JP2015170752A - 基板収納容器 - Google Patents

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Abstract

【課題】容器本体を開口させた状態でパージする場合に容器本体内の湿度を略均一に下げることのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハWを収納するフロントオープンボックスの容器本体1と、容器本体1に取り付けられて容器本体1の外部から内部に不活性ガスを供給可能な給気バルブ40とを備え、容器本体1の正面2を開口させた状態で容器本体1内のエアをパージする基板収納容器であり、容器本体1の底板3の前部両側に取付孔8をそれぞれ穿孔し、各取付孔8に給気バルブ40を嵌着するとともに、各給気バルブ40の容器本体1内に臨む給気口44を、不活性ガスを斜め上方に案内する吹出しカバー50により被覆し、取付孔8から容器本体1の後方に向かう直線と吹出しカバー50の吹出し開口部とに0°〜20°の角度を形成させ、一対の吹出しカバー50の吹出し開口部53を相互に対向させる。
【選択図】図2

Description

本発明は、容器本体から蓋体が取り外された状態で内部の気体がパージされる基板収納容器に関するものである。
従来のFOUP等の基板収納容器は、図8に部分的に示すように、複数枚の半導体ウェーハWを並べて収納するフロントオープンボックスの容器本体1と、この容器本体1の開口した正面2に嵌合される蓋体とを備え、容器本体1に給気バルブ40Aと排気バルブとがそれぞれ配設されており、内部のエアがパージされ、不活性ガスに置換されることで半導体ウェーハWの表面酸化や汚染、配線の腐食が防止される。
容器本体1は、図8に示すように、パージ装置60の付設された蓋体開閉装置61に搭載され、この蓋体開閉装置61により、開口した正面2に蓋体が嵌合されたり、正面2から蓋体が取り外されたりする。また、複数の給気バルブ40Aと排気バルブとは、例えば容器本体1の底板3の前後部の少なくとも一方に、容器本体1の外部のパージ装置60から内部に窒素ガス等の不活性ガスを供給する給気バルブ40Aが嵌着され、他方に、容器本体1の内部から外部のパージ装置60にエアを排気する排気バルブがそれぞれ嵌着されており、各給気バルブ40Aの上部に、不活性ガスを制御するタワー形の噴射ノズル49等が必要に応じて装着される(特許文献1、2、3参照)。
このような複数の給気バルブ40Aと排気バルブとは、例えば容器本体1の底板3前部に給気バルブ40Aが嵌着される場合には、底板3の後部に排気バルブが嵌着され、底板3の後部に給気バルブ40Aが嵌着される場合には、底板3の前部に排気バルブが嵌着される。また例えば、容器本体1の底板3の前部両側に給気バルブ40Aがそれぞれ嵌着される場合には、底板3の後部両側に排気バルブがそれぞれ嵌着され、底板3の後部両側に給気バルブ40Aがそれぞれ嵌着される場合には、底板3の前部両側に排気バルブがそれぞれ嵌着される。
そして、これら給気バルブ40Aと排気バルブの位置に応じ、蓋体開閉装置61のパージ装置60の仕様も決定される。したがって、パージ装置60のリア側にパージポートが配置されている場合には、容器本体1の底板3後部に給気バルブ40Aが嵌着されている基板収納容器のみが使用可能となり、容器本体1の底板3前部に給気バルブ40Aが嵌着されている基板収納容器は使用できないこととなる。
ところで、基板収納容器は、一般的には容器本体1の正面2が蓋体により嵌合閉鎖された状態でパージされるが、容器本体1内の相対湿度を一定水準以下に均一に下げたい場合には、容器本体1の正面2から蓋体が蓋体開閉装置61により取り外され、容器本体1の正面2が開口した状態でパージされることがある(特許文献4参照)。
この容器本体1の正面2が開口した状態でパージされる場合には図8に示すように、EFEM(Equipment Front End Module)62に併設された蓋体開閉装置61に基板収納容器の容器本体1が搭載され、この容器本体1から蓋体が蓋体開閉装置61により取り外された後、EFEM62天井のファンフィルターユニット(FFU)63から床方向に大量のクリーンエア(矢印参照)がダウンフローされるとともに、容器本体1の外部から内部に不活性ガス(矢印参照)が供給される。供給された不活性ガスは、容器本体1の底板3後部における給気バルブ40Aの噴射ノズル49から容器本体1の正面2方向に噴射される。
特開2003‐17553号公報 特開2003‐170969号公報 特許第3367421号 特開2004‐327911号公報
従来における基板収納容器は、以上のように容器本体1が開口した状態でパージされる場合に、EFEM62のファンフィルターユニット63からクリーンエアがダウンフローされるが、この際、容器本体1の開口した正面2寄りの下方に大量のクリーンエアが流入して不活性ガスと衝突するので、澱み(折り返しの矢印参照)Sが生じ、容器本体1内の下部とそれ以外の残部の相対湿度が均一にならず、その結果、容器本体1内の相対湿度を均一に下げることができないという問題がある。
また、蓋体開閉装置61のパージ装置60の仕様が予め定められているので、パージ装置60の仕様に対応する容器本体1の場合には、正面2を開口させてパージすることはできるものの、パージ装置60の仕様に対応しない容器本体1の場合には、正面2を開口させてパージすることは困難である。
本発明は上記に鑑みなされたもので、容器本体を開口させた状態でパージする場合に容器本体内の湿度を略均一に下げることのできる基板収納容器を提供することを目的としている。また、パージ装置の仕様に関わらず、容器本体を開口させてパージすることのできる基板収納容器の提供を他の目的としている。
本発明においては上記課題を解決するため、基板を収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体に取り付けられて容器本体の外部から内部にパージ用の気体を供給可能な給気部材とを備え、容器本体の正面を開口させた状態で容器本体内の気体をパージするものであって、
容器本体の底板の前部両側に取付孔をそれぞれ設け、この複数の取付孔に給気部材をそれぞれ取り付けるとともに、この複数の給気部材の容器本体内に臨む給気口を、パージ用の気体を斜め上方に案内する吹出しカバーによりそれぞれ被覆し、取付孔から容器本体の後方に向かう直線と吹出しカバーとに0°〜20°の角度を形成させ、複数の吹出しカバーの吹出し開口部を対向させるようにしたことを特徴としている。
なお、吹出しカバーは、給気部材に設けられて容器本体内に臨む起立壁と、この起立壁と一体化され、給気部材の給気口の上方に傾斜して位置する傾斜偏向壁とを含み、これら起立壁と傾斜偏向壁とにより吹出し開口部を区画し、傾斜偏向壁の傾斜角度を15°〜50°とすることができる。
また、給気部材のハウジングの上部を容器本体内に臨ませ、このハウジングの上部端面の一部分に給気口を設けるとともに、この給気口を容器本体の側壁寄りに位置させ、ハウジングの上部端面の一部分側に吹出しカバーを設けることができる。
また、容器本体の底板後部に接続用の給気部材を複数取り付け、この複数の接続用の給気部材と給気部材とを気体供給管により接続することもできる。
さらに、気体供給管に逆止弁を接続することが可能である。
ここで、特許請求の範囲における基板には、少なくともφ300mmや450mmの半導体ウェーハ、液晶基板等が含まれる。この基板は、単数でも良いし、複数枚でも良い。パージ用の気体には、少なくとも各種の不活性ガス(窒素ガスやアルゴンガス等)が含まれる。また、給気部材は、容器本体の底板の前部両側、前部中央寄り付近、後部両側等に適宜取り付けられるが、容器本体の底板の前部両側に取り付けられる場合には、給気口が吹出しカバーにより被覆される。
給気バルブは、容器本体の内部に臨む第一のハウジングと、この第一のハウジングに取り付けられて容器本体の外部に露出する第二のハウジングとを備え、第一のハウジングの上部を容器本体内に露出させ、上部端面の一部分を容器本体の側壁寄りに位置する給気口に開口形成することができる。さらに、吹出しカバーは、給気部材と一体化しても良いし、給気部材に別体として着脱自在に取り付けても良い。
本発明によれば、容器本体の正面を開口させた状態でパージする場合には、容器本体の正面を開口させ、上方向から下方向に清浄な気体を流すとともに、容器本体の外部から内部に不活性ガス等のパージ用の気体を供給する。すると、パージ用の気体は、給気部材内に流入して給気口から流出し、この給気口を覆う吹出しカバーに制御されつつ吹出し開口部から斜め上方に吹き出る。パージ用の気体が斜め上方に吹き出ることにより、容器本体内の気体がパージされ、パージ用の気体に置換される。
この際、取付孔から容器本体の後方に向かう直線と吹出しカバーとが0°〜20°の角度を形成するので、容器本体内にパージ用の気体が適切に供給される。また、例え清浄な気体が大量に流れていても、清浄な気体の巻き込み量が少なく、パージ用の気体に効率良く置換することができる。
本発明によれば、基板収納容器の容器本体を開口させた状態でパージする場合に容器本体内の湿度を略均一に下げることができるという効果がある。また、取付孔から容器本体の後方に向かう直線と吹出しカバーとに0°〜20°の角度を形成させるので、容器本体の正面が開口した状態のパージ時にパージする気体を容器本体内に適切に供給したり、例えパージ時に清浄な気体等がダウンフローされても、清浄な気体を必要以上に巻き込むことが少なく、効率の良い気体の置換が期待できる。
請求項2記載の発明によれば、給気口から流出したパージ用の気体を上方の傾斜偏向壁に沿って流通させることができるので、清浄な気体の巻き込みを制御しながら、清浄な気体のダウンフローの巻き込みを利用して効率良くパージ用の気体を供給することができる。また、傾斜偏向壁の傾斜角度が15°以上なので、容器本体の正面が開口した状態のパージ時に容器本体内の下方に気体が澱むのを有効に防止することができる。また、傾斜偏向壁の傾斜角度が50°以下なので、吹出し開口部を低くすることができ、基板の取り出し時にロボット等と吹出しカバーとが干渉するのを防止することが可能になる。
請求項3記載の発明によれば、給気部材のハウジング上端面の他の部分側に吹出しカバーを設けるのではなく、一部分側に吹出しカバーを設け、この吹出しカバーを容器本体の側壁寄りに位置させて基板から遠ざけるので、容器本体に基板を出し入れする際、吹出しカバーが出し入れの障害になることが少ない。
請求項4記載の発明によれば、パージ装置の仕様に関わらず、基板収納容器の容器本体を開口させてパージすることが可能になる。
請求項5記載の発明によれば、容器本体の底板前部の給気バルブから底板後部の接続用の給気バルブにパージ用の気体が逆流するのを防止することが可能になる。
本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体から蓋体を取り外し、吹出しカバーを取り外した状態を模式的に示す全体斜視図である。 本発明に係る基板収納容器の実施形態を模式的に示す断面平面図である。 本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体を斜め上方から模式的に示す説明図である。 本発明に係る基板収納容器の実施形態における給気バルブを模式的に示す斜視図である。 本発明に係る基板収納容器の実施形態における給気バルブを模式的に示す断面説明図である。 本発明に係る基板収納容器の第2の実施形態を模式的に示す底面説明図である。 本発明に係る基板収納容器の第3の実施形態を模式的に示す断面平面図である。 基板収納容器の容器本体の正面から蓋体を取り外し、正面を開口させてパージする状態を示す説明図である。
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器は、図1ないし図5、図8に示すように、複数枚の半導体ウェーハWを整列収納する容器本体1と、この容器本体1の開口した正面2に嵌合される蓋体20と、容器本体1の底板3の前部両側に配設されて容器本体1の外部から内部に不活性ガスを供給可能な一対の給気バルブ40とを備え、この一対の給気バルブ40の給気口44を、不活性ガスを斜め上方に案内する吹出しカバー50によりそれぞれ被覆し、この一対の吹出しカバー50の吹出し開口部53を容器本体1の内方向に向け、斜めに対向させるようにしている。
各半導体ウェーハWは、図2や図3に示すように、例えば表面に回路パターンが形成されたφ300mmの薄いシリコンウェーハからなり、図示しない専用のロボットのアームにより容器本体1内に水平に収納されたり、取り出されたりする。
容器本体1、蓋体20、給気バルブ40、吹出しカバー50は、所定の樹脂を含有する成形材料により射出成形される。この成形材料に含まれる樹脂としては、例えばポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、液晶ポリマーといった熱可塑性樹脂やこれらのアロイ等があげられる。
容器本体1は、図1等に示すように、正面2の開口したフロントオープンボックスに成形され、底板3にインターフェイスとなるボトムプレート4が下方から螺着されており、このボトムプレート4がパージ装置60の付設された蓋体開閉装置61等に対する位置決め機能や固定機能を発揮する。
容器本体1は、図1ないし図3に示すように、両側壁5の内面に、半導体ウェーハWの周縁部両側を水平に支持する左右一対の支持片6が対設され、この一対の支持片6が上下方向に所定の間隔で配列されており、各支持片6が前後方向に指向する長板に形成されるとともに、この支持片6の表面先端部には、半導体ウェーハWの前方への飛び出しを規制する飛び出し防止段差部7が半導体ウェーハWの肉厚以上の厚さで積層形成される。
容器本体1の底板3における前部両側には給気バルブ40用の取付孔8がそれぞれ丸く貫通して穿孔され、容器本体1の天板中央部には、半導体製造工場の天井搬送機構に把持される搬送用のトップフランジ9が着脱自在に装着されており、容器本体1の正面2内周における上下部の両側には、蓋体20用の施錠穴10がそれぞれ穿孔される。各取付孔8は、半導体ウェーハWの円滑な出し入れに資するよう、半導体ウェーハWの底板3に対する投影領域から外れる箇所に穿孔される。
容器本体1の両側壁5の中央部には、握持操作用に機能するグリップ部11がそれぞれ着脱自在に装着される。また、容器本体1の両側壁5の下部には、搬送用のサイドレールがそれぞれ選択的に装着される。
このような容器本体1は、EFEM62に併設された蓋体開閉装置61に位置決めして搭載され、この蓋体開閉装置61により、開口した正面2に蓋体20が着脱自在に圧入して嵌合されたり、あるいは正面2からシール状態の蓋体20が取り外され、その後、正面2が開口した状態でパージされる(図8参照)。
蓋体20は、図1や図2に示すように、容器本体1の開口した正面2内に圧入して嵌合される蓋本体21と、この蓋本体21の開口した正面を被覆する表面プレート26と、容器本体1の正面2内周と蓋本体21との間に介在される密封封止用のシールガスケット24とを備え、蓋本体21と表面プレート26との間に固定用の施錠機構28が介在して設置される。
蓋本体21は、基本的には底の浅い断面略皿形に形成され、内部に補強用や取付用のリブが複数配設されており、半導体ウェーハWに対向する対向面である裏面の中央部付近に、半導体ウェーハWとの接触を回避する凹部22が形成されるとともに、この凹部22には、半導体ウェーハWの周縁部前方を弾発的に保持するフロントリテーナ23が装着される。
蓋本体21の裏面周縁部には枠形の嵌合溝が凹み形成され、この嵌合溝内に、容器本体1の正面2内周に圧接する弾性のシールガスケット24が密嵌されており、蓋本体21の周壁における上下部の両側には、容器本体1の施錠穴10に対向する施錠機構28用の出没孔25が貫通して穿孔される。
表面プレート26は、横長の正面矩形に形成され、補強用や取付用のリブ、螺子孔等が複数配設される。この表面プレート26の両側部には、施錠機構28用の操作孔27がそれぞれ穿孔される。
施錠機構28は、図1や図2に示すように、蓋体20の蓋本体21における左右両側部にそれぞれ軸支され、外部から回転操作される左右一対の回転プレート29と、各回転プレート29の回転に伴い蓋体20の上下方向にスライドする複数の進退動プレート30と、各進退動プレート30のスライドに伴い蓋本体21の出没孔25から出没して容器本体1の施錠穴10に接離する複数の施錠爪31とを備えて構成される。
各回転プレート29は、蓋体20の表面プレート26の操作孔27に対向し、この操作孔27を貫通した蓋体開閉装置61の操作キーにより回転操作される。この回転プレート29の周縁部付近には、湾曲した一対のカム溝が所定の間隔をおいて切り欠かれ、各カム溝に進退動プレート30の末端部の連結ピンがスライド可能に嵌入される。
各給気バルブ40は、図1ないし図5に示すように、容器本体1の内部に臨む略円筒形の第一のハウジング41と、この第一のハウジング41の開口下部にOリングを介し着脱自在に嵌合されて容器本体1の外部に露出する略円筒形の第二のハウジング42とを備え、第一のハウジング41の外周面に螺子が螺刻形成され、第二のハウジング42の内周面に螺子溝が螺刻形成されており、これら第一のハウジング41の螺子と第二のハウジング42の螺子溝とが螺合される。
第一、第二のハウジング41・42の外周面には平面略リング形の係止フランジ43がそれぞれ周設され、これらの係止フランジ43が容器本体1の取付孔8の周縁部に上下方向からOリングを介して係止することにより、容器本体1の底板3に給気バルブ40が強固に嵌着固定される。
第一のハウジング41は、その上端部が容器本体1内に露出し、上端部の一部分である半分以下の上端面後方が容器本体1の側壁5寄りに位置する平面略半円形の給気口44に開口形成されており、内部に濾過用のフィルタ45が収納される。また、第二のハウジング42は、第一のハウジング41よりも低く短く形成され、下部に接続用の継手46が必要に応じて一体形成されており、外部からの窒素ガス等の不活性ガスを第一のハウジング41方向に供給する。
各吹出しカバー50は、図2ないし図5に示すように、給気バルブ40の第一のハウジング41の上端部に対設されて容器本体1内に臨む左右一対の起立壁51と、この左右一対の起立壁51に傾きながら一体化され、給気バルブ40の給気口44の直上に位置する傾斜偏向壁52とを備え、これら一対の起立壁51と傾斜偏向壁52とにより半導体ウェーハWの中心方向に不活性ガスを吹き出す吹出し開口部53が区画されており、容器本体1の側壁5寄りに位置する。
一対の起立壁51は、給気バルブ40の給気口44を挟むよう相互に対向する。また、傾斜偏向壁52は、第一のハウジング41の上端部後方から突出し、上方に向かうにしたがい給気バルブ40の給気口44から徐々に離れるよう傾斜形成されており、直下の給気口44から流出した不活性ガスを斜面に沿わせて流出させるよう機能する。この傾斜偏向壁52の給気バルブ40の給気口44に対向する傾斜した内面には、必要に応じ、不活性ガスの流れを整える複数の整流板が間隔をおいて並べて形成される。
傾斜偏向壁52の第一のハウジング41の上端部に対する傾斜角度θは、図5に示すように、15°〜50°、好ましくは20°〜50°の範囲に設定される。これは、傾斜角度θが15°以上であれば、正面2が開口した状態のパージ時に容器本体1内の下方に不活性ガス等が澱むのを有効に防止することができるからである。また、傾斜角度θが50°以下であれば、吹出し開口部53を低くすることができるので、半導体ウェーハWの取り出し時に専用のロボットのアームと吹出しカバー50とが干渉するのを有効に防止できる。
吹出し開口部53は、取付孔8の中心から容器本体1の後方に向かう直線SLとの間に0°〜20°、好ましくは5°〜15°の角度θを形成する(図2参照)。これは、形成する角度θが0°以上であれば、正面2が開口した状態のパージ時にパージする不活性ガスを容器本体1内に適切に供給し、容器本体1内にあったエアを効率的に置換することができるからである。また、形成する角度θが20°以下であれば、例えパージ時に大量のクリーンエアがダウンフローされても、クリーンエアを必要以上に巻き込むことがなく、不活性ガスに効率良く置換することができるという理由に基づく。
上記構成において、容器本体1の正面2を開口させた状態でパージする場合には図8に示すように、EFEM62に併設された蓋体開閉装置61に基板収納容器の容器本体1を搭載し、この容器本体1から蓋体20を蓋体開閉装置61により取り外した後、EFEM62天井のファンフィルターユニット63から床方向に大量のクリーンエアをダウンフローするとともに、容器本体1の外部から内部に不活性ガスを供給すれば良い。
すると、不活性ガスは、蓋体開閉装置61のパージ装置60から給気バルブ40内に流入して給気口44から流出し、吹出しカバー50の傾斜偏向壁52に制御されつつ、クリーンエアを巻き込みながら吹出し開口部53から斜め上方に吹き出る。不活性ガスが斜め上方に吹き出て容器本体1内の下方、中央付近、上方を循環することにより、容器本体1内のエアが容器本体1の開口した正面2から外部にパージされ、不活性ガスに置換される。
この際、取付孔8の中心から容器本体1の後方に向かう直線SLと吹出しカバー50の吹出し開口部53とが0°〜20°の角度θを形成するので、容器本体1内に不活性ガスが適切に供給される。また、大量のクリーンエアがダウンフローされていても、クリーンエアを必要以上に巻き込むことがなく、不活性ガスに効率良く置換することができる。また、傾斜偏向壁52の第一のハウジング41の上端部に対する傾斜角度θが15°〜50°の範囲なので、容器本体1内の正面2寄りの下方に不活性ガス等が澱むのを有効に防止することができる。
上記構成によれば、クリーンエアの巻き込み量を減少させることができるので、容器本体1の開口した正面2寄りの下方に澱みSの生じることが少なくなり、容器本体1内の相対湿度を一定水準(例えば、25%RHや20%RH)以下に均一に下げることができる。また、給気口44から流出した不活性ガスを直上の傾斜偏向壁52に沿って流通させることができるので、クリーンエアの巻き込みを制御しながら、クリーンエアのダウンフローの巻き込みを利用し、効率良く不活性ガスを供給することができる。
また、半導体ウェーハWに近接する第一のハウジング41の上端部前方ではなく、第一のハウジング41の上端部後方のみに吹出しカバー50を偏移させて設けるので、例え吹出しカバー50を短くしても、不活性ガスの流れを十分にガイドすることができ、しかも、半導体ウェーハWの取り出し時にロボットのアームと吹出しカバー50とが干渉するのを有効に防止することが可能になる。
次に、図6は本発明の第2の実施形態を示すもので、この場合には、リア側にパージポートが配列されたパージ装置60に対応するため、容器本体1の底板3の後部両側付近に取付孔8をそれぞれ穿孔し、この一対の取付孔8に接続用の給気バルブ40Aをそれぞれ嵌着し、この一対の接続用の給気バルブ40Aと前方の給気バルブ40の継手46とを複数の気体供給管47によりそれぞれ接続するようにしている。
接続用の各給気バルブ40Aは、底板3前部の給気バルブ40と同様に構成され、吹出しカバー50が省略されており、パージ装置60のリア側のパージポートに接続される。接続用の各給気バルブ40Aを構成する第二のハウジング42には継手46が形成され、この継手46に気体供給管47が接続されており、この気体供給管47が底板3前部の給気バルブ40に不活性ガスを供給する。各気体供給管47は、例えば可撓性を有するチューブや樹脂製の配管等からなり、不活性ガスの逆流を防止する逆止弁48が必要に応じて接続される。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、例えパージ装置60のリア側にパージポートが配列されていても、接続用の給気バルブ40Aを連結ユニットとして接続して不活性ガスを底板3前方の給気バルブ40に確実に供給することができる。したがって、パージ装置60の仕様に対応しない基板収納容器の場合にも、容器本体1の正面2を開口させ、パージすることができるのは明らかである。また、既存の蓋体開閉装置61やパージ装置60をそのまま活用することができるので、専用のパージ装置60等に変更する必要がなく、コスト削減が大いに期待できる。
次に、図7は本発明の第3の実施形態を示すもので、この場合には、容器本体1の各取付孔8の中心から容器本体1の後方に向かう直線SLと吹出しカバー50の吹出し開口部53とに0°の角度θを形成させるようにしている。
この場合、各吹出しカバー50の吹出し開口部53が直線SLと平行になり、各吹出し開口部53から吹き出る不活性ガスが容器本体1の開口した正面2と平行な流れを形成するので、外部から容器本体1内へダウンフローされるクリーンエアの侵入を効果的に防止することができる。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、角度θを0°に設定することにより、クリーンエアのダウンフローの巻き込みをより低減することができる。
なお、図2の取付孔8は、容器本体1の側壁5にさらに近接するよう容器本体1の幅方向外側にずらして穿孔しても良い。また、図2における左右一対の給気バルブ40が形成する角度θは、左側の給気バルブ40と右側の給気バルブ40とで異ならせても良い。また、上記実施形態では容器本体1の底板3の前部両側に給気バルブ40を配設したが、相対湿度をさらに下げたい場合(例えば、17%RH以下)には、底板3の前部や後部に吹出しカバー50を有しない給気バルブ40をシール部材を介して配設しても良い。また、必要に応じ、容器本体1の底板3に排気バルブをシール部材を介して配設しても良い。
また、上記実施形態ではフィルタ45を内蔵した給気バルブ40を示したが、給気バルブ40の内部に弁座を形成し、給気バルブ40に、弁座に接離する往復動可能な弁体をバネ部材を介し内蔵することができる。また、給気バルブ40の第一、第二のハウジング41・42に係止フランジ43をそれぞれ周設したが、これらの係止フランジ43を省略するとともに、給気バルブ40に係止フックを形成し、この係止フックにより給気バルブ40を固定することもできる。さらに、吹出しカバー50の傾斜偏向壁52を湾曲させながら傾斜させることもできる。
本発明に係る基板収納容器は、半導体等の製造分野で使用される。
1 容器本体
2 正面
3 底板
5 側壁
8 取付孔
20 蓋体
40 給気バルブ(給気部材)
40A 給気バルブ(給気部材)
41 第一のハウジング
42 第二のハウジング
44 給気口
46 継手
47 気体供給管
48 逆止弁
50 吹出しカバー
51 起立壁
52 傾斜偏向壁
53 吹出し開口部
60 パージ装置
61 蓋体開閉装置
62 EFEM
63 ファンフィルターユニット
S 澱み
SL 直線
W 半導体ウェーハ(基板)
θ傾斜偏向壁の傾斜角度
θ取付孔から容器本体の後方に向かう直線と吹出し開口部との間の角度

Claims (5)

  1. 基板を収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体に取り付けられて容器本体の外部から内部にパージ用の気体を供給可能な給気部材とを備え、容器本体の正面を開口させた状態で容器本体内の気体をパージする基板収納容器であって、
    容器本体の底板の前部両側に取付孔をそれぞれ設け、この複数の取付孔に給気部材をそれぞれ取り付けるとともに、この複数の給気部材の容器本体内に臨む給気口を、パージ用の気体を斜め上方に案内する吹出しカバーによりそれぞれ被覆し、取付孔から容器本体の後方に向かう直線と吹出しカバーとに0°〜20°の角度を形成させ、複数の吹出しカバーの吹出し開口部を対向させるようにしたことを特徴とする基板収納容器。
  2. 吹出しカバーは、給気部材に設けられて容器本体内に臨む起立壁と、この起立壁と一体化され、給気部材の給気口の上方に傾斜して位置する傾斜偏向壁とを含み、これら起立壁と傾斜偏向壁とにより吹出し開口部を区画し、傾斜偏向壁の傾斜角度を15°〜50°とした請求項1記載の基板収納容器。
  3. 給気部材のハウジングの上部を容器本体内に臨ませ、このハウジングの上部端面の一部分に給気口を設けるとともに、この給気口を容器本体の側壁寄りに位置させ、ハウジングの上部端面の一部分側に吹出しカバーを設けた請求項1又は2記載の基板収納容器。
  4. 容器本体の底板後部に接続用の給気部材を複数取り付け、この複数の接続用の給気部材と給気部材とを気体供給管により接続した請求項1、2、又は3記載の基板収納容器。
  5. 気体供給管に逆止弁を接続した請求項4記載の基板収納容器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017553A (ja) * 2001-06-29 2003-01-17 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc 基板収納容器、基板搬送システム及びガス置換方法
JP2003170969A (ja) * 2001-12-06 2003-06-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd 収納容器
JP2005033118A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Tdk Corp パージ装置およびパージ方法
JP2008535283A (ja) * 2005-04-04 2008-08-28 インテグリス・インコーポレーテッド 制御環境を有するレチクルsmifポッド
JP2013513951A (ja) * 2009-12-10 2013-04-22 インテグリス・インコーポレーテッド 微小環境中に均一に分布した浄化ガスを得るための多孔質バリア
JP2013153036A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Tdk Corp ガスパージ装置及び該ガスパージ装置を有するロードポート装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017553A (ja) * 2001-06-29 2003-01-17 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc 基板収納容器、基板搬送システム及びガス置換方法
JP2003170969A (ja) * 2001-12-06 2003-06-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd 収納容器
JP2005033118A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Tdk Corp パージ装置およびパージ方法
JP2008535283A (ja) * 2005-04-04 2008-08-28 インテグリス・インコーポレーテッド 制御環境を有するレチクルsmifポッド
JP2013513951A (ja) * 2009-12-10 2013-04-22 インテグリス・インコーポレーテッド 微小環境中に均一に分布した浄化ガスを得るための多孔質バリア
JP2013153036A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Tdk Corp ガスパージ装置及び該ガスパージ装置を有するロードポート装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230135559A (ko) 2022-03-15 2023-09-25 주식회사 히타치하이테크 진공 처리 장치

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