JP2015155847A - パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置 - Google Patents
パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015155847A JP2015155847A JP2014030852A JP2014030852A JP2015155847A JP 2015155847 A JP2015155847 A JP 2015155847A JP 2014030852 A JP2014030852 A JP 2014030852A JP 2014030852 A JP2014030852 A JP 2014030852A JP 2015155847 A JP2015155847 A JP 2015155847A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- probe
- spot
- field microscope
- passive near
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
Abstract
【課題】試料の表面に形成した温度が上昇したスポットに対して探針の位置合わせを行うことによって、広範囲に亘(わた)る種類の試料を計測の対象にすることができるとともに、容易に、かつ、短時間で探針の位置合わせを行うことが可能なようにする。【解決手段】パッシブ型近接場顕微鏡10による計測の対象である試料21を準備し、該試料21の表面に局所的に温度が上昇したスポットを形成し、該スポットに前記パッシブ型近接場顕微鏡10の焦点を合わせ、前記スポットに対して探針17を位置合わせすること、を含む。【選択図】図1
Description
本発明は、パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置に関するものである。
従来、光計測技術の分野においては、外部光源からのレーザ光等を計測対象に照射し、その透過、反射、散乱等を計測する「アクティブ」な計測方法である。一方、外部光源を使用することなく、計測対象から発信される情報を計測する「パッシブ」な計測方法は、分子運動や格子振動起因の光を直接的に捉えることができるために最近注目されつつある。パッシブな計測方法としては、例えば、温度顕微鏡(サーモグラフィ)、天体望遠鏡等を使用する計測方法が知られているが、これらの計測方法では、生体分子の活動、分子の格子振動等によって放出される放射光を計測することができない。そこで、計測対象自身、すなわち、試料自身からの放出光をナノスケールで検出するために、CSIP(Charage Sensitive Infrared Phototransistor)と呼ばれる検出器を使用するパッシブ型近接場顕微鏡による計測方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3、並びに、非特許文献1及び2参照。)。
これにより、例えば、試料自身の分子運動や格子振動から放出される赤外線とマイクロ波との間の領域の光乃至電磁波であるTHz(テラヘルツ)波(波長10〔μm〕〜1〔mm〕)を直接計測することができ、細胞内の生体反応の様子、金ナノ粒子触媒反応の様子等を観察することが可能となる。
しかしながら、前記従来のパッシブ型近接場顕微鏡による計測方法では、検出波長が約14.5〔μm〕のCSIPを使用しているので、幾何光学に基づいたレンズ光学系を使用した場合には、回折限界によって15〔μm〕程度の分解能しか得ることができない。そこで、先端径が50〔nm〕程度の探針を試料の表面から10〔nm〕程度にまで接近させて、試料の表面に局在するTHz波を散乱して検出する近接場計測技術によって、60〔nm〕程度の分解能を得るようになっている。
そのため、まず、試料の表面に対してレンズ光学系の焦点を合わせ、直径15〔μm〕程度の焦点に探針の先端を位置合わせする必要がある。そこで、従来は、探針の位置合わせ用のマーカーとして、図2に示されるような金属から成る微小なパターンを試料の表面に蒸着して、このパターンを目標として探針の位置合わせを行っている。
図2は従来のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法に使用される金属のパターンを示す光学顕微鏡写真である。なお、図において、(b)は(a)の要部拡大写真である。
しかし、この方法では、金属から成るパターンを表面に蒸着可能な試料でなければ、計測の対象にならず、例えば、生体分子、金ナノ粒子触媒等を試料とすることができない。
本発明は、前記従来の問題点を解決して、試料の表面に形成した温度が上昇したスポットに対して探針の位置合わせを行うことによって、広範囲に亘(わた)る種類の試料を計測の対象にすることができるとともに、容易に、かつ、短時間で探針の位置合わせを行うことが可能なパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置を提供することを目的とする。
そのために、本発明のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、パッシブ型近接場顕微鏡による計測の対象である試料を準備し、該試料の表面に局所的に温度が上昇したスポットを形成し、該スポットに前記パッシブ型近接場顕微鏡の焦点を合わせ、前記スポットに対して探針を位置合わせすること、を含む。
本発明の他のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、さらに、前記試料の表面にレーザ光を照射して前記スポットを形成する。
本発明の更に他のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、さらに、前記レーザ光は可視光である。
本発明の更に他のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、さらに、前記スポットは直径が100〔μm〕以下である。
本発明の更に他のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、さらに、前記スポットにおける温度の上昇は5〔K〕以上である。
本発明の更に他のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、さらに、前記パッシブ型近接場顕微鏡は、前記試料自身の近接場を前記探針で散乱することによって変換された伝搬波を検出する。
本発明のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ装置においては、パッシブ型近接場顕微鏡による計測の対象である試料の表面に局所的に温度が上昇したスポットを形成可能な試料局所加熱装置と、前記試料が載置される試料載置台であって、前記試料の位置を調整して前記スポットに前記パッシブ型近接場顕微鏡の焦点を合わせることが可能な試料載置台と、探針を支持する探針支持部材であって、前記探針の位置を調整して前記スポットに対して前記探針を位置合わせすることが可能な探針支持部材と、を備える。
本発明によれば、パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法においては、試料の表面に形成した温度が上昇したスポットに対して探針の位置合わせを行う。これにより、広範囲に亘る種類の試料を計測の対象にすることができるとともに、容易に、かつ、短時間で探針の位置合わせを行うことができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は本発明の実施の形態におけるパッシブ型近接場顕微鏡を示す概念図である。
図において、10は、本実施の形態におけるパッシブ型近接場顕微鏡であり、本発明の発明者等が実際に製造したものであって、非特許文献1及び2に示されるパッシブ型近接場顕微鏡と同様の構造を有する。前記パッシブ型近接場顕微鏡10は、計測の対象である試料21に外部光源等からの電磁波を照射することなく、試料21自身の近接場を探針17で散乱して伝搬波に変換し、該伝搬波を検出するパッシブ計測を行うための装置である。また、前記パッシブ型近接場顕微鏡10は、典型的には、赤外線とマイクロ波との間の領域の光乃至電磁波であるテラヘルツ波、すなわち、THz波を検出するための装置であるが、より波長の短い赤外線を検出することもでき、また、より波長の長いマイクロ波を検出することもでき、広範囲の波長帯乃至周波数帯の電磁波を検出することができる。ここでは、説明の都合上、試料21自身の近接場としてのエバネッセント場乃至エバネッセント波を探針17で散乱して得られた伝搬波としてのTHz波22を検出する場合についてのみ説明する。
前記パッシブ型近接場顕微鏡10は、クライオスタット11、該クライオスタット11内に配設されたCSIP検出器12、複数の検出器側レンズ13及びピンホール部材14、並びに、前記クライオスタット11外に配設された対物レンズ16、探針17、及び、該探針17を支持する探針支持部材18を備える。なお、15は、前記クライオスタット11の下面に配設されたTHz波22を透過する窓部材であって、クライオスタット11の内部と外部とを仕切っている。
前記CSIP検出器12は、特許文献1〜3に示される検出器と同様の構造を有するものであり、検出可能波長が12〜16〔μm〕程度の検出器であって、動作温度が液体ヘリウム温度、すなわち、約4.2〔K〕である。したがって、前記クライオスタット11内は、約4.2〔K〕に保たれている。一方、前記クライオスタット11外、すなわち、窓部材15より下方は、常温すなわち、約300〔K〕である。
また、図において、21は試料であり、試料載置台としての図示されないX−Y−Zテーブルの上に載置されている。該X−Y−Zテーブルを作動させることによって、パッシブ型近接場顕微鏡10に対する試料21の位置を調整することができる。
前記試料21からの伝搬波としてのTHz波22は、対物レンズ16で集められ、窓部材15を透過し、ピンホール部材14に形成された小孔(こう)、すなわち、ピンポールに集光される。そして、該ピンポールを通過したTHz波22は、検出器側レンズ13によって、CSIP検出器12の受光面に再集光され、該CSIP検出器12によって検出される。なお、前記対物レンズ16及び検出器側レンズ13は、例えば、ゲルマニウム(Ge)から成り、前記窓部材15は、例えば、セレン化亜鉛(ZnSe)から成る。
この場合、常温の対物レンズ16及び窓部材15からのプランク輻(ふく)射のうち、ピンホールを通過する立体角成分だけが背景輻射の迷光となる。したがって、ピンホールの径を絞ることによって、背景輻射の迷光を減らすことができ、また、パッシブ型近接場顕微鏡10の分解能が向上するので、試料21からのプランク輻射も減少する。本発明の発明者は、前記ピンホールの直径をφ=125〔mm〕とすると、パッシブ型近接場顕微鏡10の分解能は26〔μm〕となり、前記ピンホールの直径をφ=62〔mm〕とすると、パッシブ型近接場顕微鏡10の分解能は16〔μm〕となることを確認した。
また、前記X−Y−Zテーブルを作動させて試料21をZ軸方向に変位させることによって、前記パッシブ型近接場顕微鏡10の焦点を合わせることができ、試料21をX軸及びY軸方向に変位させることによって、前記パッシブ型近接場顕微鏡10は、試料21の表面を走査して2次元画像を得ることができる。
なお、前記試料21からの伝搬波は、いかなる種類の電磁波であってもよいが、例えば、前記試料21が金属である場合には、伝導電子の表面への衝突や反射によって表面から100〔nm〕程度の領域に生じるランダムな電磁場を要因とするエバネッセント波であるが、例えば、前記試料21が細胞等である場合には、生体分子の活動によって放出されるものであり、例えば、前記試料21が格子構造を有する物質である場合には、格子振動によって放出されるものであり、例えば、前記試料21が量子井戸を有する半導体である場合に量子閉込め効果によって放出されるものである。
前記探針17は、「発明が解決しようとする課題」の項においても説明したように、回折限界を超える分解能を実現するために、試料21から放出されるTHz波22を散乱させ、伝搬波に変換するものである。具体的には、前記探針17は、その先端の径が50〔nm〕程度であり、試料21の表面から10〔nm〕程度にまで接近させられ、これにより、パッシブ型近接場顕微鏡10は、60〔nm〕程度の分解能を得ることができる。
そして、前記探針17は、電解研磨等の方法によって製作されたタングステン(W)から成る針状の部材であって、その基端が音叉(さ)状の探針支持部材18に支持される。また、該探針支持部材18は、図示されないX−Y−Z駆動装置によってX軸、Y軸及びZ軸方向に変位させられ、これにより、前記探針17の先端と試料21の表面との位置関係を調整することができる。なお、前記X−Y−Z駆動装置は、従来周知の原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)におけるプローブの駆動装置と同様の駆動装置である。また、前記X−Y−Z駆動装置は、試料21の位置を調整する前記X−Y−Zテーブルに取り付けられることが望ましい。
次に、前記探針17の位置合わせ方法について説明する。
図3は本発明の実施の形態における探針の先端の位置合わせ方法を説明する図、図4−1は本発明の実施の形態における試料の表面にレーザスポットを形成する装置を示す概念図、図4−2は本発明の実施の形態におけるレーザスポットの位置合わせ装置を示す概念図である。なお、図3において、(a)は比較のために試料の表面に金属を蒸着する場合の図、(b)はレーザスポットをマーカーとする場合の図である。
パッシブ型近接場顕微鏡10によって試料21から放出されるTHz波22を計測するためには、「発明が解決しようとする課題」の項においても説明したように、まず、図3に示されるように、前記パッシブ型近接場顕微鏡10のレンズ光学系の直径15〔μm〕程度の焦点を試料21の表面に合わせ、続いて、前記焦点に探針17の先端を位置合わせする必要がある。
そのため、従来は、図3(a)に示されるように、探針17の位置合わせのためのマーカーとして、試料21の表面に金(Au)等の金属から成る微小なパターン25を蒸着し、該パターン25にパッシブ型近接場顕微鏡10のレンズ光学系の焦点を合わせた後、前記パターン25を目標として探針17の先端を位置合わせするようになっている。なお、前記パターン25は、具体的には、図2に示されるようなものである。しかし、前記パターン25は、図2に示されるGaAs(ガリウムヒ素)基板のように、金属を蒸着することができる試料21にしか使用することができず、例えば、生体分子、金ナノ粒子触媒等から成る試料21には使用することが不可能である。
そこで、本実施の形態においては、レーザスポット26によって試料21の表面に局所的な温度変化を起こし、局所的に温度が上昇したスポットであるレーザスポット26を擬似的なマーカーとして使用する。
具体的には、図3(b)に示されるように、レーザ光発生装置30からのレーザ光23を集光レンズ34によって集光し、試料21の表面にレーザスポット26を形成する。なお、前記レーザ光23は可視光である。また、前記レーザスポット26は、従来のパターン25と同様に、マーカーとして使用するものであるから、直径が約100〔μm〕以下であればよく、前記レーザスポット26における試料21の表面の温度上昇は、少なくとも5〔K〕以上であって、望ましくは10〔K〕以上であればよいことが、経験的に分かっている。
前記レーザスポット26のみは、温度上昇によってTHz波22の強度が増加しているので、オペレータは、前記レーザスポット26をマーカーとして利用し、パッシブ型近接場顕微鏡10のレンズ光学系の焦点を合わせた後、前記レーザスポット26を視認しながら、探針17を近付け、前記レーザスポット26に対して探針17の先端を位置合わせする。
本発明の発明者は、図4−1に示されるような試料局所加熱装置としてのレーザ光発生装置30を使用して、実際に、試料21の表面にレーザスポット26を形成した。前記レーザ光発生装置30は、レーザ光源装置31と、ビームエキスパンダ32と、前記レーザ光源装置31及びビームエキスパンダー32を支持する支持部35とを備える。該支持部35は、X−Y−Zテーブル36によって、試料21が載置された試料載置台29に対してX軸、Y軸及びZ軸方向に変位可能となっている。
前記レーザ光源装置31は、KaLaser社製の装置であって、波長532〔nm〕、直径1〔mm〕以下のレーザビームを発生し、該レーザビームは、前記ビームエキスパンダ32によって、直径が10倍に拡大される。レーザ光発生装置30から水平に出力されたレーザ光23は、前記レーザ光発生装置30の機械的拘束のため、ミラー33によって反射され、水平に対して30〔度〕傾斜させられた後、集光レンズ34によって集光され、試料21の表面にレーザスポット26を形成する。なお、前記集光レンズ34は、焦点距離がf=75〔mm〕、開口数がNA=0.16のものである。
また、本発明の発明者は、パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ装置を構築するために図4−2に示されるようなレーザスポットの位置合わせ装置を構築して使用した。この場合、前記X−Y−Zテーブル36は、試料21が載置された試料載置台29とともに共通テーブル38上に載置されている。そして、該共通テーブル38は、共通テーブル駆動装置39によって、パッシブ型近接場顕微鏡10の光軸並びにX軸、Y軸及びZ軸方向に変位可能となっている。
図4−2に示される装置は、次の(1)〜(4)の条件を満たしている。
(1)レーザ光源装置31の出力が50〔W/cm2 〕以上
(2)レンズ系の開口数がNA≧0.1
(3)光学系がX−Y−Z方向及び光軸方向に自由度を持つ
(4)光学系が試料21と同期して移動する
上記(1)及び(2)は、試料21の表面にレーザスポット26を形成するための条件である。上記(3)及び(4)は、位置合わせをスムーズに行うための条件である。これにより、光学系が試料21と同期して移動することが可能となる。
(1)レーザ光源装置31の出力が50〔W/cm2 〕以上
(2)レンズ系の開口数がNA≧0.1
(3)光学系がX−Y−Z方向及び光軸方向に自由度を持つ
(4)光学系が試料21と同期して移動する
上記(1)及び(2)は、試料21の表面にレーザスポット26を形成するための条件である。上記(3)及び(4)は、位置合わせをスムーズに行うための条件である。これにより、光学系が試料21と同期して移動することが可能となる。
次に、本発明の発明者が、前記レーザ光発生装置30を使用して、実際に、試料21の表面にレーザスポット26を形成した実験の結果について説明する。
まず、前記レーザ光発生装置30を評価した第1の実験の結果について説明する。
図5は本発明の実施の形態における第1の実験で使用したビームプロファイラの測定結果を示す写真である。なお、図において、(a)はビームプロファイラの測定結果、(b)はレーザスポットのプロファイルデータである。
本発明の発明者は、市販のビームプロファイラの表面に前記レーザ光発生装置30から出力されたレーザ光23の焦点を合わせ、前記ビームプロファイラの表面に形成されたレーザスポット26のスポットサイズを測定した。具体的には、前記レーザスポット26の有効面積を計算した。なお、前記ビームプロファイラは、CINOGY社製のUV−NIR Laser Beam Profiler−CinCamである。
図5に示されるビームプロファイラの測定結果から、レーザスポット26の有効面積は、432〔μm2 〕であり、直径は23.4〔μm〕である、との計算結果を得ることができた。このことから、前記レーザ光発生装置30は、探針17の位置合わせのためのマーカーとして使用するレーザスポット26を形成するために十分な性能を備えるものであることを確認することができる。
次に、表面に金を蒸着したGaAs基板を試料21として使用した第2の実験の結果について説明する。
図6は本発明の実施の形態における第2の実験で試料の表面に形成されたレーザスポットのサーモグラフィ像を示す写真、図7は本発明の実施の形態における第2の実験で形成されたレーザスポットの温度変化であって図6における白線上の温度変化を示す図、図8は本発明の実施の形態における第2の実験で形成されたレーザスポットのサイズ、温度変化及びレーザ光源装置の出力の関係を示す図である。
本発明の発明者は、図4に示されるようなレーザ光発生装置30を使用して、実際に、試料21の表面にレーザスポット26を形成し、該レーザスポット26をサーモグラフィで観察した。該サーモグラフィは、NEC Avio赤外線テクノロジー株式会社製の製品番号TVS8500である。また、第2の実験においては、試料21として、図2に示されるように、表面に金を蒸着したGaAs基板を使用した。
図6には、レーザスポット26を前記サーモグラフィで観察した結果が示され、図7には、図6に示される白線上の温度変化のデータが示されている。なお、図7において、横軸は白線上の位置(単位:10〔μm〕)を示し、縦軸は温度(単位:〔°C〕)を示している。図6からは、2つの十字パターンの間に、温度が上昇したスポットが存在することを確認することができる。
また、図8には、レーザ光源装置31の出力を変化させながら計測した試料21の表面のレーザスポット26の温度変化ΔT及びスポットサイズの値が示されている。なお、図8において、横軸はレーザ光源装置31の出力(単位:〔W/cm2 〕)を示し、左側の縦軸はレーザスポット26のスポットサイズ(単位:〔μm〕)を示し、右側の縦軸はレーザスポット26の温度変化ΔT(単位:〔K〕)を示している。前記レーザスポット26のスポットサイズは、図7に示されるようなレーザスポット26を通る白線上の温度変化プロファイルの半値幅を計算によって求めた値であり、前記レーザスポット26の温度変化ΔTは、図7に示されるようなレーザスポット26を通る白線上の温度変化の最大値と最小値との差である。
図8に示される結果から、レーザスポット26のスポットサイズは、レーザ光源装置31の出力の変化に関わらず、直径50〔μm〕程度でほぼ一定であるが、レーザスポット26の温度変化ΔTは、レーザ光源装置31の出力を大きくすると上昇することが見て取れる。
そして、図8に示される結果から、試料21がGaAs基板である場合、レーザ光源装置31の出力が50〔W/cm2 〕程度のレーザ光23で、直径50〔μm〕及び温度上昇約10〔K〕のレーザスポット26が生じることが確認された。前述のように、レーザスポット26の直径が100〔μm〕以下であって、前記レーザスポット26における試料21の表面の温度上昇が5〔K〕以上であればマーカーとして使用可能であることが経験的に分かっているので、本発明の発明者が、レーザ光発生装置30を使用して、試料21であるGaAs基板の表面に形成したレーザスポット26は、探針17の位置合わせのためのマーカーとして十分に使用することができるものである。
次に、BTB(Bromothymol Blue)溶液を混合して色を付けたLB(Lysogeny Broth)培地を試料21として使用した第3の実験の結果について説明する。
図9は本発明の実施の形態における第3の実験で試料の表面に形成されたレーザスポットのサーモグラフィ像を示す写真、図10は本発明の実施の形態における第3の実験で形成されたレーザスポットの温度変化であって図9における白線上の温度変化を示す図、図11は本発明の実施の形態における第2の実験で形成されたレーザスポットのサイズ、温度変化及びレーザ光源装置の出力の関係を示す図である。なお、図9において、(a)はレーザスポットのサーモグラフィ像、(b)は試料である。
第3の実験においても、第2の実験と同様のレーザ光発生装置30及びサーモグラフィを使用した。しかし、第3の実験においては、試料21として、図9(b)に示されるようなBTB溶液を混合して色を付けたLB培地を使用した。
図9(a)には、レーザスポット26を前記サーモグラフィで観察した結果が示され、図10には、図9(a)に示される白線上の温度変化のデータが示されている。なお、図10において、横軸は白線上の位置(単位:10〔μm〕)を示し、縦軸は温度(単位:〔°C〕)を示している。図9(a)からは、LB培地の表面に、温度が上昇したスポットが存在することを確認することができる。
また、図11には、レーザ光源装置31の出力を変化させながら計測した試料21の表面のレーザスポット26の温度変化ΔT及びスポットサイズの値が示されている。なお、図11において、横軸はレーザ光源装置31の出力(単位:〔W/cm2 〕)を示し、右側の縦軸はレーザスポット26のスポットサイズ(単位:〔μm〕)を示し、左側の縦軸はレーザスポット26の温度変化ΔT(単位:〔K〕)を示している。前記レーザスポット26のスポットサイズは、図10に示されるようなレーザスポット26を通る白線上の温度変化プロファイルの半値幅を計算によって求めた値であり、前記レーザスポット26の温度変化ΔTは、図10に示されるようなレーザスポット26を通る白線上の温度変化の最大値と最小値との差である。
図11に示される結果から、レーザ光源装置31の出力が2〔W/cm2 〕程度のときに、直径500〜1000〔μm〕程度のスポットサイズであって、温度変化ΔT、すなわち、温度上昇が10〔K〕程度のレーザスポット26が形成されることを確認することができる。
第2の実験の結果と比較すると、第3の実験の結果では、レーザスポット26のスポットサイズ及び温度変化ΔTが大きくなっている。これは、第3の実験における試料21であるLB培地と第2の実験における試料21であるGaAs基板との熱伝導率の違い、前記LB培地の表面が前記GaAs基板の表面に比べて粗いこと、時間の経過とともに前記LB培地が乾燥してその体積が減少するので前記LB培地の表面にレーザ光23の焦点を合わせることが難しいこと等の理由によって、第3の実験では、理想的な状態のレーザスポット26を形成することが困難であったからである。しかしながら、レーザ光発生装置30を使用してレーザスポット26を形成するための操作に習熟すれば、前記LB培地の表面にも、直径100〔μm〕以下のスポットサイズのレーザスポット26を形成することは可能である。
そうすると、前述のように、レーザスポット26の直径が100〔μm〕以下であって、前記レーザスポット26における試料21の表面の温度上昇が5〔K〕以上であればマーカーとして使用可能であることが経験的に分かっているので、本発明の発明者が、レーザ光発生装置30を使用して、試料21であるLB培地の表面に形成したレーザスポット26は、探針17の位置合わせのためのマーカーとして十分に使用することができるものである。
これらの実験の結果から、試料21が、GaAs基板及びLB培地以外のものであっても、熱伝導率の低いものであれば、レーザスポット26を探針17の位置合わせのためのマーカーとして使用し得ることが分かる。したがって、前記試料21が、例えば、細胞であっても、金ナノ粒子であっても、レーザスポット26を探針17の位置合わせのためのマーカーとして使用することができ、これにより、パッシブ型近接場顕微鏡10によって細胞、金ナノ粒子等から放出されるTHz波を計測し、細胞内の生体反応の様子、金ナノ粒子触媒反応の様子等を観察することができる。
このように、本実施の形態のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法は、パッシブ型近接場顕微鏡10による計測の対象である試料21を準備し、試料21の表面に局所的に温度が上昇したレーザスポット26を形成し、レーザスポット26にパッシブ型近接場顕微鏡10の焦点を合わせ、レーザスポット26に対して探針17を位置合わせすること、を含む方法である。また、本実施の形態のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ装置は、パッシブ型近接場顕微鏡10による計測の対象である試料21の表面に局所的に温度が上昇したレーザスポット26を形成可能なレーザ光発生装置30と、試料21が載置されるX−Y−Zテーブルであって、試料21の位置を調整してレーザスポット26にパッシブ型近接場顕微鏡10の焦点を合わせることが可能なX−Y−Zテーブルと、探針17を支持する探針支持部材18であって、探針17の位置を調整してレーザスポット26に対して探針17を位置合わせすることが可能な探針支持部材18と、を備える。
これにより、広範囲に亘る種類の試料21を計測の対象にすることができるとともに、容易に、かつ、短時間で探針17の位置合わせを行うことができる。
なお、試料21の表面にレーザ光23を照射してレーザスポット26を形成する。したがって、試料21の表面に容易に、かつ、正確に微小なレーザスポット26を形成することができる。
また、レーザ光23は可視光である。したがって、レーザスポット26を視認することができる。
さらに、レーザスポット26は直径が100〔μm〕以下である。このように、微小なレーザスポット26であっても、探針17を正確に位置合わせすることができる。
さらに、レーザスポット26における温度の上昇は5〔K〕以上である。このように、温度上昇の程度が小さくてもよいので、レーザスポット26を形成しても、試料21の性質に影響を及ぼすことがない。
さらに、パッシブ型近接場顕微鏡10は、試料21自身の近接場を探針17で散乱することによって変換された伝搬波を検出する。したがって、試料21自身の分子運動や格子振動から放出される電磁波を直接計測することができ、細胞内の生体反応の様子、金ナノ粒子触媒反応の様子等を観察することが可能となる。
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明は、パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置に適用することができる。
10 パッシブ型近接場顕微鏡
17 探針
18 探針支持部材
21 試料
23 レーザ光
26 レーザスポット
30 レーザ光発生装置
17 探針
18 探針支持部材
21 試料
23 レーザ光
26 レーザスポット
30 レーザ光発生装置
Claims (7)
- パッシブ型近接場顕微鏡による計測の対象である試料を準備し、
該試料の表面に局所的に温度が上昇したスポットを形成し、
該スポットに前記パッシブ型近接場顕微鏡の焦点を合わせ、
前記スポットに対して探針を位置合わせすること、
を含むことを特徴とするパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法。 - 前記試料の表面にレーザ光を照射して前記スポットを形成する請求項1に記載のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法。
- 前記レーザ光は可視光である請求項2に記載のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法。
- 前記スポットは直径が100〔μm〕以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法。
- 前記スポットにおける温度の上昇は5〔K〕以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法。
- 前記パッシブ型近接場顕微鏡は、前記試料自身の近接場を前記探針で散乱することによって変換された伝搬波を検出する請求項1〜5のいずれか1項に記載のパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法。
- パッシブ型近接場顕微鏡による計測の対象である試料の表面に局所的に温度が上昇したスポットを形成可能な試料局所加熱装置と、
前記試料が載置される試料載置台であって、前記試料の位置を調整して前記スポットに前記パッシブ型近接場顕微鏡の焦点を合わせることが可能な試料載置台と、
探針を支持する探針支持部材であって、前記探針の位置を調整して前記スポットに対して前記探針を位置合わせすることが可能な探針支持部材と、
を備えることを特徴とするパッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014030852A JP2015155847A (ja) | 2014-02-20 | 2014-02-20 | パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014030852A JP2015155847A (ja) | 2014-02-20 | 2014-02-20 | パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015155847A true JP2015155847A (ja) | 2015-08-27 |
Family
ID=54775237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014030852A Pending JP2015155847A (ja) | 2014-02-20 | 2014-02-20 | パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015155847A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017104697A1 (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | 国立大学法人東京工業大学 | テラヘルツ検出センサ及びテラヘルツ画像測定装置 |
CN111811939A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-10-23 | 上海交通大学 | 超低温环境下的高精度纳米力学检测系统 |
CN113252947A (zh) * | 2021-04-21 | 2021-08-13 | 上海交通大学 | 基于多探针的无光源式近场热辐射扫描显微镜系统 |
KR20210149919A (ko) * | 2020-06-02 | 2021-12-10 | 파크시스템스 주식회사 | 열감지 탐침을 이용하여 특정 공간의 열분포를 측정하기 위한 방법, 광원의 빔스팟을 검출하기 위한 방법 및 장치 |
US12038455B2 (en) | 2020-06-02 | 2024-07-16 | Park Systems Corp. | Measuring method for measuring heat distribution of specific space using SThM probe, method and device for detecting beam spot of light source |
-
2014
- 2014-02-20 JP JP2014030852A patent/JP2015155847A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017104697A1 (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | 国立大学法人東京工業大学 | テラヘルツ検出センサ及びテラヘルツ画像測定装置 |
JPWO2017104697A1 (ja) * | 2015-12-15 | 2018-10-04 | 国立大学法人東京工業大学 | テラヘルツ検出センサ及びテラヘルツ画像測定装置 |
US10436632B2 (en) | 2015-12-15 | 2019-10-08 | Tokyo Institute Of Technology | Terahertz detection sensor and terahertz image measurement device |
KR20210149919A (ko) * | 2020-06-02 | 2021-12-10 | 파크시스템스 주식회사 | 열감지 탐침을 이용하여 특정 공간의 열분포를 측정하기 위한 방법, 광원의 빔스팟을 검출하기 위한 방법 및 장치 |
KR102414946B1 (ko) * | 2020-06-02 | 2022-07-04 | 파크시스템스 주식회사 | 광원의 빔스팟을 검출하기 위한 방법 및 장치 |
US11598788B2 (en) | 2020-06-02 | 2023-03-07 | Park Systems Corp. | Measuring method for measuring heat distribution of specific space using SThM probe, method and device for detecting beam spot of light source |
US12038455B2 (en) | 2020-06-02 | 2024-07-16 | Park Systems Corp. | Measuring method for measuring heat distribution of specific space using SThM probe, method and device for detecting beam spot of light source |
CN111811939A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-10-23 | 上海交通大学 | 超低温环境下的高精度纳米力学检测系统 |
CN113252947A (zh) * | 2021-04-21 | 2021-08-13 | 上海交通大学 | 基于多探针的无光源式近场热辐射扫描显微镜系统 |
CN113252947B (zh) * | 2021-04-21 | 2022-05-03 | 上海交通大学 | 基于多探针的无光源式近场热辐射扫描显微镜系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11592391B2 (en) | Photothermal imaging device and system | |
Chen et al. | Microsphere enhanced optical imaging and patterning: From physics to applications | |
JP5292128B2 (ja) | 走査プローブ顕微鏡およびこれを用いた試料の観察方法 | |
CN110234982A (zh) | 用于化学成像原子力显微镜红外光谱法的方法和装置 | |
US8424111B2 (en) | Near-field optical microscope, near-field optical probe, and sample observation method | |
JP2021521446A (ja) | 迅速な多重化された赤外3dナノトモグラフィ | |
US7760364B1 (en) | Systems and methods for near-field heterodyne spectroscopy | |
CN105675639B (zh) | 电子束诱导二次谐波的超分辨显微系统及测试方法 | |
CN105699315A (zh) | 太赫兹波测量装置、测量方法以及测量仪器 | |
JP2015155847A (ja) | パッシブ型近接場顕微鏡における探針位置合わせ方法及び装置 | |
JP5403618B2 (ja) | 熱物性測定装置および熱伝導イメージング装置 | |
Doster et al. | Tailoring the surface plasmon resonance of embedded silver nanoparticles by combining nano-and femtosecond laser pulses | |
Tofail et al. | In Situ, Real‐Time Infrared (IR) Imaging for Metrology in Advanced Manufacturing | |
US8209767B1 (en) | Near field detection for optical metrology | |
JP5067754B2 (ja) | 近接場顕微装置とその分光・画像取得方法 | |
JP5453407B2 (ja) | 組織化された材料のナノ構造を探索するための焦点容量の変調を伴うコヒーレント非線形顕微鏡法システム及び方法 | |
JP2014142291A (ja) | 走査プローブ顕微鏡およびこれを用いた試料の観察方法 | |
CN110470639B (zh) | 一种基于激光诱导光热效应的多模式扫描显微镜成像系统 | |
JP2005181085A (ja) | 光トラッププローブ近接場光顕微鏡装置及び近接場光検出方法 | |
US8434159B2 (en) | AFM measuring method and system thereof | |
US8724116B2 (en) | Scanning mirrors in near field optical microscope having super resolution | |
KR102059658B1 (ko) | 2차 고조파를 이용한 초고해상도 광활성 원자 현미경 | |
Totachawattana et al. | Robust mid-infrared photothermal imaging system for characterization of thin films at high spatial resolution | |
JP2006038774A (ja) | 近接場光評価装置 | |
JP2021131288A (ja) | 掃引雑音顕微鏡及びその使用方法 |