JP2015161742A - 反射型表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板接着工程の後で基板同士を加熱する際に、基板の含水率に大きな変化が生じることを回避することができる反射型表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方が透光性を有する対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気泳動体を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に情報を表示する、反射型表示装置、を製造する方法であって、一方の基板１１と他方の基板１６との間に表示媒体が配置された状態で前記一方の基板と前記他方の基板とを接着する対向基板接着工程と、前記対向基板接着工程の後で、前記一方の基板と前記他方の基板とを加熱する加熱処理工程と、を備え、前記加熱処理工程は、加湿状態で行われる。
【選択図】図２

Description

本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置の製造方法に関する。

反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体（通常は電気泳動する粒子）の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、２枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。

電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性（目にやさしい）、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。

電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルあるいは画素と呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス（表示媒体）が封入されている。例えば特許文献１（特開２００５−２０２２４５号公報）には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の従来例が開示されている。

特許文献２（特開２０１１−１６４３００号公報）には、上下基板を接着して電気泳動表示装置としての表示用パネルを製造する製造方法が開示されている。また、本件出願人による特許文献３（特開２０１２−０１３７９０号公報）には、セルを区画する隔壁上にのみ接着剤を塗工し、隔壁と基板との接着を確実にする、電気泳動表示装置の製造方法が開示されている。

また、特許文献４（特許第４８６３７０７号）には、接着後の基板同士を加圧状態下で加熱することで接着力を強化することの開示がある。

特開２００５−２０２２４５号公報 特開２０１１−１６４３００号公報 特開２０１２−０１３７９０号公報 特許第４８６３７０７号

前述の通り、特許文献４（特許第４８６３７０７号）に開示されているように、接着後の基板同士を加熱することで、接着力を強化できることが知られている。具体的には、熱処理機、例えばアズワン製DO-450FPA、DO-600FPA、espec製PV(H)-332、PH(H)-402、PVC-332、PVHC-332、二葉科学製DF-80、CRO-40G、CRO-40GHなどを用いて、７０℃で１５時間に亘る加熱処理が実施されている。

しかしながら、本件発明者による知見によれば、従来の加熱工程では、基板の昇温に伴って基板の乾燥が進み、すなわち、基板の含水率が顕著に低下する。このため、基板は、昇温に伴って膨張する一方で、含水率の低下に起因して収縮もする。そして、加熱処理後に常温に戻る際、温度変化に起因する膨張の解消は速い（応答が速い）が、含水率変化に起因する収縮の解除については数日程度という長い時間をかけて平衡状態に達する。すなわち、基板は徐々に吸水して収縮状態を解除していく（変形していく）。このような長時間に亘る変形により、歪みが発生して、いわゆる寸法安定性が悪化してしまう。

本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、基板接着工程の後で基板同士を加熱する際に、基板の含水率に大きな変化が生じることを回避することができる反射型表示装置の製造方法を提供することにある。

本発明は、少なくとも一方が透光性を有する対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気泳動体を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に情報を表示する、反射型表示装置、を製造する方法であって、一方の基板と他方の基板との間に表示媒体が配置された状態で前記一方の基板と前記他方の基板とを接着する対向基板接着工程と、前記対向基板接着工程の後で、前記一方の基板と前記他方の基板とを加熱する加熱処理工程と、を備え、前記加熱処理工程は、加湿状態で行われることを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。

本発明によれば、加熱処理工程が加湿状態で行われることにより、基板の含水率に大きな変化が生じることを回避することができる。これにより、加熱処理後に常温に戻った後、基板が吸水して収縮していた状態から元の状態に戻る際の変形の程度が顕著に抑制されるため、歪みが発生して寸法安定性が悪化することが顕著に抑制される。

具体的には、例えば、前記加熱処理工程は、５％ＲＨ以上の加湿状態で行われる。また、具体的には、例えば、前記加熱処理工程は、恒温恒湿器を用いて行われる。また、前記加熱処理工程は、一般的には、５０℃〜９０℃で、１時間〜１００時間、行われる。 また、好ましくは、前記一方の基板の前記表示媒体が配置されるのとは逆側の面、及び／または、前記他方の基板の前記表示媒体が配置されるのとは逆側の面に、
水蒸気バリア層が設けられる。

本発明によれば、加熱処理工程が加湿状態で行われることにより、基板の含水率に大きな変化が生じることを回避することができる。

本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法によって製造される反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。 本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。 隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。 接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。 表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。 対向基板接着工程の一例を概略的に示す断面図である。 表示媒体配置工程の例を説明する図である。

