JP2015153807A - Component transfer device and component soldering method using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、回路基板に部品をはんだ付けするはんだ付装置に用いる部品搬送装置およびそれを用いた部品のはんだ付け方法に関する。 The present invention relates to a component conveying device used in a soldering apparatus for soldering a component to a circuit board, and a component soldering method using the same.
回路基板上に電子部品がはんだ付けされた実装基板は、回路パターンが形成された回路基板上に電子部品をはんだ付けすることで作製される。この電子部品の一つとして、チップ型部品がある。一般的に、チップ型部品をはんだ付けするには、まず、回路基板の端子上或いはチップ型部品の端子上にはんだが配置された状態で、チップ型部品を回路基板上に配置する。その後、チップ型部品が配置された回路基板をリフロー炉に通して、チップ型部品が回路基板上にはんだ付けされる。 The mounting board in which the electronic component is soldered on the circuit board is manufactured by soldering the electronic component on the circuit board on which the circuit pattern is formed. One of these electronic components is a chip-type component. Generally, in order to solder a chip-type component, first, the chip-type component is arranged on the circuit board in a state where the solder is arranged on the terminal of the circuit board or the terminal of the chip-type component. Thereafter, the circuit board on which the chip-type components are arranged is passed through a reflow furnace, and the chip-type parts are soldered onto the circuit board.
このとき回路基板の端子やはんだが酸化していると、回路基板の端子のはんだ濡れ性が悪く、適切にチップ型部品と回路基板とをはんだ付けできない場合がある。このため、端子やはんだの酸化膜を還元してはんだ付けを行う技術が提案されている。 At this time, if the terminals and solder of the circuit board are oxidized, the solder wettability of the terminals of the circuit board is poor, and the chip-type component and the circuit board may not be properly soldered. For this reason, a technique has been proposed in which soldering is performed by reducing a terminal or solder oxide film.
下記特許文献1には、このようなはんだ付けを行うはんだリフロー装置が記載されている。このはんだリフロー装置では、加熱されたリフロー炉内に還元性薬液を噴霧すると共に窒素ガスを供給する。この還元性薬液によりはんだ等の酸化膜が還元される。
ところで、チップ型部品には回路基板に配置される側にはんだバンプが形成されたフリップチップ型部品がある。フリップチップ型部品ははんだバンプ同士の位置が近く、そのはんだ付けには精密な位置決めが要求される。しかしながら、回路基板上の正確な位置にフリップチップ型部品を配置した場合であっても、上記特許文献1に記載のようにはんだリフロー炉を通すと、はんだが溶融することでフリップチップ型部品の位置を保持する力が小さくなり、フリップチップ型部品の位置がずれてしまうことがある。
By the way, there is a flip chip type component in which solder bumps are formed on the side arranged on the circuit board. Flip chip type parts are close to each other in solder bumps, and precise positioning is required for soldering. However, even when the flip chip type component is arranged at an accurate position on the circuit board, when the solder reflow furnace is passed as described in
このため、フリップチップ型部品をはんだ付けする際に、フリップチップ型部品を回路基板上に搬送する部品搬送装置により、フリップチップ型部品を回路基板上で保持することが行われている。この場合、部品搬送装置でフリップチップ型部品を保持したまま回路基板をはんだリフロー炉に通すことができないため、部品搬送装置によってフリップチップ型部品を保持した状態で、回路基板をヒーターにより加熱してはんだ付けを行う。 For this reason, when soldering a flip chip type component, the flip chip type component is held on the circuit board by a component conveying device that conveys the flip chip type component onto the circuit board. In this case, since the circuit board cannot be passed through the solder reflow furnace while holding the flip chip type component in the component conveying device, the circuit board is heated by the heater while the flip chip type component is held by the component conveying device. Perform soldering.
部品搬送装置は、部品が並べられているトレーやコンベアと回路基板との間をアームが移動して、トレーやコンベア上の部品をキャッチして回路基板上まで搬送する。従って、回路基板が配置された場所を閉空間とすることができず、上記のような還元性薬液の噴霧が困難であった。このため、フリップチップ型部品のような精密な位置決めを必要とするチップ部品を実装する場合にも、はんだ等の酸化膜を除去して適切にはんだ付けを行うことができる技術が求められている。 In the component conveying device, an arm moves between a tray or conveyor on which components are arranged and a circuit board, catches the components on the tray or conveyor, and conveys them onto the circuit board. Therefore, the place where the circuit board is disposed cannot be a closed space, and it is difficult to spray the reducing chemical solution as described above. For this reason, even when mounting a chip component that requires precise positioning, such as a flip-chip type component, a technique that can appropriately perform soldering by removing an oxide film such as solder is required. .
そこで、本発明は、部品の位置を正確に定めた状態で、適切にはんだ付けを行うことができる部品搬送装置、および、それを用いた部品のはんだ付け方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a component conveying apparatus capable of performing appropriate soldering in a state where the position of the component is accurately determined, and a component soldering method using the component conveying device.
上記課題を解決するため、本発明は、可動アームによって部品を回路基板上に搬送する部品搬送装置であって、前記可動アームに設けられ前記部品を保持する保持部と、前記可動アームに設けられ、還元性ガスの少なくとも一部が前記回路基板に向かうように前記還元性ガスが噴霧される噴霧口と、を備えることを特徴とするものである。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a component conveying apparatus that conveys a component onto a circuit board by a movable arm, the holding unit being provided on the movable arm and holding the component, and the movable arm. And a spraying port through which the reducing gas is sprayed so that at least a part of the reducing gas is directed toward the circuit board.
この部品搬送装置は、保持部で部品を保持するため、トレー等に置かれた部品を可動アームによって搬送して回路基板上に配置した後においても部品を保持し続けることができる。従って、回路基板が加熱されて基板と部品とを接続するはんだが溶融している状態においても、部品の位置を正確に定めることができる。また、噴霧口が可動アームに設けられる。これにより、部品を回路基板上に配置する直前や、回路基板上に配置された部品を保持した状態において、還元性ガスを回路基板に向かって噴霧することができる。回路基板に向かって噴霧された還元性ガスは、回路基板の周囲に漂う。従って、装置全体を還元性ガス雰囲気とせずとも、回路基板上の酸化膜及び回路基板と部品とを接続するはんだ表面の酸化膜を還元することができる。このはんだは回路基板上に配置されている場合や部品上に配置されている場合がある。回路基板が加熱されてはんだが溶融している場合においては、溶融しているはんだの表面に形成された酸化膜が還元される。このように酸化膜を除去することができるため、適切にはんだ付けを行うことができるのである。 Since the component transport device holds the component by the holding unit, it can continue to hold the component even after the component placed on the tray or the like is transported by the movable arm and placed on the circuit board. Therefore, the position of the component can be accurately determined even when the circuit board is heated and the solder that connects the substrate and the component is melted. Further, a spray port is provided in the movable arm. Thereby, the reducing gas can be sprayed toward the circuit board immediately before the parts are arranged on the circuit board or in a state where the parts arranged on the circuit board are held. The reducing gas sprayed toward the circuit board drifts around the circuit board. Therefore, the oxide film on the circuit board and the oxide film on the solder surface connecting the circuit board and the components can be reduced without setting the entire apparatus to a reducing gas atmosphere. This solder may be disposed on a circuit board or a component. When the circuit board is heated and the solder is melted, the oxide film formed on the surface of the melted solder is reduced. Since the oxide film can be removed in this way, soldering can be performed appropriately.
