JP2015137670A - ブッシング及びフィードスルー - Google Patents
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Abstract
【課題】ブッシングの絶縁性能を高信頼度をもって確保する。【解決手段】絶縁材料からなる中空管状の絶縁管21の中空部に導体22を挿通し、導体22の両端を絶縁管21に気密に封着する。ブッシング2の絶縁管21の軸方向中央部には、外周面から中空部まで貫通する貫通孔28をブッシング2の気密破壊検出用に設ける。導体22の側面の軸方向端部を除く部分の表面は、絶縁材による絶縁層30で被覆し、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離Dを大きく確保する。【選択図】図4
Description
本発明は、液化ガスタンク内への電力供給等に用いられるブッシング及びフィードスルーに関するものである。
液化ガスタンク内への電力供給に用いられるブッシング及びフィードスルーに関する技術としては、液化ガスタンク内に液化ガスの汲揚用に設置されたサブマージドポンプへの電力供給に用いられるフィードスルーが知られている(たとえば、特許文献1)。
このフィードスルーは、円盤状のターミナルヘッダベースと、ターミナルヘッダベースに設けたブッシング挿通孔に挿通されたブッシングより構成されており、ブッシングはターミナルヘッダベースのブッシング挿通孔の軸方向の両端で、ターミナルヘッダベースに気密に固着されている。
ここで、ブッシングは、絶縁材料からなる中空管状の絶縁管と絶縁管の中空部に挿通された導体とより構成されており、導体は絶縁管の中空部の軸方向の両端で絶縁管に気密に固着されている。
このフィードスルーは、円盤状のターミナルヘッダベースと、ターミナルヘッダベースに設けたブッシング挿通孔に挿通されたブッシングより構成されており、ブッシングはターミナルヘッダベースのブッシング挿通孔の軸方向の両端で、ターミナルヘッダベースに気密に固着されている。
ここで、ブッシングは、絶縁材料からなる中空管状の絶縁管と絶縁管の中空部に挿通された導体とより構成されており、導体は絶縁管の中空部の軸方向の両端で絶縁管に気密に固着されている。
そして、液化ガスタンク外まで延伸された液化ガス汲揚用管の液化ガスタンク外の位置に設けられている開口を気密に塞ぐようにターミナルヘッダベースを取り付けることにより、フィードスルーは液化ガス汲揚用管に気密に連結され、ブッシングの導体と、液化ガス汲揚用管内を通る給電線とを介して、液化ガスタンク及び液化ガス汲揚用管の外部からサブマージドポンプに電力が供給される。
また、このフィードスルーにおいて、ブッシングの絶縁管には、ブッシング挿通孔の軸方向の両端間に配置される位置に、外周面から絶縁管の中空部まで貫通する、絶縁管の軸方向と垂直な方向を軸とする螺旋状の貫通孔が設けられており、ターミナルヘッダベースには、側面からブッシング挿通孔の軸方向の両端間の位置まで、ブッシング挿通孔の軸方向と垂直な方向に貫通する検出孔が設けられている。したがって、ターミナルヘッダベースの側面の検出孔の開口は、ターミナルヘッダベースとブッシングの間のブッシング挿通孔の軸方向の両端間の空間と、ブッシングの絶縁管の中空部と導体の間の空間とに連通している。
また、このフィードスルーにおいて、ブッシングの絶縁管には、ブッシング挿通孔の軸方向の両端間に配置される位置に、外周面から絶縁管の中空部まで貫通する、絶縁管の軸方向と垂直な方向を軸とする螺旋状の貫通孔が設けられており、ターミナルヘッダベースには、側面からブッシング挿通孔の軸方向の両端間の位置まで、ブッシング挿通孔の軸方向と垂直な方向に貫通する検出孔が設けられている。したがって、ターミナルヘッダベースの側面の検出孔の開口は、ターミナルヘッダベースとブッシングの間のブッシング挿通孔の軸方向の両端間の空間と、ブッシングの絶縁管の中空部と導体の間の空間とに連通している。
よって、このフィードスルーによれば、ターミナルヘッダベースとブッシングとの間の気密や、ブッシングの絶縁管と導体との間の気密の破壊を、ターミナルヘッダベースの側面の検出孔の開口に連結した監視機器で気圧変化などを監視するより検出することができる。
また、ブッシングの絶縁管に設けた貫通孔を螺旋状としているので、導体のターミナルヘッダベース等に対する電気的沿面距離を大きくすることができ、ブッシングの絶縁性能を大きく確保することができる。
また、ブッシングの絶縁管に設けた貫通孔を螺旋状としているので、導体のターミナルヘッダベース等に対する電気的沿面距離を大きくすることができ、ブッシングの絶縁性能を大きく確保することができる。
