JP2015109647A - Rf電力増幅および分配システム、プラズマ点火システム、ならびにそれらの動作方法 - Google Patents
Rf電力増幅および分配システム、プラズマ点火システム、ならびにそれらの動作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015109647A JP2015109647A JP2014240217A JP2014240217A JP2015109647A JP 2015109647 A JP2015109647 A JP 2015109647A JP 2014240217 A JP2014240217 A JP 2014240217A JP 2014240217 A JP2014240217 A JP 2014240217A JP 2015109647 A JP2015109647 A JP 2015109647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- output
- signal
- signals
- phase
- input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 64
- 230000003321 amplification Effects 0.000 title description 45
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 title description 45
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims abstract description 141
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims abstract description 42
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 41
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 abstract description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 7
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02P—IGNITION, OTHER THAN COMPRESSION IGNITION, FOR INTERNAL-COMBUSTION ENGINES; TESTING OF IGNITION TIMING IN COMPRESSION-IGNITION ENGINES
- F02P9/00—Electric spark ignition control, not otherwise provided for
- F02P9/002—Control of spark intensity, intensifying, lengthening, suppression
- F02P9/007—Control of spark intensity, intensifying, lengthening, suppression by supplementary electrical discharge in the pre-ionised electrode interspace of the sparking plug, e.g. plasma jet ignition
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02P—IGNITION, OTHER THAN COMPRESSION IGNITION, FOR INTERNAL-COMBUSTION ENGINES; TESTING OF IGNITION TIMING IN COMPRESSION-IGNITION ENGINES
- F02P15/00—Electric spark ignition having characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F02P1/00 - F02P13/00 and combined with layout of ignition circuits
- F02P15/08—Electric spark ignition having characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F02P1/00 - F02P13/00 and combined with layout of ignition circuits having multiple-spark ignition, i.e. ignition occurring simultaneously at different places in one engine cylinder or in two or more separate engine cylinders
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02P—IGNITION, OTHER THAN COMPRESSION IGNITION, FOR INTERNAL-COMBUSTION ENGINES; TESTING OF IGNITION TIMING IN COMPRESSION-IGNITION ENGINES
- F02P23/00—Other ignition
- F02P23/04—Other physical ignition means, e.g. using laser rays
- F02P23/045—Other physical ignition means, e.g. using laser rays using electromagnetic microwaves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02P—IGNITION, OTHER THAN COMPRESSION IGNITION, FOR INTERNAL-COMBUSTION ENGINES; TESTING OF IGNITION TIMING IN COMPRESSION-IGNITION ENGINES
- F02P7/00—Arrangements of distributors, circuit-makers or -breakers, e.g. of distributor and circuit-breaker combinations or pick-up devices
- F02P7/02—Arrangements of distributors, circuit-makers or -breakers, e.g. of distributor and circuit-breaker combinations or pick-up devices of distributors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
- H03F1/02—Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation
- H03F1/0205—Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers
- H03F1/0288—Modifications of amplifiers to raise the efficiency, e.g. gliding Class A stages, use of an auxiliary oscillation in transistor amplifiers using a main and one or several auxiliary peaking amplifiers whereby the load is connected to the main amplifier using an impedance inverter, e.g. Doherty amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/189—High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
- H03F3/19—High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
- H03F3/195—High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only in integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/20—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
- H03F3/21—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only
- H03F3/211—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only using a combination of several amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F3/00—Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
- H03F3/20—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
- H03F3/24—Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers of transmitter output stages
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03G—CONTROL OF AMPLIFICATION
- H03G3/00—Gain control in amplifiers or frequency changers
- H03G3/20—Automatic control
- H03G3/30—Automatic control in amplifiers having semiconductor devices
- H03G3/3036—Automatic control in amplifiers having semiconductor devices in high-frequency amplifiers or in frequency-changers
- H03G3/3042—Automatic control in amplifiers having semiconductor devices in high-frequency amplifiers or in frequency-changers in modulators, frequency-changers, transmitters or power amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
- H03F2200/405—Indexing scheme relating to amplifiers the output amplifying stage of an amplifier comprising more than three power stages
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2203/00—Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
- H03F2203/20—Indexing scheme relating to power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
- H03F2203/21—Indexing scheme relating to power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only
- H03F2203/211—Indexing scheme relating to power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only using a combination of several amplifiers
- H03F2203/21106—An input signal being distributed in parallel over the inputs of a plurality of power amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03F—AMPLIFIERS
- H03F2203/00—Indexing scheme relating to amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements covered by H03F3/00
- H03F2203/20—Indexing scheme relating to power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
- H03F2203/21—Indexing scheme relating to power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only
- H03F2203/211—Indexing scheme relating to power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only using a combination of several amplifiers
- H03F2203/21142—Output signals of a plurality of power amplifiers are parallel combined to a common output
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Amplifiers (AREA)
Abstract
Description
Claims (20)
- システムであって、
N個の増幅器であって、該N個の増幅器の各増幅器は、N個の位相シフト高周波(RF)信号のうちの1つを受信するように構成されており、該N個の増幅器は、前記N個の位相シフトRF信号を増幅して、N個の増幅位相シフトRF信号を生成するようにさらに構成されている、前記N個の増幅器と、