また、前記保持部は、前記部品を吸引することで前記部品を保持する吸引口を有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said holding | maintenance part has a suction port which hold | maintains the said component by attracting | sucking the said component.
吸引口による吸引により、部品保持部へ向かう気流を流れ易くすることができる。従って、回路基板に向かって噴霧される還元性ガスの一部が部品保持部に保持される部品の近傍をより漂い易くなる。このため、より効率良くはんだ等の酸化膜を還元することができる。 The airflow toward the component holding part can be easily flowed by the suction by the suction port. Therefore, a part of the reducing gas sprayed toward the circuit board is more likely to drift in the vicinity of the component held by the component holding unit. For this reason, an oxide film such as solder can be reduced more efficiently.
また、前記吸引口は、前記噴霧口よりも前記回路基板側に設けられることが好ましい。或いは、前記吸引口と前記噴霧口とが、前記回路基板の前記部品が配置される面と平行な面において面一に設けられることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said suction port is provided in the said circuit board side rather than the said spraying port. Or it is preferable that the said suction port and the said spraying port are provided in the same plane in the surface parallel to the surface where the said components of the said circuit board are arrange | positioned.
吸引口と噴霧口とが上記のような位置関係に設けられることで、厚みが小さな部品であっても、部品をトレー等から保持する際や部品を回路基板上に配置する際に噴霧口が形成される部位が邪魔となることを防止することができる。 By providing the suction port and the spray port in the positional relationship as described above, the spray port can be used when holding the component from a tray or the like or when placing the component on the circuit board, even if the component is thin. It can prevent that the site | part formed is obstructive.
或いは、前記噴霧口は、前記吸引口よりも前記回路基板側に設けられることが好ましい。 Or it is preferable that the said spraying opening is provided in the said circuit board side rather than the said suction opening.
このように噴霧口が設けられることで、部品と回路基板との接続部により近い場所から還元性ガスを噴霧することができる。従って、より適切に酸化膜を還元することができる。 By providing the spray port in this manner, the reducing gas can be sprayed from a place closer to the connection portion between the component and the circuit board. Therefore, the oxide film can be reduced more appropriately.
また、前記噴霧口は、前記保持部から離れる方向に開口することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said spraying opening opens in the direction away from the said holding | maintenance part.
このように噴霧口が形成されることで、還元性ガスを回路基板に向かう方向に噴霧しつつも保持部から離れる方向に噴霧することができ、部品と回路基板との接続部近傍にある大気を還元性ガスの流れにより減らすことができる。このように接続部近傍にある大気が減ることにより、当該接続部近傍には還元性ガスが漂う傾向がある。従って、還元すべき部位が再び酸化することを抑制することができる。 By forming the spray port in this way, the reducing gas can be sprayed in the direction away from the holding portion while being sprayed in the direction toward the circuit board, and the air in the vicinity of the connection portion between the component and the circuit board can be sprayed. Can be reduced by the flow of reducing gas. As the air in the vicinity of the connection portion decreases in this way, reducing gas tends to drift near the connection portion. Therefore, the site to be reduced can be prevented from oxidizing again.
或いは、前記噴霧口は、前記保持部に近づく方向に開口することが好ましい。 Or it is preferable that the said spraying opening opens in the direction which approaches the said holding | maintenance part.
このように噴霧口が形成されることで、還元性ガスを回路基板に向かう方向に噴霧しつつも保持部に近づく方向に噴霧することができ、部品と回路基板との接続部近傍を濃度の高い還元性ガス雰囲気にすることができる。従って、より早く酸化膜の除去を行うことができる。 By forming the spray port in this way, the reducing gas can be sprayed in the direction approaching the holding part while spraying in the direction toward the circuit board, and the vicinity of the connection part between the component and the circuit board can be concentrated. A high reducing gas atmosphere can be obtained. Therefore, the oxide film can be removed more quickly.
また、前記噴霧口と前記保持部に保持された部品が位置すべき部位とを囲む枠部を更に備えることが好ましい。 Moreover, it is preferable to further provide a frame portion that surrounds the spray port and a portion where the component held by the holding portion is to be located.
このような枠部により、枠内の還元性ガスの濃度を高くすることができる。従って、より早く酸化膜の除去を行うことができる。 With such a frame portion, the concentration of the reducing gas in the frame can be increased. Therefore, the oxide film can be removed more quickly.
また、前記噴霧口は、前記還元性ガスと共に不活性ガスを噴霧することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said spraying port sprays inert gas with the said reducing gas.
不活性ガスにより、部品と回路基板との接続部近傍にある大気を減らすことができる。従って、還元すべき部位が再び酸化することを抑制することができる。 The inert gas can reduce the air in the vicinity of the connection between the component and the circuit board. Therefore, the site to be reduced can be prevented from oxidizing again.
また、前記還元性ガスを加熱するヒーターを更に備え、前記還元性ガスは、前記ヒーターで加熱された状態で噴霧されることが好ましい。 Moreover, it is preferable to further comprise a heater for heating the reducing gas, and the reducing gas is sprayed in a state heated by the heater.
還元性ガスが加熱されることで、還元反応時間を短縮することができる。また、はんだ付けの際に回路基板の温度が低下することや溶融したはんだが不当に固化することを抑制することができる。 The reduction reaction time can be shortened by heating the reducing gas. Moreover, it can suppress that the temperature of a circuit board falls at the time of soldering, or the melted solder solidifies unreasonably.
また、本発明の部品のはんだ付け方法は、部品搬送装置の可動アームに設けられた保持部によって部品を保持して前記部品を搬送する搬送ステップと、回路基板上に前記部品を配置すると共に前記保持部が前記部品を保持した状態を維持する配置ステップと、前記回路基板上の前記部品が前記保持部で保持された状態で、還元性ガスの少なくとも一部が前記回路基板に向かうように前記可動アームに設けられる噴霧口から前記還元性ガスを噴霧する噴霧ステップと、前記回路基板上の前記部品が前記保持部で保持された状態で、前記部品と前記回路基板とをはんだ付けするはんだ付けステップと、を備えることを特徴とするものである。 The component soldering method of the present invention includes a conveying step of conveying the component by holding the component by a holding portion provided in a movable arm of the component conveying device, and arranging the component on a circuit board and An arrangement step for maintaining the state in which the holding unit holds the component, and in a state in which the component on the circuit board is held by the holding unit, at least a part of the reducing gas is directed to the circuit board. A spraying step of spraying the reducing gas from a spray port provided in the movable arm, and soldering for soldering the component and the circuit board in a state where the component on the circuit board is held by the holding unit And a step.
このような部品のはんだ付け方法によれば、回路基板上に配置した部品を保持した状態ではんだ付けを行うため、回路基板と部品とを接続するはんだが溶融している状態においても、部品の位置を正確に定めることができる。また、回路基板上で部品を保持した状態で、可動アームに設けられる噴霧口から還元性ガスが回路基板に向かって噴霧されるため、装置全体を還元性ガス雰囲気とせずとも、回路基板上の酸化膜や回路基板と部品とを接続するはんだの酸化膜を還元することができる。従って、適切なはんだ付けを行うことができる。 According to such a component soldering method, since the soldering is performed in a state where the component arranged on the circuit board is held, even in a state where the solder for connecting the circuit board and the component is melted, The position can be determined accurately. In addition, since the reducing gas is sprayed toward the circuit board from the spray port provided in the movable arm in a state where the components are held on the circuit board, the entire apparatus can be placed on the circuit board without using a reducing gas atmosphere. The oxide film of the solder which connects an oxide film or a circuit board and components can be reduced. Therefore, appropriate soldering can be performed.
