JP2015126215A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015126215A5
JP2015126215A5 JP2013272043A JP2013272043A JP2015126215A5 JP 2015126215 A5 JP2015126215 A5 JP 2015126215A5 JP 2013272043 A JP2013272043 A JP 2013272043A JP 2013272043 A JP2013272043 A JP 2013272043A JP 2015126215 A5 JP2015126215 A5 JP 2015126215A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
optical
plane
thickness direction
element unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013272043A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015126215A (ja
JP6381210B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013272043A priority Critical patent/JP6381210B2/ja
Priority claimed from JP2013272043A external-priority patent/JP6381210B2/ja
Publication of JP2015126215A publication Critical patent/JP2015126215A/ja
Publication of JP2015126215A5 publication Critical patent/JP2015126215A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6381210B2 publication Critical patent/JP6381210B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013272043A 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法 Active JP6381210B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272043A JP6381210B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272043A JP6381210B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015126215A JP2015126215A (ja) 2015-07-06
JP2015126215A5 true JP2015126215A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2017-02-09
JP6381210B2 JP6381210B2 (ja) 2018-08-29

Family

ID=53536693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013272043A Active JP6381210B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6381210B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI718507B (zh) * 2019-03-25 2021-02-11 大陸商信泰光學（深圳）有限公司 光學模組
CN111736289B (zh) 2019-03-25 2022-06-17 信泰光学(深圳)有限公司 光学模块

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3462997B2 (ja) * 1999-05-11 2003-11-05 シャープ株式会社 光学ピックアップ用対物レンズの調整方法および光学ピックアップ用対物レンズならびに対物レンズ鏡筒およびその調整方法
KR20050003410A (ko) * 2002-05-08 2005-01-10 칼 짜이스 에스엠테 아게 결정물질로 이루어진 렌즈
JP2004146792A (ja) * 2002-08-29 2004-05-20 Nikon Corp 光学部材の保持装置、照明光学装置、露光装置および露光方法
JP2004253583A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Nikon Corp 投影光学系の調整方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置、および露光方法
JP4106289B2 (ja) * 2003-02-21 2008-06-25 シャープ株式会社 光ピックアップレンズ及びそれを有する光学ピックアップ装置
JP2006059421A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Olympus Corp 光ピックアップ用光学素子およびそれを用いた光ピックアップ
US7372633B2 (en) * 2006-07-18 2008-05-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, aberration correction device and device manufacturing method
JP5935975B2 (ja) * 2011-11-14 2016-06-15 株式会社ニコン 光学部材位置調整装置、投影光学系及びその調整方法、並びに露光装置
JP6055179B2 (ja) * 2011-12-19 2016-12-27 株式会社トプコン 回転角検出装置及び測量装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013541729A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2017509931A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
SG11201807712YA (en) Method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device
JP2014500966A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2020502491A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2009002931A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2015021904A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2013179270A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2015536037A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2015532713A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2012168543A5 (ja) 投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2012137751A5 (ja) レンズユニット、画像読取装置、及びレンズユニットの製造方法
JP2015518183A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2010020017A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2017227936A5 (ja) 多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法
EP2778786A3 (en) A flow lithography technique to form microstructures using optical arrays
JP2015126215A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2013219089A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2012089575A5 (ja) リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法
JP2014123778A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2013140846A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2010192471A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2012256798A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
SG10201805252RA (en) Extreme ultraviolet lithography system having chuck assembly and method of manufacturing thereof
JP2018036425A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)