N個の入力ポートおよびN個の出力ポートを有する電力合成器ネットワークであって、前記N個の入力ポートの各々は前記N個の増幅器のうちの1つの出力に結合されており、該電力合成器ネットワークは、前記N個の増幅位相シフトRF信号を合成して、前記N個の出力ポートにおいてN個の出力RF信号を生成するように構成されており、前記N個の出力RF信号の相対電力レベルは、前記N個の増幅位相シフトRF信号間の位相差に応じて決まる、前記電力合成器ネットワークとを備える、システム。 - 前記N個の増幅器の入力に結合されているN個の移相器をさらに備え、各移相器は、N個の入力RF信号のうちの1つを受信するように構成されており、前記N個の移相器は、前記N個の位相シフトRF信号を生成するために、前記N個の入力RF信号に所定の位相シフトを加えるようにさらに構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記電力合成器ネットワークは、複数の所定の位相差セットが前記N個の増幅位相シフトRF信号間に存在するとき、前記N個の増幅位相シフトRF信号を合成して、前記N個の出力ポートのうちの第1の出力ポートにおいて相対的に高い電力レベルを有する1つの出力RF信号を生成し、残りのN−1個の出力ポートにおいて相対的に低い電力レベルを有するN−1個の出力RF信号を生成するように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記相対的に高い電力レベルは40dBmよりも大きく、前記相対的に低い電力レベルは40dBmよりも小さい、請求項1に記載のシステム。
- Nは4に等しく、前記増幅器は第1の増幅位相シフト信号、第2の増幅位相シフト信号、第3の増幅位相シフト信号、および第4の増幅位相シフト信号を生成し、前記電力合成器ネットワークは、
前記第1の増幅位相シフト信号、前記第2の増幅位相シフト信号、前記第3の増幅位相シフト信号、および前記第4の増幅位相シフト信号をそれぞれ受信するように構成されている第1の入力ポート、第2の入力ポート、第3の入力ポート、および第4の入力ポートと、
それぞれ第1の出力RF信号、第2の出力RF信号、第3の出力RF信号、および第4の出力RF信号を出力するように構成されている第1の出力ポート、第2の出力ポート、第3の出力ポート、および第4の出力ポートと、
第1の入力および第2の入力ならびに第1の出力および第2の出力を有する第1の合成器であって、前記第1の入力および第2の入力は前記第1の入力ポートおよび第2の入力ポートに結合されており、該第1の合成器は、前記第1の増幅位相シフトRF信号および第2の増幅位相シフトRF信号を合成して、前記第1の出力および第2の出力において第1の中間RF信号および第2の中間RF信号を生成するように構成されている、前記第1の合成器と、
第3の入力および第4の入力ならびに第3の出力および第4の出力を有する第2の合成器であって、前記第3の入力および第4の入力は前記第3の入力ポートおよび第4の入力ポートに結合されており、該第2の合成器は、前記第3の増幅位相シフトRF信号および第4の増幅位相シフトRF信号を合成して、前記第3の出力および第4の出力において第3の中間RF信号および第4の中間RF信号を生成するように構成されている、前記第2の合成器と、
第5の入力および第6の入力ならびに第5の出力および第6の出力を有する第3の合成器であって、前記第5の入力は前記第1の合成器の前記第1の出力に結合されており、前記第6の入力は前記第2の合成器の前記第3の出力に結合されており、該第3の合成器は、前記第1の中間RF信号および第3の中間RF信号を合成して、前記第5の出力および第6の出力において前記第1の出力RF信号および第2の出力RF信号を生成するように構成されており、前記第5の出力および第6の出力はそれぞれ前記第1の出力ポートおよび第2の出力ポートに結合されている、前記第3の合成器と、
第7の入力および第8の入力ならびに第7の出力および第8の出力を有する第4の合成器であって、前記第7の入力は前記第1の合成器の前記第2の出力に結合されており、前記第8の入力は前記第2の合成器の前記第4の出力に結合されており、該第4の合成器は、前記第2の中間RF信号および第4の中間RF信号を合成して、前記第7の出力および第8の出力において前記第3の出力RF信号および第4の出力RF信号を生成するように構成されており、前記第7の出力および第8の出力はそれぞれ前記第3の出力ポートおよび第4の出力ポートに結合されている、前記第4の合成器とを備える、請求項1に記載のシステム。 - 前記第1の合成器、前記第2の合成器、前記第3の合成器、および前記第4の合成器は90度合成器である、請求項5に記載のシステム。
- 前記第1の合成器、前記第2の合成器、前記第3の合成器、および前記第4の合成器は180度合成器である、請求項5に記載のシステム。
- 1つの入力およびN個の出力を有する電力分割器であって、該電力分割器は、前記入力上で受信される入力RF信号を分割してN個の分割RF信号にし、前記N個の出力上で前記N個の分割RF信号を提供するように構成されている、前記電力分割器と、
前記電力分割器の前記N個の出力と前記N個の増幅器のN個の入力との間に結合されているN個の移相器であって、各位相器は、前記N個の分割RF信号のうちの1つを受信するように構成されており、該N個の移相器は、前記N個の位相シフトRF信号を生成するために、前記N個の分割RF信号に所定の位相シフトを加えるようにさらに構成されている、N個の移相器とをさらに備える、請求項1に記載のシステム。 - 前記電力合成器ネットワークの前記N個の出力ポートに結合されている最大N個の放射デバイスであって、該放射デバイスの各々は、前記N個の出力RF信号のうちの1つの出力RF信号を受信するように構成されており、該放射デバイスの各々は、前記出力RF信号の電力レベルが十分に高いときにプラズマ放電を生成するように構成されている、前記最大N個の放射デバイスをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- インターフェース、および、前記N個の増幅器の入力に結合されているN個の移相器を含むモジュールであって、各移相器は、N個の入力RF信号のうちの1つを受信するように構成されており、前記N個の移相器は、前記N個の位相シフトRF信号を生成するために前記N個の入力RF信号に所定の位相シフトを加えるようにさらに構成されている、前記モジュールと、
最大N個のシリンダを有する内燃エンジンであって、前記放射デバイスのうちの1つの放射デバイスは前記シリンダの各々に結合されている、前記内燃エンジンと、
前記モジュールの前記インターフェースに制御信号を送るように構成されている制御ユニットであって、前記制御信号は、前記所定の位相シフトが、結果として、前記シリンダの動力工程中に各シリンダにおいて前記プラズマ放電を生成することになる所定のシーケンスに変更されるようにする、前記制御ユニットとをさらに備える、請求項9に記載のシステム。 - 最大N個のシリンダを有する内燃エンジンのためのプラズマ点火システムであって、該プラズマ点火システムは、
1つの入力およびN個の出力を有する電力分割器であって、該電力分割器は、前記入力上で受信される入力高周波(RF)信号を分割してN個の分割RF信号にし、前記N個の出力上で前記N個の分割RF信号を提供するように構成されている、前記電力分割器と、
各々が入力および出力を有するN個の移相器であって、各入力は前記電力分割器の前記N個の出力のうちの1つに結合されており、各位相器は、前記N個の分割RF信号のうちの1つを受信し、N個の位相シフトRF信号を生成するために、前記N個の分割RF信号に複数の所定の位相シフトのうちの1つを加えるように構成されている、前記N個の移相器と、