また、本発明の他の部品のはんだ付け方法は、部品搬送装置の可動アームに設けられた保持部により部品を保持して前記部品を搬送する搬送ステップと、回路基板と前記部品との間が所定の距離以下となったときに、還元性ガスの少なくとも一部が前記回路基板に向かうように、前記可動アームに設けられる噴霧口から前記還元性ガスを噴霧する噴霧ステップと、前記回路基板上に前記部品を配置すると共に前記保持部が前記部品を保持した状態維持する配置ステップと、前記回路基板上の前記部品が前記保持部で保持された状態で、前記部品と前記回路基板とをはんだ付けするはんだ付けステップと、を備えることを特徴とするものである。 In addition, according to another method of soldering a component of the present invention, a conveyance step of conveying the component by holding the component by a holding portion provided on a movable arm of the component conveyance device, and a circuit board and the component are separated. A spraying step of spraying the reducing gas from a spraying port provided in the movable arm so that at least a part of the reducing gas is directed to the circuit board when the distance is equal to or less than a predetermined distance; Placing the component on the circuit board and maintaining the state in which the holding unit holds the component, and soldering the component and the circuit board in a state in which the component on the circuit board is held by the holding unit. And a soldering step for attaching.
この部品のはんだ付け方法では、部品が回路基板上に配置される前に還元性ガスを噴霧する。従って、はんだと回路基板との接触部といった部品が回路基板上に配置された後においては露出しない部位の酸化膜の除去を行うことができる。 In this component soldering method, reducing gas is sprayed before the component is placed on the circuit board. Therefore, it is possible to remove the oxide film at a portion that is not exposed after a part such as a contact portion between the solder and the circuit board is arranged on the circuit board.
さらに、前記保持部に保持された前記部品と前記回路基板との間が前記所定の距離となった状態で、前記部品の搬送を一時的に停止する停止ステップを更に備え、前記停止ステップ中に前記噴霧ステップを行うことが好ましい。 Further, the apparatus further includes a stop step of temporarily stopping the conveyance of the component in a state where the predetermined distance is between the component held by the holding unit and the circuit board. The spraying step is preferably performed.
このように停止状態で還元性ガスを噴霧することで、より適切に部品と回路基板との間を還元性ガス雰囲気とすることができる。従って、部品を回路基板上に配置後に露出しない部位の酸化膜をより適切に還元することができる。 By spraying the reducing gas in the stopped state as described above, the reducing gas atmosphere can be more appropriately formed between the component and the circuit board. Therefore, it is possible to more appropriately reduce the oxide film at a portion that is not exposed after the component is placed on the circuit board.
また、前記噴霧ステップを前記部品が前記回路基板上に配置された後まで行うこととしても良い。 Moreover, it is good also as performing the said spraying step until after the said components are arrange | positioned on the said circuit board.
部品が回路基板上に配置された後まで還元性ガスの噴霧を行うことで、回路基板により近い位置から還元性ガスを噴霧することができる。従って、回路基板の端子に形成された酸化膜をより効率的に除去することができる。 By spraying the reducing gas until after the components are arranged on the circuit board, the reducing gas can be sprayed from a position closer to the circuit board. Therefore, the oxide film formed on the terminal of the circuit board can be removed more efficiently.
また、前記噴霧ステップの少なくとも一部と前記はんだ付けステップの少なくとも一部とを同時に行うことが好ましい。 Moreover, it is preferable that at least a part of the spraying step and at least a part of the soldering step are simultaneously performed.
はんだ付けステップ中においても還元性ガスを噴霧することで、溶融したはんだの酸化膜をより適切に除去することができる。また、はんだが溶融する温度であるため、還元反応の時間を短くすることができ、効率的に酸化膜を除去することができる。また、はんだ付けと酸化膜の還元とを同時に行うため、効率的に部品のはんだ付けを行うことができる。 By spraying the reducing gas even during the soldering step, the melted oxide film of the solder can be more appropriately removed. Moreover, since the temperature is such that the solder melts, the time for the reduction reaction can be shortened and the oxide film can be efficiently removed. Further, since the soldering and the reduction of the oxide film are performed at the same time, the parts can be soldered efficiently.
或いは、前記噴霧ステップを前記配置ステップの前に終了することとしても良い。還元性ガスの種類や酸化膜の状態によっては、還元性ガスを部品の配置前に噴霧するだけで、十分に酸化膜を除去することができる場合がある。従って、このような場合には、部品の配置後まで還元性ガスを噴霧せずに還元性ガスを効率的に利用することができる。 Alternatively, the spraying step may be terminated before the arranging step. Depending on the type of reducing gas and the state of the oxide film, it may be possible to sufficiently remove the oxide film simply by spraying the reducing gas before placing the components. Therefore, in such a case, the reducing gas can be efficiently used without spraying the reducing gas until after the parts are arranged.
また、前記部品が前記回路基板上に配置される前から前記はんだ付けステップの途中まで前記回路基板を加熱することが好ましい。 In addition, it is preferable that the circuit board is heated before the component is arranged on the circuit board until halfway through the soldering step.
回路基板が部品配置前から加熱されることで、はんだ付けステップではんだが溶融を開始するまでに要する時間を短くすることができる。また、噴霧した還元性ガスにより酸化膜が還元される際に、基板が加熱されているため、少なくとも基板上の端子に形成された酸化膜を効率的に還元することができる。 By heating the circuit board before component placement, the time required for the solder to start melting in the soldering step can be shortened. Further, since the substrate is heated when the oxide film is reduced by the sprayed reducing gas, at least the oxide film formed on the terminal on the substrate can be efficiently reduced.
以上のように、本発明によれば、部品の位置を正確に定めた状態で、適切にはんだ付けを行うことができる部品搬送装置、および、それを用いた部品のはんだ付け方法が提供される。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a component conveying apparatus capable of performing appropriate soldering in a state where the position of the component is accurately determined, and a component soldering method using the component conveying device. .
以下、本発明に係る部品搬送装置、および、それを用いた部品のはんだ付け方法の好適な実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of a component conveying device according to the invention and a method of soldering components using the same will be described in detail with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る部品搬送装置を示す図である。図1に示すように、本実施形態の部品搬送装置1は、可動アーム10と、駆動部51と、ガイド52と、吸引ポンプSPと、還元性ガス供給部RGと、不活性ガス供給部IGと、ヒーター53とを主な構成として備える。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram illustrating a component conveying apparatus according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the
可動アーム10は、外見が円柱状に形成されて鉛直方向に延在しており、後述のように内部に長手方向に沿って設けられる複数の貫通孔が形成されている。また、可動アーム10は、駆動部51に接続されており、鉛直方向に沿って移動可能とされている。この可動アーム10の移動は、駆動部51内の不図示の機構により行われる。また、駆動部51は、水平方向に延在するガイド52に接続されており、駆動部51内における可動アームを移動させる機構とは異なる不図示の機構により、ガイド52に沿って移動可能とされている。従って、可動アーム10の先端部分は、可動アーム10の移動と駆動部51の移動とにより、鉛直方向、水平方向に移動可能であり2次元的に移動することができる。
The
吸引ポンプSPは、吸引管22Pに接続されており、吸引管22P内の気体を吸引する吸引状態と、吸引を行わない非吸引状態とを切り換えることができる。吸引管22Pは、後述のように可動アーム10内の貫通孔の一つに接続されている。
The suction pump SP is connected to the
また、還元性ガス供給部RGは還元性ガスを供給する部位であり、還元性ガスを供給する供給状態と、還元性ガスの供給を行わない非供給状態とを切り換えることができる。また、不活性ガス供給部IGは不活性ガスを供給する部位であり、不活性ガスを供給する供給状態と、不活性ガスの供給を行わない非供給状態とを切り換えることができる。還元性ガス供給部RG及び不活性ガス供給部IGは、供給管32Pに接続されており、供給管32P内には還元性ガスおよび不活性ガスが供給される。
The reducing gas supply unit RG is a part that supplies the reducing gas, and can switch between a supply state in which the reducing gas is supplied and a non-supply state in which the reducing gas is not supplied. Moreover, the inert gas supply part IG is a site | part which supplies an inert gas, and can switch the supply state which supplies an inert gas, and the non-supply state which does not supply an inert gas. The reducing gas supply unit RG and the inert gas supply unit IG are connected to the
上記還元性ガスとしては、例えば、カルボン酸(ギ酸、酢酸、アクリル酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、ドコサヘキサエン酸、ブリチック酸、バレチック酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、サリチル酸、没食子酸、メリト酸、ケイ皮酸、ピルビン酸、乳酸、カプリン酸、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、アコニット酸、グルタル酸、アジピン酸、ニトロカルボン酸)が揮発したガスを挙げることができる。また、不活性ガスとしては、例えば、窒素ガスやアルゴンガスを挙げることができる。 Examples of the reducing gas include carboxylic acids (formic acid, acetic acid, acrylic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid. , Margaric acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, docosahexaenoic acid, britic acid, valetic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, benzoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, salicylic acid , Gallic acid, melicic acid, cinnamic acid, pyruvic acid, lactic acid, capric acid, malic acid, citric acid, fumaric acid, maleic acid, aconitic acid, glutaric acid, adipic acid, nitrocarboxylic acid) be able to. Moreover, as inert gas, nitrogen gas and argon gas can be mentioned, for example.
ヒーター53は、供給管32Pを加熱するように設けられている。従って、ヒーター53がON状態である場合には、供給管32P内を流れる還元性ガス及び不活性ガスは加熱される。ヒーター53が還元性ガス及び不活性ガスを加熱する温度は、還元性ガスが金属の酸化膜を還元する還元反応が最も早く行える温度とされることが好ましい。
The
図2は、図1の可動アーム10の先端の様子を示す図である。具体的には、可動アーム10が部品40を保持している様子を示す図である。本例で保持される部品40はフリップチップ部品とされ、部品本体41と部品本体41の下面に形成されるはんだバンプ42とを有する。
FIG. 2 is a diagram illustrating a state of the distal end of the
図2に示すように可動アーム10内には、可動アーム10の長手方向に沿って複数の貫通孔が形成されている。これらの貫通孔のうち中心の貫通孔が吸引孔22とされ、吸引孔22の可動アーム10の先端における開口が吸引口21とされる。吸引孔22は、吸引管22Pに接続されている。従って、可動アーム10は、吸引ポンプSPが吸引状態とされることで、吸引口21から可動アーム10の先端近傍の気体を吸引することができる。この吸引力を利用して、可動アーム10は、図2に示すように、吸引口21で部品40を吸引し、可動アーム10の先端面11に部品40を吸着して、部品40を保持することができる。従って、本実施形態では、吸引口21と可動アームの10の先端面11における部品が吸着されるべき部位が保持部20とされる。
As shown in FIG. 2, a plurality of through holes are formed in the
また、吸引孔22を挟むように形成される一組の貫通孔はそれぞれ供給孔32とされ、供給孔32の可動アーム10の先端における開口が噴霧口31とされる。それぞれの供給孔32は、図1に示す供給管32Pに接続されている。従って、可動アーム10は、還元性ガス供給部RG及び不活性ガス供給部IGが供給状態とされることで、噴霧口31から還元性ガス及び不活性ガスの混合ガスを噴霧することができる。また、それぞれの噴霧口31は、保持部20が部品40を保持すべき部位より離れた位置に形成されている。従って、可動アーム10は、保持部20が部品40を保持した状態で、噴霧口31から還元性ガス及び不活性ガスの混合ガスを噴霧することができる。さらに、本実施形態では、それぞれの噴霧口31は、吸引口21が部品40を吸引する方向に垂直な面において面一に形成されている。
A pair of through holes formed so as to sandwich the
次に部品搬送装置1を用いた部品のはんだ付け方法について説明する。
Next, a component soldering method using the
<<部品のはんだ付け方法の第1の手順>>
まず、本実施形態における部品のはんだ付け方法の第1の手順について説明する。図3は、本実施形態の部品のはんだ付け方法の第1の手順を示すフローチャートである。図3に示すように本方法は、搬送ステップS11と、配置ステップS12と、噴霧ステップS13と、はんだ付けステップS14とを備える。
<< First procedure for soldering parts >>
First, the first procedure of the component soldering method in this embodiment will be described. FIG. 3 is a flowchart showing a first procedure of the component soldering method of the present embodiment. As shown in FIG. 3, the method includes a transport step S11, an arrangement step S12, a spraying step S13, and a soldering step S14.
<搬送ステップS11>
図4は、搬送ステップの様子を示す図である。図4に示すように、可動アーム10の可動範囲に、回路基板45が配置されたはんだ付けボックス70と、複数の部品40が配置されたトレー61とが配置される。
<Conveyance step S11>
FIG. 4 is a diagram illustrating the state of the transport step. As shown in FIG. 4, a
はんだ付けボックス70は側壁71で横方向が囲まれており、上部の一部が上壁72で覆われている。そして、上側の一部が開口している。はんだ付けボックス70内にはヒーター77が備えられており、ヒーター77上に回路基板45が配置されている。回路基板45の上方は上壁72が開口しているため、当該開口から回路基板45を鉛直方向に見ることができる。また、回路基板45は、部品40が配置される面が可動アーム10の長手方向に垂直となるように配置される。従って、吸引口21は、回路基板45の部品40が配置される面と垂直な方向に部品40を吸引して保持する。
The
図4において破線で示すように、駆動部51は、トレー61上に配置され保持しようとする部品40の上方まで移動して停止する。次に可動アーム10が下方に移動して、部品40の上面と可動アーム10の先端との間が所定の距離以下となった時点で停止する。この所定の距離は小さい程好ましく、吸引口21からの吸引力で部品40を吸着可能な距離とされる。次に吸引ポンプSPが吸引を開始して、部品40は吸引口21の吸引力により、保持部20に保持される。次に、可動アーム10は、部品40を保持したまま上方に移動する。可動アーム10が所定の位置まで上昇すると、駆動部51は水平に移動し、部品40が回路基板45に配置されるべき位置の上方で停止する。そして、可動アーム10が下方に移動する。
As indicated by a broken line in FIG. 4, the
こうして部品40は可動アーム10により搬送される。
In this way, the
<配置ステップS12>
可動アーム10が下方に移動することで、部品40のはんだバンプ42が回路基板45上の図示しない端子上に配置され、可動アーム10は停止する。こうして部品40は回路基板45上に配置される。その後、可動アーム10は部品40を保持した状態を維持する。
<Arrangement step S12>
As the
なお、本実施形態では、上記のようにそれぞれの噴霧口31が吸引口21と面一に形成されているため、部品40が厚みの小さな低背部品であっても、噴霧口31が形成される部位が部品配置の邪魔になることが無く適切に部品40を回路基板45上に配置することができる。
In the present embodiment, since each
<噴霧ステップS13>
図5は、噴霧ステップS13の様子を示す図である。部品40が回路基板45上に配置されると、不活性ガス供給部IGから還元性ガスが供給されると共に還元性ガス供給部RGから不活性ガスが供給される。このため図5において実線矢印で示すように、噴霧口31から還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスが噴霧される。混合ガスは、少なくとも一部が回路基板45に向かって噴霧される。このように混合ガスが噴霧できるように、噴霧口31は保持部20の近傍に設けられることが好ましい。不活性ガスが噴霧されることにより、不活性ガスが噴霧されない場合と比べて、はんだ付けボックス70内の酸素濃度を下げることができる。そして、還元性ガスが噴霧されることにより、部品40のはんだバンプ42に形成されている酸化膜の少なくとも一部、及び、回路基板45上の不図示の端子に形成されている酸化膜の少なくとも一部が還元される。
<Spraying step S13>
FIG. 5 is a diagram showing the state of the spraying step S13. When the
このときはんだ付けボックス70内が加熱されていることが好ましい。例えば、ヒーター53により還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスが加熱されて噴霧されることが好ましい。或いは、ヒーター77や側壁71に設けられる不図示のヒーター等により加熱されても良い。
At this time, the inside of the
例えば、還元性ガスとしてギ酸が用いられる場合、はんだ付けボックス70内の温度が150度以上となっていることが好ましい。この場合、次の反応が生じ易くなる。
MeO+2HCOOH→Me(COOH)2+H2O
(但し、Meは金属元素を示す。)
更に、はんだ付けボックス内の温度が200度以上とされることで、次の反応が生じ易くなる。
Me(COOH)2→Me+CO2+H2
H2+MeO→Me+H2O
こうして、酸化膜が還元される。また、還元に加熱を不要とする還元性ガスが用いられる場合であっても、還元性ガスが加熱されたり、ヒーターが用いられて、はんだ付けボックス70内が加熱されることで、還元反応時間を短縮することができる。ただし、はんだ付けボックス70内が加熱されることは必須では無い。従って、ヒーター53による混合ガスの加熱も必須では無い。
For example, when formic acid is used as the reducing gas, the temperature in the
MeO + 2HCOOH → Me (COOH) 2 + H 2 O
(However, Me represents a metal element.)
Furthermore, when the temperature in the soldering box is set to 200 ° C. or higher, the following reaction easily occurs.
Me (COOH) 2 → Me + CO 2 + H 2
H 2 + MeO → Me + H 2 O
Thus, the oxide film is reduced. Further, even when a reducing gas that does not require heating is used for reduction, the reducing reaction time is reduced by heating the reducing gas or heating the interior of the
なお、本実施形態では、はんだ付けボックス70には上記のように上壁72が設けられているため、噴霧した還元性ガスや不活性ガスがはんだ付けボックス70内に留まる傾向がある。また、保持部20は吸引により部品40を保持しているため、保持部20の周辺の気体は、当該吸引により吸引口21に向かって流れる傾向がある。従って、噴霧した還元性ガスは保持部20に保持される部品40の周辺に漂いやすい。
In this embodiment, since the
<はんだ付けステップS14>
部品40が回路基板45の所定の位置に配置されると、ヒーター77が回路基板45を加熱する。回路基板45の熱により部品40のはんだバンプ42が溶融して、回路基板45の不図示の端子にはんだが接続する。このときはんだの周囲は還元性ガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気になっているため、溶融したはんだの酸化膜が還元される。この状態でははんだが加熱されているため、はんだの酸化膜の還元反応は、はんだが溶融していない状態と比べて短時間で行われる。その後、ヒーター77による加熱が終了し、はんだが固化して部品40が回路基板45上にはんだ付けされる。
<Soldering step S14>
When the
なお、このはんだ付けのための回路基板45への加熱は、部品40が回路基板45上に配置される前から行われることが好ましい。事前に回路基板45が加熱されることで、はんだ付けステップS14においてはんだが溶融を開始するまでに要する時間を短くすることができる。また、噴霧した還元性ガスにより酸化膜が還元される際に、回路基板45が既に加熱されている。これにより、回路基板45上の端子に形成された酸化膜を効率的に還元することができる。また、上記のようにヒーター77によりはんだ付けボックス70内が加熱されていることで、還元反応を促進することができる。
The heating of the
なお、噴霧ステップS13が、はんだ付けステップS14の少なくとも途中まで行われることで、噴霧ステップS13の少なくとも一部とはんだ付けステップS14の少なくとも一部とが同時に行われることが好ましい。はんだ付けステップS14中においても還元性ガスが噴霧されることで、溶融したはんだの酸化膜をより適切に除去することができる。また、はんだは加熱されている状態であるため、還元反応の時間を短くすることができ、効率的に酸化膜を除去することができる。 In addition, it is preferable that at least a part of the spraying step S13 and at least a part of the soldering step S14 are simultaneously performed by performing the spraying step S13 at least halfway through the soldering step S14. Even during the soldering step S14, the reducing gas is sprayed, so that the oxide film of the molten solder can be more appropriately removed. In addition, since the solder is in a heated state, the reduction reaction time can be shortened and the oxide film can be efficiently removed.
なお、回路基板45への加熱が部品40が回路基板45上に配置される前から行われる場合や、噴霧ステップS13が、はんだ付けステップS14の少なくとも途中まで行われる場合であっても、ヒーター53によって還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスが加熱されていることが好ましい。当該ガスが加熱されることで、はんだ付けの際に回路基板45の温度が低下することや溶融したはんだが不当に固化することを抑制することができる。
Even when the heating to the
部品搬送装置1を用いたこのような手順による部品40のはんだ付け方法によれば、回路基板45上に配置した部品40を保持した状態ではんだ付けを行うため、回路基板45と部品40とを接続するはんだが溶融している状態においても、部品40の位置を正確に定めることができる。また、回路基板45上で部品40を保持した状態で、可動アーム10に設けられる噴霧口31から還元性ガスが回路基板45に向かって噴霧されるため、装置全体を還元性ガス雰囲気とせずとも、回路基板45上の酸化膜やはんだの酸化膜を還元することができる。従って、適切なはんだ付けを行うことができる。
According to the soldering method of the
<<部品のはんだ付け方法の第2の手順>>
次に、本実施形態における部品のはんだ付け方法の第2の手順について説明する。なお、第1の手順と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。
<< Second procedure for soldering parts >>
Next, a second procedure of the component soldering method according to this embodiment will be described. In addition, about the component which is the same as that of a 1st procedure, or the equivalent, unless otherwise demonstrated, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図6は、本実施形態の部品のはんだ付け方法の第2の手順を示すフローチャートである。図6に示すように本方法は、搬送ステップS21と、停止ステップS22と、噴霧ステップS23と、配置ステップS24と、はんだ付けステップS25とを備える。なお、本手順においても第1の手順と同様に、図4に示すように、部品搬送装置1を用いてトレー61上の部品40を回路基板45上にはんだ付けする。
FIG. 6 is a flowchart showing a second procedure of the component soldering method of the present embodiment. As shown in FIG. 6, the method includes a transport step S21, a stop step S22, a spraying step S23, an arrangement step S24, and a soldering step S25. Also in this procedure, as in the first procedure, the
<搬送ステップS21>
本手順の搬送ステップS21は、途中に後述の停止ステップS22が行われる点を除き、第1の手順の搬送ステップS11と同様に行われる。
<Conveyance step S21>
The transport step S21 of this procedure is performed in the same manner as the transport step S11 of the first procedure, except that a stop step S22 described later is performed on the way.
<停止ステップS22>
搬送ステップS21の途中において、保持部20に保持された部品40と回路基板45との間が所定の距離となった状態で、部品40の搬送を一時的に停止する。この停止位置は、例えば、噴霧口31がはんだ付けボックス70内に入った位置とされる。
<Stop step S22>
In the middle of the conveyance step S21, the conveyance of the
<噴霧ステップS23>
図7は、本手順の噴霧ステップの様子を示す図である。図7に示すように、停止ステップS22で部品40が回路基板45と所定の距離をあけて停止している状態で本ステップが開始される。本手順の噴霧ステップS23は、部品40が回路基板45上に配置されていない状態である点を除き、第1の手順の噴霧ステップS13と同様に行われる。従って、回路基板45に少なくとも一部の還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスが、図7において実線矢印で示すように、噴霧される。そのことにより、はんだ付けボックス70内における酸素濃度が低下し、還元性ガスと不活性ガスの雰囲気となる。従って、はんだバンプ42や回路基板の端子に形成される酸化膜の少なくとも一部が還元される。このとき、部品40は回路基板45上に配置されていないため、はんだバンプ42の回路基板と接触する部位に形成されている酸化膜や、回路基板45の不図示の端子におけるはんだバンプと接触する部位に形成されている酸化膜の少なくとも一部が還元されて除去される。
<Spraying step S23>
FIG. 7 is a diagram showing the state of the spraying step of this procedure. As shown in FIG. 7, this step is started in a state where the
なお、本手順によるはんだ付け方法においても、第1の手順と同様の理由により、はんだ付けボックス70内が加熱されていることが好ましい。従って、例えば、ヒーター53により加熱された還元性ガスが噴霧されたり、ヒーター77等のヒーターが用いられて、はんだ付けボックス70内が加熱されることが好ましい。
In the soldering method according to this procedure, the inside of the
<配置ステップS24>
本手順の配置ステップS24は、第1の手順の配置ステップS12と同様に行われる。すなわち、停止ステップS22中に噴霧ステップS23が行われ、再び可動アーム10が下方に移動して、部品40が回路基板45上に配置され、可動アーム10が部品40を保持し続ける。
<Arrangement step S24>
The arrangement step S24 of this procedure is performed in the same manner as the arrangement step S12 of the first procedure. That is, the spraying step S23 is performed during the stop step S22, the
<はんだ付けステップS25>
本手順のはんだ付けステップS25は、第1の手順のはんだ付けステップS14と同様に行われ、部品40が回路基板45上にはんだ付けされる。
<Soldering step S25>
The soldering step S25 of this procedure is performed in the same manner as the soldering step S14 of the first procedure, and the
なお、このはんだ付けのための回路基板45の加熱は、第1の手順と同様の理由により、部品40が回路基板45上に配置される前から行われることが好ましい。
The heating of the
また、本手順では、停止ステップS22中に噴霧ステップS23を行うが、噴霧ステップS23は、停止ステップS22が終了した後まで行うことが好ましく、部品40が回路基板45上に配置された後まで行うことが好ましい。部品40が回路基板45上に配置された後まで還元性ガスの噴霧を行うことで、回路基板45により近い位置から還元性ガスを噴霧することができる。従って、回路基板45の端子に形成された酸化膜をより効率的に除去することができる。
Further, in this procedure, the spraying step S23 is performed during the stop step S22, but the spraying step S23 is preferably performed until after the stop step S22 is completed, and is performed until after the
また、この場合、第1の手順と同様の理由により、本手順においても噴霧ステップS23が、はんだ付けステップS25の少なくとも途中まで行われることが好ましい。 In this case, for the same reason as in the first procedure, it is preferable that the spraying step S23 is performed at least halfway through the soldering step S25 in this procedure.
なお、噴霧ステップS23を配置ステップS24の前に終了することとしても良い。還元性ガスの種類や酸化膜の状態によっては、還元性ガスを部品40が回路基板45上に配置される前に噴霧するだけで、十分に当該酸化膜を除去することができる場合がある。この場合、部品40が回路基板45上に配置される後まで還元性ガスを噴霧しないことで、還元性ガスを効率的に利用することができる。
The spraying step S23 may be ended before the arranging step S24. Depending on the type of reducing gas and the state of the oxide film, the oxide film may be sufficiently removed by spraying the reducing gas before the
部品搬送装置1を用いた本手順の手順による部品40のはんだ付け方法によれば、第1の手順と同様に、部品40の位置を正確に定めた状態で、適切にはんだ付けを行うことができる。その上で、部品40が回路基板45上に配置される前に還元性ガスを噴霧するので、はんだバンプ42と回路基板45との接触部といった部品40が回路基板45上に配置された後においては露出しない部位の酸化膜の除去を行うことができる。
According to the soldering method of the
なお、本手順では、停止ステップS22で可動アーム10を一旦停止するものとしたが、停止ステップS22は必ずしも必要では無く、例えば、可動アーム10が下方に移動している最中において、保持部20に保持された部品40と回路基板45との間が所定の距離となった状態で、噴霧ステップS23を行っても良い。この場合においても、噴霧ステップS23を部品40が回路基板45上に配置された後まで行うことが好ましく、はんだ付けステップS25の少なくとも途中まで行うことが好ましい。或いは、噴霧ステップS23を配置ステップS24の前に終了することとしても良い。
In this procedure, the
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について図8を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. In addition, about the component which is the same as that of 1st Embodiment, or equivalent, except the case where it demonstrates especially, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図8は、本実施形態に係る部品搬送装置の保持部周辺の様子と噴霧される還元性ガスの様子を示す図である。なお、図8は部品40が回路基板45上に配置された状態で還元性ガス及び不活性ガスの混合ガスを噴霧している状態を示している。図8に示すように、本実施形態の部品搬送装置は可動アーム10の先端が、第1実施形態の可動アーム10の先端と異なる形状とされる点において、第1実施形態の部品搬送装置1と異なる。具体的には、本実施形態の可動アーム10における噴霧口31は、吸引口21よりも回路基板45側に位置している。
FIG. 8 is a diagram illustrating a state around the holding unit and a state of the reducing gas sprayed in the component conveying device according to the present embodiment. FIG. 8 shows a state where the mixed gas of reducing gas and inert gas is sprayed in a state where the
本実施形態の部品搬送装置による部品のはんだ付け方法は、第1実施形態における部品はんだ付け方法の第1、第2の手順と同様に行うことができる。 The component soldering method by the component conveying apparatus of this embodiment can be performed in the same manner as the first and second procedures of the component soldering method in the first embodiment.
本実施形態の部品搬送装置によれば、噴霧口31が図8に示すように突出した位置に設けられることで、部品40のはんだや回路基板45により近い場所から還元性ガスを噴霧することができる。従って、第1実施形態の部品搬送装置を用いる場合と比べて、より適切にはんだや回路基板45上の端子の酸化膜を還元することができる。
According to the component conveying apparatus of the present embodiment, the reducing gas can be sprayed from a place closer to the solder of the
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について図9を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. In addition, about the component which is the same as that of 1st Embodiment, or equivalent, except the case where it demonstrates especially, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図9は、本実施形態に係る部品搬送装置の保持部周辺の様子と噴霧される還元性ガスの様子を示す図である。なお、図9は部品40が回路基板45上に配置された状態で還元性ガス及び不活性ガスの混合ガスを噴霧している状態を示している。図9に示すように、本実施形態の部品搬送装置は可動アーム10は、先端にテーパー形状が形成されており、噴霧口31が当該テーパーとされた位置に形成されている点において、第1実施形態の可動アーム10と異なる。このため、吸引口21は、噴霧口31よりも回路基板45側に位置している。また、噴霧口31は、回路基板45を向きつつ保持部20から離れる方向に斜めに開口している。このため、噴霧口31から噴霧される還元性ガスと不活性ガスの混合ガスは、少なくとも一部が回路基板45に向かいつつ保持部20から離れる方向に流れる。
FIG. 9 is a diagram illustrating a state around the holding unit and a state of the reducing gas sprayed in the component conveying device according to the present embodiment. FIG. 9 shows a state in which the mixed gas of reducing gas and inert gas is sprayed in a state where the
本実施形態の部品搬送装置による部品のはんだ付け方法は、第1実施形態における部品はんだ付け方法の第1、第2の手順と同様に行うことができる。 The component soldering method by the component conveying apparatus of this embodiment can be performed in the same manner as the first and second procedures of the component soldering method in the first embodiment.
本実施形態の部品搬送装置によれば、還元性ガスを回路基板45に向かう方向かつ保持部20から離れる方向に噴霧することができ、部品40と回路基板45との接続部近傍にある大気を還元性ガスの流れにより減らすことができる。このように接続部近傍にある大気が減ることにより、当該接続部近傍には還元性ガスが漂う傾向がある。従って、還元すべき部位が再び酸化することを抑制することができる。
According to the component transport device of this embodiment, the reducing gas can be sprayed in the direction toward the
また、本実施形態の部品搬送装置によれば、吸引口21が噴霧口31よりも回路基板45側に設けられているため、部品40が厚みの小さな低背部品であっても、噴霧口31が形成される部位が部品配置の邪魔になることが無く適切に部品40を回路基板45上に配置することができる。
Moreover, according to the component conveying apparatus of this embodiment, since the
本実施形態では、噴霧口31が回路基板45を向きつつ保持部20から離れる方向に斜めに開口するものとした。しかし、噴霧口31は、還元性ガスの少なくとも一部が回路基板45に向かって噴霧される限りにおいて、回路基板45の部品40が配置される面と平行な方向に開口していても良い。
In the present embodiment, the
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について図10を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. In addition, about the component which is the same as that of 1st Embodiment, or equivalent, except the case where it demonstrates especially, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図10は、本実施形態に係る部品搬送装置の保持部周辺の様子と噴霧される還元性ガスの様子を示す図である。なお、図10は部品40が回路基板45上に配置された状態で還元性ガス及び不活性ガスの混合ガスを噴霧している状態を示している。図10に示すように、本実施形態の部品搬送装置における可動アーム10は、噴霧口31が吸引口21よりも回路基板45側に位置している点において第1実施形態の可動アーム10と異なり、さらに、噴霧口31が、前記保持部に近づく方向に開口している点において第1実施形態の可動アーム10と異なる。このため、噴霧口31から噴霧される還元性ガスと不活性ガスの混合ガスは、少なくとも一部が回路基板45に向かいつつ、保持部20に近づくように流れる。
FIG. 10 is a diagram illustrating a state around the holding unit and a state of the reducing gas sprayed in the component conveying device according to the present embodiment. FIG. 10 shows a state where the mixed gas of reducing gas and inert gas is sprayed in a state where the
本実施形態の部品搬送装置による部品のはんだ付け方法は、第1実施形態における部品はんだ付け方法の第1、第2の手順と同様に行うことができる。 The component soldering method by the component conveying apparatus of this embodiment can be performed in the same manner as the first and second procedures of the component soldering method in the first embodiment.
本実施形態の部品搬送装置によれば、第1実施形態の部品搬送装置と比べて、還元性ガスを保持部20により近付く方向に噴霧することができる。従って、第1実施形態の部品搬送装置と比べて、還元性ガスをはんだ等に形成される酸化膜に向かってより直接的に噴霧することができる。従って、より効率的に酸化膜を還元することができる。
According to the component conveying device of the present embodiment, reducing gas can be sprayed in a direction approaching the holding
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態について図11を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. In addition, about the component which is the same as that of 1st Embodiment, or equivalent, except the case where it demonstrates especially, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図11は、本実施形態に係る部品搬送装置の保持部周辺の様子と噴霧される還元性ガスの様子を示す図である。なお、図11は部品40が回路基板45上に配置された状態で還元性ガス及び不活性ガスの混合ガスを噴霧している状態を示している。図11に示すように、本実施形態の部品搬送装置は可動アーム10は、噴霧口31と保持部20に保持された部品40が位置すべき部位とを囲む枠部15を備える点において、第1実施形態の可動アーム10と異なる。
FIG. 11 is a diagram illustrating a state around the holding unit and a state of the reducing gas sprayed in the component conveying device according to the present embodiment. FIG. 11 shows a state where the mixed gas of the reducing gas and the inert gas is sprayed in a state where the
本実施形態の部品搬送装置による部品のはんだ付け方法は、第1実施形態における部品はんだ付け方法の第1、第2の手順と同様に行うことができる。 The component soldering method by the component conveying apparatus of this embodiment can be performed in the same manner as the first and second procedures of the component soldering method in the first embodiment.
本実施形態のように枠部15が設けられることで、枠部15内の還元性ガスの濃度を高くすることができる。従って、第1実施形態の部品搬送装置を用いる場合と比べて、より早く酸化膜の除去を行うことができる。
By providing the
以上、本発明について、上記実施形態を例に説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、適宜変更することが可能である。 As mentioned above, although the said embodiment was demonstrated to the example about this invention, this invention is not limited to these, It can change suitably.
例えば、本実施形態では、可動アーム10の先端が2次元的に動作するものとしたが、本発明はこれに限らず、可動アームが1次元的に動作するものでも3次元的に動作するものであっても良い。
For example, in the present embodiment, the tip of the
また、上記実施形態では、吸引口21からの吸引により部品40を保持したが、本発明の保持部は、例えば、可動アーム10の先端に部品40を把持できる把持部が形成されており、当該把持部が保持部とされても良い。
Moreover, in the said embodiment, although the
また、上記実施形態では、還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスを噴霧したが、不活性ガスは必須では無く、還元性ガスのみを噴霧しても良い。 Moreover, in the said embodiment, although the mixed gas of reducing gas and inert gas was sprayed, inert gas is not essential and you may spray only reducing gas.
また、第2〜第4実施形態の可動アーム10に第5実施形態のような枠部15を設けても良い。
Moreover, you may provide the
以上説明したように、本発明によれば、部品の位置を正確に定めた状態で、適切にはんだ付けを行うことができる部品搬送装置、および、それを用いた部品のはんだ付け方法が提供され、電気機器等の製造に利用することができる。 As described above, according to the present invention, there is provided a component conveying apparatus capable of performing appropriate soldering in a state in which the position of the component is accurately determined, and a component soldering method using the same. It can be used for manufacturing electrical equipment and the like.
1・・・部品搬送装置
10・・・可動アーム
15・・・枠部
20・・・保持部
21・・・吸引口
22・・・吸引孔
31・・・噴霧口
32・・・供給孔
40・・・部品
45・・・回路基板
51・・・駆動部
52・・・ガイド
53・・・ヒーター
IG・・・不活性ガス供給部
RG・・・還元性ガス供給部
SP・・・吸引ポンプ
S11,S21・・・搬送ステップ
S12,S24・・・配置ステップ
S13,S23・・・噴霧ステップ
S14,S25・・・はんだ付けステップ
S22・・・停止ステップ
DESCRIPTION OF
Claims (17)
前記可動アームに設けられ前記部品を保持する保持部と、
前記可動アームに設けられ、還元性ガスの少なくとも一部が前記回路基板に向かうように前記還元性ガスが噴霧される噴霧口と、
を備える
ことを特徴とする部品搬送装置。 A component conveying device for conveying a component onto a circuit board by a movable arm,
A holding portion that is provided on the movable arm and holds the component;
A spray port provided on the movable arm and sprayed with the reducing gas such that at least a part of the reducing gas is directed toward the circuit board;
A component conveying device comprising:
ことを特徴とする請求項1に記載の部品搬送装置。 The component holding apparatus according to claim 1, wherein the holding unit has a suction port that holds the component by sucking the component.
ことを特徴とする請求項2に記載の部品搬送装置。 The component conveying device according to claim 2, wherein the suction port is provided closer to the circuit board than the spray port.
ことを特徴とする請求項2に記載の部品搬送装置。 The component conveying apparatus according to claim 2, wherein the suction port and the spray port are provided flush with each other on a surface parallel to a surface on which the component of the circuit board is disposed.
ことを特徴とする請求項2に記載の部品搬送装置。 The component conveying apparatus according to claim 2, wherein the spray port is provided closer to the circuit board than the suction port.
ことを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載の部品搬送装置。 The component conveying apparatus according to claim 2, wherein the spray port opens in a direction away from the holding unit.
ことを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載の部品搬送装置。 The component conveying apparatus according to claim 2, wherein the spray port opens in a direction approaching the holding unit.
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の部品搬送装置。 The component conveying apparatus according to claim 1, further comprising a frame portion surrounding the spray port and a portion where the component held by the holding portion is to be located.
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の部品搬送装置。 The component spray device according to claim 1, wherein the spray port sprays an inert gas together with the reducing gas.
前記還元性ガスは、前記ヒーターで加熱された状態で噴霧される
ことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の部品搬送装置。 A heater for heating the reducing gas;
The said reducing gas is sprayed in the state heated with the said heater, The components conveying apparatus of any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned.
回路基板上に前記部品を配置すると共に前記保持部が前記部品を保持した状態を維持する配置ステップと、
前記回路基板上の前記部品が前記保持部で保持された状態で、還元性ガスの少なくとも一部が前記回路基板に向かうように前記可動アームに設けられる噴霧口から前記還元性ガスを噴霧する噴霧ステップと、
前記回路基板上の前記部品が前記保持部で保持された状態で、前記部品と前記回路基板とをはんだ付けするはんだ付けステップと、
を備える
ことを特徴とする部品のはんだ付け方法。 A transporting step of transporting the part by holding the part by a holding part provided in a movable arm of the part transporting apparatus;
An arrangement step of arranging the component on the circuit board and maintaining the state in which the holding unit holds the component;
Spray that sprays the reducing gas from a spray port provided in the movable arm so that at least a part of the reducing gas is directed to the circuit board in a state where the components on the circuit board are held by the holding unit. Steps,
A soldering step of soldering the component and the circuit board in a state where the component on the circuit board is held by the holding unit;
A method of soldering a component, comprising:
回路基板と前記部品との間が所定の距離以下となったときに、還元性ガスの少なくとも一部が前記回路基板に向かうように前記可動アームに設けられる噴霧口から前記還元性ガスを噴霧する噴霧ステップと、
前記回路基板上に前記部品を配置すると共に前記保持部が前記部品を保持した状態維持する配置ステップと、
前記回路基板上の前記部品が前記保持部で保持された状態で、前記部品と前記回路基板とをはんだ付けするはんだ付けステップと、
を備える
ことを特徴とする部品のはんだ付け方法。 A transporting step of transporting the component by holding the component by a holding unit provided in a movable arm of the component transporting device;
When the distance between the circuit board and the component is equal to or less than a predetermined distance, the reducing gas is sprayed from a spray port provided in the movable arm so that at least a part of the reducing gas is directed to the circuit board. A spraying step;
An arrangement step of arranging the component on the circuit board and maintaining the state in which the holding unit holds the component;
A soldering step of soldering the component and the circuit board in a state where the component on the circuit board is held by the holding unit;
A method of soldering a component, comprising:
前記停止ステップ中に前記噴霧ステップを行う
ことを特徴とする請求項12に記載の部品のはんだ付け方法。 In the state where the predetermined distance between the component held by the holding unit and the circuit board is the stop, further comprising a stop step of temporarily stopping the conveyance of the component,
The component soldering method according to claim 12, wherein the spraying step is performed during the stopping step.
ことを特徴とする請求項12または13に記載の部品のはんだ付け方法。 14. The component soldering method according to claim 12 or 13, wherein the spraying step is performed until after the component is placed on the circuit board.
ことを特徴とする請求項11または14に記載の部品のはんだ付け方法。 The component soldering method according to claim 11, wherein at least a part of the spraying step and at least a part of the soldering step are simultaneously performed.
ことを特徴とする請求項12または13に記載の部品のはんだ付け方法。 14. The method of soldering parts according to claim 12, wherein the spraying step is ended before the placing step.
ことを特徴とする請求項11から16のいずれか1項に記載の部品のはんだ付け方法。 17. The component soldering method according to claim 11, wherein the circuit board is heated before the component is placed on the circuit board and halfway through the soldering step.
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CN113348545A (en) * | 2019-01-09 | 2021-09-03 | 库利克和索夫工业公司 | Method for soldering semiconductor element to substrate and related soldering system |
CN113348545B (en) * | 2019-01-09 | 2024-06-04 | 库利克和索夫工业公司 | Method for soldering semiconductor element to substrate and related soldering system |
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