JP2015122542A - 光学システム - Google Patents
光学システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015122542A JP2015122542A JP2015066846A JP2015066846A JP2015122542A JP 2015122542 A JP2015122542 A JP 2015122542A JP 2015066846 A JP2015066846 A JP 2015066846A JP 2015066846 A JP2015066846 A JP 2015066846A JP 2015122542 A JP2015122542 A JP 2015122542A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- burst
- seed
- pulses
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 87
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 claims description 21
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 9
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 235000015067 sauces Nutrition 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 6
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 5
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 5
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000009021 linear effect Effects 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 3
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZPDRQAVGXHVGTB-UHFFFAOYSA-N gallium;gadolinium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Gd+3] ZPDRQAVGXHVGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCZFPTGOQQOZGI-UHFFFAOYSA-N lithium bis(oxoboranyloxy)borinate Chemical compound [Li+].[O-]B(OB=O)OB=O VCZFPTGOQQOZGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NNAZVIPNYDXXPF-UHFFFAOYSA-N [Li+].[Cs+].OB([O-])[O-] Chemical compound [Li+].[Cs+].OB([O-])[O-] NNAZVIPNYDXXPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVFHPXMGPBXBAE-UHFFFAOYSA-N [Sc].[Gd] Chemical compound [Sc].[Gd] TVFHPXMGPBXBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOCSSSMOHPPNTG-UHFFFAOYSA-N [Sc].[Y] Chemical compound [Sc].[Y] MOCSSSMOHPPNTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000338 in vitro Methods 0.000 description 1
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1301—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude in optical amplifiers
- H01S3/13013—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude in optical amplifiers by controlling the optical pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0092—Nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06754—Fibre amplifiers
- H01S3/06758—Tandem amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10007—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers
- H01S3/1001—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers by controlling the optical pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10007—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers
- H01S3/10015—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating in optical amplifiers by monitoring or controlling, e.g. attenuating, the input signal
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10038—Amplitude control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10038—Amplitude control
- H01S3/10046—Pulse repetition rate control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2375—Hybrid lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/04—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
- H01S5/042—Electrical excitation ; Circuits therefor
- H01S5/0428—Electrical excitation ; Circuits therefor for applying pulses to the laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
- H01S5/06209—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in single-section lasers
- H01S5/06216—Pulse modulation or generation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Lasers (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
【解決手段】 光学システムは、シードソース102と、シードソース102に結合されている光増幅器106と、シードソース102に作動的に結合されており、シードソース102がパルスバーストを生成するように構成されているロジックを有しているコントローラ101と、を有する。所与のパルスバースト内の連続する複数のパルスの間の期間は漸次可変である。コントローラ101は、目標に当たるパルスの照射位置間の距離が一定であるようにパルス間を調整するように構成されている。
【選択図】 図1
Description
本出願は、参照によって本明細書に全内容が援用される、2009年7月21日付けで出願された米国特許出願第12/506,849号の優先権の利益を主張する。
本明細書で使用する場合
ビームスプリッタは、光のビームを2つまたは3つ以上の部分に分離することができる光学装置を指す。
キャビティまたは光学共振キャビティは、光が往復または循環できる2つまたは3つ以上の反射表面によって定められている光路を指す。光路に交差する物体は、キャビティ内にあると言う。
連続波(CW)レーザは、パルス状レーザにおいてのような短いバーストではなく連続的に発光するレーザを指す。
利得は、一点から他の点に増幅器を通して伝達される信号の強度、パワー、またはパルスエネルギーの増加を指す。「非飽和利得」という用語は、増幅器における反転準位を著しく変化させない増幅器を通過する小信号の増加を指す。本明細書で使用される場合、利得と非飽和利得とは、互換的に使用されることになる。
ガーネットは、たとえばイットリウムアルミニウムガーネット(YAG)、ガドリニウムガリウムガーネット(GGG)、ガドリニウムスカンジウムガリウムガーネット(GSGG)、イットリウムスカンジウムガリウムガーネット(YSGG)などの酸化結晶の特定のクラスを指す。
レーザは、励起誘導放射による光増幅の頭字語である。レーザはレーザ発生可能材料を含んでいるキャビティである。つまり、たとえば光または電荷によって励起することによって原子が準安定な状態に励起可能な水晶、ガラス、液体、半導体、染料、または気体などの任意の材料である。光は準安定な状態から基底状態に戻るときに物質によって放射される。発光は通過する光子の存在によって励起され、それによって放出された光子が励起させる光子と同じ位相と方向とを有すことになる。光(本明細書では励起放射を指す)はキャビティ内で振動し、一部がキャビティから放射されて出力ビームを形成する。
高調波発生(HHG)、たとえば第2高調波発生(SHG)、第3高調波発生(THG)、第4高調波発生(FHG)等で、入力光の2つまたは3つ以上の光子が周波数Nf0を有している出力光の光子を生成するように相互作用し、ここでNは相互作用する光子の数である。たとえば、SHGにおいてはN=2である。
差周波数発生(DFG)では、周波数f1の入力光の光子が、周波数がf1−f2の出力光の光子を生成するように、周波数f2の他の入力光の光子と相互作用する。
パルス期間(T)は、2つまたは3つ以上のパルスの列において連続しているパルスの同じ点の間の時間を指す。
Qは共振器(キャビティ)の性能指数を指し、(2π)×(共振器に保存されている平均エネルギー)/(サイクルあたり散逸するエネルギー)と定義される。光共振器の表面の反射率が高くなり、吸収損失が減少するほど、Qが増加し、所望のモードからのエネルギー損失が減少する。
Qスイッチレーザは、レーザ発生媒体において高準位の反転(光学利得とエネルギー蓄積)が達成されるまで、レーザ発生作用を防止するためにレーザキャビティ内のQスイッチを使用するレーザを指す。スイッチが音響光学変調器または電気光学変調器または可飽和吸収体によってキャビティのQを急速に増加させたときに、大きなパルスが発生する。
疑似位相整合(QPM)材料:疑似位相整合材料において、基本波の放射と高調波の放射とを、材料の非線形係数の符号を定期的に変化させることによって位相整合させている。符号の変化の期間(kQPM)によって、kQPM+k1+k2=k3のように追加の項が位相整合方程式に追加される。QPM材料において、基本波と高調波とは、同一の分極を有することがあり、効率を改善することが多い。疑似位相整合材料の例には周期分極ニオブ酸タンタル(PPLT)、周期分極ニオブ酸リチウム(PPLN)、周期分極低比組成ニオブ酸タンタル(PPSLT)、周期分極チタンリン酸カリウム(PPKTP)または周期分極微細構造ガラス繊維がある。
誘導ラマン散乱(SRS)は、強力な光ビームを伴って発生する可能性があるラマン散乱の一種である。ラマン散乱光は利得を得て、そのパワーは指数関数的に増加する。入力光のパワーが閾値を超えると、入射光の大部分が、入射光よりも周波数が低いラマン散乱光に変換される。SRSは、誘導ラマン効果またはコヒーレントラマン効果としても知られていることがある。
紫外放射は、以下の波長範囲に細分できる:約380nmから約200nmまでの近UV、約200nmから約10nmまでの遠または真空UV(FUVまたはVUV)、約1nmから約31nmまでの超UV(EUVまたはXUV)。
デューティーサイクルは通常<0.01であるので、パルスは図2において幅の狭いスパイクとして現れる。わかりやすくなるように、図2のパルスの間隔は圧縮している。
Claims (16)
- シードソースと、
前記シードソースに結合されている光増幅器と、
前記シードソースに作動的に結合されており、前記シードソースが1つまたは2つ以上のパルスバーストを生成するように構成されているロジックを有しているコントローラと、
を有し、所与のパルスバースト内の連続する複数のパルスの間の期間は漸次可変であり、