上述したフィードスルーによれば、ブッシングの絶縁管に設けた気密破壊検出用の貫通孔を螺旋状としたために、貫通孔が比較的に汚染され易く、また、この汚染のためにブッシングが充分な絶縁性能を発揮できなくなる可能性を否定しきれない。
また、ブッシングの絶縁管に螺旋状の貫通孔を形成する加工には特段の手間と設備を要することとなる。
そこで、本発明は、ブッシングの絶縁性能を高信頼度をもって確保することのできるブッシング及びフィードスルーを提供することを課題とする。
また、ブッシングの絶縁管に螺旋状の貫通孔を形成する加工には特段の手間と設備を要することとなる。
そこで、本発明は、ブッシングの絶縁性能を高信頼度をもって確保することのできるブッシング及びフィードスルーを提供することを課題とする。
前記課題達成のために、本発明は、ベース部材に設けられたブッシング取付孔に、当該ブッシング取付孔の軸方向両端の間に軸方向中央部が位置するように挿入され、当該ブッシング取付孔の軸方向両端の位置で当該ベース部材に気密に封着されるブッシングを、絶縁材で形成された中空管状の絶縁管と、前記絶縁管の中空部を貫通するように当該絶縁管に挿通された導体とを含めて構成したものである。ただし、前記導体は前記絶縁管の中空部の両端において当該絶縁管に気密に封着されており、前記絶縁管は、前記軸方向中央部に当該絶縁管の外周面から中空部まで貫通する貫通孔を有し、前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面は絶縁されている。
ここで、このようなブッシングは、前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面を被覆する絶縁層を設けたものとしてもよい。
または、このようなブッシングは、前記絶縁管の中空部内に収容された、絶縁材で形成された中空の絶縁筒を備え、前記導体は、当該絶縁筒の中空に挿通されており、前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面が前記絶縁筒に覆われているものとしてもよい。
ここで、本発明は、これらのブッシングを用いたフィードスルーとして、これらのブッシングと前記ベース部材と備えたフィードスルーも提供する。ただし、前記ベース部材は、当該ベース部材の表面から、前記ブッシング取付孔の当該ブッシング取付孔の軸方向両端の間の位置まで通じる検出孔を有するものである。
または、このようなブッシングは、前記絶縁管の中空部内に収容された、絶縁材で形成された中空の絶縁筒を備え、前記導体は、当該絶縁筒の中空に挿通されており、前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面が前記絶縁筒に覆われているものとしてもよい。
ここで、本発明は、これらのブッシングを用いたフィードスルーとして、これらのブッシングと前記ベース部材と備えたフィードスルーも提供する。ただし、前記ベース部材は、当該ベース部材の表面から、前記ブッシング取付孔の当該ブッシング取付孔の軸方向両端の間の位置まで通じる検出孔を有するものである。
以上のようなブッシング及びフィードスルーによれば、導体の外周面の軸方向両端部を除く表面は絶縁されているので、絶縁管の貫通孔を螺旋状に形成しなくても、導体から絶縁管の外周面の貫通孔の開口までの電気的沿面距離を大きく確保することができる。
よって、汚染の影響に関わらずに、ブッシングの絶縁性能を高信頼度をもって確保することができる。
よって、汚染の影響に関わらずに、ブッシングの絶縁性能を高信頼度をもって確保することができる。
以上のように、本発明によれば、ブッシングの絶縁性能を高信頼度をもって確保することのできるブッシング及びフィードスルーを提供することができる。
以下、本発明の実施形態について説明する。
まず、本実施形態に係るフィードスルーの適用例を図1に示す。
図示するように、LNG、LNG、液体水素などの低温の液化ガスを貯留したタンク100には、タンク100の上部壁を気密に貫通した液化ガス汲揚用管101が設けられている。
液化ガス汲揚用管101の下端の開口はタンク100の内部と連通しており、液化ガス汲揚用管101の下部には、サブマージドポンプ102が配置されている。また、当該液化ガス汲揚用管101の下端はタンク100の床に固定されている。
そして、タンク100外に配置された液化ガス汲揚用管101の上端の開口は、フィードスルー10によって気密に封止されており、電源103から、フィードスルー10と液化ガス汲揚用管101内の給電線となる絶縁電線105とを介して電力がサブマージドポンプ102に供給される。
また、液化ガス汲揚用管101の上部付近には排出路104が連結されており、サブマージドポンプ102で汲揚げられた液化ガスは排出路104から排出される。
次に、本実施形態に係るフィードスルー10について説明する。
図2に、フィードスルー10の外観を示す。
図示するように、フィードスルー10は、円盤状のターミナルヘッダベース1と、ターミナルヘッダベース1に設けた3つのブッシング挿通孔11に各々挿通された3つのブッシング2より構成されており、各ブッシング2はターミナルヘッダベース1のブッシング挿通孔11の軸方向の両端で、ターミナルヘッダベース1に気密に固着されている。ここで、3つのブッシング2は、それぞれ、サブマージドポンプ102に給電する三相電力の各相の給電線を、液化ガス汲揚用管101の内外で中継するものである。
まず、本実施形態に係るフィードスルーの適用例を図1に示す。
図示するように、LNG、LNG、液体水素などの低温の液化ガスを貯留したタンク100には、タンク100の上部壁を気密に貫通した液化ガス汲揚用管101が設けられている。
液化ガス汲揚用管101の下端の開口はタンク100の内部と連通しており、液化ガス汲揚用管101の下部には、サブマージドポンプ102が配置されている。また、当該液化ガス汲揚用管101の下端はタンク100の床に固定されている。
そして、タンク100外に配置された液化ガス汲揚用管101の上端の開口は、フィードスルー10によって気密に封止されており、電源103から、フィードスルー10と液化ガス汲揚用管101内の給電線となる絶縁電線105とを介して電力がサブマージドポンプ102に供給される。
また、液化ガス汲揚用管101の上部付近には排出路104が連結されており、サブマージドポンプ102で汲揚げられた液化ガスは排出路104から排出される。
次に、本実施形態に係るフィードスルー10について説明する。
図2に、フィードスルー10の外観を示す。
図示するように、フィードスルー10は、円盤状のターミナルヘッダベース1と、ターミナルヘッダベース1に設けた3つのブッシング挿通孔11に各々挿通された3つのブッシング2より構成されており、各ブッシング2はターミナルヘッダベース1のブッシング挿通孔11の軸方向の両端で、ターミナルヘッダベース1に気密に固着されている。ここで、3つのブッシング2は、それぞれ、サブマージドポンプ102に給電する三相電力の各相の給電線を、液化ガス汲揚用管101の内外で中継するものである。
次に、図3に、フィードスルー10のターミナルヘッダベース1の構造を示す。
図3中、図3aがターミナルヘッダベース1の上面を、図3b1がターミナルヘッダベース1の側面を、図3b2が図3a中の切断線A-Aによるターミナルヘッダベース1の断面を、図3cがターミナルヘッダベース1の下面を表している。
図示するように、ターミナルヘッダベース1は、概略円盤状の部材であり、中央部に3つのブッシング挿通孔11が設けられ、外縁部に複数のボルト孔12が設けられている
ここで、ターミナルヘッダベース1は、3つのブッシング挿通孔11をブッシング挿通孔11の軸方向中央の位置で連通する連絡孔13と、ターミナルヘッダベース1の側面から一つのブッシング挿通孔11まで貫通する検出孔14が設けられている。
図3中、図3aがターミナルヘッダベース1の上面を、図3b1がターミナルヘッダベース1の側面を、図3b2が図3a中の切断線A-Aによるターミナルヘッダベース1の断面を、図3cがターミナルヘッダベース1の下面を表している。
図示するように、ターミナルヘッダベース1は、概略円盤状の部材であり、中央部に3つのブッシング挿通孔11が設けられ、外縁部に複数のボルト孔12が設けられている
ここで、ターミナルヘッダベース1は、3つのブッシング挿通孔11をブッシング挿通孔11の軸方向中央の位置で連通する連絡孔13と、ターミナルヘッダベース1の側面から一つのブッシング挿通孔11まで貫通する検出孔14が設けられている。
また、ターミナルヘッダベース1の上下面のブッシング挿通孔11の周囲には、ブッシング固定用の円環状の溝15が形成されている。
次に、図4に、フィードスルー10のブッシング2の構成を示す。
ここで、図4中、図4aがブッシング2の外観を、図4bがブッシング2の軸を通る切断線による断面を表している。
図示するように、ブッシング2は、セラミックスなどの絶縁材料からなる中空管状の絶縁管21と絶縁管21の中空部に挿通された導体22と、導体22の両端に連結された端子23とを備えている。
また、絶縁管21の中空部の一方の端において、絶縁管21と導体22の間は第1封着金具24で気密に封止されている。また、絶縁管21の中空部の他方の端において、絶縁管21と導体22の間は、絶縁管21に気密に封着された第2封着金具25と、第2封着金具25に一方の側が溶接され、導体22に他方の側が気密に封着されたS型ベロー26とによって、気密に封止されている。
