銀の形成材料の分解促進作用によって、金属銀の形成材料の少なくとも一部において金属銀の形成が開始されることがあると推測される。このような金属銀を含有する銀インク組成物は、導電体形成時において、金属銀を含有しない銀インク組成物よりも温和な条件で後処理を行うことにより、導電体を形成できることがある。また、還元剤の配合量が十分に多い場合にも、同様に温和な条件で後処理を行うことにより、導電体を形成できることがある。このように、金属銀の形成材料の分解を促進する条件を採用することで、後処理として、より低温での加熱処理で、あるいは加熱処理を行わずに常温での乾燥処理のみで、導電体を形成できることがある。また、このような金属銀を含有する銀インク組成物は、金属銀を含有しない銀インク組成物と同様に取り扱うことができ、特に取り扱い性が劣ることもない。   For example, when a reducing agent is blended, the resulting blend (silver ink composition) tends to generate heat relatively easily. And when the temperature at the time of mixing | blending of a reducing agent is high, since this compounding will be in the state similar to the time of the heat processing of the silver ink composition mentioned later, by the decomposition | disassembly acceleration | stimulation effect | action of the said metal silver formation material by a reducing agent It is presumed that the formation of metal silver may be started in at least a part of the metal silver forming material. A silver ink composition containing such metallic silver may be able to form a conductor by performing post-treatment under milder conditions than the silver ink composition not containing metallic silver at the time of forming the conductor. Further, even when the amount of the reducing agent is sufficiently large, the conductor may be formed by performing the post-treatment under the same mild conditions. In this way, by adopting conditions that promote the decomposition of the metal silver forming material, the conductor can be used as a post-treatment, either by a heat treatment at a lower temperature or by a drying treatment at normal temperature without performing the heat treatment. Can be formed. Moreover, the silver ink composition containing such metal silver can be handled in the same manner as the silver ink composition not containing metal silver, and the handleability is not particularly inferior.

なお、本発明における第二の混合物は、上記のように二酸化炭素の供給によって、粘度が通常よりも高い。一方で、第二の混合物への還元剤の配合時には、第二の混合物又は還元剤の種類によっては、上記のように前記金属銀の形成材料の少なくとも一部において金属銀の形成が開始され、金属銀が析出することがある。ここで、第二の混合物の粘度が高い場合には、析出した金属銀の凝集が抑制され、得られた銀インク組成物中での金属銀の分散性が向上する。このような銀インク組成物を用いて、後述する方法で金属銀を形成して得られた導電体は、粘度が低い、すなわち二酸化炭素が供給されていない混合物に還元剤が配合されて得られた銀インク組成物を用いた場合の導電体よりも、導電性が高く(体積抵抗率が低く)、表面粗さも小さくなり、より好ましい特性を有するものとなる。   The second mixture in the present invention has a higher viscosity than usual due to the supply of carbon dioxide as described above. On the other hand, when the reducing agent is blended into the second mixture, depending on the type of the second mixture or the reducing agent, formation of metallic silver is started in at least part of the metallic silver forming material as described above. Metallic silver may precipitate. Here, when the viscosity of the second mixture is high, the aggregation of the precipitated metallic silver is suppressed, and the dispersibility of the metallic silver in the obtained silver ink composition is improved. A conductor obtained by forming metallic silver by a method described later using such a silver ink composition is obtained by blending a reducing agent in a mixture having a low viscosity, that is, carbon dioxide is not supplied. In addition, it has higher electrical conductivity (lower volume resistivity), lower surface roughness, and more favorable characteristics than a conductor using a silver ink composition.

また、本発明においては、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物及びアルコールが配合されてなる混合物に、二酸化炭素を供給して、銀インク組成物を製造することも好ましい。この場合、二酸化炭素の供給方法としては、上記と同様の方法が採用できる。   In the present invention, it is also preferable to produce a silver ink composition by supplying carbon dioxide to a mixture comprising the metallic silver forming material, nitrogen-containing compound and alcohol. In this case, a method similar to the above can be adopted as a method for supplying carbon dioxide.

[濃縮]
銀インク組成物は、さらにその製造過程のいずれかの時期において濃縮されてなるものでもよい。このような銀インク組成物は、上述の二酸化炭素が供給されてなるものと同様に高粘度となり、例えば、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法等の、インクを厚盛りすることが必要な印刷法への適用に好適である。
[concentrated]
The silver ink composition may be further concentrated at any stage during the production process. Such a silver ink composition has a high viscosity similar to that supplied with carbon dioxide as described above, such as flexographic printing, screen printing, gravure printing, gravure offset printing, pad printing, etc. It is suitable for application to printing methods that require thick ink.

濃縮は、銀インク組成物製造時のいずれの時期に行ってもよい。例えば、すべての成分を配合した後の混合物を濃縮してもよいし、一部の成分が配合されていない段階での混合物を濃縮してもよい。
そして、本発明においては、例えば、前記金属銀の形成材料、含窒素化合物及びアルコールが配合されてなる混合物を濃縮して、銀インク組成物を製造することが好ましい。前記金属銀の形成材料、含窒素化合物及びアルコール以外の成分(例えば、還元剤、前記その他の成分等)を用いる場合、これら成分は、それぞれ独立に濃縮の前後のいずれで配合されてもよい。
Concentration may be performed at any time during the production of the silver ink composition. For example, the mixture after blending all the components may be concentrated, or the mixture at a stage where some of the components are not blended may be concentrated.
In the present invention, for example, it is preferable to produce a silver ink composition by concentrating a mixture containing the metallic silver forming material, nitrogen-containing compound and alcohol. When components other than the metal silver forming material, nitrogen-containing compound and alcohol (for example, reducing agent, other components, etc.) are used, these components may be blended independently before and after concentration.

このように、製造過程において濃縮されてなる銀インク組成物は、例えば、20℃における粘度が、好ましくは100mPa・s以上、より好ましくは120mPa・s以上であり、好ましくは500mPa・s以下、より好ましくは450mPa・s以下であると好適である。前記粘度がこのような範囲であることで、銀インク組成物は印刷への適用により適したものとなる。なお、ここでは銀インク組成物の20℃における粘度について説明したが、銀インク組成物の使用時の温度は、20℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。   Thus, the silver ink composition concentrated in the production process has, for example, a viscosity at 20 ° C. of preferably 100 mPa · s or more, more preferably 120 mPa · s or more, and preferably 500 mPa · s or less. Preferably it is 450 mPa · s or less. When the viscosity is in such a range, the silver ink composition is more suitable for application to printing. Although the viscosity at 20 ° C. of the silver ink composition has been described here, the temperature at the time of use of the silver ink composition is not limited to 20 ° C. and can be arbitrarily selected.

濃縮方法は公知の方法から適宜選択すればよく、好ましい方法としては、常圧下での加熱濃縮、常温下又は加熱条件下での減圧濃縮が例示できる。なかでも、常温下又は加熱条件下での減圧濃縮が好ましい。   The concentration method may be appropriately selected from known methods, and preferred methods include heat concentration under normal pressure, and vacuum concentration under normal temperature or under heating conditions. Among these, vacuum concentration under normal temperature or heating conditions is preferable.

温度、時間、圧力等の濃縮条件は、前記混合物の配合成分や量に応じて適宜調節すればよい。例えば、濃縮時の温度は、18℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましく、23℃以上であることが特に好ましい。濃縮時の温度の下限値がこのような範囲であることで、銀インク組成物がより効率的に得られる。また、濃縮時の温度は、70℃以下であることが好ましく、60℃以下であることがより好ましく、50℃以下であることが特に好ましい。濃縮時の温度の上限値がこのような範囲であることで、不純物が少ないより良好な品質の銀インク組成物が得られる。   The concentration conditions such as temperature, time, and pressure may be adjusted as appropriate according to the blending components and amount of the mixture. For example, the temperature during concentration is preferably 18 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, and particularly preferably 23 ° C. or higher. A silver ink composition is more efficiently obtained because the lower limit of the temperature at the time of concentration is in such a range. The temperature during concentration is preferably 70 ° C. or less, more preferably 60 ° C. or less, and particularly preferably 50 ° C. or less. When the upper limit value of the temperature at the time of concentration is in such a range, a silver ink composition having better quality with fewer impurities can be obtained.

濃縮時間は、10分以上であることが好ましく、15分以上であることがより好ましく、20分以上であることが特に好ましい。濃縮時間の下限値がこのような範囲であることで、より高い粘度の銀インク組成物が得られる。また、濃縮時間は、180分以下であることが好ましく、120分以下であることがより好ましく、90分以下であることが特に好ましい。濃縮時間の上限値がこのような範囲であることで、不純物が少ないより良好な品質の銀インク組成物がより効率的に得られる。   The concentration time is preferably 10 minutes or more, more preferably 15 minutes or more, and particularly preferably 20 minutes or more. When the lower limit value of the concentration time is in such a range, a silver ink composition having a higher viscosity can be obtained. Further, the concentration time is preferably 180 minutes or less, more preferably 120 minutes or less, and particularly preferably 90 minutes or less. When the upper limit value of the concentration time is in such a range, a silver ink composition having better quality with fewer impurities can be obtained more efficiently.

濃縮時の圧力は、500hPa(ヘクトパスカル)以下であることが好ましく、300hPa以下であることがより好ましく、150hPa以下であることがさらに好ましく、100hPa以下であることが特に好ましい。濃縮時の圧力の上限値がこのような範囲であることで、不純物が少ないより良好な品質の銀インク組成物がより効率的に得られる。また、濃縮時の圧力の下限値は特に限定されない。   The pressure during concentration is preferably 500 hPa (hectopascal) or less, more preferably 300 hPa or less, further preferably 150 hPa or less, and particularly preferably 100 hPa or less. When the upper limit value of the pressure during concentration is in such a range, a silver ink composition having better quality with fewer impurities can be obtained more efficiently. Moreover, the lower limit of the pressure at the time of concentration is not specifically limited.

濃縮時の温度、濃縮時間、濃縮時の圧力は、それぞれの値を相互に考慮しながら適した範囲に調節すればよい。例えば、濃縮時の温度を低めに設定しても、濃縮時の圧力を低めに設定するか、濃縮時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に前記混合物を濃縮できる。また、濃縮時の圧力を高めに設定しても、濃縮時の温度を高めにするか、濃縮時間を長めに設定することで、あるいはこの両方を行うことで、効率的に前記混合物を濃縮できる。すなわち、濃縮時の温度、濃縮時間、濃縮時の圧力として例示した上記数値範囲の中の数値を、相互の値を考慮しつつ柔軟に組み合わせることで、良好な品質の銀インク組成物が効率的に得られる。   The temperature at the time of concentration, the concentration time, and the pressure at the time of concentration may be adjusted to a suitable range while taking each value into consideration. For example, even if the temperature during concentration is set low, the mixture is efficiently concentrated by setting the pressure during concentration low, setting the concentration time long, or both. it can. In addition, even if the pressure during concentration is set high, the mixture can be efficiently concentrated by increasing the temperature during concentration, or by setting the concentration time longer, or both. . In other words, a silver ink composition of good quality can be efficiently obtained by flexibly combining the numerical values in the above numerical ranges, which are exemplified as the temperature during concentration, the concentration time, and the pressure during concentration, while considering each other's values. Is obtained.

前記混合物は、撹拌しながら濃縮することが好ましい。このようにすることで、濃縮時の混合物をより均一にすることができ、例えば、一部の成分が溶解していなくてもより均一に分散させることができるので、濃縮工程をより安定して行うことができる。その結果、最終的な濃縮物(すなわち、銀インク組成物)の品質がより良好となる。
この時の撹拌方法は、上記の銀インク組成物の製造時と同様でよく、また、混合物を収容した容器が回転等の運動が可能であれば、この容器を運動させて混合物を撹拌してもよい。
The mixture is preferably concentrated with stirring. By doing so, the mixture at the time of concentration can be made more uniform, for example, even if some components are not dissolved, it can be more uniformly dispersed, so the concentration process can be made more stable. It can be carried out. As a result, the quality of the final concentrate (ie, silver ink composition) is better.
The stirring method at this time may be the same as in the production of the silver ink composition, and if the container containing the mixture is capable of rotating or rotating, the container is moved to stir the mixture. Also good.

ここまでは、銀インク組成物について主に説明したが、本工程で用いるインク組成物は、例えば、20〜25℃における粘度が、0.5〜50000mPa・sであることが好ましく、0.5〜10000mPa・sであることがより好ましく、2000〜5000mPa・sであることが特に好ましい。ただし、インク組成物の使用時の温度は、20〜25℃に限定されるものではなく、任意に選択できる。   Up to this point, the silver ink composition has been mainly described. However, the ink composition used in this step preferably has a viscosity at 20 to 25 ° C. of 0.5 to 50000 mPa · s, for example, 0.5 More preferably, it is -10000 mPa * s, and it is especially preferable that it is 2000-5000 mPa * s. However, the temperature when the ink composition is used is not limited to 20 to 25 ° C., and can be arbitrarily selected.

<導電パターン形成工程>
本発明に係る形成方法では、次いで、図2(c)に示すように、第一パターン11上に第二パターン12を形成して、第一パターン11及び第二パターン12が積層されてなる導電パターン1を形成する(以下、本工程を「導電パターン形成工程」と略記することがある)。
<Conductive pattern formation process>
In the formation method according to the present invention, as shown in FIG. 2C, the second pattern 12 is then formed on the first pattern 11, and the first pattern 11 and the second pattern 12 are laminated. Pattern 1 is formed (hereinafter, this process may be abbreviated as “conductive pattern formation process”).

本工程では、導電体を形成するためのインク組成物をさらに第一パターン11(第一パターン11の表面11a)上に印刷し、この印刷した前記インク組成物を固化させることにより、第一パターン11上に第二パターン12を形成して、導電パターン1を形成する。   In this step, an ink composition for forming a conductor is further printed on the first pattern 11 (the surface 11a of the first pattern 11), and the printed ink composition is solidified to form the first pattern. The second pattern 12 is formed on the conductive pattern 1 to form the conductive pattern 1.

本工程で用いるインク組成物は、導電体を形成するためのものであり、導電体の形成材料が配合されてなり、第二パターン12の形成条件(導電体を形成する条件)で気化して、このインク組成物から除かれる揮発性成分の配合量の割合が、配合成分の総量に対して20質量%以上、好ましくは23質量%以上のものである。このように、本工程においては、揮発性成分の配合量の割合が高いインク組成物を用いる。
また、前記インク組成物は、溶液及び分散液のいずれでもよいが、分散液である場合には、非溶解物が均一に分散されたものが好ましい。
The ink composition used in this step is for forming a conductor, is formed by blending a conductor forming material, and is vaporized under the conditions for forming the second pattern 12 (conditions for forming a conductor). The proportion of the volatile component to be removed from the ink composition is 20% by mass or more, preferably 23% by mass or more, based on the total amount of the compounding components. Thus, in this step, an ink composition having a high proportion of volatile components is used.
The ink composition may be either a solution or a dispersion, but in the case of a dispersion, it is preferable that the non-dissolved material is uniformly dispersed.

