JP2015132689A - 反射防止構造体及びその設計方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基体表面2の凸部により形成されたナノ構造体3が、可視光波長以下の間隔で多数設けられている反射防止構造体1Aの設計方法において、ナノ構造体の基体表面平坦部からの高さの平均を180nm以上290nm以下とし、反射防止構造体の平面視において基体表面積に対するナノ構造体の底面の面積の比率であるナノ構造体の充填率を、該充填率と反射防止構造体の白色光に対する反射光の彩度√(a*2+b*2) の関係において、該彩度が極小値をとる充填率の±5%の範囲とする。
【選択図】図1C
Description
また観察物とは別に、発光素子の表面やレンズなどの光学素子の表面に設ける使われ方も行われている。
ここで、充填率は、単位格子の面積に対するナノ構造体3の底面の面積の比率であり、図1Bに示す菱形の面積S1に対する、この菱形に含まれる4つのナノ構造体の扇形の面積S2の比率(%)として次式により算出することができる。
充填率(%)=(S2/S1)×100
2 基体
3 ナノ構造体
Dp 配置ピッチ
H 高さ
Tp トラックピッチ
T1、T2、T3 トラック
Claims (8)
- 基体表面の凸部により形成されたナノ構造体が、可視光波長以下の間隔で多数設けられている反射防止構造体の設計方法であって、ナノ構造体の基体表面平坦部からの高さの平均を180nm以上290nm、反射防止構造体の平面視における基体表面の面積に対するナノ構造体の底面の面積の比率であるナノ構造体の充填率を、該充填率と反射防止構造体の白色光に対する反射光の彩度√(a*2+b*2) の関係において、該彩度が極小値をとる充填率の±5%の範囲とする方法。
- ナノ構造体が可視光波長以下のピッチで配列しており、ナノ構造体の充填率が、ナノ構造体の配列の単位格子における、該単位格子の面積に対するナノ構造体の底面の面積の比率で算出される請求項1記載の方法。
- ナノ構造体の充填率を、該充填率と反射防止構造体の白色光に対する反射光の彩度√(a*2+b*2)の関係において、白色光に対する反射光の彩度√(a*2+b*2)が2以下となる値とする請求項1又は2記載の設計方法。
- 基体表面の凸部により形成されたナノ構造体が、可視光波長以下の間隔で多数設けられている反射防止構造体であって、ナノ構造体の基体表面平坦部からの高さの平均が180nm以上290nm以下であり、反射防止構造体の平面視における基体表面の面積に対するナノ構造体の底面の面積の比率であるナノ構造体の充填率が、85%以上100%未満である反射防止構造体。
- ナノ構造体が可視光波長以下のピッチで配列しており、ナノ構造体の充填率が、ナノ構造体の配列の単位格子における、該単位格子の面積に対するナノ構造体の底面の面積の比率で算出される請求項4記載の反射防止構造体。
- ナノ構造体の基体表面平坦部からの高さのばらつきが10%以内である請求項4又は5記載の反射防止構造体。
- 請求項4〜6のいずれかに記載された反射防止構造体であって、フィルム状に成形されており、ナノ構造体の高さのばらつきが10%以内である反射防止構造体。
- 枚葉化されたフィルム状に成形されている請求項7記載の反射防止構造体。
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