前記N個の移相器に結合されているN個の増幅器であって、該N個の増幅器は、前記N個の位相シフトRF信号を受信するように構成されており、該N個の増幅器は、前記N個の位相シフトRF信号を増幅して、N個の増幅位相シフトRF信号を生成するようにさらに構成されている、前記N個の増幅器と、
N個の入力ポートおよびN個の出力ポートを有する電力合成器ネットワークであって、前記N個の入力ポートの各々は前記N個の増幅器のうちの1つの出力に結合されており、該電力合成器ネットワークは、前記N個の増幅位相シフトRF信号を合成して、前記N個の出力ポートにおいてN個の出力RF信号を生成するように構成されており、前記N個の出力RF信号の相対電力レベルは、前記N個の増幅位相シフトRF信号間の位相差に応じて決まる、前記電力合成器ネットワークと、
最大N個の放射デバイスであって、該放射デバイスの各々は前記電力合成器ネットワークの前記N個の出力ポートのうちの1つに結合されており、該放射デバイスの各々は、前記N個の出力RF信号のうちの1つの出力RF信号を受信するように構成されており、前記放射デバイスの各々は、前記出力RF信号の電力レベルが十分に高いときにプラズマ放電を生成するように構成されている、前記最大N個の放射デバイスとを備える、プラズマ点火システム。 - RF電力の周期パルスを含むRF信号を生成するように構成されているRF信号生成器と、
前記RF信号生成器と前記電力分割器との間に結合されている前置増幅器であって、該前置増幅器は、前記入力RF信号を生成するために、前記RF信号生成器からの前記RF信号を増幅するように構成されている、前記前置増幅器とをさらに備える、請求項11に記載のプラズマ点火システム。 - 前記複数の所定の位相シフトが、結果として、前記放射デバイスの各々によって前記プラズマ放電を生成することになる所定のシーケンスに変更されるようにするように構成されている制御ユニットとをさらに備える、請求項11に記載のプラズマ点火システム。
- 方法であって、
N個の位相シフト高周波(RF)信号を生成するためにN個の入力RF信号に所定の位相シフトを加える工程と、
N個の増幅位相シフトRF信号を生成するために前記位相シフトRF信号を増幅する工程と、
前記N個の増幅位相シフトRF信号を合成して、N個の出力ポートにおいてN個の出力RF信号を生成する工程であって、前記N個の出力RF信号の相対電力レベルは、前記N個の増幅位相シフトRF信号間の位相差に応じて決まる、前記合成する工程とを備える、方法。 - 前記合成する工程は、90度合成器のネットワークを使用して前記N個の増幅位相シフトRF信号を合成する工程を備え、前記ネットワークの各90度合成器は第1の入力および第2の入力ならびに第1の出力および第2の出力を含み、各90度合成器が、互いに実質的に90度位相がずれている第1の増幅位相シフトRF信号および第2の増幅位相シフトRF信号を受信すると、各90度合成器は、前記第1の出力および第2の出力のうちの一方において、相対的に高い電力レベルを有する第1のRF信号を生成し、前記第1の出力および第2の出力のうちのもう一方において、相対的に低い電力レベルを有する第2のRF信号を生成する、請求項14に記載の方法。
- 前記合成する工程は、180度合成器のネットワークを使用して前記N個の増幅位相シフトRF信号を合成する工程を備え、前記ネットワークの各180度合成器は第1の入力および第2の入力ならびに第1の出力および第2の出力を含み、各180度合成器が、互いに実質的に同相である第1の増幅位相シフトRF信号および第2の増幅位相シフトRF信号を受信すると、各180度合成器は、前記第1の出力において、相対的に高い電力レベルを有する第1のRF信号を生成し、前記第2の出力において、相対的に低い電力レベルを有する第2のRF信号を生成し、各180度合成器が、互いに実質的に180度位相がずれている前記第1の増幅位相シフトRF信号および第2の増幅位相シフトRF信号を受信すると、各180度合成器は、前記第2の出力において、前記相対的に高い電力レベルを有する前記第1のRF信号を生成し、前記第1の出力において、相対的に低い電力レベルを有する前記第2のRF信号を生成する、請求項14に記載の方法。
- 内燃エンジンの最大N個のシリンダに結合されている最大N個の放射デバイスに前記出力RF信号を提供する工程をさらに備える、請求項14に記載の方法。
- 前記シリンダのうちの、次に動力工程を実行することになるシリンダを判定する工程と、
結果として、前記N個の出力ポートのうちの第1の出力ポートにおいて相対的に高い電力レベルを有する1つの出力RF信号を生成することになり、残りのN−1個の出力ポートにおいて相対的に低い電力レベルを有するN−1個の出力RF信号を生成することになる前記所定の位相シフトの次のセットを決定する工程と、
前記加える工程の間に前記入力RF信号に前記所定の位相シフトの前記次のセットを加えるように、N個の移相器を制御する工程とをさらに備える、請求項17に記載の方法。 - 制御する工程は、
前記移相器を含むモジュールに制御信号を送る工程であって、前記制御信号は、前記所定の位相シフトの前記次のセットを示す、前記送る工程と、
前記制御信号に基づいて前記位相シフトを調整する工程とを備える、請求項18に記載の方法。 - 第1のRF信号を分割して前記N個の入力RF信号にする工程をさらに備える、請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13306666.2A EP2881579B1 (en) | 2013-12-04 | 2013-12-04 | Rf power amplification and distribution systems, plasma ignition systems, and methods of operation therefor |
EP13306666.2 | 2013-12-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015109647A true JP2015109647A (ja) | 2015-06-11 |
JP6693672B2 JP6693672B2 (ja) | 2020-05-13 |
Family
ID=49882991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014240217A Active JP6693672B2 (ja) | 2013-12-04 | 2014-11-27 | Rf電力増幅および分配システム、プラズマ点火システム、ならびにそれらの動作方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9518554B2 (ja) |
EP (1) | EP2881579B1 (ja) |
JP (1) | JP6693672B2 (ja) |
CN (1) | CN104702224B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102077512B1 (ko) * | 2019-10-18 | 2020-04-07 | (주)에이에스엔지니어링 | 멀티 채널 rf 전원 공급장치 |
KR20220146085A (ko) * | 2021-04-23 | 2022-11-01 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 출력 안정화 장치를 구비한 플라즈마 발생용 고주파 전력 공급 장치 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9531167B2 (en) * | 2014-06-02 | 2016-12-27 | Nxp Usa, Inc. | Device and method for connecting an RF generator to a coaxial conductor |
