JP2015092526A - レーザ加熱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】従来のレーザ加熱装置では、被加熱物の周縁部分からの熱放散があるため、被加熱物の温度分布を均一にするのは難しかった。
【解決手段】本発明のレーザ加熱装置は、気密チャンバ１と、この気密チャンバ１に設けた、レーザ光を透過するレーザ光透過窓４と、上記気密チャンバ１内に設けた被加熱物支持手段３と、上記気密チャンバ１の外部から上記レーザ光透過窓４を通して、上記被加熱物支持手段３により支持した被加熱物２上にレーザ光を照射する、少なくとも２つ以上のレーザ照射手段１３、１５とよりなり、上記各レーザ照射手段１３、１５は、上記被加熱物２上に、それぞれ異なる形状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱するものであると共に、上記レーザ照射手段の少なくとも一つは、上記被加熱物の周縁部分に、リング状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱することを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明はレーザ加熱装置、特に、特定のガス雰囲気中に置かれた半導体基板などの被加熱物上に、所望の大きさに拡大したレーザ光を照射して、上記被加熱物を加熱し、均一の酸化膜などの各種膜を生成するようにしたレーザ加熱装置に関するものである。

図１１は、従来のレーザ加熱装置を示し、１は、気密チャンバ、２は、半導体基板等の被加熱物、３は、この被加熱物２を載置するため上記気密チャンバ１内に設けた被加熱物支持手段、４は、上記気密チャンバ１の天井に設けたレーザ光入射用のレーザ光透過窓、５は、上記気密チャンバ１内にガスを導入するためのマスフロー、６は、上記気密チャンバ１内の空気を排気するための排気ポンプ、７は、上記気密チャンバ１内の真空度を制御するための圧力制御バルブ、８は、上記気密チャンバ１の上面に設けた光学レンズ装置ホルダ、９は、上記ホルダ８に、レーザ光照射口が下になるように設けた、例えば、凸レンズ及び凹レンズからなる投影レンズなどの光学レンズ装置、１０は、例えば、レーザダイオードバーを複数個積み上げて構成される、連続発振で１ｋＷ以上の高出力を出す半導体レーザ発振器、１０ａは、上記レーザ発振器の出口に設けた、上記レーザ発振器１０のレーザ光集光手段、１１は、上記レーザ光集光手段１０ａと上記光学レンズ装置９とを接続する、例えば直径１．５ｍｍ、長さ５ｍの光ファイバである。

上記従来のレーザ加熱装置においては、上記レーザ発振器１０からのレーザ光を、上記光ファイバ１１の一端から入射し、他端から出射させ、上記光学レンズ装置９及び上記レーザ光透過窓４を介して、真空又は特定のガス雰囲気中の気密チャンバ１内に支持された被加熱物２に照射し、この際、上記レーザ光を上記光学レンズ装置９により上記被加熱物２のサイズと略同等の大きさに拡大されるようにして、上記被加熱物２を加熱させる。

このようなレーザ加熱装置としては、例えば、特許文献１がある。

特開２００６−２９４７１７号公報（第１図）

しかしながら、上記従来のレーザ加熱装置では、気密チャンバ１を酸素雰囲気等、特定のガス雰囲気で被加熱物を加熱する場合、上記被加熱物２上に照射されるレーザ光の強度分布が均一であっても、上記被加熱物２の周縁部分から上記雰囲気ガスへの熱放散によって、上記被加熱物２の中央部と周縁部分との温度差が大きくなり、上記被加熱物２を均一の温度分布で加熱することができず、従って、上記被加熱物２上に均一の薄膜を形成することができないという欠点があった。

また、被加熱物上の温度分布を均一にするために、レーザ光の強度分布を、被加熱物の中央部分より周縁部分を強くするようにした光学レンズ装置を用いることもできるが、一度設定した光学レンズ装置のレーザ光の強度分布は変えることができないため、被加熱物の種類、厚さや、被加熱物の加熱温度、ガス雰囲気、チャンバ内圧力などの条件が異なると、異なる光学レンズ装置を設ける必要があり、装置が複雑化してしまう欠点があった。

また、被加熱物の種類、厚さや、被加熱物の加熱温度、ガス雰囲気、チャンバ内圧力などの条件が少しでも異なると、上記被加熱物２の周縁部分から上記雰囲気ガスへの熱放散量が変わるので、被加熱物の温度を均一にすることが難しかった。

本発明は、上記の欠点を除くようにしたものである。

本発明のレーザ加熱装置は、気密チャンバと、この気密チャンバに設けた、レーザ光を透過するレーザ光透過窓と、上記気密チャンバ内に設けた被加熱物支持手段と、上記気密チャンバの外部から上記レーザ光透過窓を通して、上記被加熱物支持手段により支持した被加熱物上にレーザ光を照射する、少なくとも２つ以上のレーザ照射手段とよりなり、上記各レーザ照射手段は、上記被加熱物上に、それぞれ異なる形状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱するものであると共に、上記レーザ照射手段の少なくとも一つは、上記被加熱物の周縁部分に、リング状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱することを特徴とする。

また、上記レーザ照射手段の一つは、上記被加熱物上の全面にレーザ光を照射するものであることを特徴とする。

また、上記レーザ照射手段の少なくとも２つ以上が、被加熱物上に、リング状のレーザ光を照射するものであることを特徴とする。

また、上記被加熱物は円板状であり、上記リング状とは、円環状であることを特徴とする。

また、上記被加熱物上の複数の箇所の温度をそれぞれ計測する温度計測手段を設け、この計測された温度に基づき、上記各レーザ照射手段のレーザ光の出力をそれぞれ制御することを特徴とする。

また、上記複数のレーザ照射手段により照射されるレーザ光を、重畳手段を用いて、上記被加熱物にそれぞれ垂直照射することを特徴とする。

また、上記重畳手段は、上記被加熱物と上記レーザ照射手段との間にバンドパスフィルターを設け、このバンドパスフィルターを介してレーザ光を上記被加熱物にそれぞれ垂直照射するようにしたことを特徴とする。

本発明の加熱装置によれば、気密チャンバ内がガス雰囲気中であっても、被加熱物を均一の温度分布で加熱できるという大きな利点がある。

また、被加熱物の種類、厚さや、被加熱物の加熱温度、ガス雰囲気、チャンバ内圧力などの条件が変わると、特に、被加熱物の中央部の温度に比べて周縁部分の温度差が急激に変わるが、周縁部分にリング状のレーザ光を別途照射することにより、その制御が容易になり、加熱物を均一の温度分布で加熱できるようになる。

本発明のレーザ加熱装置の縦断正面図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 被加熱物に照射するレーザ光のエネルギー分布の説明図である。 本発明のレーザ加熱装置の他の実施例の一部を省略した正面図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 被加熱物に照射されるレーザ光の説明図である。 従来のレーザ加熱装置の縦断正面図である。

以下図面によって本発明の実施例を説明する。なお、上記従来のレーザ加熱装置と同一の部分には同一の符号を付して説明を省略する。

本発明のレーザ加熱装置においては、図１〜図３に示すように、気密チャンバ１内に配置した、例えば、直径０．５インチの円板状のシリコン基板などの被加熱物２上に、この被加熱物２のサイズと略同形状の大きさの円形状のレーザ光１２を照射して上記被加熱物２を加熱する第１のレーザ照射手段１３と、上記被加熱物２の周縁部分に、リング状のレーザ光１４を照射して上記周縁部分を加熱する第２のレーザ照射手段１５とを設ける。

また、上記第１のレーザ照射手段１３からのレーザ光１２と上記第２のレーザ照射手段１５からのレーザ光１４とを重畳し、上記被加熱物２に同軸で、それぞれ垂直照射するための第１の重畳手段を設ける。

この第１の重畳手段は、例えば、上記第１のレーザ照射手段１３からのレーザ光（例えば、波長８８０ｎｍ）など特定の波長のレーザ光は反射するが、上記第２のレーザ照射手段１５からのレーザ光（例えば、波長９４０ｎｍ）などの特定の波長は透過する、例えば、円板状の第１のバンドパスフィルター１６を用いる。なお、このバンドパスフィルター１６は、例えば、誘電体多層膜により特定の波長のみを反射又は透過する機能を有する。

そして、図１に示すように、上記被加熱物２の上方に、上記第２のレーザ照射手段１５の第２のレーザ光照射口１５ａを配置して、上記被加熱物２と上記第２のレーザ光照射口１５ａとの間に、上記第１のバンドパスフィルター１６を４５度傾斜させて配置すると共に、上記バンドパスフィルター１６の横方向に、上記第１のレーザ照射手段１３の第１のレーザ光照射口１３ａを配置する。

そして、下方に照射された上記第２のレーザ光照射口１５ａからのレーザ光１４は、上記第１のバンドパスフィルター１６を透過して、上記被加熱物２に垂直照射されるようにすると共に、横方向に照射された上記第１のレーザ光照射口１３ａからのレーザ光１２は、上記第１のバンドパスフィルター１６に反射して、上記被加熱物２に垂直照射されるようにする。

また、上記第１のレーザ照射手段１３は、例えば、第１のレーザ発振器１７と、第１の光ファイバ１８と、第１の光学レンズ装置１９とよりなり、上記第１のレーザ発振器１７からのレーザ光を、上記第１の光ファイバ１８の一端から入射し、他端から出射させ、このレーザ光を上記第１の光学レンズ装置１９、上記第１のバンドパスフィルター１６及び上記レーザ光透過窓４を介して気密チャンバ１内の被加熱物２に照射する。

なお、上記第１の光ファイバ１９から出射された上記レーザ光は、上記第１の光学レンズ装置１９により、図２に示すように、上記被加熱物２をそのサイズ（例えば、直径１２．５ｍｍ）と略同形状の大きさ（例えば、直径１３ｍｍ）の円形状に拡大され、かつ、エネルギー強度分布を均一（トップハット状）で上記被加熱物２の全面に照射されるようにして、上記被加熱物２を加熱させる。

なお、上記被加熱物２に照射される円形状のレーザ光の１例は、上記被加熱物２の径よりも若干大きい径であるが、上記被加熱物２の径と同じ、若しくは、若干大きい径であってもよい。

また、上記第２のレーザ照射手段１５は、例えば、第２のレーザ発振器２０と、第２の光ファイバ２１と、第２の光学レンズ装置２２とよりなり、上記第２のレーザ発振器２０からのレーザ光を、上記第２の光ファイバ２１の一端から入射し、他端から出射させ、このレーザ光を上記第２の光学レンズ装置２２、上記バンドパスフィルター１６及び上記レーザ光透過窓４を介して気密チャンバ１内の被加熱物２に照射する。

なお、上記第２の光ファイバ２１により出射された上記レーザ光は、上記第２の光学レンズ装置２２により、図３に示すように、上記被加熱物２の周縁部分を照射するように、リング状に拡大され（例えば、外径１２．５ｍｍ、内径９ｍｍ）、上記被加熱物２の周縁部分を加熱させる。

なお、上記リング状のレーザ光は、上記被加熱物の外周縁を含んだ周縁部分に照射することが好ましいので、上記リング状のレーザ光の外径は、上記被加熱物２の径と同じ、若しくは、若干大きい径であることが好ましい。

また、上記第１のレーザ照射手段１３と上記被加熱物２との作動距離（ワーキングディスタンス）は、例えば、１５０ｍｍであり、上記第２のレーザ照射手段１５と上記被加熱物２との作動距離（ワーキングディスタンス）も同様に、例えば、１５０ｍｍである。

なお、図４に示すように、上記被加熱物２上において、上記第２のレーザ照射手段１５のみにより照射される部分Ａの面積を１とすれば、上記第１のレーザ照射手段１３により照射されるリング状の部分Ｂの面積を０．５〜１．５の範囲の面積比率に設定することにより、被加熱物上の温度分布を調整しやすくなる。そして、特に、Ａ：Ｂ＝１：１とすることが最も被加熱物上の温度分布を調整しやすくなり、好ましい。

また、上記被加熱物２の上記部分Ａと、周縁部分の上記部分Ｂとの温度をそれぞれ計測する放射温度計などの温度計測手段（図示せず）を設ける。

本発明のレーザ加熱装置は上記のような構成であるから、例えば、酸素ガス雰囲気内で、上記第１のレーザ照射手段１３と上記第２のレーザ照射手段１５とにより、上記被加熱物２の温度分布が均一になるように、各レーザ光を上記被加熱物２に照射し、例えば、１２００℃で１時間加熱し、酸化膜を形成する。

なお、図５は、上記被加熱物２上に照射されるレーザ光のエネルギー強度分布を示し、図５中の破線（１）は、上記第１のレーザ照射手段１３のレーザ光のみの強度分布を示し、破線（２）は、上記第２のレーザ照射手段１５のレーザ光のみの強度分布を示し、実線は、これら第１のレーザ照射手段１３と第２のレーザ照射手段１５のレーザ光を合成した強度分布を示す。図５のように、周縁部分のレーザ光の強度を中央部分よりも高くすることにより、上記被加熱部２の温度分布を均一にできるようになる。

なお、第１のレーザ照射手段１３のレーザ光の強度分布は均一（トップハット状）にするのが好ましいが、実際に照射した場合には、中心部が最も強く、周辺部分はやや弱い傾向となる（−１０％程度）（図５の破線（１）参照）。

また、上記被加熱物２の部分Ａの温度を計測する温度計測手段と、周縁部分の部分Ｂの温度を計測する温度計測手段を用いて、それぞれ被加熱物２の部分Ａと部分Ｂとの温度を計測し、この温度情報に基づき、上記第１のレーザ照射手段１３と上記第２のレーザ照射手段１５とのレーザ光の照射強度をそれぞれ制御して、上記被加熱物２の温度分布が均一になるように調整する。

本発明のレーザ加熱装置によれば、２つのレーザ照射手段を用いると共に、被加熱物のサイズと略同形状のレーザ光と、被加熱物の周縁部分に照射するリング状のレーザ光とを、それぞれ所望のレーザ出力で照射するようにしたので、気密チャンバ内がガス雰囲気であっても、上記被加熱物２の中央部と周縁部分との温度差を少なくすることができ、これにより、上記被加熱物の温度分布を均一にでき、従って、被膜厚さを均一にできるという大きな利益がある。

また、被加熱物の種類、厚さや、被加熱物の加熱温度、ガス雰囲気、チャンバ内圧力などの条件が異なる場合でも、上記各レーザ照射手段１３、１５のレーザ光の出力をそれぞれ変えるだけで、光学レンズ装置を変更することなく、容易に、被加熱物を所望の温度で、かつ、温度分布を均一にすることができる。

特に、上記条件が変わると、被加熱物の中央部の温度に比べて周縁部分の温度差が急激に変化するので、周縁部分にリング状のレーザ光を別途照射することにより、その制御が容易になり、加熱物を均一の温度分布で加熱できるようになる。

また、被加熱物の膜厚も、上記各レーザ照射手段１３、１５のレーザ光の出力をそれぞれ変えられるので、その調整が容易になる。

例えば、膜厚を厚くするために、被加熱物に照射されるレーザ強度を強くした場合には、被加熱物の周縁部分からの熱放散量が急激に多くなるが、このように、周縁部分からの熱放散量が変わっても、被加熱物のサイズと略同形状のレーザ光とリング状のレーザ光とを被加熱物にそれぞれ所望のレーザ出力で照射するようにしたので、被加熱物を均一の温度分布にすることができるようになる。

また、上記複数の温度計測手段を用いて、リアルタイムで、上記中央部分と周縁部分などの各所の温度を計測し、この温度情報をフィードバックし、上記各レーザ照射手段の出力をそれぞれ制御することにより、上記被加熱物をより均一な温度分布で加熱することができるようなる。

また、複数のレーザ照射手段を用いることで、小さな出力のレーザ発振器を用いることができ、コストを安くすることができる。

また、大出力のレーザ発振器を用いないので、レーザ加熱装置をコンパクトにすることができる。

なお、リング状のレーザ光の形状は、被加熱物の形状によって変わり、例えば、被加熱物が円板状である場合には、円環状のレーザ光であり、例えば、被加熱物が矩形状の場合には、矩形環状のレーザ光を照射するようにする。

なお、被加熱物の径が大きい場合には、３つ以上のレーザ照射手段を設けてもよい。

図６は、３つのレーザ照射手段を設けた実施例を示し、第３のレーザ照射手段２３と、第４のレーザ照射手段２４と、第５のレーザ手段２５とを用いて、被加熱物２を加熱するようにする。なお、図６は気密チャンバ１などを省略した、本発明の他の実施例の要部の説明図である。

なお、上記第３のレーザ照射手段２３からは、例えば、８８０ｎｍの波長のレーザ光２６を、直径１２．５ｍｍの被加熱物２に、図７に示すように、この被加熱物２のサイズと略同形状の大きさの直径１３ｍｍの円形状で照射されるようにする。

また、上記第４のレーザ照射手段２４からは、例えば、９４０ｎｍの波長のレーザ光２７を、図８に示すように、外径１２．５ｍｍ、内径７ｍｍのリング状で照射されるようにする。

また、上記第５のレーザ照射手段２５からは、例えば、９８０ｎｍの波長のレーザ光２８を、図９に示すように、外径１２．５ｍｍ、内径１０ｍｍのリング状で照射されるようにする。

なお、上記被加熱物２に照射される、上記第４のレーザ照射手段２４によるリング状のレーザ光２７の形状と、上記第５のレーザ照射手段２５のリング状のレーザ光２８の形状とは、異なる形状とするが、リング幅のみ異ならせ、外径は、それぞれ上記被加熱物２の外径と略同形状であることが好ましい。

また、上記第４のレーザ照射手段２４と上記第５のレーザ照射手段２５のうちいずれか一つを上記被加熱物２の周縁部分を照射するものであれば、他のレーザ照射手段は、上記被加熱物２の中間部分のみを加熱するリング状のレーザ光であってもよい。

また、上記第３のレーザ照射手段２３からのレーザ光２６と、上記第４のレーザ照射手段２４からのレーザ光２７と、上記第５のレーザ照射手段２５からのレーザ光２８を重畳し、上記被加熱物２に同軸で、それぞれ垂直照射するための第２の重畳手段を設ける。

この第２の重畳手段は、例えば、レーザ光の波長が９８０ｎｍ、９４０ｎｍは透過するが、８８０ｎｍを通さず、反射させる第２のバンドパスフィルター２９と、レーザ光の波長が９８０ｎｍは透過するが、９４０ｎｍを通さず、反射させる第３のバンドパスフィルター３０を設ける。

そして、図６に示すように、上記被加熱物２の上方に、上記第５のレーザ照射手段２５の第５のレーザ光照射口２５ａを配置して、上記被加熱物２と上記第５のレーザ光照射口２５ａとの間に、上記第２のバンドパスフィルター２９と上記第３のバンドパスフィルター３０をそれぞれ４５度傾斜させて配置する。

また、上記第２のバンドパスフィルター２９の横方向に、上記第３のレーザ照射手段２３の第３のレーザ光照射口２３ａを配置すると共に、上記第３のバンドパスフィルター３０の横方向に、上記第４のレーザ照射手段２４の第４のレーザ光照射口２４ａを配置する。

そして、下方に照射された上記第５のレーザ光照射口２５ａからのレーザ光２８は、上記第２、第３のバンドパスフィルター２９、３０を透過して、上記被加熱物２に垂直照射されるようにする。また、上記第２のバンドパスフィルター２９に向けて横方向に照射された上記第３のレーザ光照射口２３ａからのレーザ光２６は、上記第２のバンドパスフィルター２９に反射して、上記被加熱物２に垂直照射されるようにする。また、上記第３のバンドパスフィルター３０に向けて横方向に照射された上記第４のレーザ光照射口２４ａからのレーザ光２７は、上記第３のバンドパスフィルター３０に反射し、そして、上記第２のバンドパスフィルター２９を透過して、上記被加熱物２に垂直照射されるようにする。以上により、上記各レーザ光２６、２７、２８は、それぞれが重畳されて、上記被加熱物２に同軸で、垂直照射されるようになる。

なお、上記第３〜第５のレーザ照射手段２３、２４、２５は、例えば、上記第１、第２のレーザ照射手段と同様、レーザ発振器３１ａ、３１ｂ、３１ｃと光ファイバ３２ａ、３２ｂ、３２ｃと光学レンズ装置３３ａ、３３ｂ、３３ｃとより形成するようにする。

この３つのレーザ照射手段２３、２４，２５を用いた場合には、２つのレーザ照射手段を用いた場合よりも、細かい調整ができるため、より被加熱物の温度分布を均一にすることができるようになる。

なお、図１０に示すように、上記被加熱物２上において、上記第３のレーザ照射手段２３のレーザ２６にのみ照射される部分Ｃ（内側円）の面積を１とすれば、上記第３のレーザ照射手段１３のレーザ光２６と上記第４のレーザ照射手段２４のレーザ光２７との重畳して照射される部分Ｄ（中間リング）の面積を０．５〜１．５の範囲の面積比率に設定し、また、上記第５のレーザ照射手段２５のレーザ光２８により照射されるリング状の部分Ｅ（外側リング）の面積を０．５〜１．５の範囲の面積比率に設定することにより、被加熱物上の温度分布を調整しやすくなる。そして、特に、Ｃ：Ｄ：Ｅ＝１：１：１とすることが最も被加熱物上の温度分布を調整しやすくなり、好ましい。

また、上記部分Ｃ，Ｄ、Ｅの温度をそれぞれ計測するための放射温度計などの温度計測手段（図示せず）を設け、各部分の温度を計測し、この温度情報に基づき、上記第３〜第５のレーザ照射手段２３、２４、２５のレーザ光の強度をそれぞれ制御して、上記被加熱物２の温度分布が均一になるように調整してもよい。

なお、バンドパスフィルター以外の重畳手段を用いても良く、また、複数のレーザ照射手段からのレーザ光を被加熱物に同軸で、垂直照射する必要がない場合には、バンドパスフィルターなどの重畳手段を省略してもよい。この場合には、各レーザ照射手段のレーザ光の波長を同じにすることができる。

また、上記実施例においては、被加熱物を均一に加熱する例を示したが、各領域の温度を変えて加熱するようにしてもよい。

１ 気密チャンバ
２ 被加熱物
３ 被加熱物支持手段
４ レーザ光透過窓
５ マスフロー
６ 排気ポンプ
７ バルブ
８ ホルダ
９ 光学レンズ装置
１０ レーザ発振器
１０ａ レーザ光集光手段
１１ 光ファイバ
１２ レーザ光
１３ 第１のレーザ照射手段
１３ａ レーザ光照射口
１４ レーザ光
１５ 第２のレーザ照射手段
１５ａ レーザ光照射口
１６ 第１のバンドパスフィルター
１７ 第１のレーザ発振器
１８ 第１の光ファイバ
１９ 第１の光学レンズ装置
２０ 第２のレーザ発振器
２１ 第２の光ファイバ
２２ 第２の光学レンズ装置
２３ 第３のレーザ照射手段
２３ａ レーザ光照射口
２４ 第４のレーザ照射手段
２４ａ レーザ光照射口
２５ 第５のレーザ照射手段
２５ａ レーザ光照射口
２６ レーザ光
２７ レーザ光
２８ レーザ光
２９ 第２のバンドパスフィルター
３０ 第３のバンドパスフィルター
３１ａ レーザ発振器
３１ｂ レーザ発振器
３１ｃ レーザ発振器
３２ａ 光ファイバ
３２ｂ 光ファイバ
３２ｃ 光ファイバ
３３ａ 光学レンズ装置
３３ｂ 光学レンズ装置
３３ｃ 光学レンズ装置

Claims (7)

1. 気密チャンバと、この気密チャンバに設けた、レーザ光を透過するレーザ光透過窓と、上記気密チャンバ内に設けた被加熱物支持手段と、上記気密チャンバの外部から上記レーザ光透過窓を通して、上記被加熱物支持手段により支持した被加熱物上にレーザ光を照射する、少なくとも２つ以上のレーザ照射手段とよりなり、
   上記各レーザ照射手段は、上記被加熱物上に、それぞれ異なる形状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱するものであると共に、
   上記レーザ照射手段の少なくとも一つは、上記被加熱物の周縁部分に、リング状のレーザ光を照射し、上記被加熱物を加熱することを特徴とするレーザ加熱装置。
2. 上記レーザ照射手段の一つは、上記被加熱物上の全面にレーザ光を照射するものであることを特徴とする請求項１記載のレーザ加熱装置。
3. 上記レーザ照射手段の少なくとも２つ以上が、被加熱物上に、リング状のレーザ光を照射するものであることを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ加熱装置。
4. 上記被加熱物は円板状であり、上記リング状とは、円環状であることを特徴とする請求項１、２又は３記載のレーザ加熱装置。
5. 上記被加熱物上の複数の箇所の温度をそれぞれ計測する温度計測手段を設け、この計測された温度に基づき、上記各レーザ照射手段のレーザ光の出力をそれぞれ制御することを特徴とする請求項１、２、３又は４記載のレーザ加熱装置。
6. 上記複数のレーザ照射手段により照射されるレーザ光を、重畳手段を用いて、上記被加熱物にそれぞれ垂直照射することを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載のレーザ加熱装置。
7. 上記重畳手段は、上記被加熱物と上記レーザ照射手段との間にバンドパスフィルターを設け、このバンドパスフィルターを介してレーザ光を上記被加熱物にそれぞれ垂直照射するようにしたことを特徴とする請求項６記載のレーザ加熱装置。

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