次に、図4に、フィードスルー10のブッシング2の構成を示す。
ここで、図4中、図4aがブッシング2の外観を、図4bがブッシング2の軸を通る切断線による断面を表している。
図示するように、ブッシング2は、セラミックスなどの絶縁材料からなる中空管状の絶縁管21と絶縁管21の中空部に挿通された導体22と、導体22の両端に連結された端子23とを備えている。
また、絶縁管21の中空部の一方の端において、絶縁管21と導体22の間は第1封着金具24で気密に封止されている。また、絶縁管21の中空部の他方の端において、絶縁管21と導体22の間は、絶縁管21に気密に封着された第2封着金具25と、第2封着金具25に一方の側が溶接され、導体22に他方の側が気密に封着されたS型ベロー26とによって、気密に封止されている。
ここで、S型ベロー26は可撓性を有し、撓みによって各部の線膨張率の差を吸収し、各部の熱的ストレスを緩和する。また、ブッシング2は、導体22の周りに設けた部材群27によって、S型ベロー26による絶縁管21と導体22の間の封止の機械的強度を確保するように構成されている。
次に、ブッシング2の絶縁管21には、ブッシング挿通孔11の軸方向の両端間に配置される位置から絶縁管21の中空部まで貫通する、絶縁管21の軸方向と垂直な方向を軸とするストレートな貫通孔28が設けられている。
また、ブッシング2の絶縁管21の、絶縁管21の軸方向について貫通孔28の両側には、ブッシング2をターミナルヘッダベース1に封着するために用いるC型ベロー29がろう付けにより気密に封着されている。
ここで、導体22の側面の軸方向端部を除く部分の表面は、フッ素樹脂、シリコン樹脂、セラミックスコーティングなどの絶縁材による絶縁層30で被覆されている。
したがって、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離は、図4b中のDとなり、絶縁管21の外周面から導体表面までの直線距離に比べて遙かに大きくなる。
次に、以上のようなターミナルヘッダベース1とブッシング2とより構成されるフィードスルー10の詳細について説明する。
図5aにフィードスルー10の断面を、図5bにフィードスルー10の片側断面を示す。
図示するように、各ブッシング2は、ブッシング2をブッシング挿通孔11を貫通するように挿通した状態で、二つのC型ベロー29をターミナルヘッダベース1の上下面に形成されている円環状の溝15にそれぞれ溶接等によって気密に封着することにより、ターミナルヘッダベース1に固定される。
また、ブッシング2の絶縁管21の、絶縁管21の軸方向について貫通孔28の両側には、ブッシング2をターミナルヘッダベース1に封着するために用いるC型ベロー29がろう付けにより気密に封着されている。
ここで、導体22の側面の軸方向端部を除く部分の表面は、フッ素樹脂、シリコン樹脂、セラミックスコーティングなどの絶縁材による絶縁層30で被覆されている。
したがって、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離は、図4b中のDとなり、絶縁管21の外周面から導体表面までの直線距離に比べて遙かに大きくなる。
次に、以上のようなターミナルヘッダベース1とブッシング2とより構成されるフィードスルー10の詳細について説明する。
図5aにフィードスルー10の断面を、図5bにフィードスルー10の片側断面を示す。
図示するように、各ブッシング2は、ブッシング2をブッシング挿通孔11を貫通するように挿通した状態で、二つのC型ベロー29をターミナルヘッダベース1の上下面に形成されている円環状の溝15にそれぞれ溶接等によって気密に封着することにより、ターミナルヘッダベース1に固定される。
ここで、この状態において、ブッシング2の絶縁管21の中空部と導体22の間の空間と、ブッシング挿通孔11とブッシング2の絶縁管21との間の空間とは、絶縁管21の貫通孔28によって連通している。
また、各ブッシング挿通孔11とブッシング2の絶縁管21との間の空間同士は、ターミナルヘッダベース1の連絡孔13によって連通している。
そして、一つのブッシング挿通孔11とブッシング2の絶縁管21との間の空間は、ターミナルヘッダベース1の検出孔14と連通している。
したがって、各ブッシング2の絶縁管21の中空部と導体22の間の空間は、ターミナルヘッダベース1の検出孔14と連通している。
よって、各ブッシング2の絶縁管21の中空部と導体22の間の空間の気密や、ターミナルヘッダベース1とブッシング2との間の空間の気密の破壊を、ターミナルヘッダベース1の側面の検出孔14の開口に連結した監視機器で気圧変化などを監視するより検出することができることとなる。
また、各ブッシング挿通孔11とブッシング2の絶縁管21との間の空間同士は、ターミナルヘッダベース1の連絡孔13によって連通している。
そして、一つのブッシング挿通孔11とブッシング2の絶縁管21との間の空間は、ターミナルヘッダベース1の検出孔14と連通している。
したがって、各ブッシング2の絶縁管21の中空部と導体22の間の空間は、ターミナルヘッダベース1の検出孔14と連通している。
よって、各ブッシング2の絶縁管21の中空部と導体22の間の空間の気密や、ターミナルヘッダベース1とブッシング2との間の空間の気密の破壊を、ターミナルヘッダベース1の側面の検出孔14の開口に連結した監視機器で気圧変化などを監視するより検出することができることとなる。
なお、図5aに示すようにターミナルヘッダベース1の下面側は、液化ガス汲揚用管101の上端に設けられているフランジに、ターミナルヘッダベース1の外縁部に設けられているボルト孔12を利用してボルトによって気密に連結される。
また、ターミナルヘッダベース1の上面側には、ターミナルヘッダベース1の外縁部に設けられているボルト孔12を利用して、配線カバー用のチューブ106が連結される。
また、ブッシング2の各端子23は、給電線となる絶縁電線105が連結された状態で、所定の封止材によって気密に封止される。
以上、本発明の実施形態について説明した。
ところで、以上の実施形態では、ブッシング2の導体22の側面の軸方向端部を除く部分の表面に絶縁層30を被覆することにより、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離を大きく確保したが、これは、絶縁層30に代えて絶縁筒を用いて、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離を大きく確保するようにしてもよい。
また、ターミナルヘッダベース1の上面側には、ターミナルヘッダベース1の外縁部に設けられているボルト孔12を利用して、配線カバー用のチューブ106が連結される。
また、ブッシング2の各端子23は、給電線となる絶縁電線105が連結された状態で、所定の封止材によって気密に封止される。
以上、本発明の実施形態について説明した。
ところで、以上の実施形態では、ブッシング2の導体22の側面の軸方向端部を除く部分の表面に絶縁層30を被覆することにより、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離を大きく確保したが、これは、絶縁層30に代えて絶縁筒を用いて、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離を大きく確保するようにしてもよい。
すなわち、図4cのブッシング2の軸を通る切断線による断面を示すように、導体22には絶縁層30を被覆せずに、導体22をブッシング2の絶縁管21の中空部内に、導体22が挿通された中空の絶縁筒31を設ける。ここで、絶縁筒31は、セラミックスなどの絶縁材料で形成する。
このように、導体22に絶縁層30を被覆する代わりに、導体22が挿通される絶縁筒31を設けた場合でも、導体22から絶縁管21の外周面の貫通孔28の開口までの電気的沿面距離は図4c中のDで示す距離となり、絶縁管21の外周面から導体表面までの直線距離に比べて遙かに大きくなる。
また、以上の実施形態では、ターミナルヘッダベース1として概略円盤状のターミナルヘッダベース1を用いたが、ターミナルヘッダベース1の形状は概略円盤状以外の形状としてもよい。
すなわち、たとえば、図6aに示すような概略、上下二つのフランジを中空の円筒部で上下に連結した形状のものを用いるようにしてもよい。
ここで、図6a中、図6a1がターミナルヘッダベース1の上面を、図6a2がターミナルヘッダベース1の側面を、図6a3が図6a1中の切断線A-Aによるターミナルヘッダベース1の断面を、図6a4がターミナルヘッダベース1の下面を表している。
図示するように、ターミナルヘッダベース1は、上方フランジ部601と、下方フランジ部602と、上方フランジ部601と下方フランジ部602を上下に連結する中空円筒部603とを備えている。上方フランジ部601は、図3に示した円盤状のターミナルヘッダベース1と同様の構成を備えており、下方フランジ部602は、外縁部にボルト孔12が設けられた円環盤形状を有している。
すなわち、たとえば、図6aに示すような概略、上下二つのフランジを中空の円筒部で上下に連結した形状のものを用いるようにしてもよい。
ここで、図6a中、図6a1がターミナルヘッダベース1の上面を、図6a2がターミナルヘッダベース1の側面を、図6a3が図6a1中の切断線A-Aによるターミナルヘッダベース1の断面を、図6a4がターミナルヘッダベース1の下面を表している。
図示するように、ターミナルヘッダベース1は、上方フランジ部601と、下方フランジ部602と、上方フランジ部601と下方フランジ部602を上下に連結する中空円筒部603とを備えている。上方フランジ部601は、図3に示した円盤状のターミナルヘッダベース1と同様の構成を備えており、下方フランジ部602は、外縁部にボルト孔12が設けられた円環盤形状を有している。
そして、たとえば、図6bに示すように、ターミナルヘッダベース1の下方フランジ部602の下面は、ターミナルヘッダベース1の外縁部に設けられているボルト孔12を利用して、ターミナルヘッダベース1の液化ガス汲揚用管101の上端に設けられているフランジに、ボルトによって締結される。
また、ターミナルヘッダベース1の上部フランジ部の上面には、ターミナルヘッダベース1の上部フランジ部の外縁部に設けられているボルト孔12を利用して、配線カバー用のチューブ106が連結される。
また、ブッシング2の各端子23は、給電線となる絶縁電線105が連結された状態で、所定の封止材302によって気密に封止される。
ここで、図6aに示した上下二つのフランジを備えたターミナルヘッダベース1を用いたフィードスルー10は、図6bに示すように、上端付近で屈曲する液化ガス汲揚用管101への適用に好適である。このようなターミナルヘッダベース1を用いることにより給電線の端子23近傍の曲げ半径を大きく確保することができる。
また、ブッシング2の各端子23は、給電線となる絶縁電線105が連結された状態で、所定の封止材302によって気密に封止される。
ここで、図6aに示した上下二つのフランジを備えたターミナルヘッダベース1を用いたフィードスルー10は、図6bに示すように、上端付近で屈曲する液化ガス汲揚用管101への適用に好適である。このようなターミナルヘッダベース1を用いることにより給電線の端子23近傍の曲げ半径を大きく確保することができる。
1…ターミナルヘッダベース、2…ブッシング、10…フィードスルー、11…ブッシング挿通孔、12…ボルト孔、13…連絡孔、14…検出孔、15…溝、21…絶縁管、22…導体、23…端子、24…第1封着金具、25…第2封着金具、26…S型ベロー、27…部材群、28…貫通孔、29…C型ベロー、30…絶縁層、31…絶縁筒、100…タンク、101…液化ガス汲揚用管、102…サブマージドポンプ、103…電源、104…排出路、105…絶縁電線、106…チューブ、302…封止材、601…上方フランジ部、602…下方フランジ部、603…中空円筒部。
Claims (4)
- ベース部材に設けられたブッシング取付孔に、当該ブッシング取付孔の軸方向両端の間に軸方向中央部が位置するように挿入され、当該ブッシング取付孔の軸方向両端の位置で当該ベース部材に気密に封着されるブッシングであって、
絶縁材で形成された中空管状の絶縁管と、
前記絶縁管の中空部を貫通するように当該絶縁管に挿通された導体とを有し、
前記導体は前記絶縁管の中空部の両端において当該絶縁管に気密に封着されており、
前記絶縁管は、前記軸方向中央部に当該絶縁管の外周面から中空部まで貫通する貫通孔を有し、
前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面は絶縁されていることを特徴とするブッシング。 - 請求項1記載のブッシングであって、
前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面を被覆する絶縁層を有する特徴とするブッシング。 - 請求項1記載のブッシングであって、
前記絶縁管の中空部内に収容された、絶縁材で形成された中空の絶縁筒を有し、
前記導体は、当該絶縁筒の中空に挿通されており、前記導体の外周面の軸方向両端部を除く表面が前記絶縁筒に覆われていることを特徴とするブッシング。 - 請求項1、2または3記載のブッシングと、前記ベース部材とよりなるフィードスルーであって、
前記ベース部材は、当該ベース部材の表面から、前記ブッシング取付孔の当該ブッシング取付孔の軸方向両端の間の位置まで通じる検出孔を有することを特徴とするフィードスルー。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2014
- 2014-01-21 JP JP2014008376A patent/JP2015137670A/ja active Pending
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