US9518555B2 (en) | 2014-12-04 | 2016-12-13 | Freescale Semiconductor, Inc. | Radiation devices |
DE102016006782A1 (de) | 2016-06-02 | 2017-12-07 | Rosenberger Hochfrequenztechnik Gmbh & Co. Kg | Zündvorrichtung und Verfahren zum Zünden eines Luft-Kraftstoffgemisches |
DE102018116597A1 (de) | 2018-07-10 | 2020-01-16 | Rosenberger Hochfrequenztechnik Gmbh & Co. Kg | Schaltung zum schalten einer wechselspannung |
US11211703B2 (en) | 2019-03-12 | 2021-12-28 | Epirus, Inc. | Systems and methods for dynamic biasing of microwave amplifier |
US11616295B2 (en) | 2019-03-12 | 2023-03-28 | Epirus, Inc. | Systems and methods for adaptive generation of high power electromagnetic radiation and their applications |
US11658410B2 (en) * | 2019-03-12 | 2023-05-23 | Epirus, Inc. | Apparatus and method for synchronizing power circuits with coherent RF signals to form a steered composite RF signal |
US11095257B1 (en) * | 2019-04-08 | 2021-08-17 | Lockheed Martin Corporation | Method for high-power combining |
US11616481B2 (en) | 2020-06-22 | 2023-03-28 | Epirus, Inc. | Systems and methods for modular power amplifiers |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6178213A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電力増幅装置 |
JPS62282166A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | 機関の点火装置 |
JPS63161703A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-05 | Nec Corp | 電力増幅装置 |
JP2001168789A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-22 | Hitachi Ltd | 指向性可変型移動体通信基地局 |
US7245257B1 (en) * | 2004-08-13 | 2007-07-17 | Lockheed Martin Corporation | Optimization of radar antenna switching hybrid in response to operating frequency |
WO2012005201A1 (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-12 | イマジニアリング株式会社 | プラズマ生成装置 |
JP2012175435A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 送信システム |
WO2013021852A1 (ja) * | 2011-08-10 | 2013-02-14 | イマジニアリング株式会社 | 内燃機関 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3934566A (en) * | 1974-08-12 | 1976-01-27 | Ward Michael A V | Combustion in an internal combustion engine |
WO2003042533A1 (de) * | 2001-11-16 | 2003-05-22 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | Zündsystem und verfahren für eine brennkraftmaschine mit mikrowellen-quellen |
US7542740B1 (en) | 2005-11-04 | 2009-06-02 | Rf Micro Devices, Inc. | Power amplifier output switch using hybrid combiner |
JP6040394B2 (ja) * | 2011-05-24 | 2016-12-07 | イマジニアリング株式会社 | 高周波切替器、及びバイアス電圧出力器 |
US8514007B1 (en) * | 2012-01-27 | 2013-08-20 | Freescale Semiconductor, Inc. | Adjustable power splitter and corresponding methods and apparatus |
US8948306B2 (en) * | 2013-01-11 | 2015-02-03 | Gatesair, Inc. | Broadband high efficiency amplifier system |
US9831549B2 (en) * | 2014-08-15 | 2017-11-28 | Honeywell International Inc. | Systems and methods for high power microwave combining and switching |
-
2013
- 2013-12-04 EP EP13306666.2A patent/EP2881579B1/en active Active
-
2014
- 2014-11-26 CN CN201410690956.9A patent/CN104702224B/zh active Active
- 2014-11-27 JP JP2014240217A patent/JP6693672B2/ja active Active
- 2014-12-03 US US14/559,903 patent/US9518554B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6178213A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電力増幅装置 |