前記ロジックは前記パルスバースト内の連続しているパルスの間のパルス間期間の間に最小値よりも大きく且つ最大値よりも小さい中間値にシード信号のパワーを調整するように構成されている制御信号を生成するようにさらに構成されており、
前記コントローラは、目標に当たるパルスの照射位置間の距離が一定であるようにパルス間を調整するように構成されている、光学システム。 - 前記所与のパルスバーストは、頂部が平坦なパルスバーストである、請求項1に記載の光学システム。
- 前記所与のパルスバーストは、パルスの高さ、パルスの幅、および/またはパルスの間隔の所望のパターンを備えている1つまたは2つ以上のパルスを有する、請求項1に記載の光学システム。
- 前記コントローラに結合されているバーストモード制御回路と、
前記コントローラに結合されている休止モード制御回路と、
スイッチと、
をさらに有し、
前記スイッチは前記コントローラに結合されており、
前記スイッチは前記バーストモード制御回路に結合されており、
前記スイッチは前記休止モード制御回路に結合されており、
前記スイッチは前記シードソースに結合されており、
前記スイッチは前記コントローラからのモード選択信号に応答して前記バーストモード制御回路からの第1の制御信号または前記休止モード制御回路からの第2の制御信号を前記シードソースに選択的に結合するように構成されている、
請求項1に記載の光学システム。 - 前記シードソースはレーザダイオードを有しており、
前記第1または第2の制御信号は前記レーザダイオードに加わる駆動電流を調整するように構成されている、
請求項4に記載の光学システム。 - 前記シードソースからの前記シード信号を検出し、前記シード信号に比例するフィードバック信号を生成するように構成されているシード信号センサをさらに有し、
前記シードソースは前記バーストモード制御回路または前記休止モード制御回路に結合されており、
前記バーストモード制御回路が前記フィードバック信号に応答して前記第1の制御信号を調整するように構成されているか、又は前記休止モード制御回路が前記フィードバック信号に応答して前記第2の制御信号を調整するように構成されている、請求項4に記載の光学システム。 - 前記シードソースはレーザダイオードを有している、請求項1に記載の光学システム。
- 前記コントローラは前記レーザダイオードに加わる駆動電流を調整するように構成されている、請求項7に記載の光学システム。
- 前記シードソースが光変調器を有しているか、又は外部光変調器が前記シードソースと前記光増幅器との間に結合されている、請求項1に記載の光学システム。
- 前記コントローラは前記光変調器または前記外部光変調器の光伝送を調整するように構成されている、請求項9に記載の光学システム。
- 前記光増幅器の出力に光学的に結合されている波長変換器をさらに有する、請求項1に記載の光学システム。
- 前記光増幅器はファイバ増幅器である、請求項1に記載の光学システム。
- シードソースと前記シードソースに結合されている光増幅器とを有している光学システムからの出力パルスを制御する方法であって、
1つまたは2つ以上のパルスバーストを生成するステップであって、所与のパルスバースト内の連続する複数のパルスの間の期間は漸次可変であり、ロジックは前記パルスバースト内の連続しているパルスの間のパルス間期間の間に前記最小値よりも大きく且つ前記最大値よりも小さい中間値にシード信号のパワーを調整するように構成されている制御信号を生成するように構成される、パルスバーストを生成するステップと、
目標に当たるパルスの照射位置間の距離が一定であるように前記パルス間期間を調整するステップと、
を有する、方法。 - 前記1つまたは2つ以上のパルスバーストは頂部が平坦なパルスバーストを含む、請求項13に記載の方法。
- 前記1つまたは2つ以上のパルスバーストは、パルスの高さ、パルスの幅、および/またはパルスの間隔の所定のパターンを備えている1つまたは2つ以上のパルスを有する、請求項13に記載の方法。
- 前記光増幅器を公称上一定の励起速度で励起するステップをさらに有する、請求項13に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/506,849 | 2009-07-21 | ||
US12/506,849 US8160113B2 (en) | 2009-07-21 | 2009-07-21 | Tailored pulse burst |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013215230A Division JP5813722B2 (ja) | 2009-07-21 | 2013-10-16 | 光学システム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017049802A Division JP6325143B2 (ja) | 2009-07-21 | 2017-03-15 | 光学システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015122542A true JP2015122542A (ja) | 2015-07-02 |
JP6113775B2 JP6113775B2 (ja) | 2017-04-12 |
Family
ID=43497303
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012521741A Active JP5417532B2 (ja) | 2009-07-21 | 2010-07-20 | 光学システム及び出力パルス制御方法 |
JP2013215230A Active JP5813722B2 (ja) | 2009-07-21 | 2013-10-16 | 光学システム |
JP2015066846A Active JP6113775B2 (ja) | 2009-07-21 | 2015-03-27 | 光学システム |
JP2017049802A Active JP6325143B2 (ja) | 2009-07-21 | 2017-03-15 | 光学システム |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012521741A Active JP5417532B2 (ja) | 2009-07-21 | 2010-07-20 | 光学システム及び出力パルス制御方法 |
JP2013215230A Active JP5813722B2 (ja) | 2009-07-21 | 2013-10-16 | 光学システム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017049802A Active JP6325143B2 (ja) | 2009-07-21 | 2017-03-15 | 光学システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8160113B2 (ja) |
EP (1) | EP2457337B1 (ja) |
JP (4) | JP5417532B2 (ja) |
DK (1) | DK2457337T3 (ja) |
WO (1) | WO2011011461A1 (ja) |
Families Citing this family (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8160113B2 (en) * | 2009-07-21 | 2012-04-17 | Mobius Photonics, Inc. | Tailored pulse burst |
JP5432673B2 (ja) * | 2009-11-09 | 2014-03-05 | 株式会社フジクラ | ファイバレーザ装置 |
EP2326021A1 (en) * | 2009-11-23 | 2011-05-25 | Stichting IMEC Nederland | Method and transmitter device for selecting transmission signal power level |
JP5371838B2 (ja) * | 2010-03-10 | 2013-12-18 | 株式会社フジクラ | ファイバレーザ装置 |
US8472992B1 (en) | 2010-05-18 | 2013-06-25 | Sprint Spectrum L.P. | Power control setpoint based on virtual termination target |
US8396512B1 (en) * | 2010-06-14 | 2013-03-12 | Sprint Spectrum L.P. | Enhanced virtual termination target mechanism |
US8705385B1 (en) | 2010-06-17 | 2014-04-22 | Sprint Spectrum L.P. | Dynamic virtual termination target based on RF conditions |
KR101145683B1 (ko) * | 2010-10-13 | 2012-05-24 | 광주과학기술원 | 레이저 시스템에서 버스트 모드 발진 방법 및 이를 위한 장치 |
US8472382B1 (en) | 2010-11-10 | 2013-06-25 | Sprint Spectrum L.P. | Adaptive virtual termination target |
US9158177B2 (en) | 2010-11-24 | 2015-10-13 | Fianium Ltd. | Optical systems |
JP2013065804A (ja) * | 2010-12-20 | 2013-04-11 | Gigaphoton Inc | レーザ装置およびそれを備える極端紫外光生成システム |
US8411716B2 (en) * | 2011-01-26 | 2013-04-02 | Institut National D'optique | Circuit assembly for controlling an optical system to generate optical pulses and pulse bursts |
US9450368B2 (en) * | 2011-04-28 | 2016-09-20 | Gwangju Institute Of Science And Technology | Pulse laser device and burst mode using same, and method for controlling a variable burst mode |
US8717670B2 (en) | 2011-06-17 | 2014-05-06 | Coherent, Inc. | Fiber-MOPA apparatus for delivering pulses on demand |
JP5918975B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2016-05-18 | 株式会社フジクラ | Mopa方式レーザ光源装置およびmopa方式レーザ制御方法 |
TWI473373B (zh) | 2012-11-30 | 2015-02-11 | Ind Tech Res Inst | 間隔時間可調脈衝序列產生裝置 |
US9478931B2 (en) | 2013-02-04 | 2016-10-25 | Nlight Photonics Corporation | Method for actively controlling the optical output of a seed laser |
US9308583B2 (en) | 2013-03-05 | 2016-04-12 | Lawrence Livermore National Security, Llc | System and method for high power diode based additive manufacturing |
WO2014140423A2 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Corelase Oy | Method and apparatus for welding a semiconductor substrate with a laser |
WO2014151927A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Ipg Photonics Corporation | Universal fiber optic connector |
KR101304424B1 (ko) * | 2013-05-31 | 2013-09-05 | 광주과학기술원 | 버스트 모드 레이저 발생 장치 및 방법 |
US8995052B1 (en) * | 2013-09-09 | 2015-03-31 | Coherent Kaiserslautern GmbH | Multi-stage MOPA with first-pulse suppression |
WO2015060385A1 (ja) | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 株式会社ニコン | レーザ装置、該レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 |
WO2015122375A2 (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-20 | スペクトロニクス株式会社 | レーザ光源装置及びレーザパルス光生成方法 |
CN105119134A (zh) | 2014-03-13 | 2015-12-02 | 恩耐激光技术有限公司 | 用于种子可中止的脉冲光纤激光放大器的快速选通的算法 |
CN105390933B (zh) * | 2014-08-29 | 2019-01-11 | 三菱电机株式会社 | 激光器装置以及激光加工机 |
JP2016115740A (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | オムロン株式会社 | 光増幅装置およびレーザ加工装置 |
WO2016121090A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | ギガフォトン株式会社 | 固体レーザシステム |
JP6687999B2 (ja) * | 2015-02-06 | 2020-04-28 | スペクトロニクス株式会社 | レーザ光源装置及びレーザパルス光生成方法 |
KR101682593B1 (ko) * | 2015-05-26 | 2016-12-05 | 한국과학기술연구원 | 단일 펄스 레이저 장치 |
US9806488B2 (en) | 2015-06-30 | 2017-10-31 | Nlight, Inc. | Adaptive boost control for gating picosecond pulsed fiber lasers |
US10220471B2 (en) | 2015-10-14 | 2019-03-05 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Spatter reduction laser scanning strategy in selective laser melting |
JP7499562B2 (ja) | 2015-10-30 | 2024-06-14 | シューラット テクノロジーズ,インク. | 付加製造システム及び方法 |
US9570877B1 (en) * | 2015-12-31 | 2017-02-14 | Lumentum Operations Llc | Gain control for arbitrary triggering of short pulse lasers |
WO2017132664A1 (en) | 2016-01-28 | 2017-08-03 | Seurat Technologies, Inc. | Additive manufacturing, spatial heat treating system and method |
US10747033B2 (en) | 2016-01-29 | 2020-08-18 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Cooler for optics transmitting high intensity light |
EP3995277A1 (en) | 2016-01-29 | 2022-05-11 | Seurat Technologies, Inc. | System for additive manufacturing |
WO2017149712A1 (ja) * | 2016-03-02 | 2017-09-08 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及び極端紫外光生成システム |
JP6551271B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2019-07-31 | オムロン株式会社 | 光増幅装置およびレーザ加工装置 |
WO2017175344A1 (ja) * | 2016-04-07 | 2017-10-12 | ギガフォトン株式会社 | 固体レーザ装置、固体レーザシステム、及び露光装置用レーザ装置 |
US10749605B2 (en) * | 2016-07-08 | 2020-08-18 | Hilight Semiconductor Limited | Laser power controller |
DE102016212927B3 (de) * | 2016-07-14 | 2017-09-07 | Trumpf Laser Gmbh | Laser-Taktsignalgenerator |
WO2018105082A1 (ja) | 2016-12-08 | 2018-06-14 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及びレーザ加工システム |
CN110050394B (zh) * | 2016-12-09 | 2021-01-12 | 古河电气工业株式会社 | 脉冲激光装置、加工装置及脉冲激光装置的控制方法 |
KR102626294B1 (ko) | 2017-05-11 | 2024-01-17 | 쇠라 테크널러지스 인코포레이티드 | 적층 가공을 위한 패턴화된 광의 스위치야드 빔 라우팅 |
US10333269B2 (en) * | 2017-09-27 | 2019-06-25 | Apple Inc. | Controlling output power of a laser amplifier with variable pulse rate |
WO2019212735A1 (en) * | 2018-05-03 | 2019-11-07 | Quantum-Si Incorporated | Characterizing an optical element |
IL279749B2 (en) | 2018-07-02 | 2024-04-01 | Belkin Vision Ltd | Direct selective laser trabeculoplasty |
EP3894108A4 (en) | 2018-12-14 | 2022-08-17 | Seurat Technologies, Inc. | ADDITIVE MANUFACTURING SYSTEM FOR CREATING OBJECTS FROM POWDER USING A HIGH FLUX LASER FOR TWO-DIMENSIONAL PRINTING |
CN116021031A (zh) | 2018-12-19 | 2023-04-28 | 速尔特技术有限公司 | 使用脉冲调制的激光进行二维打印的增材制造系统 |
CN109655807A (zh) * | 2019-01-28 | 2019-04-19 | 哈工大(北京)军民融合创新研究院有限公司 | 一种1.06μm脉冲外差相干二维扫描激光雷达装置及系统 |