図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法によって製造される反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。この反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間１１、１６に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む流体状の表示媒体１３が封入されていて、２枚の基板１１、１６間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をするようになっている。表示媒体１３は、外周シール６１によって取り囲まれている。

本実施の形態の反射型表示装置は矩形状であり、これに対応して、外周シール６１は矩形状に配置されている（図５参照）。

ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板（一方の基板１１）は、全光透過率が５０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるような透光性を有している。

図１乃至図７において、一方の基板１１及び他方の基板１６の面上には、各々電極が設けられているが、当該電極の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板１１が視認側に配置され、他方の基板１６が非視認側に配置される。

一方の基板１１としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透光性を有する電極（透光性電極）を一方の基板１１の少なくとも表示領域６０を覆うように付したものが、典型的に用いられ得る。ここで、「表示領域」とは、反射型表示装置における所望の表示に利用される領域をいう。本実施の形態では、一方の基板１１は、可撓性であるが、剛性であってもよい。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「可撓性」とは、たわめることの可能な性質、という程度の意味である。また、「剛性」とは、曲げやねじりの力に対する寸法変形が小さい性質、という程度の意味である。

透光性電極は、塗工法や蒸着法等によって形成され得る。透光性電極は、アクティブマトリクス駆動の場合及びセグメント駆動の場合は共通電極として用いられるので、必ずしもパターンが形成されている必要は無く、基板全面が電極であってもよい。一方、パッシブマトリクス駆動の場合、対向する両方の基板はパターン電極である必要があるため、当該透光性電極もストライプなどのパターンで形成される。

一方の基板１１の厚みは、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネルの重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。

一方の基板１１は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。

他方の基板１６としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等の基材が用いられ得る。また他方の基板１６は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板１６は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板１１と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板１１と同様の透光性の部材が使用され得る。本実施の形態では、他方の基板１６も、可撓性であるが、剛性であってもよい。

電極としては、セグメント駆動およびパッシブマトリクス駆動の場合はパターン状の電極、また、アクティブマトリクス駆動の場合はＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が配置される画素電極が用いられる。

他方の基板１６の厚みも、一方の基板１１の厚みと同様に、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネルの重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。

他方の基板１６も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。

表示媒体１３を取り囲む外周シール６１は、一方の基板１１上、あるいは、他方の基板１６上に、例えば紫外線硬化樹脂のような接着剤がディスペンサを用いて線幅０．５ｍｍ、高さ５０μｍで矩形状に塗布され、その後に紫外線によって硬化されることで形成されている。紫外線硬化樹脂の他に、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、ヒートシール樹脂等によっても構成可能である。また、外周シール６１は、ディスペンサの他に、各種の印刷法によって、あるいは、熱圧着によって配置可能である。

＜反射型表示装置の製造方法＞
図２は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図３に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板１１の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、所定のパターンの隔壁１２が形成される（隔壁形成工程：図２の工程（１））。

本実施の形態では、一方の基板１１は視認側に配置されて視認側基板として機能するようになっている。従って、一方の基板１１は透光性を有する必要がある。また、これに対応して、他方の基板１６は非視認側に配置されて非視認側基板として機能するようになっている。一方、隔壁１２は、後述する複数のセルを規定する部材である。例えば、隔壁１２のパターンはハニカム状である。隔壁の高さは、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。セルのサイズは、表示パネルの大きさにもよるが、０．０５〜１ｍｍピッチ、好ましくは０．１〜０．５ｍｍピッチである。もっとも、隔壁１２で形成されるセルの形状は、必ずしも全てのセルで同じでなくてもよい。例えば、ランダムな形状の複数の多角形からなるパターンも採用され得る。

隔壁１２は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、前述のように、５〜５０μｍの高さに形成されることが好適である。５μｍ以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、５０μｍ以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、１０〜５０μｍの範囲の高さが好適である。

隔壁１２のパターン形状は、円、格子、ハニカム状（六角形）、その他の多角形など、基本的に任意である。開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。

隔壁１２の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、メッシュ加工の構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板１１に貼り付けるという方法も採用され得る。

次に、隔壁１２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程：図２の工程（２））。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のようなヒートシール剤が、１μｍ〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１μｍ〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１μｍ〜２０μｍの厚みで形成される。

転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図４に示すように、例えばＰＥＴフィルム２１上に２０μｍの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のようなヒートシール剤を形成した転写シートを用意し、この転写シートのヒートシール剤の面を隔壁１２上に常温で１ｋＰａの圧力でラミネートする。これをヒートシール剤の軟化温度以上の温度である例えば１２０℃に保たれたホットプレート上において１分間加熱し、その後転写シートを剥離する。これにより、隔壁１２上に例えば６μｍ程度の接着層２２が形成される。