JPS62282166A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | 機関の点火装置 |
JPS63161703A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-05 | Nec Corp | 電力増幅装置 |
JP2001168789A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-22 | Hitachi Ltd | 指向性可変型移動体通信基地局 |
US7245257B1 (en) * | 2004-08-13 | 2007-07-17 | Lockheed Martin Corporation | Optimization of radar antenna switching hybrid in response to operating frequency |
WO2012005201A1 (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-12 | イマジニアリング株式会社 | プラズマ生成装置 |
JP2012175435A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 送信システム |
WO2013021852A1 (ja) * | 2011-08-10 | 2013-02-14 | イマジニアリング株式会社 | 内燃機関 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102077512B1 (ko) * | 2019-10-18 | 2020-04-07 | (주)에이에스엔지니어링 | 멀티 채널 rf 전원 공급장치 |
KR20220146085A (ko) * | 2021-04-23 | 2022-11-01 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 출력 안정화 장치를 구비한 플라즈마 발생용 고주파 전력 공급 장치 |
KR102511063B1 (ko) * | 2021-04-23 | 2023-03-16 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 출력 안정화 장치를 구비한 플라즈마 발생용 고주파 전력 공급 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104702224A (zh) | 2015-06-10 |
CN104702224B (zh) | 2019-06-04 |
EP2881579B1 (en) | 2019-03-27 |
EP2881579A1 (en) | 2015-06-10 |
US9518554B2 (en) | 2016-12-13 |
JP6693672B2 (ja) | 2020-05-13 |
US20150152833A1 (en) | 2015-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6693672B2 (ja) | Rf電力増幅および分配システム、プラズマ点火システム、ならびにそれらの動作方法 | |
Nishiyama et al. | Improvement of lean limit and fuel consumption using microwave plasma ignition technology | |
CN1233088C (zh) | 用于产生放大信号或其版本的系统和方法 | |
Barton et al. | Theory and implementation of RF-input outphasing power amplification | |
KR100296090B1 (ko) | 기준신호를사용한신호처리용방법및장치 | |
CN105142255A (zh) | 射频加热装置 | |
US7183843B1 (en) | Electronically tuned power amplifier | |
WO2012024652A3 (en) | System and methods for improved efficiency compression ignition internal combustion engine control | |
JP6446627B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
CN101783652A (zh) | 一种易于实现的多级Doherty功放 | |
WO2012005201A1 (ja) | プラズマ生成装置 | |
JP7383706B2 (ja) | 無線周波数電力増幅器 | |
JPWO2015071931A1 (ja) | 電力増幅器及び電力増幅方法 | |
Ikeda et al. | Microwave enhanced ignition process for fuel mixture at elevated pressure of 1MPa | |
US9531167B2 (en) | Device and method for connecting an RF generator to a coaxial conductor | |
FR2657921A1 (ja) | ||
WO2008069436A1 (en) | Intermodulation signal generator of power amplifier and pre-distortion linearizer having the same | |
US11047358B2 (en) | Systems and method for harmonizing knock in engine cylinders | |
US20230006620A1 (en) | Method and apparatus for achieving and maintaining balance in solid-state rf and microwave power amplifiers | |
US10772184B2 (en) | Ignition device | |
US9518555B2 (en) | Radiation devices | |
JPWO2015119162A1 (ja) | 点火装置 | |
CN107645349B (zh) | 一种相位可调多载波无源互调测试系统 | |
CN109312708B (zh) | 用于对空气-燃料混合物进行点火的点火装置和方法 | |
US11187140B2 (en) | Method for operating an internal combustion engine, dual fuel injector device, and internal combustion engine designed for carrying out such a method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190408 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200317 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6693672 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |