JP2015100808A - レーザーマーキング装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】エネルギー消費量が少なく、構造が簡単であり、また、微小な範囲にも精度良く高速でマーキングを施すことができるレーザーマーキング装置を提案する。【解決手段】本発明におけるレーザーマーキング装置50は、半導体レーザー1と、半導体レーザー1のレーザー光を対象物Wの表面に照射してマーキングを施す光学ユニット2とを備え、光学ユニット2は、レーザー光を対象物Wの表面で集光させる対物レンズ5と、レーザー光の光軸Aに対して垂直面内で且つ対物レンズ5の光学中心がレーザー光のビーム径D内に収まる範囲で、対物レンズ1をレーザー光に対して移動させるレンズ駆動ユニット6とを備えることを特徴とする。【選択図】図1

Description

本発明は、レーザー光によって対象物の表面にマーキングを施すレーザーマーキング装置に関するものである。
昨今、製造日時や場所の他、使用した材料や品質に関わる各種データ等をバーコードや二次元コード等に変換し、これを物品の表面上にマーキングしておくことで、物品が市場に流通された後もその物品に関する履歴が追跡可能になる、トレーサビリティに対する要求が増している。例えばガラスエポキシ基板やフレキシブル基板にこのようなマーキングパターンを印字するにあたっては、インクジェットやレーザー等を用いる技術が既知となっていて、特許文献1には、YAGレーザーや炭酸ガスレーザー等からレーザー光を出射し、これをガルバノメータスキャナによって基板上に照射することで、所要のマーキングを行うことができるとするレーザーマーキング装置が示されている。
特開2012−22605号公報
ところで近年は、エネルギー消費量の削減は勿論のこと、構造を簡素化してできるだけ安価にすることで、種々の製造ラインにも導入することができるレーザーマーキング装置の登場が期待されている。しかしながら、引用文献1に記載の装置のようにYAGレーザーや炭酸ガスレーザー等は比較的高出力のものが多いためにエネルギー消費量を削減することは困難であり、また、ガルバノメータスキャナを用いることから、構造が複雑になってしまうという問題がある。
一方、ガルバノメータスキャナからの置き換えを図るべく、マーキングを行う対象物を載置するXYステージを、レーザー光の光軸に対して垂直面内で移動させることも検討されたが、対象物のサイズが大きくなると、その分、XYステージを高速で移動させることが難しくなってタクトタイムが増加するため、製造ラインへの導入は未だ困難な状況にあった。
更に、ガラスエポキシ基板やフレキシブル基板等は、近年集積化が一層進んでいて十分なマーキングスペースを確保することが困難になっているため、例えば1mm角のような狭いスペースにも十分な情報量のマーキングを施すことができる、高いマーキング精度が求められているものの、上述の問題を解決するとともにこのような高いマーキング精度を持つ装置は未だ上市されておらず、このような装置の開発が強く求められていた。
本発明は、このような点を解決することを課題とするものであり、その目的は、エネルギー消費量が少ない上、従来の装置に対して構造が簡単であり、また、対象物のサイズにかかわらず高速でマーキングを施すことができ、更に、微小な範囲にも精度良くマーキングを行うことができる、新規のレーザーマーキング装置を提案するところにある。
本発明は、半導体レーザーと、該半導体レーザーのレーザー光を対象物の表面に照射してマーキングを施す光学ユニットとを備えるレーザーマーキング装置であって、
前記光学ユニットは、レーザー光を前記対象物の表面で集光させる対物レンズと、レーザー光の光軸に対して垂直面内で且つ前記対物レンズの光学中心が該レーザー光のビーム径内に収まる範囲で、該対物レンズを該レーザー光に対して移動させるレンズ駆動ユニットとを備えるレーザーマーキング装置である。
また、所望のマーキングパターンに応じてレーザー光の発光及び非発光に関わる印字データを作成するデータ作成手段を有する制御部と、前記半導体レーザーへ電流を供給する電流供給部と、前記レンズ駆動ユニットに設けられ、前記対物レンズを移動させるサーボモータとを備え、
前記制御部は、前記電流供給部に対して、前記印字データに基づく電流供給可又は不可の指令を前記サーボモータからのエンコーダ信号に対応させて送るレーザー制御手段を有することが好ましい。
更に、前記レーザー制御手段は、前記印字データに基づいて前記半導体レーザーへの電流値を変更する指令を前記電流供給部に対して送るよう構成されることが好ましい。
また、前記レーザー制御手段は、前記印字データに基づく電流供給可又は不可の指令を、前記対物レンズを等速運動させる等速移動期間において送るよう構成されることが好ましい。
また、前記光学ユニットは、前記半導体レーザーのレーザー光に対して異なる波長の光を発光する発光体と、該半導体レーザーと前記対物レンズとの経路上に設けられ該半導体レーザーのレーザー光は透過する一方、該発光体の光を反射して前記対象物に照射するとともに該対象物で反射された該発光体の光を再度反射するダイクロイックミラーと、該ダイクロイックミラーによって再度反射された該発光体の光を受光することで該対象物のマーキングを撮像する撮像装置とを備えることが好ましい。
本発明の光学ユニットは、半導体レーザーのレーザー光を対象物の表面で集光させる対物レンズを備えるとともに、レーザー光の光軸に対して垂直面内で且つ対物レンズの光学中心がレーザー光のビーム径内に収まる範囲で、上述の対物レンズをレーザー光に対して移動させるレンズ駆動ユニットを備えているので、対物レンズの移動に応じてレーザー光の集光点も移動させることができる。すなわち、半導体レーザーを用いたことでエネルギー消費量を十分に削減することができ、また、対物レンズによってレーザー光を集光させているので、微小な範囲にもマーキングを施すことができる上、更に、対象物に対してサイズがより小さくなる対物レンズを移動させている結果、高速でマーキングを施すことができるので、タクトタイムを減らすことができる。
移動する対物レンズの位置情報をフィードバックさせ、所望のマーキングパターンに応じたレーザー光の発光及び非発光に関わる印字データを、この対物レンズの位置情報に関係づける場合は、その処理に時間を要して対物レンズの高速移動に影響を及ぼすことがある。一方、制御部に、前記電流供給部に対して、前記印字データに基づく電流供給可又は不可の指令をサーボモータからのエンコーダ信号に対応させて送るレーザー制御手段を設ける場合は、対物レンズの位置情報を待つこと無く、所望のマーキングパターンに応じて半導体レーザーを駆動させることができるので、より高速にマーキングを施すことができる。
マーキングパターン中、レーザー光を照射する範囲が狭い部分では、照射時間が短くなる分、対象物の温度上昇が不足して、レーザー光による対象物表面の除去が不十分になるおそれがあり、また、レーザー光を照射する範囲が広い部分では、照射時間が長くなる分、対象物の温度上昇が過度になって、対象物表面の除去が進み過ぎる懸念がある。これに対し、レーザー制御手段を、印字データに基づいて半導体レーザーへの電流値を変更する指令を電流供給部に対して送るように構成する場合は、レーザー光を照射する部位の範囲に応じてレーザー光の出力を調整することができるので、印字されるマーキングが均一化される。
印字データに基づく電流供給可又は不可の指令を、対物レンズを等速運動させる等速移動期間において電流供給部に送るよう、レーザー制御手段を構成する場合は、対物レンズの移動速度が安定した期間でのみマーキングが行われることになるので、マーキング精度を高めることができる。
光学ユニットに、半導体レーザーのレーザー光に対して異なる波長の光を発光する発光体と、半導体レーザーと対物レンズとの経路上に設けられ半導体レーザーのレーザー光は透過する一方、発光体の光を反射して対象物に照射するとともにこの対象物で反射された発光体の光を再度反射するダイクロイックミラーと、ダイクロイックミラーによって再度反射された発光体の光を受光することで対象物のマーキングを撮像する撮像装置とを設ける場合は、1つの光学ユニットに、レーザー光によるマーキングを行う機能、及び発光体の光によるマーキングを観察する機能の2つを持たせることができるので、別途、マーキングを観察する装置を設ける必要がなくなる上、装置をより小型にすることができる。