なお、接着層（ヒートシール剤）２２としては、熱可塑性材料を用いたものが好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。

熱可塑性材料からなるヒートシール剤２２を接着層として用いた場合には、転写フィルム基材上の固化しているヒートシール剤２２をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁頂面のみに確実にヒートシール剤２２を熱転写することもできる。また、熱転写後のヒートシール剤２２は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体としてのインキ１３がヒートシール剤２２と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁上面のヒートシール剤２２をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すわなちねばつきを有するようになるため、他方の基板１６に確実に接着される。他方の基板１６との接着後のヒートシール剤（接着層２２）は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体としてのインキ１３がヒートシール剤２２と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。

具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタン等の熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体等の熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。

隔壁１２とヒートシール剤２２との密着性を上げるために、隔壁１２に紫外線照射やプラズマ処理等により表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、ヒートシール剤２２の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。

次に、隔壁１２が形成される領域（表示領域６０）の外周に沿うように、流体状の表示媒体を取り囲むための外周シール６１が矩形状に配置される（外周シール配置工程：図２の工程（３））。

外周シール６１の配置方法の一例について具体的な説明を補足すれば、当該外周シール６１は、例えば紫外線硬化樹脂のような接着剤を、ディスペンサを用いて線幅０．５ｍｍ、高さ５０μｍで線状に塗布することによって配置される。

図２に戻って、隔壁１２または隔壁１２及び接着層２２で区画された各領域をセルとして、各セルの中に、表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程：図２の工程（４））。

図５は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、（１）ディスペンサ３１あるいはインクジェット、ダイコートからインキ１３が滴下され（インキ滴下工程）、（２）アプリケータ３２あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ１３が塗布される（インキ塗布工程）。なお、インキ１３は、後述するように、他方の基板１６上に配置されてもよい。

電気応答性材料としては、電荷粒子材料や液晶材料がある。電荷粒子材料には、白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料、等がある。一方、液晶材料には、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料、等がある。これら電気応答して光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用範囲である。

その後、隔壁１２上の接着層２２と、一方の基板１１に対して対向する他方の基板１６とが接着される（対向基板接着工程：図２の工程（５））。これにより、インキ１３が各セル内に封止される。

対向基板接着工程では、接着層２２として塗工されたヒートシール剤を加熱して接着力を得るようになっている。具体的には、図６に示すように、対向する一対の押圧ローラとしてのラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら、ヒートシール剤を周辺からその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、インキ１３が充填されている隔壁１２と他方の基板１６とを接着する。

その後、外周シール６１を硬化する外周シール硬化工程が行われる。具体的には、外周シール６１が配置された領域に対して紫外線が照射され、外周シール６１が硬化される。

そして、図２に示すように、対向基板接着工程の後で、基板１１、１６間の接着力を向上させるべく、一方の基板１１と他方の基板１６とが加熱される（加熱処理工程：図２の工程（６））。ここで、本実施の形態の加熱処理工程は、５％ＲＨ以上の加湿状態で行われる。この湿度範囲は、６０℃という加熱環境下では１．０ｋＰａ以上の水蒸気圧範囲に相当し、当該水蒸気圧範囲は２５℃における３２％ＲＨ以上に相当する。このような加熱処理工程が、恒温恒湿器を用いて、一般的には５０℃〜９０℃で、１時間〜００時間行われる。５０℃未満では接着材の再活性が十分でなく、接着力向上の効果が低い一方、９０℃超では基板１１、１６自体の耐熱性不足により基板１１、１６の熱収縮が起こる恐れがあるためである。また、１時間未満では接着材の再活性が十分でなく、接着力向上の効果が低い一方、１００時間超では加熱超過により表示材料自体の劣化を進める恐れがあるためである。その後、図２に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、所望の反射型表示装置の製造が完了する（断裁工程：図２の工程（７））。

以上のような本実施の形態によれば、加熱処理工程が５％ＲＨ以上の加湿状態で行われることにより、１.０ｋＰａ以上の水蒸気圧下で加熱されることとなり、一方の基板１１及び他方の基板１６の含水率に大きな変化が生じることを回避することができる。これにより、両基板１１、１６が加熱処理後に常温の４５％ＲＨ程度の環境に戻された後でも、水蒸気圧の変化が小さいため、両基板１１、１６が吸水して収縮していた状態から元の状態に戻る際の変形の程度が顕著に抑制される。このため、両基板１１、１６に歪みが発生して寸法安定性が悪化することが顕著に抑制される。

また、以上のような本実施の形態では、対向基板接着工程においてラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら両基板１１、１６が接着されているため、当該対向基板接着工程の際に熱による歪みが生じることがある。しかしながら、そのような熱による歪みは、以上のような本実施の形態によれば、加熱処理工程の際に解除（開放）される。

なお、以上の実施の形態は、原理的に、電気泳動体が荷電粉体で表示媒体が気体である場合にも適用可能である。

また、表示媒体としては、電気的に光学特性を変化させるものに限らず磁気や熱による外場に応答するものであってもよく、すなわち、本発明は原理的に表示媒体の種類によらず適用できる。また、表示媒体配置工程は、図７（ａ）に示すような前述の態様に限定されず、一方の基板１１と他方の基板１６の配置の上下を逆にして、他方の基板１６の表示領域上に表示媒体を配置してもよい（図７（ｂ）参照）。また、表示媒体にある程度の粘性がある（流動性が過度に高くない）ならば隔壁１２が形成された一方の基板の表示領域上に表示媒体を配置する代わりに、一方の基板１１の表示領域に対向配置される予定の他方の基板１６の表示領域上に表示媒体を配置してもよく（図７（ｃ）参照）、一方の基板１１と他方の基板１６の配置の上下を逆にして、一方の基板１１の表示領域上に表示媒体を配置してもよい（図７（ｄ）参照）。

また、以上の実施の形態は、一方の基板１１のインキ１３が配置されるのとは逆側の面、及び／または、他方の基板１６のインキ１３が配置されるのとは逆側の面に、水蒸気バリア層が設けられている時に好適である。このことについて説明する。

水蒸気バリア層は、基板１１、１６への水蒸気の出入りを抑制するための機能層であるが、高温状態ではバリア性能が顕著に低下してしまい、水蒸気バリア層が存在しない時と同程度に基板１１、１６は乾燥（脱水）してしまう。従って、従来の加熱処理工程では、水蒸気バリア層の存在に拘わらず、基板１１、１６は乾燥（脱水）してしまう。そして、加熱処理後に常温に戻った後は、水蒸気バリア層のバリア性能が回復するため、基板１１、１６が吸水して収縮していた状態から元の状態に戻る際の変形の速度が極めて遅くなる。このため、このような長時間に亘る変形の継続により、歪みが発生して、いわゆる寸法安定性が悪化してしまう。

しかしながら、以上の実施の形態によれば、このような水蒸気バリア層が設けられている場合でも、加熱処理工程が５％ＲＨ以上の加湿状態で行われることにより１．０ｋＰａ以上の水蒸気圧下で加熱されることとなり、一方の基板１１及び他方の基板１６の含水率に大きな変化が生じることを回避することができる。これにより、両基板１１、１６が加熱処理後に常温の４５％ＲＨ程度の環境に戻された後でも、両基板１１、１６に歪みが発生して寸法安定性が悪化することが顕著に抑制される。その後、水蒸気バリア層は、基板１１、１６への水蒸気の出入りを抑制することで、インキ１３の成分変化の発生を効果的に抑制することができる。

なお、水蒸気バリア層は、加熱処理工程後に各基板１１、１６に設けられてもよいが、水蒸気バリア層を設ける際に発生する歪みを残留させないためには、水蒸気バリア層を設けた後に加熱処理工程を行うことが好ましい。

その他、加熱処理工程時に、両基板１１、１６を互いに加圧してもよいが、そのような加圧は必須ではない。特に、基板１１、１６がフィルム基材からなる場合には、加熱時の変形に追従性があるため、加熱のみで接着力向上の効果は十分得られる。

次に、実際に行われた実施例について説明する。

＜反射型表示装置の実施例＞
＜実施例１＞
一方の基板１１として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．１２５ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４１００）の一方の面に透光性電極として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．２μｍ）が設けられた基板が用意された。透光性電極は、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。また、透光性電極が形成された面とは逆側の面に、水蒸気バリア層が形成された。

次に、当該一方の基板１１の透光性電極が形成された面に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を３０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２ ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、２００℃、６０分間の条件で焼成することで、隔壁１２の他方の基板１６側の端部の幅が１５μｍ、セルピッチが３００μｍのハニカム状パターンの隔壁１２が形成された。

次に、ヒートシール剤（東洋紡製バイロン５５０）をＰＥＴフィルム２１上に厚さ１０μｍで形成し、ヒートシール層付きＰＥＴフィルム（転写シート）とし、当該フィルム２１のヒートシール剤を隔壁１２の他方の基板１６側の端部に熱圧着（１３０℃、１ｋＰａ）した後に、当該フィルム２１を隔壁１２から離すことで、隔壁の他方の基板１６側の端部全面にヒートシール層を接着剤２２として形成した（図４参照）。

続いて、一方の基板１１の表示領域６０の外周を囲むように、ディスペンサを用いて紫外線硬化樹脂（スリーボンド社製：アクリル系シール剤３０５２Ｄ）が切れ目なく塗工されて、外周シール６１が線幅１．０ｍｍ、高さ１００μｍ２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形状に形成された。

続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ３１から滴下されて、中央スキージ３２（ニューロング製のスキージ１：ウレタン樹脂製）にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。
＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液 ・・・４０重量部

次いで、他方の基板１６として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．１２５ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４１００）に、Ｃｕ電極等の各種電極がパターン状に形成されたものが用いられた。各種電極のパターン形成は、一般的なエッチング法によって形成された。また、Ｃｕ電極等の各種電極が形成された面とは逆側の面に、水蒸気バリア層が形成された。

そして、大気中にて、一方の基板１１の隔壁１２上の接着層２２の上に他方の基板１６を位置合わせして重ね合わせ、ラミネータ９１で一定の熱圧着圧力を付与しつつ隔壁１２内のセル容積を超えるインク１３の余剰分を押し出しながら、一方の基板１１の隔壁１２と他方の基板１６とが密着された。熱圧着時の温度は、１００℃であった。また、熱圧着圧力は、０．１ＭＰａであった。

そして、対向基板接着工程の後で、基板１１、１６間の接着力を向上させるべく、一方の基板１１と他方の基板１６とが加熱された。ここで、当該加熱処理工程は、恒温恒湿器ＰＤＲ（ｅｓｐｅｃ製）を用いて、７％ＲＨの加湿状態で、６０℃にて１５時間行われた。この加湿条件は、１．４ｋＰａの水蒸気圧に相当し、当該水蒸気圧は２５℃における４５％ＲＨに相当する。

その後、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、表示パネルが作成された。

以上のようにして得られた表示パネルについて、２４℃、３９％ＲＨ、水蒸気圧１．２ｋＰａという環境下に静置したが、２０日間を経過しても、表示パネルにカールや歪みが発生することは無かった。また、各基板１１、１６の浮きも無かった。

＜比較例１＞
前記実施例１に対して、対向基板接着工程の後の加熱処理工程が、アズワン製熱処理機DO-450FPAを用いて、５％未満の湿度状態で、７０℃にて１５時間行われた。アズワン製データロガーRX78による測定値は、０．７％RHであった。これは、実質的に０ｋＰａの水蒸気圧に相当し、当該水蒸気圧範囲は２５℃においても０％ＲＨに相当する。その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。 このようにして得られた表示パネルについて、２４℃、３９％ＲＨ、水蒸気圧１．２ｋＰａという環境下に静置したが、２０日間を経過した段階で、基板１１、１６間の接着剥がれや部分的な浮きが生じていた。また、浮きが生じていた箇所においては、表示不良が確認された。

１１ 一方の基板
１２ 隔壁
１３ インキ（表示媒体）
１６ 他方の基板
２２ ヒートシール剤
３１ ディスペンサ
３２ 中央スキージ
４１ ディスペンサ
５１ 断裁装置
６０ 表示領域
６１ 外周シール
９１ ラミネータ

Claims (4)

1. 少なくとも一方が透光性を有する対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気泳動体を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に情報を表示する、反射型表示装置、を製造する方法であって、
   一方の基板と他方の基板との間に表示媒体が配置された状態で前記一方の基板と前記他方の基板とを接着する対向基板接着工程と、
   前記対向基板接着工程の後で、前記一方の基板と前記他方の基板とを加熱する加熱処理工程と、
   を備え、
   前記加熱処理工程は、加湿状態で行われる
   ことを特徴とする反射型表示装置の製造方法。
2. 前記加熱処理工程は、５％ＲＨ以上の加湿状態で行われる
   ことを特徴とする請求項１に記載の反射型表示装置の製造方法。
3. 前記加熱処理工程は、恒温恒湿器を用いて行われる
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の反射型表示装置の製造方法。
4. 前記一方の基板の前記表示媒体が配置されるのとは逆側の面、及び／または、前記他方の基板の前記表示媒体が配置されるのとは逆側の面に水蒸気バリア層が設けられている
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型表示装置の製造方法。

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