KR20220025113A (ko) * | 2019-07-09 | 2022-03-03 | 아이피지 포토닉스 코포레이션 | 펄스 지속시간 스위치를 갖는 레이저 시스템 |
JP2023500603A (ja) * | 2019-11-08 | 2023-01-10 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 放射のパルスのバーストを制御するための放射システム |
WO2021262374A1 (en) * | 2020-06-24 | 2021-12-30 | Cymer, Llc | Control apparatus for an optical source |
CN116075387A (zh) * | 2020-08-07 | 2023-05-05 | 株式会社天田集团 | 激光振荡器、激光加工机以及受激拉曼散射抑制方法 |
JP7449836B2 (ja) | 2020-10-02 | 2024-03-14 | 株式会社アマダ | レーザ発振器、レーザ加工機、及び誘導ラマン散乱抑制方法 |
CN114499673B (zh) * | 2020-11-12 | 2024-07-26 | 莫列斯有限公司 | 光放大器模块及其增益控制方法 |
DE102021201493A1 (de) | 2021-02-17 | 2022-08-18 | Trumpf Laser Gmbh | Verfahren und Lasersystem zum Erzeugen von Ausgangslaserpulsen mit einer optischen Komponente mit temperaturabhängiger Leistungseffizienz und zugehöriges Computerprogrammprodukt |
WO2023158720A1 (en) * | 2022-02-18 | 2023-08-24 | Uviquity, Inc. | Nonlinear solid state devices for optical radiation in far-uvc spectrum |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63304435A (ja) * | 1987-06-04 | 1988-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レ−ザ駆動回路 |
JP2001085771A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2002273582A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | ビーム加工装置及びタッチパネル基板の製造方法 |
US20080013163A1 (en) * | 2006-07-11 | 2008-01-17 | Mobius Photonics, Inc. | Light source with precisely controlled wavelength-converted average power |
JP2014053627A (ja) * | 2009-07-21 | 2014-03-20 | Mobius Photonics Inc | 光学システム |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06152034A (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-31 | Sumitomo Cement Co Ltd | ダミー光入力制御型光ファイバ増幅方法 |
US7505196B2 (en) * | 2004-03-31 | 2009-03-17 | Imra America, Inc. | Method and apparatus for controlling and protecting pulsed high power fiber amplifier systems |
US7133187B2 (en) | 2004-06-07 | 2006-11-07 | Electro Scientific Industries, Inc. | AOM modulation techniques employing plurality of transducers to improve laser system performance |
JP4360638B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2009-11-11 | 古河電気工業株式会社 | パルス光源装置 |
US7643529B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-01-05 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7667889B2 (en) * | 2007-02-21 | 2010-02-23 | Pyrophotonics Lasers Inc. | Methods and systems for gain control in pulsed optical amplifiers |
JP4957474B2 (ja) * | 2007-09-13 | 2012-06-20 | オムロン株式会社 | レーザマーキング装置 |
US7885298B2 (en) * | 2008-01-16 | 2011-02-08 | Deep Photonics Corporation | Method and apparatus for producing arbitrary pulsetrains from a harmonic fiber laser |
-
2009
- 2009-07-21 US US12/506,849 patent/US8160113B2/en active Active
-
2010
- 2010-07-20 WO PCT/US2010/042663 patent/WO2011011461A1/en active Application Filing
- 2010-07-20 DK DK10802809.3T patent/DK2457337T3/da active
- 2010-07-20 EP EP10802809.3A patent/EP2457337B1/en active Active
- 2010-07-20 JP JP2012521741A patent/JP5417532B2/ja active Active
-
2013