本発明に従うレーザーマーキング装置の一実施形態につき、光学ユニットの構造を説明する図である。 対物レンズの移動に応じてレーザー光の集光点が変位することを説明する図である。 本発明に従うレーザーマーキング装置の一実施形態を説明する概略図である。 入力部に入力されるマーキングパターン(2次元コード)を、X方向、Y方向にそれぞれ33ずつに分割した状態を説明する図である。 図4のパターンに対して黒のセル及び白のセルがY方向に連続する個数を算出し、これをX方向毎にまとめたデータについて説明する図である。 レンズ駆動ユニットのX方向及びY方向の動作を説明する図である。 図5に示す印字データに基づく、レーザー制御手段から電源供給部への指令を説明する図である。 本発明に従うレーザーマーキング装置の他の実施形態であって、光学ユニットの構造を説明する図である。 図3に示すレーザーマーキング装置によって、ガラスエポキシ基板に印字したマーキングを示す写真である。
以下、図面を参照して、本発明をより具体的に説明する。まず、図1を参照しつつ、本発明に従うレーザーマーキング装置における、レーザー光の照射に関わる部位について説明する。
図1において、符号1は、後述する光学ユニットに取り付けられる半導体レーザーを示す。半導体レーザー1は、後述する電流供給部に接続されていて、波長が405nmの青紫色レーザー光を連続波発振によって出射することが可能である。
符号2は、光学ユニットを示す。光学ユニット2は、半導体レーザー1からのレーザー光を対象物Wの表面に照射してマーキングを施すものである。本実施形態では、半導体レーザー1から対象物Wに至る経路に、コリメートレンズ3、ビームサンプラー4、及び対物レンズ5が設けられている。
半導体レーザー1から出射されるレーザー光は、まず、コリメートレンズ3を通る。半導体レーザー1から出射された直後のレーザー光は拡散光であるが、コリメートレンズ3を通すことによって平行光に変換することができる。なお、コリメートレンズ3を光学ユニット2に取り付けるに当たっては、コリメートレンズ3を通したレーザー光の波面収差を計測し、コリメートレンズ3のZ軸での位置調整(焦点位置の調整)によってデフォーカス収差を調整し、コリメートレンズ3を傾けることで非点収差を調整し、XY面内でのコリメートレンズ3の位置調整によってチルト収差の調整を行っている。なお、各収差はλ/4以下に調整することが好ましい。
ビームサンプラー4は、コリメートレンズ3を通ったレーザー光を対物レンズ5に向けて透過させる一方、対象物Wで反射したレーザー光を、後述する撮像装置に向けて反射させるものである。なお、対象物Wでのレーザー光の状態を観察する必要がない場合は、ビームサンプラー4を設けずに、直接、コリメートレンズ3からのレーザー光を対物レンズ5に導入するように構成することも可能である。
対物レンズ5は、ビームサンプラー4を透過したレーザー光を対象物Wの表面上に集光させるものである。コリメートレンズ3によって平行光に変換されたレーザー光のビーム径は、本実施形態では約3mmであるが、対物レンズ5によって、対象物Wの表面上では約10μmの集光径になるように調整している。
更に光学ユニット2には、レーザー光の光軸Aに対して垂直面内で且つ対物レンズ5の光学中心がレーザー光のビーム径(本実施形態では約3mm)内に収まる範囲で、対物レンズ5をレーザー光に対して移動させるレンズ駆動ユニット6が設けられている。本実施形態では、図1に示すように光軸Aの向きがZ方向に一致しており、レンズ駆動ユニット6は、Z方向に垂直となる面(XY平面)において相互に直交するX方向及びY方向に対し、それぞれの方向に移動可能なX方向駆動手段6a、及びY方向駆動手段6bを備えている。ここで、X方向駆動手段6aは、Y方向駆動手段6bを保持してX方向に移動するように構成されており、Y方向駆動手段6bは、対物レンズ5を保持してY方向に移動するように構成されている。なお、本実施形態においてレンズ駆動ユニット6には、X方向駆動手段6a、及びY方向駆動手段6bをそれぞれ移動させるための、2つのサーボモータが設けられている。
対物レンズ5は、図2に示すように、その光学中心がレーザー光のビーム径D内に収まる範囲でX方向に移動(距離X1)させれば、集光点pも同じ方向に且つ同じ距離だけ変位させることができる。すなわち、X方向駆動手段6a、及びY方向駆動手段6bによって、対物レンズ5をX方向、及びY方向に所定の距離で移動させると、対象物Wの表面上の集光点pを同方向に同距離だけ変位させることができるので、対物レンズ5の移動によって所要のマーキングを施すことができる。なお、本実施形態では、Y方向駆動手段6bを保持するX方向駆動手段6aよりも、対物レンズ5を保持するY方向駆動手段6bの方が慣性力の影響が少なくて済むので、より高速に移動させるべく、Y方向に1ライン印字した後、隣のラインまでX方向に移動させるようにしている。すなわち、本実施形態では、Y方向を主走査方向、X方向を副走査方向としている。また、隣のラインまでX方向に移動させた後は、逆向きのY方向に印字をするようにして、往復運動させることで、マーキングの高速化を図っている。
更に光学ユニット2には、ミラー7、結像レンズ8、ローカットフィルター9、及びCCDカメラ等の撮像装置10が設けられている。対物レンズ5で集光されたレーザー光は、その一部が対象物Wによって反射され、再度対物レンズ5を透過してビームサンプラー4に至る。ビームサンプラー4はXY平面に対して45度傾いているので、ビームサンプラー4で反射したレーザー光は−X方向に向かって進み、同じくXY平面に対して45度傾けて設けたミラー7によって進路が+Z方向に変更される。その後は、結像レンズ8、及びローカットフィルター9によって、青紫色成分の光を撮像装置10の受光面に結像させることができるので、対象物Wで集光するレーザー光を観察することができる。
次に、図3を参照しつつ、上述した半導体レーザー1及び光学ユニット2等を含む本発明に従うレーザーマーキング装置について説明する。符号50は、本実施形態のレーザーマーキング装置を示す。レーザーマーキング装置50は、入力部51、及び制御部52を備えていて、制御部52には、半導体レーザー1に接続される電流供給部53、及びレンズ駆動ユニット6のサーボモータに接続されるサーボアンプ54が接続されている。
入力部51は、所望のマーキングパターンをデータ変換した上で、制御部52に送る役割を果たすものである。本実施形態では、例えば図4に示すマーキングパターン(2次元コード)を取り込んだ後、これをビットマップデータに変換して、制御部52に送るように構成している。マーキングパターンは2次元コード等に限定されるものではなく、文字や写真等であってもよい。なお、図4に示すマーキングパターンの1辺の長さは330μmである。
入力部51からのビットマップデータは、まず制御部52のデータ作成手段55に送られる。データ作成手段55は、ビットマップデータに基づいて、半導体レーザー1の発光及び非発光に関わる印字データ56、並びにレンズ駆動ユニット6のサーボモータの駆動条件を設定する駆動データ57を作成する。
印字データ56を作成するにあたり、データ作成手段55は、対物レンズ5によって集光されるレーザー光の集光径に対応させて単位セルのサイズを決定し、この単位セルのサイズに合わせてマーキングパターンをX方向及びY方向に分割する。本実施形態のレーザー光の集光径は10μmであるので、単位セルは1辺が10μmの正方形とする。また、図4に示すマーキングパターンは1辺が330μmであるので、これを単位セルのサイズに合わせてX方向及びY方向に33分割して、33×33個のセルで構成されているものとする。そして、X方向1番目及びY方向1番目のセルを起点とし、主走査方向であるY方向に沿って、黒いセルが連続する個数と白いセルが連続する個数をそれぞれ算出する。図5は、この個数をまとめたデータ(印字データ56)であり、例えばX方向のセル数1の列では、7、1、2の順で数が並んでいるが、これは、図4に示すように、X方向1番目の列では、Y方向1番目から順に、黒いセルが7個連続して存在し、その後は白いセルが1個存在し、更に黒いセルが2個連続して存在することを示している。なお、図4に示すマーキングパターン通り、1辺が330μmとなるように印字することや、これをn倍(nは整数)に拡大して印字することも可能であるが、本実施形態では、これをX、Y方向にそれぞれ3倍に拡大した、1辺が990μmとなる2次元コードをマーキングするものとし、図5のデータもこれに対応するように補正して印字データ56を作成している。
駆動データ57は、印字データ56に対応するものであれば様々な設定を行うことが可能であるが、本実施形態では、図6に示すような動作パターンでX方向駆動手段6a、及びY方向駆動手段6bが移動するようにデータを作成している。具体的には、まず、主走査方向であるY方向駆動手段6bが、移動開始期間T1で等加速度運動し、所定の速さ(本実施形態では100mm/s)に達すると、所定の期間(等速移動期間T2)は等速運動を続けるようにする。なお、対象物Wへのマーキングは、等速移動期間T2の間で行うようにしている。詳細については後述する。そして、等速移動期間T2の終了後は等加速で減速させ、所定の期間(移動終了期間T3)で停止させるようにする。一方、副走査方向であるX方向駆動手段6aは、上述した等速移動期間T2の後半の、対象物Wへのマーキングが終了した時点から移動を開始し、Y方向駆動手段6bが停止するまでには次回印字予定の隣のラインまでの移動(X方向へ10μm移動)を終了するようにしている。その後は、Y方向駆動手段6bを、上述の移動方向とは逆向きに、同様の動作パターンで移動するようにして、マーキングが終了するまで往復運動を繰り返すようにしている。このように、Y方向駆動手段6bとX方向駆動手段6aの動作を重ね合わせることや、Y方向駆動手段6bを往復運動させてマーキングを行うことで、タクトタイムの短縮を図ることができる。
更に、図3に示す制御部52には、駆動制御手段58が設けられている。駆動制御手段58は、サーボアンプ54に対して駆動データ57に基づく指令を送るものであり、これによってレンズ駆動ユニット6の2つのサーボモータを駆動させて、X方向駆動手段6a、及びY方向駆動手段6bを所定の動作パターンで移動させるようにしている。
また制御部52には、レーザー制御手段59が設けられている。レーザー制御手段59は、電流供給部53に対して、印字データ56に基づく電流供給可又は不可の指令を送るものである。指令は、図7に示すように例えば1バイト(8ビット)のデータとして構成されていて、ビット0には電流供給部53から半導体レーザー1に対する電流供給可又は不可の信号、ビット1〜6には電流供給部53に設定した最大6つの電流値の何れかに変更する信号、ビット7にはカウントストップ信号を割り付ける。例えば、印字データ56における黒いセルに対しては、レーザー光を照射するために電流供給可の指令(ビット0に「1」をたてる)を送るものとし、白いセルに対しては、レーザー光を照射させないために電流供給不可の指令(ビット0に「0」をたてる)を送るものとする。また、電流供給部53から供給する電流値がビット1〜6の順に大きくなるようにしておき、黒いセルが多数連続して対象物Wの温度が過度に上昇する場合は、半導体レーザー1から低出力のレーザー光を出射させるべく、電流供給可の指令に先だって、電流供給不可の指令とともに電流値を小さくする指令(ビット0に「0」をたてるとともに、例えばビット1に「1」をたてる)を送り、黒いセルが1つしかなく、対象物Wの温度が不足する場合は、半導体レーザー1から高出力のレーザー光を出射させるべく、電流供給可の指令に先だって、電流供給不可の指令とともに電流値を大きくする指令(ビット0に「0」をたてるとともに、例えばビット6に「1」をたてる)を送るようにすることも可能である。
また、レーザー制御手段59は、サーボアンプ54を介してレンズ駆動ユニット6のサーボモータ(本実施形態ではY方向駆動手段6bを移動させるためのサーボモータ)からのエンコーダ信号60が入力されるように構成されている。本実施形態ではレーザー制御手段59としてパルスジェネレータを使用し、エンコーダ信号60が外部クロックとして入力されるようにしている。また、レーザー制御手段59は電流供給部53に接続されていて、印字データ56に基づく電流供給可又は不可の指令をエンコーダ信号60に対応させて電流供給部53に送るように構成している。例えば本実施形態では、Y方向駆動手段6bが1μm進む毎に1つのエンコーダ信号60が入力されるように構成しているため、図4に示すマーキングパターンを基にした、1辺が990μmとなる2次元コードをマーキングする場合には、レーザー制御手段59では、印字データ56に基づく電流供給可又は不可の指令を990個準備する。なお、これらのデータは、Y方向の1列毎にまとめられている。更に、図6に示すマーキングを行う前後の期間(移動開始期間T1の最初から印字期間前まで、及び印字期間後から移動終了期間T3の最後まで)では半導体レーザー1への電流の供給は停止されるため、この期間に対応する個数となる電流供給不可の指令を、Y方向の1列毎にまとめられた指令の前後にそれぞれ組み合わせておく。そして、エンコーダ信号60の入力回数に対応させてこれらの指令を順序づけておき、エンコーダ信号60の入力毎に、これらの指令を順に送り出すようにしている。
この点につき、図7を参照して説明すると、Y方向駆動手段6bの動きだしの直後にサーボモータから送られるエンコーダ信号60を起点として、レーザー制御手段59から電流供給部53に対して、電流供給不可の指令が送られる。そして、エンコーダ信号60の入力毎に指令が順次送り出されるため、Y方向1列分のマーキングを施すことができる。なお、詳細な説明は省略するが、レーザー制御手段59には、X方向駆動手段6a用サーボモータ、及びY方向駆動手段6b用サーボモータの動作完了信号が入力されるように構成されていて、Y方向1列分のマーキングの終了後、これらの動作完了信号の入力によって、次の列のマーキングを、先の列と同様の手順で、且つ先の列とは逆方向から行うようにしている。これにより、Y方向の往復運動を繰り返して、所望のマーキングを行うことができる。
なお、詳細な説明は省略するが、図3に示すように対象物Wは、X方向、及びY方向に移動するXYステージ61上に載置されている。所望するマーキングの大きさがレンズ駆動ユニット6の移動範囲を超える場合には、レンズ駆動ユニット6によるマーキングの後、対象物をXYステージ61で移動させるようにすることで、大きなサイズのマーキングも施すことができる。図示は省略するが、XYステージ6に代えて、或いは追加して、光学ユニット2を移動させるXY駆動手段を設け、対象物に対して光学ユニット2全体をX、Y方向に移動させるようにしてもよい。また、光学ユニット2は、Z方向に移動可能なZ方向駆動手段62を備えていて、厚みの異なる対象物Wや、表面に凹凸がある対象物Wにもマーキングできるようにしている。
次に、本発明の他の実施形態につき、図8を参照して説明する。なお、上述した実施形態と同一の機能を有するものは同一の符号を付して説明を省略する。
符号11は、半導体レーザー1のレーザー光に対して異なる波長の光を発光する発光体である。本実施形態では、波長が630nmとなる赤色LEDを使用している。発光体11の前方にはコリメートレンズ12が設けられていて、発光体11からの赤色光を平行光に変換することができる。更にコリメートレンズ12の前方には、XY平面に対して45度傾けて設けたハーフミラー13が設けられている。これにより、コリメートレンズ12からの平行光は−Z方向に進み、上述のミラー7で+X方向に進路が変更されて、ダイクロイックミラー14に至る。本実施形態のダイクロイックミラーは、レーザー光(波長405nm)は透過する一方、赤色光(波長630nm)は反射する特性を持っており、XY平面に対して45度傾けて設けている。これにより、ダイクロイックミラー14で反射した発光体11の光は、対象物Wに照射されるとともにこの対象物Wで反射され、その反射された光が再度、ダイクロイックミラー14で反射される。その後は、ミラー7、結像レンズ8を経由し、ハーフミラー13を透過して撮像装置10の受光面に結像される。図1に示したビームサンプラー4の反射率は4%程度であるので、撮像装置10で対象物Wのマーキングを観察するには光量が不足するものの、ダイクロイックミラー14の赤色光に対する反射率は90%程度であるので、撮像装置10には十分な光量が届くことになり、対象物Wのマーキングを観察することが可能になる。なお、ダイクロイックミラー14に対する波長405nmの光の透過率は90%程度であるので、対象物Wに対するマーキングには殆ど影響が及ばない。
本発明の効果を確認すべく、図3に示すレーザーマーキング装置によってマーキングを行った。対象物Wはガラスエポキシ基板を用い、半導体レーザー1はレーザーパワーが0.17Wとなるものを使用して、連続波発振によってレーザー光を射出した。そして、1辺が990μmとなる図4に準じた2次元コードのマーキングパターンに対して、図6及び図7に示す条件で装置を駆動させたところ、図9に示すマーキングを約3秒で印字できることが確認できた。なお、マーキングの深さはガラスエポキシ基板のレジスト膜に対して20〜25μmであり、レジスト膜直下の配線パターンに対する傷付き等の異常は認められなかった。また加工後の粉塵も認められなかった。すなわち、本発明に従うレーザーマーキング装置によれば、高速でマーキングを行うことができることは勿論のこと、配線パターンに重なる部位にもマーキングを施すことができ、また、集塵機等の付帯設備がなくても製造ラインに導入できることがわかる。なお、フレキシブル基板に対しても同様の結果が得られることが確認できた。
本発明によれば、エネルギー消費量が少なく、構造が簡単であり、また、微小な範囲にも精度良く高速でマーキングを施すことができるレーザーマーキング装置を提供できる。
1 半導体レーザー
2 光学ユニット
3 コリメートレンズ
4 ビームサンプラー
5 対物レンズ
6 レンズ駆動ユニット
6a X方向駆動手段
6b Y方向駆動手段
7 ミラー
8 結像レンズ
9 ローカットフィルター
10 撮像装置
11 発光体
12 コリメートレンズ
13 ハーフミラー
14 ダイクロイックミラー
50 レーザーマーキング装置
51 入力部
52 制御部
53 電流供給部
54 サーボアンプ
55 データ作成手段
56 印字データ
57 駆動データ
58 駆動制御手段
59 レーザー制御手段
60 エンコーダ信号
61 XYステージ
62 Z方向駆動手段
A レーザー光の光軸
D レーザー光のビーム径
p 集光点
T1 移動開始期間
T2 等速移動期間
T3 移動終了期間
W 対象物

Claims (5)

  1. 半導体レーザーと、該半導体レーザーのレーザー光を対象物の表面に照射してマーキングを施す光学ユニットとを備えるレーザーマーキング装置であって、
    前記光学ユニットは、レーザー光を前記対象物の表面で集光させる対物レンズと、レーザー光の光軸に対して垂直面内で且つ該対物レンズの光学中心が該レーザー光のビーム径内に収まる範囲で、該対物レンズを該レーザー光に対して移動させるレンズ駆動ユニットとを備えるレーザーマーキング装置。
  2. 所望のマーキングパターンに応じてレーザー光の発光及び非発光に関わる印字データを作成するデータ作成手段を有する制御部と、前記半導体レーザーへ電流を供給する電流供給部と、前記レンズ駆動ユニットに設けられ、前記対物レンズを移動させるサーボモータとを備え、
    前記制御部は、前記電流供給部に対して、前記印字データに基づく電流供給可又は不可の指令を前記サーボモータからのエンコーダ信号に対応させて送るレーザー制御手段を有する請求項1に記載のレーザーマーキング装置。
  3. 前記レーザー制御手段は、前記印字データに基づいて前記半導体レーザーへの電流値を変更する指令を前記電流供給部に対して送るよう構成されてなる請求項2に記載のレーザーマーキング装置。
  4. 前記レーザー制御手段は、前記印字データに基づく電流供給可又は不可の指令を、前記対物レンズを等速運動させる等速移動期間において送るよう構成されてなる請求項2又は3に記載のレーザーマーキング装置。
  5. 前記光学ユニットは、前記半導体レーザーのレーザー光に対して異なる波長の光を発光する発光体と、該半導体レーザーと前記対物レンズとの経路上に設けられ該半導体レーザーのレーザー光は透過する一方、該発光体の光を反射して前記対象物に照射するとともに該対象物で反射された該発光体の光を再度反射するダイクロイックミラーと、該ダイクロイックミラーによって再度反射された該発光体の光を受光することで該対象物のマーキングを撮像する撮像装置とを備える請求項1〜4の何れか一項に記載のレーザーマーキング装置。
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