本工程で印刷した前記インク組成物は、固化させる過程で揮発性成分が除かれて導電体である第二パターン12を形成する。また、第一パターン11の形成時に、導電体の形成までを行わなかった場合には、本工程では第二パターン12と同時に第一パターン11でも導電体を形成する。すなわち、本工程で導電体を形成するのは、第二パターン12のみでもよいし、第一パターン11及び第二パターン12の両方でもよい。   In the ink composition printed in this step, the volatile component is removed during the solidification process to form the second pattern 12 that is a conductor. In addition, when the formation of the first pattern 11 is not performed until the formation of the conductor, the conductor is formed in the first pattern 11 simultaneously with the second pattern 12 in this step. That is, only the second pattern 12 may be formed in this step, or both the first pattern 11 and the second pattern 12 may be formed.

本工程で用いるインク組成物は、第一パターン11の形成に用いたものと同じでも、異なっていてもよいが、配合されている導電体の形成材料が第一パターン11の形成に用いたものと同じであることが好ましく、第一パターン11の形成に用いたインク組成物と同じであることがより好ましい。このように、第一パターン11の形成に用いたものと類似の組成又は同一の組成のインク組成物を用いることで、導電パターン1の断線を抑制するより高い効果が得られる。   The ink composition used in this step may be the same as or different from the one used for forming the first pattern 11, but the material used to form the first pattern 11 is a blended conductor forming material. The same as the ink composition used for forming the first pattern 11 is more preferable. Thus, by using an ink composition having a composition similar to or the same as that used for forming the first pattern 11, a higher effect of suppressing disconnection of the conductive pattern 1 can be obtained.

前記揮発性成分は、特に限定されず、例えば、前記銀インク組成物の配合成分として例示したものの中では、前記含窒素化合物、還元剤、アルコール、アルコール以外の溶媒が例示できる。   The volatile component is not particularly limited. For example, among the compounds exemplified as the compounding component of the silver ink composition, the nitrogen-containing compound, the reducing agent, alcohol, and a solvent other than alcohol can be exemplified.

本工程では、前記インク組成物を第一パターン11上の所望の箇所に付着させ、加熱(焼成)処理を行うことで、第二パターン12を形成すればよい。   In this step, the second pattern 12 may be formed by attaching the ink composition to a desired location on the first pattern 11 and performing a heating (firing) treatment.

本工程におけるインク組成物の印刷方法は、特に限定されず、受容層用組成物の場合と同様でよく、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディップ式印刷法、インクジェット式印刷法、ディスペンサー式印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、パッド印刷法、スプレー印刷法等が例示できる。   The printing method of the ink composition in this step is not particularly limited, and may be the same as in the case of the composition for the receiving layer. Screen printing method, flexographic printing method, offset printing method, dip printing method, inkjet printing method, Examples thereof include a dispenser printing method, a gravure printing method, a gravure offset printing method, a pad printing method, and a spray printing method.

印刷したインク組成物は固化させるが、このときの固化させる条件は、第一パターン11上に第二パターン12を形成して、これらの積層物を導電パターンとする、すなわち、インク組成物から導電体を形成する条件であればよい。   The printed ink composition is solidified, and the condition for solidification at this time is that the second pattern 12 is formed on the first pattern 11 to make these laminates conductive patterns, that is, the ink composition is conductive from the ink composition. What is necessary is just the conditions which form a body.

本工程において、インク組成物の固化は、第一パターン形成工程と同様に、短時間で行うという観点では、加熱処理により行うことが好ましい。   In this step, the ink composition is preferably solidified by heat treatment from the viewpoint of performing in a short time as in the first pattern forming step.

本工程における前記加熱処理時の温度(加熱温度)は、導電体が良好に形成されるように、インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよいが、60〜200℃であることが好ましく、70〜180℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、1分〜12時間であることが好ましく、1分〜10時間であることがより好ましい。このような加熱処理時の条件は、インク組成物として前記銀インク組成物を用いた場合に、特に好適である。そして、前記金属銀の形成材料の中でも前記カルボン酸銀、特にβ−ケトカルボン酸銀(1)は、例えば、酸化銀等の金属銀の形成材料とは異なり、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、低温で分解する。そして、このような分解温度を反映して、このような金属銀の形成材料を用いた銀インク組成物は、従来のものより極めて低温で金属銀を形成できる。   The temperature (heating temperature) at the time of the heat treatment in this step may be appropriately adjusted according to the type of the composition component of the ink composition so that the conductor is formed satisfactorily, but is 60 to 200 ° C. It is preferable that it is 70-180 degreeC. Moreover, what is necessary is just to adjust a heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that it is 1 minute-12 hours, and it is more preferable that it is 1 minute-10 hours. Such heat treatment conditions are particularly suitable when the silver ink composition is used as the ink composition. Among the silver metal forming materials, the silver carboxylate, particularly β-ketocarboxylate silver (1) is different from the metal silver forming material such as silver oxide. Decomposes at low temperatures even when not in use. And reflecting such decomposition temperature, the silver ink composition using such a metallic silver forming material can form metallic silver at a temperature much lower than that of the conventional one.

インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、加熱温度は130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。   When the ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and is heated (baked), the heating temperature is preferably less than 130 ° C, more preferably 125 ° C or less, and 120 ° C or less. It is particularly preferred.

本工程におけるインク組成物の加熱処理の方法は、特に限定されず、例えば、電気炉による加熱、感熱方式の熱ヘッドによる加熱、遠赤外線照射による加熱、高熱ガスの吹き付けによる加熱等で行うことができる。また、インク組成物の加熱処理は、大気下で行ってもよいし、不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、加湿条件下で行ってもよい。そして、常圧下、減圧下及び加圧下のいずれで行ってもよい。   The method of heat treatment of the ink composition in this step is not particularly limited, and for example, heating by an electric furnace, heating by a thermal head, heating by far infrared irradiation, heating by blowing a hot gas, etc. it can. In addition, the heat treatment of the ink composition may be performed in the air, in an inert gas atmosphere, or may be performed under humidified conditions. And you may carry out under any of normal pressure, pressure reduction, and pressurization.

本明細書において「加湿」とは、特に断りのない限り、湿度を人為的に増大させることを意味し、好ましくは相対湿度を5%以上とすることである。加熱処理時には、処理温度が高いことによって、処理環境での湿度が極めて低くなるため、5%という相対湿度は、明らかに人為的に増大されたものであるといえる。   In the present specification, “humidification” means that the humidity is artificially increased unless otherwise specified, and preferably the relative humidity is 5% or more. At the time of heat treatment, since the humidity in the treatment environment becomes extremely low due to the high treatment temperature, it can be said that the relative humidity of 5% is clearly artificially increased.

なかでも、本工程(第二パターン12の形成時)においては、インク組成物の加熱処理を加湿条件下で行うことが好ましく、相対湿度40%以上の雰囲気下で行うことがより好ましく、相対湿度60%以上の雰囲気下で行うことがさらに好ましく、相対湿度80%以上の雰囲気下で行うことが特に好ましく、100℃以上に加熱した高圧水蒸気の吹き付けにより行ってもよい。このように加湿条件下で加熱処理することにより、短時間で抵抗値が低い(導電性に優れた)導電パターン1を形成できる。   Among these, in this step (when the second pattern 12 is formed), the heat treatment of the ink composition is preferably performed under humidified conditions, more preferably in an atmosphere with a relative humidity of 40% or more, and relative humidity. More preferably, it is carried out in an atmosphere of 60% or higher, particularly preferably in an atmosphere of relative humidity of 80% or higher, and may be carried out by spraying high-pressure steam heated to 100 ° C. or higher. Thus, the heat processing under humidification conditions can form the conductive pattern 1 having a low resistance value (excellent conductivity) in a short time.

本工程(第二パターン12の形成時)におけるインク組成物の固化は、まず、導電体の形成までは行わずにインク組成物の乾燥を行うのにとどめ、次いで導電体の形成までを行う、二段階の処理で行ってもよい。例えば、インク組成物の乾燥を行うのにとどめる一段階目の加熱処理は、上述の第一パターン11の形成時と同様の条件で行うことができる。また、導電体の形成までを行う二段階目の加熱処理は、本工程での第二パターン12の形成時の条件として挙げた上述の条件で行うことができる。このように二段階で固化させることにより、第一パターン11と第二パターン12との親和性を向上させることができる。   Solidification of the ink composition in this step (during formation of the second pattern 12) is performed by first drying the ink composition without performing formation of the conductor, and then performing formation of the conductor. A two-stage process may be performed. For example, the first-stage heat treatment for drying the ink composition can be performed under the same conditions as those for forming the first pattern 11 described above. Further, the second-stage heat treatment up to the formation of the conductor can be performed under the above-described conditions cited as the conditions for forming the second pattern 12 in this step. Thus, by making it solidify in two steps, the affinity of the 1st pattern 11 and the 2nd pattern 12 can be improved.

本工程(第二パターン12の形成時)におけるインク組成物の固化を、上述のように二段階の処理で行う場合、以下のような条件で行ってもよい。
すなわち、第一パターン11上に印刷したインク組成物の一段階目の加熱処理において、加熱温度は、60〜155℃であることが好ましく、70〜155℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、5秒〜12時間であることが好ましく、30秒〜2時間であることがより好ましい。
第一パターン11上に印刷したインク組成物の二段階目の加熱処理において、加熱温度は、60〜200℃であることが好ましく、70〜180℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、5秒〜12時間であることが好ましく、30秒〜10時間であることがより好ましい。
このように二段階で固化させることにより、第一パターン11と第二パターン12との親和性をより向上させることが可能となることがある。
When solidifying the ink composition in this step (at the time of forming the second pattern 12) is performed in a two-step process as described above, it may be performed under the following conditions.
That is, in the first-stage heat treatment of the ink composition printed on the first pattern 11, the heating temperature is preferably 60 to 155 ° C., and more preferably 70 to 155 ° C. Moreover, what is necessary is just to adjust a heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that it is 5 second-12 hours, and it is more preferable that it is 30 second-2 hours.
In the second stage heat treatment of the ink composition printed on the first pattern 11, the heating temperature is preferably 60 to 200 ° C, more preferably 70 to 180 ° C. Moreover, what is necessary is just to adjust a heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that they are 5 second-12 hours, and it is more preferable that they are 30 seconds-10 hours.
By solidifying in two stages in this way, it may be possible to further improve the affinity between the first pattern 11 and the second pattern 12.

インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、一段階目及び二段階目の加熱処理における加熱温度は、130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。   When the ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and is heated (baked), the heating temperature in the first and second stage heat treatment is preferably less than 130 ° C., and 125 ° C. It is more preferable that the temperature is 120 ° C. or less.

加湿条件下での加熱処理を採用する場合、インク組成物の加熱処理は、一段階目の加熱処理において、非加湿条件下で、上述のように導電体の形成ではなくインク組成物の乾燥を主に行い、二段階目の加熱処理において、加湿条件下で、上述のように導電体の形成を最後まで行う、二段階の方法で行うことが特に好ましい。
なお、本明細書において「非加湿」とは、上述の「加湿」を行わないこと、すなわち、湿度を人為的に増大させないことを意味し、好ましくは相対湿度を5%未満とすることである。
When heat treatment under humidified conditions is employed, the ink composition is heat-treated in the first stage of heat treatment under non-humidified conditions, as described above, rather than forming the conductor as described above. It is particularly preferable that the second-stage heat treatment is performed by a two-stage method in which the formation of the conductor is performed to the end as described above under humidified conditions.
In the present specification, “non-humidification” means that the above “humidification” is not performed, that is, the humidity is not artificially increased, and preferably the relative humidity is less than 5%. .

上述の加熱処理を二段階の方法で行う場合、一段階目の非加湿条件下での加熱処理時の加熱温度は、60〜110℃であることが好ましく、70〜90℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、5秒〜3時間であることが好ましく、30秒〜2時間であることがより好ましく、30秒〜1時間であることが特に好ましい。
上述の加熱処理を二段階の方法で行う場合、二段階目の加湿条件下での加熱処理時の加熱温度は、60〜155℃であることが好ましく、70〜155℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、1分〜2時間であることが好ましく、1分〜1時間であることがより好ましく、1分〜30分であることが特に好ましい。
インク組成物を耐熱性が低い基材に付着させて加熱(焼成)処理する場合には、一段階目の非加湿条件下での加熱処理及び二段階目の加湿条件下での加熱処理における加熱温度は、いずれも130℃未満であることが好ましく、125℃以下であることがより好ましく、120℃以下であることが特に好ましい。
When performing the above-mentioned heat treatment by a two-stage method, the heating temperature during the heat treatment under non-humidifying conditions in the first stage is preferably 60 to 110 ° C, more preferably 70 to 90 ° C. preferable. The heating time is preferably 5 seconds to 3 hours, more preferably 30 seconds to 2 hours, and particularly preferably 30 seconds to 1 hour.
When performing the above-mentioned heat treatment by a two-stage method, the heating temperature during the heat treatment under the second-stage humidification condition is preferably 60 to 155 ° C, more preferably 70 to 155 ° C. . The heating time is preferably 1 minute to 2 hours, more preferably 1 minute to 1 hour, and particularly preferably 1 minute to 30 minutes.
When the ink composition is attached to a substrate having low heat resistance and is heated (baked), the heating in the first stage of the non-humidifying condition and the heating in the second stage of the humidifying condition are performed. All of the temperatures are preferably less than 130 ° C, more preferably 125 ° C or less, and particularly preferably 120 ° C or less.

本発明においては、第一パターン11及び第二パターン12を積層して導電パターン1を形成する過程において、第二パターン12の形成に用いたインク組成物の固化に伴う、このインク組成物(第二パターン12を形成するインク組成物)からの前記揮発性成分の除去量は、第一パターン11の形成に用いたインク組成物の固化に伴う、このインク組成物(第一パターン11を形成するインク組成物)からの前記揮発性成分の除去量よりも多くなる。   In the present invention, in the process of forming the conductive pattern 1 by laminating the first pattern 11 and the second pattern 12, this ink composition (the first composition associated with the solidification of the ink composition used for forming the second pattern 12). The amount of the volatile component removed from the ink composition forming the two patterns 12 is determined by the solidification of the ink composition used for forming the first pattern 11 to form the ink composition (first pattern 11). The amount of the volatile component removed from the ink composition).

本工程で形成される第二パターン12は、上述のように厚さが厚く、導電パターン1も厚いものとすることができる。このように導電パターン1は厚い場合であっても、断線の発生が抑制される。これは、第二パターン12が第一パターン11上に積層されていることで、本工程でインク組成物の固化によって揮発性成分が除去されても、第一パターン11との相互作用によって、第二パターン12の体積の収縮が抑制されるためであると推測される。また、第二パターン12にクラック等が発生したとしても、第一パターン11に元々断線が生じていないため、結果として導電パターン1は断線しない。   The second pattern 12 formed in this step is thick as described above, and the conductive pattern 1 can also be thick. Thus, even if the conductive pattern 1 is thick, the occurrence of disconnection is suppressed. This is because the second pattern 12 is laminated on the first pattern 11, and even if the volatile component is removed by solidification of the ink composition in this step, It is estimated that this is because the shrinkage of the volume of the two patterns 12 is suppressed. Even if a crack or the like occurs in the second pattern 12, the first pattern 11 does not originally have a disconnection, and as a result, the conductive pattern 1 does not disconnect.

また、導電パターン1は、その厚さによらず、第一パターン11及び第二パターン12の積層構造を有していることにより、同程度の厚さの単層構造の導電パターンよりも、断線の発生が顕著に抑制される。   In addition, the conductive pattern 1 has a laminated structure of the first pattern 11 and the second pattern 12 regardless of the thickness thereof, so that it is more disconnected than a single-layered conductive pattern having the same thickness. Is significantly suppressed.

導電パターン付き基材1’として、基材2上に受容層3及び導電パターン1以外のその他の層が設けられたものを製造する場合には、上記の形成方法において、所定のタイミングでその他の層を形成する工程を適宜追加すればよい。   When manufacturing what provided other layers other than the receiving layer 3 and the conductive pattern 1 on the base material 2 as base material 1 'with a conductive pattern, in said formation method, other things are carried out at predetermined timing. What is necessary is just to add the process of forming a layer suitably.

本発明に係る導電パターンは、導電性配線として有用であり、導電パターン付き基材は、各種電子機器の回路基板等の構成要素として極めて有用である。   The conductive pattern according to the present invention is useful as a conductive wiring, and the base material with a conductive pattern is extremely useful as a component of circuit boards and the like of various electronic devices.

以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

[実施例1]
<導電パターンの形成>
(銀インク組成物の製造)
液温が50℃以下となるように、ビーカー中で2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して0.4倍モル量)に2−メチルアセト酢酸銀を添加して、メカニカルスターラーを用いて15分間撹拌することにより、液状物を得た。この液状物に、反応液の温度が50℃以下となるように、シリンジポンプを用いてギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.7倍モル量)を30分間かけて滴下した。ギ酸の滴下終了後、25℃にて反応液をさらに1時間撹拌することにより、銀インク組成物を得た。各配合成分の種類と配合比を表1に示す。表1中、「含窒素化合物(モル比)」とは、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりの含窒素化合物の配合量(モル数)([含窒素化合物のモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。「還元剤(モル比)」も同様に、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりの還元剤の配合量(モル数)([還元剤のモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。これは、以降の同様の表においても同様である。
なお、得られた銀インク組成物の上記の配合成分のうち、後述する第二パターンの形成条件で気化して除かれる揮発性成分は、2−エチルヘキシルアミン及びギ酸であり、これらの総配合量の割合は、配合成分の総量(すべての配合成分の総配合量)に対して27.3質量%である。
[Example 1]
<Formation of conductive pattern>
(Manufacture of silver ink composition)
Add 2-methyl acetoacetate silver to 2-ethylhexylamine (0.4 times molar amount with respect to 2-methylacetoacetate silver described later) in a beaker so that the liquid temperature is 50 ° C. or less. The mixture was stirred for 15 minutes to obtain a liquid material. To this liquid, formic acid (0.7-fold molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate) was added dropwise over 30 minutes using a syringe pump so that the temperature of the reaction solution was 50 ° C. or lower. After the formic acid was dropped, the reaction solution was further stirred at 25 ° C. for 1 hour to obtain a silver ink composition. Table 1 shows the types and blending ratios of each blending component. In Table 1, “nitrogen-containing compound (molar ratio)” means the compounding amount (number of moles) of nitrogen-containing compound per mol of compounding material of the metallic silver ([number of moles of nitrogen-containing compound] / [metal The number of moles of silver forming material]). Similarly, the “reducing agent (molar ratio)” is the amount (mole number) of the reducing agent per mole of the metal silver forming material ([mole number of reducing agent] / [mole of metal silver forming material). Number]). The same applies to the following similar tables.
Of the above-described blending components of the obtained silver ink composition, volatile components that are vaporized and removed under the formation conditions of the second pattern described later are 2-ethylhexylamine and formic acid, and their total blending amount The ratio is 27.3 mass% with respect to the total amount of the blending components (total blending amount of all the blending components).

(受容層用組成物の製造)
表2に示す配合量となるように、紫外線硬化性のポリカーボネート骨格含有ウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製「UV−3310B」、重量平均分子量13000)に、シクロヘキサノン(和光純薬社製)、及び光重合開始剤(BASFジャパン社製「イルガキュア127」)を添加し、50℃で2時間撹拌して、受容層用組成物を調製した。なお、表2中において質量%単位で表示している配合量は、配合成分の総量に対する各配合成分の割合を意味する。
(Production of composition for receiving layer)
UV curable polycarbonate skeleton-containing urethane acrylate ("UV-3310B" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., weight average molecular weight 13000), cyclohexanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and A photopolymerization initiator (“Irgacure 127” manufactured by BASF Japan) was added and stirred at 50 ° C. for 2 hours to prepare a composition for a receiving layer. In addition, the compounding quantity currently displayed by the mass% unit in Table 2 means the ratio of each compounding component with respect to the total amount of a compounding component.

(導電パターンの形成)
バーコーター(バーNo.010)を用いて、上記で得られた受容層用組成物をポリカーボネート/ABS樹脂アロイからなる基材(厚さ2mm)の一方の主面(表面)上に塗布し、オーブン内で80℃、5分間の条件で乾燥させた後、オゾンレス高圧水銀ランプを用いて、乾燥させた塗膜に対して、800mJ/cmの光量で紫外線を照射し、前記ポリカーボネート骨格含有ウレタンアクリレートを硬化させて、基材表面の全面に受容層(厚さ3μm以下)を形成した。
(Formation of conductive pattern)
Using a bar coater (bar No. 010), the composition for the receiving layer obtained above was applied on one main surface (surface) of a substrate (thickness 2 mm) made of polycarbonate / ABS resin alloy, After drying in an oven at 80 ° C. for 5 minutes, an ozone-less high-pressure mercury lamp is used to irradiate the dried coating film with ultraviolet light at a light intensity of 800 mJ / cm 2 , and the polycarbonate skeleton-containing urethane The acrylate was cured to form a receiving layer (thickness 3 μm or less) on the entire surface of the substrate.

次いで、上記で得られた銀インク組成物を用いて、受容層上にディスペンサ印刷を行った。このとき、吐出圧力を70kPa、吐出口と受容層表面との間の距離(ギャップ)を0.05mmとした。そして、印刷を行った基材をオーブン内に置いて80℃で30分間加熱処理することにより、揮発性成分を除去して銀インク組成物を固化させて、受容層上に第一パターンを形成した。
さらに、形成した第一パターン上に重ねるようにして、上記で得られた銀インク組成物を用いて、ディスペンサ印刷を行った。このとき、吐出圧力を150kPa、吐出口と受容層表面との間の距離(ギャップ)を0.25mmとした。そして、この印刷を行った基材をオーブン内に置いて80℃で30分間加熱処理することにより、銀インク組成物から揮発性成分を除去した。次いで、この基材をさらに80℃、相対湿度99%の高温高湿槽内に2分間置いて加熱処理することで、第一パターン上に第二パターンが積層された導電パターンを形成した。
Next, dispenser printing was performed on the receiving layer using the silver ink composition obtained above. At this time, the discharge pressure was 70 kPa, and the distance (gap) between the discharge port and the receiving layer surface was 0.05 mm. Then, the printed substrate is placed in an oven and heated at 80 ° C. for 30 minutes to remove volatile components and solidify the silver ink composition to form a first pattern on the receiving layer. did.
Furthermore, dispenser printing was performed using the silver ink composition obtained above so as to overlap the formed first pattern. At this time, the discharge pressure was 150 kPa, and the distance (gap) between the discharge port and the receiving layer surface was 0.25 mm. And the volatile component was removed from the silver ink composition by putting the base material which performed this printing in oven, and heat-processing at 80 degreeC for 30 minute (s). Next, this base material was further heat-treated for 2 minutes in a high-temperature and high-humidity tank having a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 99%, thereby forming a conductive pattern in which the second pattern was laminated on the first pattern.

<導電パターンの評価>
(第一パターン及び第二パターンの厚さの測定)
得られた導電パターンについて、形状測定レーザマイクロスコープ(キーエンス社製「VKX−100」)を用いて、第一パターン及び第二パターンの厚さを測定した。測定は、導電パターンの5ヶ所で行い、その平均値を算出した。結果を表3に示す。
<Evaluation of conductive pattern>
(Measurement of the thickness of the first pattern and the second pattern)
About the obtained conductive pattern, the thickness of the 1st pattern and the 2nd pattern was measured using the shape measurement laser microscope ("VKX-100" by Keyence Corporation). The measurement was performed at five locations on the conductive pattern, and the average value was calculated. The results are shown in Table 3.

(導電パターンの断線有無の確認)
得られた導電パターンにおける断線の有無を目視観察により確認した。結果を表3に示す。また、得られた導電パターンの撮像データを図3に示す。図3中、(a)が本実施例の導電パターンの撮像データである。さらに、導電パターンの断面の、電界放出型走査電子顕微鏡(FE−SEM:JSM−7500F、JEOL)による撮像データを図4に示す。図4には、加速電圧5kVでの倍率が500倍のデータに加えて、さらに20000倍の拡大データもあわせて示している。
(Confirmation of disconnection of conductive pattern)
The presence or absence of disconnection in the obtained conductive pattern was confirmed by visual observation. The results are shown in Table 3. Moreover, the imaging data of the obtained conductive pattern are shown in FIG. In FIG. 3, (a) is the imaging data of the conductive pattern of the present embodiment. Further, FIG. 4 shows imaging data of a cross section of the conductive pattern by a field emission scanning electron microscope (FE-SEM: JSM-7500F, JEOL). FIG. 4 also shows enlarged data of 20000 times in addition to data of 500 times magnification at an acceleration voltage of 5 kV.

(導電パターンの体積抵抗率の測定)
得られた導電パターンについて、線抵抗値R(Ω)、断面積A(cm)、及び線長L(cm)を測定し、式「ρ=R×A/L」により、体積抵抗率ρ(μΩ・cm)を算出した。なお、線抵抗値Rはデジタルマルチメータ(三和電気計器社製「PC5000a」)を用いて測定し、断面積Aは形状測定レーザマイクロスコープ(キーエンス社製「VK−X100」)を用いて測定した。結果を表3に示す。
(Measurement of volume resistivity of conductive pattern)
For the obtained conductive pattern, the line resistance value R (Ω), the cross-sectional area A (cm 2 ), and the line length L (cm) were measured, and the volume resistivity ρ was calculated by the equation “ρ = R × A / L”. (ΜΩ · cm) was calculated. The wire resistance value R is measured using a digital multimeter ("PC5000a" manufactured by Sanwa Denki Keiki Co., Ltd.), and the cross-sectional area A is measured using a shape measurement laser microscope ("VK-X100" manufactured by Keyence Corporation). did. The results are shown in Table 3.

[実施例2]
導電パターンの形成時において、第一パターン上に印刷を行った銀インク組成物の揮発性成分除去後の基材の加熱処理を、80℃、相対湿度99%の高温高湿槽内に基材を2分間置いて行うのに代えて、基材の印刷面に350mm×525mmの面積あたり15.7kg/時間の条件で120℃の高圧水蒸気を2分間吹き付けることで行った点以外は、実施例1と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表3に示す。
[Example 2]
During the formation of the conductive pattern, the base material after the removal of the volatile component of the silver ink composition printed on the first pattern is heated in a high-temperature and high-humidity tank at 80 ° C. and a relative humidity of 99%. Example 2 was conducted except that the high-pressure steam at 120 ° C. was sprayed for 2 minutes under the condition of 15.7 kg / hour per area of 350 mm × 525 mm on the printed surface of the substrate instead of performing for 2 minutes. The conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in 1. The results are shown in Table 3.

[実施例3]
導電パターンの形成時において、120℃の高圧水蒸気を吹き付ける時間を2分間に代えて5分間とした点以外は、実施例2と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表3に示す。
[Example 3]
At the time of forming the conductive pattern, the conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the time for spraying high-pressure water vapor at 120 ° C. was changed to 5 minutes instead of 2 minutes. The results are shown in Table 3.

[実施例4]
導電パターンの形成時において、第一パターン上に印刷を行った銀インク組成物の揮発性成分除去後の基材の加熱処理を、80℃、相対湿度99%の高温高湿槽内に基材を置いて行うのに代えて、調湿を行っていないオーブン内に基材を置いて120℃で30分間加熱処理することで行った点以外は、実施例1と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表3に示す。
[Example 4]
During the formation of the conductive pattern, the base material after the removal of the volatile component of the silver ink composition printed on the first pattern is heated in a high-temperature and high-humidity tank at 80 ° C. and a relative humidity of 99%. The conductive pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the substrate was placed in an oven that was not humidity-controlled and heat-treated at 120 ° C. for 30 minutes. evaluated. The results are shown in Table 3.

[実施例5]
導電パターンの形成時において、調湿を行っていないオーブン内に基材を置いて30分間加熱処理するときの温度を、120℃に代えて80℃とした点以外は、実施例4と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表3に示す。
[Example 5]
In the same manner as in Example 4 except that, when the conductive pattern is formed, the temperature when the substrate is placed in an oven that is not humidity-controlled and heat-treated for 30 minutes is set to 80 ° C. instead of 120 ° C. A conductive pattern was formed and evaluated. The results are shown in Table 3.

[比較例1]
基材の受容層上に第一パターンを形成しなかった(すなわち、基材の受容層上に銀インク組成物を用いて第二パターンのみ形成して導電パターンを形成した)点以外は、実施例1と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表3に示す。また、得られた導電パターンの撮像データを図3に示す。図3中、(b)が本比較例の導電パターンの撮像データである。
[Comparative Example 1]
Except that the first pattern was not formed on the receiving layer of the substrate (that is, only the second pattern was formed on the receiving layer of the substrate using the silver ink composition to form a conductive pattern). A conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3. Moreover, the imaging data of the obtained conductive pattern are shown in FIG. In FIG. 3, (b) is the imaging data of the conductive pattern of this comparative example.

上記結果から明らかなように、実施例1〜5では、いずれも導電パターンは厚く形成したにもかかわらず、体積収縮が抑制されており、断線は発生しておらず、体積抵抗率が低かった。導電パターンに体積収縮に伴う断線がないことは、図3(a)(実施例1)にも示すとおりであり、これは実施例2〜5でも同様であった。また、特に実施例1〜3から明らかなように、第一パターン上に印刷を行った銀インク組成物の揮発性成分除去後の加熱処理において、加熱温度が高いほど、また加熱処理時間が長いほど、導電パターンの体積抵抗率が低い傾向が見られた。これは、加熱の度合いが高まることで、銀インク組成物における金属銀の形成反応がより高率で進行すると共に、形成された金属銀同志の融着度が高まるためであると推測される。また、実施例1〜3と実施例4〜5との比較から明らかなように、加湿条件下で加熱処理することで、短時間で体積抵抗率(抵抗値)が低い導電パターンを形成できた。なお、図4に示すように、実施例1の導電パターンの断面においては、第一パターン及び第二パターンの界面Zを確認できた。これは実施例2〜5でも同様であった。
これに対して、比較例1では、導電パターンを単層で厚く形成したことにより、図3(b)に示すように、導電パターンは体積収縮の度合いが大きく、断線が発生し、体積抵抗率を測定できなかった。比較例1の導電パターンが実施例1の導電パターンよりも体積収縮の度合いが大きいことは、図3(a)及び(b)の比較から明らかである。
As is clear from the above results, in Examples 1 to 5, although the conductive pattern was formed thick, volume shrinkage was suppressed, no disconnection occurred, and the volume resistivity was low. . As shown in FIG. 3A (Example 1), the conductive pattern has no disconnection due to volume shrinkage, and this was the same in Examples 2 to 5. Further, as is clear from Examples 1 to 3, in the heat treatment after removing the volatile component of the silver ink composition printed on the first pattern, the higher the heating temperature, the longer the heat treatment time. There was a tendency that the volume resistivity of the conductive pattern was low. This is presumed to be due to the fact that the formation of metal silver in the silver ink composition proceeds at a higher rate and the degree of fusion between the formed metal silver increases as the degree of heating increases. Further, as is clear from the comparison between Examples 1 to 3 and Examples 4 to 5, a conductive pattern having a low volume resistivity (resistance value) could be formed in a short time by heat treatment under humidified conditions. . As shown in FIG. 4, in the cross section of the conductive pattern of Example 1, the interface Z between the first pattern and the second pattern was confirmed. This was the same in Examples 2 to 5.
On the other hand, in Comparative Example 1, since the conductive pattern was formed as a single layer thickly, as shown in FIG. 3B, the conductive pattern had a large degree of volume shrinkage, a disconnection occurred, and the volume resistivity. Could not be measured. It is clear from the comparison between FIGS. 3A and 3B that the conductive pattern of Comparative Example 1 has a larger volume shrinkage than the conductive pattern of Example 1.

[実施例6]
<導電パターンの形成及び評価>
銀インク組成物製造時の配合成分の配合量を表4に示すとおりとし、第一パターン形成時の銀インク組成物の吐出圧力を70kPaに代えて80kPaとし、第二パターン形成時の銀インク組成物の吐出圧力を150kPaに代えて200kPaとした点以外は、実施例2と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表5に示す。なお、表4中、配合成分の欄の「−」との記載は、その成分が未配合であることを意味する。
[Example 6]
<Formation and evaluation of conductive pattern>
The blending amounts of the blending components at the time of producing the silver ink composition are as shown in Table 4, the discharge pressure of the silver ink composition at the time of forming the first pattern is set to 80 kPa instead of 70 kPa, and the silver ink composition at the time of forming the second pattern A conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the discharge pressure of the object was changed to 200 kPa instead of 150 kPa. The results are shown in Table 5. In Table 4, "-" in the column of the blending component means that the component is not blended.

[実施例7]
<導電パターンの形成>
(銀インク組成物の製造)
液温が50℃以下となるように、ビーカー中で2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して1.3倍モル量)及びイソブチルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して0.2倍モル量)の混合物に2−メチルアセト酢酸銀を添加して、メカニカルスターラーを用いて15分間撹拌することにより、液状物を得た。この液状物に、反応液の温度が50℃以下となるように、シリンジポンプを用いてギ酸(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.4倍モル量)を30分間かけて滴下した。ギ酸の滴下終了後、25℃にて反応液をさらに1時間撹拌した後、25℃を維持したまま、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(エアープロダクツジャパン社製「サーフィノール61」、以下、「DMHO」と略記することがある)(2−メチルアセト酢酸銀に対して0.05倍モル量)を添加し、反応液をさらに約2分間撹拌することにより、銀インク組成物を得た。各配合成分の種類と配合比を表4に示す。表4中、「アルコール(モル比)」とは、金属銀の形成材料の配合量1モルあたりのアルコールの配合量(モル数)([アルコールのモル数]/[金属銀の形成材料のモル数])を意味する。
なお、得られた銀インク組成物の上記の配合成分のうち、第二パターンの形成条件で気化して除かれる揮発性成分は、2−エチルヘキシルアミン、イソブチルアミン、ギ酸及びDMHOであり、これらの総配合量の割合は、配合成分の総量(すべての配合成分の総配合量)に対して48.2質量%である。
[Example 7]
<Formation of conductive pattern>
(Manufacture of silver ink composition)
In a beaker, 2-ethylhexylamine (1.3 times the molar amount relative to 2-methylacetoacetate silver described later) and isobutylamine (based on 2-methylacetoacetate silver described later) so that the liquid temperature becomes 50 ° C. A liquid product was obtained by adding silver 2-methylacetoacetate to a mixture of 0.2 molar amount and stirring for 15 minutes using a mechanical stirrer. To this liquid, formic acid (0.4 times molar amount with respect to silver 2-methylacetoacetate) was added dropwise over 30 minutes using a syringe pump so that the temperature of the reaction solution was 50 ° C. or lower. After completion of the formic acid dropwise addition, the reaction solution was further stirred at 25 ° C. for 1 hour and then maintained at 25 ° C. ”(Hereinafter sometimes abbreviated as“ DMHO ”) (0.05-fold molar amount relative to silver 2-methylacetoacetate), and the reaction solution is further stirred for about 2 minutes, whereby a silver ink composition is obtained. Got. Table 4 shows the types and mixing ratios of the respective components. In Table 4, “alcohol (molar ratio)” means the blending amount (number of moles) of alcohol per mole of forming material of metallic silver ([number of moles of alcohol] / [mol of forming material of metallic silver] Number]).
Of the above-described blended components of the obtained silver ink composition, volatile components that are removed by vaporization under the second pattern formation conditions are 2-ethylhexylamine, isobutylamine, formic acid, and DMHO. The ratio of the total blending amount is 48.2% by mass with respect to the total amount of the blending components (total blending amount of all the blending components).

(導電パターンの形成)
上記で得られた銀インク組成物を用い、第一パターン形成時の銀インク組成物の吐出圧力を70kPaに代えて80kPaとし、第二パターン形成時の銀インク組成物の吐出圧力を150kPaに代えて200kPaとした点以外は、実施例1と同様に導電パターンを形成した。
(Formation of conductive pattern)
Using the silver ink composition obtained above, the discharge pressure of the silver ink composition at the time of forming the first pattern was changed to 80 kPa instead of 70 kPa, and the discharge pressure of the silver ink composition at the time of forming the second pattern was changed to 150 kPa. A conductive pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure was 200 kPa.

<導電パターンの評価>
得られた導電パターンについて、実施例1と同様に評価した。結果を表5に示す。
<Evaluation of conductive pattern>
The obtained conductive pattern was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

[実施例8]
導電パターンの形成時において、第一パターン上に印刷を行った銀インク組成物の揮発性成分除去後の基材の加熱処理を、80℃、相対湿度99%の高温高湿槽内に基材を2分間置いて行うのに代えて、基材の印刷面に350mm×525mmの面積あたり15.7kg/時間の条件で120℃の高圧水蒸気を2分間吹き付けることで行った(実施例2と同じ条件で行った)点以外は、実施例7と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表5に示す。
[Example 8]
During the formation of the conductive pattern, the base material after the removal of the volatile component of the silver ink composition printed on the first pattern is heated in a high-temperature and high-humidity tank at 80 ° C. and a relative humidity of 99%. Was carried out by spraying high-pressure steam at 120 ° C. for 2 minutes under the condition of 15.7 kg / hour per 350 mm × 525 mm area (same as in Example 2). The conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in Example 7 except for the point). The results are shown in Table 5.

[実施例9]
<導電パターンの形成>
(銀インク組成物の製造)
2−エチルヘキシルアミン(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して2.3倍モル量)、及びDMHO(後述する2−メチルアセト酢酸銀に対して0.10倍モル量)をフラスコ内に添加して撹拌し、さらにここへ、液温が50℃以下となるように、2−メチルアセト酢酸銀を添加して撹拌することで、混合物を得た。そして、得られた混合物の全量を、25℃のウオーターバスで温度調節しながら、30hPaの圧力を保ち、60分間減圧濃縮することで、銀インク組成物を得た。各配合成分の種類と配合比を表4に示す。前記混合物から銀インク組成物を得る過程での質量減少率は、10.0%であった。
[Example 9]
<Formation of conductive pattern>
(Manufacture of silver ink composition)
2-Ethylhexylamine (2.3 times mole amount based on 2-methylacetoacetate silver described later) and DMHO (0.10 times mole amount based on silver 2-methylacetoacetate described later) were added to the flask. The mixture was further stirred, and silver 2-methylacetoacetate was added and stirred so that the liquid temperature was 50 ° C. or lower. And the silver ink composition was obtained by maintaining the pressure of 30 hPa, concentrating under reduced pressure for 60 minutes, adjusting the temperature of the whole quantity of the obtained mixture with a 25 degreeC water bath. Table 4 shows the types and mixing ratios of the respective components. The mass reduction rate in the process of obtaining the silver ink composition from the mixture was 10.0%.

(導電パターンの形成)
上記で得られた銀インク組成物を用いた点、及び、導電パターンの形成時において、第一パターン上に印刷を行った銀インク組成物の加熱処理を、80℃で30分間行うのに代えて、150℃で30分間行った点以外は、実施例7と同様に導電パターンを形成した。
(Formation of conductive pattern)
Instead of performing the heat treatment of the silver ink composition printed on the first pattern at 80 ° C. for 30 minutes when using the silver ink composition obtained above and forming the conductive pattern. A conductive pattern was formed in the same manner as in Example 7 except that the process was performed at 150 ° C. for 30 minutes.

<導電パターンの評価>
得られた導電パターンについて、実施例7と同様に評価した。結果を表5に示す。
<Evaluation of conductive pattern>
The obtained conductive pattern was evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 5.

[実施例10]
導電パターンの形成時において、第一パターン上に印刷を行った銀インク組成物の揮発性成分除去後の基材の加熱処理を、80℃、相対湿度99%の高温高湿槽内に基材を2分間置いて行うのに代えて、基材の印刷面に350mm×525mmの面積あたり15.7kg/時間の条件で120℃の高圧水蒸気を5分間吹き付けることで行った(実施例3と同じ条件で行った)点以外は、実施例9と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表5に示す。
[Example 10]
During the formation of the conductive pattern, the base material after the removal of the volatile component of the silver ink composition printed on the first pattern is heated in a high-temperature and high-humidity tank at 80 ° C. and a relative humidity of 99%. Was carried out by spraying high-pressure steam at 120 ° C. for 5 minutes under the condition of 15.7 kg / hour per 350 mm × 525 mm area on the printed surface of the substrate (same as in Example 3). A conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in Example 9 except for the point). The results are shown in Table 5.

[比較例2]
基材の受容層上に第一パターンを形成しなかった(すなわち、基材の受容層上に銀インク組成物を用いて第二パターンのみ形成して導電パターンを形成した)点、及び、第二パターン形成時の銀インク組成物の吐出圧力を200kPaに代えて450kPaとした点以外は、実施例7と同様に導電パターンを形成及び評価した。結果を表5に示す。
[Comparative Example 2]
The first pattern was not formed on the receiving layer of the substrate (that is, the conductive pattern was formed by forming only the second pattern using the silver ink composition on the receiving layer of the substrate), and the first A conductive pattern was formed and evaluated in the same manner as in Example 7 except that the discharge pressure of the silver ink composition at the time of forming the two patterns was changed to 450 kPa instead of 200 kPa. The results are shown in Table 5.

上記結果から明らかなように、実施例6〜10では、いずれも導電パターンは体積収縮が抑制されており、断線は発生しておらず、体積抵抗率が低かった。これら導電パターンはいずれも、目視観察の結果、図3(a)に示す実施例1の場合と同様の状態であり、また、これら導電パターンの断面においてはいずれも、図4に示す実施例1の場合と同様に、第一パターン及び第二パターンの界面Zを確認できた。
これに対して、比較例2では、導電パターンを単層で厚く形成したことにより、図3(b)に示す比較例1の場合と同様に、導電パターンは体積収縮の度合いが大きく、断線が発生し、体積抵抗率を測定できなかった。
As is clear from the above results, in Examples 6 to 10, the volume shrinkage of the conductive pattern was suppressed, no disconnection occurred, and the volume resistivity was low. As a result of visual observation, all of these conductive patterns are in the same state as in the case of Example 1 shown in FIG. 3A. Also, in the cross section of these conductive patterns, Example 1 shown in FIG. As in the case of, the interface Z between the first pattern and the second pattern could be confirmed.
On the other hand, in Comparative Example 2, the conductive pattern is formed thick with a single layer, so that the conductive pattern has a large degree of volume shrinkage and the disconnection is similar to the case of Comparative Example 1 shown in FIG. The volume resistivity could not be measured.

実施例6〜10では、実施例1〜5よりも、第一パターン及び第二パターンがいずれも薄いが、導電パターンの厚さが同程度の比較例2とは異なり、体積の収縮に伴う導電パターンの断線が抑制されていた。このことから、本発明の効果は、幅広い導電パターンの厚さの範囲で発現することを確認できた。   In Examples 6 to 10, both the first pattern and the second pattern are thinner than Examples 1 to 5, but unlike Comparative Example 2 in which the thickness of the conductive pattern is the same, the conductivity associated with the shrinkage of the volume. The disconnection of the pattern was suppressed. From this, it has confirmed that the effect of this invention was expressed in the range of the thickness of a wide conductive pattern.

本発明は、各種電子機器における配線基板に利用可能である。   The present invention can be used for wiring boards in various electronic devices.

1・・・導電パターン、11・・・第一パターン、11a・・・第一パターンの表面、12・・・第二パターン、2・・・基材、2a・・・基材の一方の主面、2b・・・基材の他方の主面、3・・・受容層、3a・・・受容層の表面、H11・・・第一パターンの厚さ、H12・・・第二パターンの厚さ、Z・・・第一パターン及び第二パターンの界面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive pattern, 11 ... 1st pattern, 11a ... The surface of a 1st pattern, 12 ... 2nd pattern, 2 ... Base material, 2a ... One main of a base material Surface, 2b ... the other main surface of the substrate, 3 ... the receiving layer, 3a ... the surface of the receiving layer, H 11 ... the thickness of the first pattern, H 12 ... the second pattern Thickness, Z ... the interface between the first pattern and the second pattern

Claims (3)

導電体を形成するためのインク組成物を基材上に印刷し、固化させることにより、前記基材上に第一パターンを形成し、
導電体を形成するためのインク組成物をさらに前記第一パターン上に印刷し、固化させることにより、前記第一パターン上に第二パターンを形成して、前記第一パターン及び第二パターンが積層されてなる導電パターンを形成する導電パターンの形成方法において、
前記第二パターンは前記第一パターンよりも厚く、
前記第一パターン及び第二パターンの形成に用いるインク組成物は、前記第二パターンの形成条件で気化して前記インク組成物から除かれる揮発性成分の配合量の割合が、配合成分の総量に対して20質量%以上であることを特徴とする導電パターンの形成方法。
An ink composition for forming a conductor is printed on a substrate and solidified to form a first pattern on the substrate,
An ink composition for forming a conductor is further printed on the first pattern and solidified to form a second pattern on the first pattern, and the first pattern and the second pattern are laminated. In the method of forming a conductive pattern for forming a conductive pattern,
The second pattern is thicker than the first pattern,
In the ink composition used for forming the first pattern and the second pattern, the ratio of the amount of the volatile component vaporized under the conditions for forming the second pattern and removed from the ink composition is the total amount of the compounded components. It is 20 mass% or more with respect to the formation method of the conductive pattern characterized by the above-mentioned.
前記第二パターン形成時に、インク組成物の固化を、相対湿度40%以上の雰囲気下での加熱処理により行うことを特徴とする請求項1に記載の導電パターンの形成方法。   2. The method for forming a conductive pattern according to claim 1, wherein the ink composition is solidified by heat treatment in an atmosphere having a relative humidity of 40% or more when forming the second pattern. 請求項1又は2に記載の導電パターンの形成方法で形成されたことを特徴とする導電性配線。   A conductive wiring formed by the method for forming a conductive pattern according to claim 1.
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