- 2013-10-16 JP JP2013215230A patent/JP5813722B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-27 JP JP2015066846A patent/JP6113775B2/ja active Active
-
2017
- 2017-03-15 JP JP2017049802A patent/JP6325143B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63304435A (ja) * | 1987-06-04 | 1988-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レ−ザ駆動回路 |
JP2001085771A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2002273582A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | ビーム加工装置及びタッチパネル基板の製造方法 |
US20080013163A1 (en) * | 2006-07-11 | 2008-01-17 | Mobius Photonics, Inc. | Light source with precisely controlled wavelength-converted average power |
JP2009544049A (ja) * | 2006-07-11 | 2009-12-10 | モビアス フォトニクス, インク. | 精密に制御された波長変換平均出力を有する光源の制御方法、および波長変換システム |
JP2014053627A (ja) * | 2009-07-21 | 2014-03-20 | Mobius Photonics Inc | 光学システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5417532B2 (ja) | 2014-02-19 |
JP2014053627A (ja) | 2014-03-20 |
DK2457337T3 (en) | 2020-12-07 |
JP2017108186A (ja) | 2017-06-15 |
JP6325143B2 (ja) | 2018-05-16 |
JP6113775B2 (ja) | 2017-04-12 |
US8160113B2 (en) | 2012-04-17 |
EP2457337B1 (en) | 2020-11-11 |
US20110019705A1 (en) | 2011-01-27 |
EP2457337A4 (en) | 2018-06-27 |
EP2457337A1 (en) | 2012-05-30 |
JP5813722B2 (ja) | 2015-11-17 |
JP2013500583A (ja) | 2013-01-07 |
WO2011011461A1 (en) | 2011-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6325143B2 (ja) | 光学システム | |
US8009705B2 (en) | Fiber MOPA system without stimulated brillouin scattering | |
JP5232782B2 (ja) | 精密に制御された波長変換平均出力を有する光源の制御方法、および波長変換システム | |
US8630320B2 (en) | Method and apparatus for a hybrid mode-locked fiber laser | |
US7885298B2 (en) | Method and apparatus for producing arbitrary pulsetrains from a harmonic fiber laser | |
US7443903B2 (en) | Laser apparatus having multiple synchronous amplifiers tied to one master oscillator | |
EP2059839B1 (en) | Reducing thermal load on optical head | |
CA2528123C (en) | Laser pulse generator | |
JP2019522377A (ja) | 短又は超短光パルスを生成するシステム | |
WO2012173939A2 (en) | Fiber-mopa apparatus for delivering pulses on demand | |
CA2781319C (en) | Fiber laser oscillators and systems using an optimized phase varying function | |
US11316320B2 (en) | Laser light-source apparatus and laser pulse light generating method | |
JP2012038895A (ja) | ファイバレーザ光源およびそれを用いた波長変換レーザ光源 | |
JP2020009984A (ja) | 光パルス信号生成装置及びバイオイメージング装置 | |
Lührmann et al. | High-average power Nd: YVO4 regenerative amplifier seeded by a gain switched diode laser | |
Romano et al. | kW-class nanosecond pulsed polarized MOPA laser at 2050 and 2090 nm |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150327 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160209 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160506 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160630 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20161108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170214 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6113775 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |