JP2015090350A - Magnetic sensor, magnetic sensor device, and method of manufacturing magnetic sensor - Google Patents

Magnetic sensor, magnetic sensor device, and method of manufacturing magnetic sensor Download PDF

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敏昭 福中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic sensor and a magnetic sensor device having an islandless structure and capable of being further downsized and thinned, and also to provide a method of manufacturing the magnetic sensor.SOLUTION: A magnetic sensor includes: a pellet 10 having electrode parts 13a to 13d; lead terminal 21 to 24 which are arranged around the pellet 10 and has a plating layer; thin metallic wires 31 to 34 which electrically connect the electrode parts 13a to 13d and the plating layer; an insulation layer 40 which covers at least a part of the rear surface of the pellet 10; and a mold resin 50 which covers the pellet 10, the lead terminals 21 to 24 and the thin metallic wires 31 to 34. At least a part of the rear surface of the lead terminals 21 to 24 and at least a part of the insulation layer 40 are exposed from the mold resin 50, respectively.

Description

本発明は、磁気センサ及び磁気センサ装置、磁気センサの製造方法に関する。   The present invention relates to a magnetic sensor, a magnetic sensor device, and a method for manufacturing the magnetic sensor.

ホール効果を利用した磁気センサとして、例えば、磁気(磁界)を検出してその大きさに比例したアナログ信号を出力するホール素子や、磁気を検出してデジタル信号を出力するホールICが知られている。例えば特許文献1には、リードフレームと、ペレット(即ち、磁気センサチップ)及び金属細線を備えた磁気センサが開示されている。この磁気センサにおいて、リードフレームは外部との電気的接続を得るために四隅に配置された端子を有し、ペレットはリードフレームのアイランドに搭載されている。そして、ペレットが有する電極とリードフレームが有する各端子とが金属細線で接続されている。   As a magnetic sensor using the Hall effect, for example, a Hall element that detects magnetism (magnetic field) and outputs an analog signal proportional to the magnitude, or a Hall IC that detects magnetism and outputs a digital signal is known. Yes. For example, Patent Document 1 discloses a magnetic sensor including a lead frame, a pellet (that is, a magnetic sensor chip), and a thin metal wire. In this magnetic sensor, the lead frame has terminals arranged at the four corners to obtain electrical connection with the outside, and the pellet is mounted on the island of the lead frame. And the electrode which a pellet has and each terminal which a lead frame has are connected with the metal fine wire.

特開2007−95788号公報JP 2007-95788 A

ところで、近年では電子機器の小型化等に伴い、磁気センサの小型、薄型化も進展している。例えば、磁気センサのパッケージング後の大きさ(即ち、パッケージサイズ)は、縦1.6mm、横0.8mm、厚さ0.38mmを実現している。また、ペレットをさらに薄くすることによって、パッケージサイズの厚さを0.30mmとすることも可能である。また、磁気センサの小型、薄型化をさらに進展させるために、アイランドを省いた構造(即ち、アイランドレス構造)も考えられる。   By the way, in recent years, along with the downsizing of electronic devices, etc., the downsizing and thinning of magnetic sensors have also progressed. For example, the size of the magnetic sensor after packaging (that is, the package size) is 1.6 mm in length, 0.8 mm in width, and 0.38 mm in thickness. Further, the package size can be reduced to 0.30 mm by further thinning the pellet. In order to further advance the reduction in size and thickness of the magnetic sensor, a structure in which an island is omitted (that is, an islandless structure) is also conceivable.

図12は、本発明の比較形態に係る磁気センサ400の構成例を示す概念図である。図12に示すように、磁気センサ400はアイランドレス構造を有し、ペレット310はモールド樹脂350で固定される。また、ペレット310の電極部は、金線331、332等を介して、ペレット310の周囲に配置されたリードフレームからなるリード端子部325、327に接続される。アイランドレス構造は、アイランドが無い分厚みを薄くできるので、磁気センサを十分に小型、薄型化することができる。   FIG. 12 is a conceptual diagram showing a configuration example of a magnetic sensor 400 according to a comparative embodiment of the present invention. As shown in FIG. 12, the magnetic sensor 400 has an islandless structure, and the pellet 310 is fixed with a mold resin 350. The electrode part of the pellet 310 is connected to lead terminal parts 325 and 327 made of a lead frame arranged around the pellet 310 via gold wires 331 and 332. Since the islandless structure can reduce the thickness by the absence of islands, the magnetic sensor can be made sufficiently small and thin.

しかしながら、今後も電子機器の小型化や、電子機器内での各部品等の高密度実装化が進展するであろうことを予想すると、磁気センサについても、図12に示す比較形態からさらに、小型、薄型化を進展させる必要がある。
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、アイランドレス構造であって、さらなる小型化と薄型化を可能とした磁気センサ及び磁気センサ装置、磁気センサの製造方法の提供を目的とする。
However, when it is anticipated that electronic devices will be further miniaturized and that high-density mounting of components and the like in electronic devices will continue to progress in the future, magnetic sensors will be further reduced from the comparison form shown in FIG. Therefore, it is necessary to advance the thinning.
Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and has an islandless structure, a magnetic sensor, a magnetic sensor device, and a method of manufacturing a magnetic sensor that can be further reduced in size and thickness. For the purpose of provision.

上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る磁気センサは、電極部を有するペレットと、前記ペレットの周囲に配置された、めっき層を有するリード端子と、前記電極部と前記めっき層とを電気的に接続する導線と、前記ペレットの前記電極部を有する面の反対側の面の少なくとも一部を覆う絶縁層と、前記ペレット、前記リード端子及び前記導線を覆う樹脂部材と、を備え、前記リード端子の前記導線と接続する面の反対側の面の少なくとも一部、及び、前記絶縁層の少なくとも一部は、前記樹脂部材からそれぞれ露出していることを特徴とする。本発明において、「めっき層」とは、めっき法で形成された導電層を意味する。めっき法としては、例えば、電解めっき法、無電解めっき法、蒸着法が挙げられる。即ち、本発明において、めっき層は電解めっき法で形成してもよく、無電解めっき法で形成してもよく、蒸着法で形成してもよく、又は、これらの方法を組み合わせて形成してもよい。   In order to solve the above-described problem, a magnetic sensor according to one embodiment of the present invention includes a pellet having an electrode portion, a lead terminal having a plating layer disposed around the pellet, the electrode portion, and the plating layer. A conductive wire that electrically connects to each other; an insulating layer that covers at least a part of the surface of the pellet opposite to the surface having the electrode portion; and a resin member that covers the pellet, the lead terminal, and the conductive wire. And at least part of the surface of the lead terminal opposite to the surface connected to the conductor and at least part of the insulating layer are exposed from the resin member, respectively. In the present invention, the “plating layer” means a conductive layer formed by a plating method. Examples of the plating method include an electrolytic plating method, an electroless plating method, and a vapor deposition method. That is, in the present invention, the plating layer may be formed by an electrolytic plating method, an electroless plating method, a vapor deposition method, or a combination of these methods. Also good.

また、上記の磁気センサにおいて、前記めっき層は、ニッケルを含むことを特徴としてもよい。
また、上記の磁気センサにおいて、前記めっき層は、金又は銀を含む第一めっき層と、前記第一めっき層の上方に形成されたニッケルを含む第三めっき層と、を有し、前記第一めっき層の少なくとも一部が、前記樹脂部材から露出していることを特徴としてもよい。
In the above magnetic sensor, the plating layer may contain nickel.
In the magnetic sensor, the plating layer includes a first plating layer containing gold or silver, and a third plating layer containing nickel formed above the first plating layer, At least a part of one plating layer may be exposed from the resin member.

また、上記の磁気センサにおいて、さらに、前記第一めっき層と前記第三めっき層との間に形成された、パラジウムを含む第二めっき層を有することを特徴としてもよい。
また、上記の磁気センサにおいて、さらに、前記第三めっき層上に形成されたパラジウム、金又は銀を含む第四めっき層を有することを特徴としてもよい。
また、上記の磁気センサにおいて、前記第四めっき層と前記電極部とが前記導線で電気的に接続されていることを特徴としてもよい。
The magnetic sensor may further include a second plating layer containing palladium formed between the first plating layer and the third plating layer.
The magnetic sensor may further include a fourth plating layer containing palladium, gold, or silver formed on the third plating layer.
In the above magnetic sensor, the fourth plating layer and the electrode portion may be electrically connected by the conductive wire.

また、上記の磁気センサにおいて、当該磁気センサの裏面は、前記リード端子の少なくとも一部、及び、前記絶縁層の少なくとも一部が前記樹脂部材からそれぞれ露出している露出面であり、当該磁気センサの表面及び側面は、該樹脂部材から前記リード端子及び前記絶縁層が露出していない非露出面であることを特徴としてもよい。
また、上記の磁気センサにおいて、前記めっき層の厚さは、2μm以上、50μm以下であることを特徴としてもよい。
In the magnetic sensor, the back surface of the magnetic sensor is an exposed surface in which at least a part of the lead terminal and at least a part of the insulating layer are exposed from the resin member, respectively. The front surface and the side surface may be a non-exposed surface where the lead terminal and the insulating layer are not exposed from the resin member.
In the above magnetic sensor, the thickness of the plating layer may be 2 μm or more and 50 μm or less.

また、上記の磁気センサにおいて、前記ペレットは、磁電変換素子であることを特徴としてもよい。
本発明の一態様に係る磁気センサ装置は、上記の磁気センサと、前記磁気センサが取り付けられる配線基板と、前記磁気センサの前記リード端子を前記配線基板の配線パターンに電気的に接続するハンダと、を備えることを特徴とする。
In the above magnetic sensor, the pellet may be a magnetoelectric conversion element.
A magnetic sensor device according to an aspect of the present invention includes the above magnetic sensor, a wiring board to which the magnetic sensor is attached, and solder that electrically connects the lead terminals of the magnetic sensor to a wiring pattern of the wiring board. It is characterized by providing.

本発明の一態様に係る磁気センサの製造方法は、基材と、前記基材の一方の面上に形成されためっき層で形成されたリード端子と、を備えるリードフレームを用意する工程と、前記基材の一方の面上であって前記リード端子から離れた位置に、絶縁層を介してペレットを載置する工程と、前記リード端子と前記ペレットが有する電極部とを導線で接続する工程と、前記基材の一方の面上に樹脂部材を供給して、前記ペレット、前記リード端子及び前記導線を該樹脂部材で覆う工程と、前記樹脂部材、前記リード端子及び前記絶縁層から前記基材を分離する工程と、を備えることを特徴とする。   A method of manufacturing a magnetic sensor according to an aspect of the present invention includes a step of preparing a lead frame including a base material and a lead terminal formed of a plating layer formed on one surface of the base material; A step of placing the pellet via an insulating layer on one surface of the substrate and away from the lead terminal, and a step of connecting the lead terminal and the electrode portion of the pellet with a conductive wire Supplying a resin member onto one surface of the base material and covering the pellet, the lead terminal and the conductive wire with the resin member, and the base from the resin member, the lead terminal and the insulating layer. And a step of separating the material.

また、上記の磁気センサの製造方法において、前記基材を分離する工程の後で、前記樹脂部材をダイシングして個片化する工程、をさらに備えることを特徴としてもよい。
また、上記の磁気センサの製造方法において、前記基材を分離する工程では、前記基材をエッチングして除去することを特徴としてもよい。
また、上記の磁気センサの製造方法において、前記基材は銅板であることを特徴としてもよい。
The magnetic sensor manufacturing method may further include a step of dicing the resin member into individual pieces after the step of separating the base material.
In the method for manufacturing a magnetic sensor, the base material may be removed by etching in the step of separating the base material.
In the method for manufacturing the magnetic sensor, the base material may be a copper plate.

また、上記の磁気センサの製造方法において、前記樹脂部材を個片化する工程では、該樹脂部材のうちの、隣り合う前記リード端子間をダイシングすることを特徴としてもよい。
本発明の別の態様に係る磁気センサは、電極部を有するペレットと、前記ペレットの周囲に配置された、めっき層のみからなるリード端子と、前記電極部と前記めっき層とを電気的に接続する導線と、前記ペレットの前記電極部を有する面の反対側の面の少なくとも一部を覆う絶縁層と、前記ペレット、前記リード端子及び前記導線を覆う樹脂部材と、を備え、前記リード端子の前記導線と接続する面の反対側の面の少なくとも一部、及び、前記絶縁層の少なくとも一部は、前記樹脂部材からそれぞれ露出していることを特徴とする。
In the method of manufacturing a magnetic sensor, the resin member may be diced in the step of dividing the resin member into pieces.
A magnetic sensor according to another aspect of the present invention electrically connects a pellet having an electrode part, a lead terminal including only a plating layer disposed around the pellet, and the electrode part and the plating layer. A lead wire, an insulating layer that covers at least a part of the surface of the pellet opposite to the surface having the electrode portion, and a resin member that covers the pellet, the lead terminal, and the lead wire, At least a part of a surface opposite to a surface connected to the conducting wire and at least a part of the insulating layer are respectively exposed from the resin member.

本発明の一態様によれば、アイランドレス構造の磁気センサであって、さらなる小型化と薄型化が可能である。   According to one embodiment of the present invention, an islandless structure magnetic sensor can be further reduced in size and thickness.

本発明の第1実施形態に係る磁気センサ100の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the magnetic sensor 100 which concerns on 1st Embodiment of this invention. リード端子21の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the lead terminal. リードフレーム120の構成例を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example of a lead frame 120. リードフレーム120の製造方法を工程順に示す図。The figure which shows the manufacturing method of the lead frame 120 in order of a process. 磁気センサ100の製造工程を示す図。The figure which shows the manufacturing process of the magnetic sensor 100. FIG. 磁気センサ100の製造工程を示す図。The figure which shows the manufacturing process of the magnetic sensor 100. FIG. 第1実施形態に係る磁気センサ装置200の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the magnetic sensor apparatus 200 which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態の効果(4)を説明するための図。The figure for demonstrating the effect (4) of 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例に係る磁気センサ100Aの構成例を示す図。The figure which shows the structural example of 100 A of magnetic sensors which concern on the modification of 1st Embodiment. 本発明の第2実施形態に係る磁気センサ300の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the magnetic sensor 300 which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 磁気センサ300の製造工程を示す図。The figure which shows the manufacturing process of the magnetic sensor 300. FIG. 本発明の比較形態に係る磁気センサ400の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the magnetic sensor 400 which concerns on the comparison form of this invention.

以下、本発明による実施形態を、図面を用いて説明する。なお、以下に説明する各図において、同一の構成を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合もある。
<第1実施形態>
(構造)
図1(a)〜(e)は、本発明の第1実施形態に係る磁気センサ100の構成例を示す平面図と、短辺側から見た側面図、長辺側から見た側面図、裏面図及び斜視図である。なお、図1(a)〜(c)では、磁気センサ100の内部の構成を分かり易く説明するために、モールド樹脂を透視した状態を仮想して示している。
Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. Note that, in each drawing described below, parts having the same configuration are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof may be omitted.
<First Embodiment>
(Construction)
1A to 1E are a plan view showing a configuration example of the magnetic sensor 100 according to the first embodiment of the present invention, a side view seen from the short side, a side view seen from the long side, It is a back view and a perspective view. In FIGS. 1A to 1C, in order to easily understand the internal configuration of the magnetic sensor 100, a state where the mold resin is seen through is virtually shown.

図1(a)〜(e)に示すように、磁気センサ100は、アイランドレス構造であり、ペレット10と、めっき層を有するリード端子21〜24と、複数の金属細線31〜34と、絶縁層40と、モールド樹脂50とを備える。
ペレット10は、例えば磁電変換素子(ホール素子)である。ペレット10は、例えば半絶縁性のガリウムヒ素(GaAs)基板11と、このGaAs基板11上に形成された半導体薄膜からなる活性層(即ち、受感部)12と、活性層12に電気的に接続する電極部13a〜13dとを有する。活性層12は、例えば平面視で十字(クロス)型であり、クロスの4つの先端部上にそれぞれ電極部13a〜13dが設けられている。平面視で向かい合う一対の電極部13a、13cがホール素子に電流を流すための入力端子であり、電極部13a、13cを結ぶ線と平面視で直交する方向で向かい合う他の一対の電極部13b、13dがホール素子から電圧を出力するための出力端子である。ペレット10の平面視による形状(以下、平面形状)は例えば正方形であり、一辺の長さは例えば0.12mm以上、0.3mm以下である。また、ペレット10の厚さは、例えば0.09mmである。
As shown in FIGS. 1A to 1E, the magnetic sensor 100 has an islandless structure, and includes a pellet 10, lead terminals 21 to 24 having a plating layer, a plurality of fine metal wires 31 to 34, and insulation. The layer 40 and the mold resin 50 are provided.
The pellet 10 is, for example, a magnetoelectric conversion element (Hall element). The pellet 10 is electrically connected to, for example, a semi-insulating gallium arsenide (GaAs) substrate 11, an active layer (that is, a sensing part) 12 made of a semiconductor thin film formed on the GaAs substrate 11, and the active layer 12. It has electrode parts 13a-13d to connect. The active layer 12 has, for example, a cross shape in plan view, and electrode portions 13a to 13d are provided on the four tip portions of the cross, respectively. A pair of electrode portions 13a and 13c facing each other in plan view are input terminals for flowing current to the Hall element, and another pair of electrode portions 13b facing in a direction orthogonal to the line connecting the electrode portions 13a and 13c in plan view, Reference numeral 13d denotes an output terminal for outputting a voltage from the Hall element. The shape of the pellet 10 in plan view (hereinafter referred to as a planar shape) is, for example, a square, and the length of one side is, for example, 0.12 mm or more and 0.3 mm or less. Moreover, the thickness of the pellet 10 is 0.09 mm, for example.

図1(a)に示すように、リード端子21〜24は、ペレット10の周囲(例えば、ペレット10の四隅近傍であって、該ペレット10から離れた位置)にそれぞれ配置されている。ここで、上述したように、各リード端子21〜24は、例えばめっき層のみからなる。なお、各リード端子21〜24の平面形状は、どのような形状であってもよい。
図2は、リード端子21の構成例を示す断面図である。リード端子21は、例えばめっき層のみからなる。また、図2に示すように、このめっき層は例えば積層構造を有する。一例を挙げると、リード端子21を構成するめっき層は、金又は銀を含む第一めっき層26と、第一めっき層26上に形成されたパラジウムを含む第二めっき層27と、第二めっき層27上に形成されたニッケルを含む第三めっき層28と、第三めっき層28上に形成されたパラジウム、金又は銀を含む第四めっき層29とを有する。そして、第四めっき層29と図1(a)に示した電極部13aとが金属細線31で電気的に接続されている。
As shown in FIG. 1A, the lead terminals 21 to 24 are respectively arranged around the pellet 10 (for example, at positions near the four corners of the pellet 10 and away from the pellet 10). Here, as described above, each of the lead terminals 21 to 24 includes, for example, only a plating layer. The lead terminals 21 to 24 may have any planar shape.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of the lead terminal 21. The lead terminal 21 consists only of a plating layer, for example. Moreover, as shown in FIG. 2, this plating layer has a laminated structure, for example. For example, the plating layer constituting the lead terminal 21 includes a first plating layer 26 containing gold or silver, a second plating layer 27 containing palladium formed on the first plating layer 26, and a second plating. It has the 3rd plating layer 28 containing nickel formed on the layer 27, and the 4th plating layer 29 containing palladium, gold | metal | money, or silver formed on the 3rd plating layer 28. And the 4th plating layer 29 and the electrode part 13a shown to Fig.1 (a) are electrically connected by the metal fine wire 31. FIG.

第一めっき層26と第二めっき層27は、磁気センサ装置において、磁気センサが取り付けられる配線基板の配線パターンに電気的に接続するハンダと、磁気センサのリード端子との濡れ性を良くする効果がある。第二めっき層27は、第三めっき層28の拡散をバリアーする層であり、第二めっき層27があることにより第一めっき層26を薄くできる効果もある。   In the magnetic sensor device, the first plating layer 26 and the second plating layer 27 have an effect of improving the wettability between the solder that is electrically connected to the wiring pattern of the wiring board to which the magnetic sensor is attached and the lead terminal of the magnetic sensor. There is. The second plating layer 27 is a layer that blocks diffusion of the third plating layer 28, and the presence of the second plating layer 27 also has an effect of making the first plating layer 26 thinner.

また、第一めっき層26と第二めっき層27と第三めっき層28は、後述の製造工程における基材を分離する工程において、基材をエッチングして除去する際に、即ち、エッチング液で前記基材を溶解する際に、基材と異なり、溶解耐性を有することで、リード端子にダメージを受けることなく、基材と分離する効果がある。また、第三めっき層28は、比較的安価な材料で、リード端子自体の強度を増す効果がある。また、第四めっき層29は、金属細線で熱圧着接続する際の相性の良い材料が選定される。   The first plating layer 26, the second plating layer 27, and the third plating layer 28 are used when the substrate is removed by etching in the step of separating the substrate in the manufacturing process described later, that is, with an etching solution. When dissolving the base material, unlike the base material, it has an effect of separating from the base material without being damaged by the lead terminal by having the dissolution resistance. The third plating layer 28 is a relatively inexpensive material and has an effect of increasing the strength of the lead terminal itself. For the fourth plating layer 29, a material having good compatibility when thermocompression-bonded with a fine metal wire is selected.

また、第一めっき層26の少なくとも一部が、モールド樹脂50から露出している。図2では、第1実施形態の一例として、磁気センサが取り付けられる配線基板の配線パターンにハンダを使用し電気的に接続する第一めっき層26の全てがモールド樹脂50の外側に配置されており(即ち、モールド樹脂50から露出しており、)且つ、第二めっき層27、第三めっき層28と第四めっき層28の全てがモールド樹脂50の内側に配置されている(即ち、モールド樹脂50で覆われている)場合を示している。   Further, at least a part of the first plating layer 26 is exposed from the mold resin 50. In FIG. 2, as an example of the first embodiment, all of the first plating layer 26 that is electrically connected by using solder to the wiring pattern of the wiring board to which the magnetic sensor is attached is disposed outside the mold resin 50. (That is, exposed from the mold resin 50), and the second plating layer 27, the third plating layer 28, and the fourth plating layer 28 are all disposed inside the mold resin 50 (that is, the mold resin). 50).

また、図2では、第1実施形態の一例として、第四めっき層29と電極部13a(図1参照)とが金属細線31で電気的に接続されている場合を示している。
本実施形態において、リード端子は、その金属細線と接続する面(例えば、表面)の反対側の面(例えば、裏面)の少なくとも一部がモールド樹脂50から露出していればよく、モールド樹脂50から裏面の少なくとも一部が飛び出た形態であってもよいし、モールド樹脂50に埋め込まれて裏面の少なくとも一部が露出している形態であってもよい。
Further, FIG. 2 shows a case where the fourth plating layer 29 and the electrode portion 13a (see FIG. 1) are electrically connected by a metal thin wire 31 as an example of the first embodiment.
In the present embodiment, the lead terminal only needs to expose at least part of the surface (for example, the back surface) opposite to the surface (for example, the front surface) connected to the thin metal wire from the mold resin 50. It may be a form in which at least a part of the back surface protrudes from the surface, or a form in which at least a part of the back surface is exposed by being embedded in the mold resin 50.

磁気センサ100は、磁性体であるNi膜をリード端子21に使用しているが、ペレット10への磁気の影響は小さい。これは、Niめっき膜をリード端子21に使用しているが、リード端子21は磁気の影響を受けやすいペレット裏面から離れた位置であり、さらに、ペレット受感部から低い位置に配置されているからである。そのため、ペレット10は磁性体であるNiからの磁気的な影響を受け難い。   The magnetic sensor 100 uses a Ni film, which is a magnetic material, for the lead terminal 21, but the influence of magnetism on the pellet 10 is small. This is because the Ni plating film is used for the lead terminal 21, but the lead terminal 21 is located away from the pellet back surface, which is easily affected by magnetism, and is disposed at a lower position than the pellet sensing part. Because. Therefore, the pellet 10 is hardly affected by the magnetic influence from Ni which is a magnetic material.

めっき層のみからなるリード端子21の総厚みT2は、磁電変換素子の感度(出力)のリニアリティの観点から、例えば2μm以上、50μm以下であり、より好ましくは、5μm以上、35μm以下である。
また、めっき層のみからなるリード端子21のうち、モールド樹脂50から露出している部分の厚さt2は、例えば、0μm以上、10μm以下である。
From the viewpoint of linearity of the sensitivity (output) of the magnetoelectric conversion element, the total thickness T2 of the lead terminal 21 made of only the plating layer is, for example, 2 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 35 μm or less.
Moreover, the thickness t2 of the part exposed from the mold resin 50 among the lead terminals 21 made of only the plating layer is, for example, 0 μm or more and 10 μm or less.

なお、図2では、モールド樹脂50から、リード端子21のうちの第一のめっき層26と第二のめっき層27の厚み分が露出している形態を図示しているが、断面においてめっき層の厚み分がモールド樹脂50から外側へ突出していない形態であっても(t2=0)、第一のめっき層26の厚み分だけがモールド樹脂50から露出している形態であっても(t2=第一のめっき層26の厚み)、第三のめっき層28の一部が露出するまでめっき層の厚み分がモールド樹脂50から外側へ突出している形態(t2>第一のめっき層26と第二のめっき層27の厚み)であってもよい。   FIG. 2 shows a form in which the thickness of the first plating layer 26 and the second plating layer 27 of the lead terminal 21 is exposed from the mold resin 50, but the plating layer is shown in cross section. Even if the thickness of the first plating layer 26 is exposed from the mold resin 50 (t2), the thickness of the first plating layer 26 is not exposed to the outside (t2 = 0). = Thickness of the first plating layer 26), a form in which the thickness of the plating layer protrudes outward from the mold resin 50 until a part of the third plating layer 28 is exposed (t2> the first plating layer 26 and Thickness of the second plating layer 27).

また、めっき層の断面形状は、長方形状であっても、平行四辺形状であっても、台形であっても、凹形状、又は、凸形状であってもよい。
さらに、第一めっき層26、第二めっき層27、第三めっき層28及び第四めっき層29のうち、ニッケルを含む第三めっき層28の厚みを最も厚くしてもよい。これにより、リード端子21を安価に形成することができる。なお、図示しないが、リード端子22〜24も、図2に示したリード端子21と同じ構造で、同じ厚みを有する。
Moreover, the cross-sectional shape of the plating layer may be a rectangular shape, a parallelogram shape, a trapezoidal shape, a concave shape, or a convex shape.
Furthermore, among the first plating layer 26, the second plating layer 27, the third plating layer 28, and the fourth plating layer 29, the thickness of the third plating layer 28 containing nickel may be the largest. Thereby, the lead terminal 21 can be formed at low cost. Although not shown, the lead terminals 22 to 24 have the same structure and the same thickness as the lead terminal 21 shown in FIG.

図1に戻って、金属細線31〜34は、ペレット10が有する電極部13a〜13dと、リード端子21〜24をそれぞれ電気的に接続する導線であり、例えば金(Au)からなる。図1(b)に示すように、金属細線31はリード端子21と電極部13aとを電気的に接続し、金属細線32はリード端子22と電極部13bとを電気的に接続している。また、金属細線33はリード端子23と電極部13cとを電気的に接続し、金属細線34はリード端子24と電極部13dとを電気的に接続している。   Returning to FIG. 1, the thin metal wires 31 to 34 are conductive wires that electrically connect the electrode portions 13 a to 13 d of the pellet 10 and the lead terminals 21 to 24, respectively, and are made of, for example, gold (Au). As shown in FIG. 1B, the fine metal wire 31 electrically connects the lead terminal 21 and the electrode portion 13a, and the fine metal wire 32 electrically connects the lead terminal 22 and the electrode portion 13b. Further, the fine metal wire 33 electrically connects the lead terminal 23 and the electrode portion 13c, and the fine metal wire 34 electrically connects the lead terminal 24 and the electrode portion 13d.

絶縁層40は、ペレット10の電極部13a〜13dを有する面(即ち、表面)の反対側の面(即ち、裏面)の少なくとも一部、好ましくは全面を覆っている。図1(d)では、第1実施形態の一例として、絶縁層40がペレット10の裏面全体を覆っている場合を示している。
絶縁層40は、その成分として、例えばエポキシ系の熱硬化型樹脂と、紫外線(UV)硬化型樹脂と、バインダ樹脂とを含む。絶縁層40のうち、ペレット10の裏面を覆っている部分の絶縁層40の厚さは、例えば2μm以上、50μm以下で、好ましくは5μm以上20μm以下である。
The insulating layer 40 covers at least a part, preferably the entire surface, of the surface (that is, the back surface) opposite to the surface (that is, the front surface) of the pellet 10 having the electrode portions 13a to 13d. FIG. 1D shows a case where the insulating layer 40 covers the entire back surface of the pellet 10 as an example of the first embodiment.
The insulating layer 40 includes, for example, an epoxy thermosetting resin, an ultraviolet (UV) curable resin, and a binder resin as its components. The thickness of the insulating layer 40 in the insulating layer 40 that covers the back surface of the pellet 10 is, for example, 2 μm or more and 50 μm or less, and preferably 5 μm or more and 20 μm or less.

モールド樹脂50は、ペレット10と、めっき層のみからなるリード端子21〜24の少なくとも表面側(即ち、金属細線と接続する面側)及び金属細線31〜34を覆って保護(即ち、樹脂封止)している。モールド樹脂50は、例えばエポキシ系の熱硬化型樹脂からなり、リフロー時の高熱に耐えられるようになっている。磁気センサ100の裏面側(即ち、配線基板に実装する側)では、リード端子21〜24の裏面(金属細線と接続する面の反対側の面)の少なくとも一部、及び、絶縁層40の少なくとも一部が、モールド樹脂50からそれぞれ露出している。図1(d)では、第1実施形態の一例として、リード端子21〜24の裏面、及び、絶縁層40の裏面が、モールド樹脂50からそれぞれ露出している場合を示している。   The mold resin 50 covers and protects the pellet 10 and at least the surface side (that is, the side connected to the metal thin wire) and the metal thin wires 31 to 34 of the lead terminals 21 to 24 made of only the plating layer (that is, resin-sealed). )doing. The mold resin 50 is made of, for example, an epoxy-based thermosetting resin, and can withstand high heat during reflow. On the back surface side of the magnetic sensor 100 (that is, the side mounted on the wiring board), at least a part of the back surfaces of the lead terminals 21 to 24 (the surface opposite to the surface connected to the thin metal wires) and at least the insulating layer 40 Part of each is exposed from the mold resin 50. FIG. 1D illustrates a case where the back surfaces of the lead terminals 21 to 24 and the back surface of the insulating layer 40 are exposed from the mold resin 50 as an example of the first embodiment.

図1(e)に示すように、モールド樹脂50の樹脂封止後の形状(即ち、パッケージングの形状)は、例えば直方体である。図1(a)〜(e)に示すように、磁気センサ100の長辺方向の長さをL1とし、短辺方向の長さ(即ち、幅)をW1とし、磁気センサ100の厚みをT1としたとき、長さL1は例えば0.6mm以上、1.6mm以下、幅W1は例えば0.3mm以上、0.8mm以下、厚みT1は例えば0.1mm以上、0.3mm以下である。特に、厚みT1は、0.2mm以下(実際は、0.2mmよりも小さい、0.18mm以下)という薄型化を実現している。   As shown in FIG.1 (e), the shape (namely, packaging shape) after resin sealing of the mold resin 50 is a rectangular parallelepiped, for example. As shown in FIGS. 1A to 1E, the length of the magnetic sensor 100 in the long side direction is L1, the length in the short side direction (that is, the width) is W1, and the thickness of the magnetic sensor 100 is T1. The length L1 is, for example, 0.6 mm or more and 1.6 mm or less, the width W1 is, for example, 0.3 mm or more and 0.8 mm or less, and the thickness T1 is, for example, 0.1 mm or more and 0.3 mm or less. In particular, the thickness T1 is 0.2 mm or less (actually smaller than 0.2 mm, 0.18 mm or less).

図1(d)に示したように、磁気センサ100の裏面は、各リード端子21〜24の裏面、及び、絶縁層40の裏面がモールド樹脂50からそれぞれ露出している露出面である。また、磁気センサ100の表面及び側面は、モールド樹脂50から各リード端子21〜24及び絶縁層40が露出していない非露出面である。   As shown in FIG. 1D, the back surface of the magnetic sensor 100 is an exposed surface where the back surfaces of the lead terminals 21 to 24 and the back surface of the insulating layer 40 are exposed from the mold resin 50. Further, the surface and side surfaces of the magnetic sensor 100 are non-exposed surfaces where the lead terminals 21 to 24 and the insulating layer 40 are not exposed from the mold resin 50.

(動作)
上記の磁気センサ100を用いて磁気(磁界)を検出する場合は、例えば、リード端子21を電源電位(+)に接続すると共に、リード端子23を接地電位(GND)に接続して、リード端子21からリード端子23に電流を流す。そして、リード端子22、24間の電位差V1−V2(=ホール出力電圧VH)を測定する。ホール出力電圧VHの大きさから磁界の大きさを検出し、ホール出力電圧VHの正負から磁界の向きを検出する。
(Operation)
In the case of detecting magnetism (magnetic field) using the magnetic sensor 100, for example, the lead terminal 21 is connected to the power supply potential (+), the lead terminal 23 is connected to the ground potential (GND), and the lead terminal is connected. A current is passed from 21 to the lead terminal 23. Then, the potential difference V1−V2 (= Hall output voltage VH) between the lead terminals 22 and 24 is measured. The magnitude of the magnetic field is detected from the magnitude of the Hall output voltage VH, and the direction of the magnetic field is detected from the positive / negative of the Hall output voltage VH.

(製造方法)
次に、上述した磁気センサ100の製造方法について説明する。
(1)リードフレームの準備工程
まず始めに、めっき層のみからなるリード端子21〜24が形成されたリードフレーム120を用意する。
図3は、リードフレーム120の構成例を示す平面図である。図3に示すように、リードフレーム120は、基材として例えば銅板121と、銅板121の一方の面(例えば、表面)121a上に形成された複数のリード端子21〜24とを有する。例えば、銅板121の表面121a上には複数のペレット載置領域が設定されており、各ペレット載置領域を平面視で囲むように一組のリード端子21〜24がそれぞれ形成されている。即ち、銅板121の表面121a上にリード端子21〜24が多面付けで形成されている。
(Production method)
Next, a method for manufacturing the magnetic sensor 100 described above will be described.
(1) Lead Frame Preparation Step First, a lead frame 120 on which lead terminals 21 to 24 made only of a plating layer are formed is prepared.
FIG. 3 is a plan view illustrating a configuration example of the lead frame 120. As shown in FIG. 3, the lead frame 120 includes, for example, a copper plate 121 as a base material and a plurality of lead terminals 21 to 24 formed on one surface (for example, a surface) 121 a of the copper plate 121. For example, a plurality of pellet placement areas are set on the surface 121a of the copper plate 121, and a set of lead terminals 21 to 24 are formed so as to surround each pellet placement area in plan view. That is, the lead terminals 21 to 24 are formed on the surface 121a of the copper plate 121 with multiple faces.

図4(a)〜(e)は、リードフレーム120の製造方法を工程順に示す断面図である。なお、図4(a)〜(e)の各断面は、図3に示したリードフレーム120をX−X´線で切断した断面に対応している。
基材上に、めっき層を設ける工程としては、以下の各工程を用いることができる。例えば、基材として銅板121を用意する工程(図4(a))、銅板121の両面にレジストフィルム123を形成し、銅板121表面のレジストフィルム123を露光・現像等により、めっき層のリード端子を形成するレジストパターン124を形成する工程(図4(b))、レジストパターン124が形成された銅板121をアルカリ性や酸性の液で前処理する工程(図4(c))、順にAuやPd、Ni、Pd等のめっきを行ってめっき層21を形成する工程(図4(d))、銅板121からレジストフィルム123及びレジストパターン124を除去する工程(図4(e))等が挙げられる。めっき層21と封止樹脂との密着性やアンカー効果を向上させるため、めっき層21に粗面や柱状構造を形成してもよい。
4A to 4E are cross-sectional views showing the method of manufacturing the lead frame 120 in the order of steps. 4A to 4E correspond to the cross section obtained by cutting the lead frame 120 shown in FIG. 3 along the line XX ′.
As a process of providing a plating layer on a substrate, the following processes can be used. For example, a step of preparing a copper plate 121 as a base material (FIG. 4A), a resist film 123 is formed on both sides of the copper plate 121, and the resist film 123 on the surface of the copper plate 121 is exposed and developed to lead terminals of the plating layer A step of forming a resist pattern 124 (FIG. 4B), a step of pretreating the copper plate 121 on which the resist pattern 124 is formed with an alkaline or acidic liquid (FIG. 4C), Au, Pd A step of forming a plating layer 21 by plating with Ni, Pd, etc. (FIG. 4D), a step of removing the resist film 123 and the resist pattern 124 from the copper plate 121 (FIG. 4E), and the like. . In order to improve the adhesion between the plating layer 21 and the sealing resin and the anchor effect, a rough surface or a columnar structure may be formed on the plating layer 21.

(2)ペレットのピックアップ工程
上述したようにリードフレーム120を用意した後、このリードフレーム120のペレット載置領域にペレットを取り付けるために、半導体ウエーハをダイシングしてペレットをピックアップする。
図5(a)〜(c)は、磁気センサ100の製造工程のうちの、ペレットのピックアップ工程を示す模式図である。図5(a)に示すように、まず、ダイアタッチフィルム140を用意する。ダイアタッチフィルム140は、フィルム基材135と、フィルム基材135の一方の面上に配置された粘着性のある絶縁層40とを有する。このダイアタッチフィルム140の粘着性のある絶縁層40に、複数のペレット10が作り込まれた半導体ウエーハ160の裏面(即ち、活性層12及び電極部13a〜13dを有する面の反対側の面)を接触させて接着する(即ち、ウエーハマウントを行う)。
(2) Pellet Pickup Step After preparing the lead frame 120 as described above, the semiconductor wafer is diced to pick up the pellet in order to attach the pellet to the pellet placement region of the lead frame 120.
FIGS. 5A to 5C are schematic views showing a pellet pick-up process in the manufacturing process of the magnetic sensor 100. As shown in FIG. 5A, first, a die attach film 140 is prepared. The die attach film 140 includes a film substrate 135 and an adhesive insulating layer 40 disposed on one surface of the film substrate 135. The back surface of the semiconductor wafer 160 in which a plurality of pellets 10 are formed on the adhesive insulating layer 40 of the die attach film 140 (that is, the surface opposite to the surface having the active layer 12 and the electrode portions 13a to 13d). Are brought into contact with each other for adhesion (ie, wafer mounting is performed).

なお、この第1実施形態では、粘着性のある絶縁層40の粘着力を調整する処理を行っても良い。その理由は、後述する図5(b)の工程では粘着性のある絶縁層40によるペレット10とフィルム基材135との接着を維持しつつ、図5(c)の工程では粘着性のある絶縁層40がフィルム基材135から剥がれ易くするためである。この粘着力を調整する処理は、ウエーハマウントを行うタイミング又はその前後のタイミングで行う。   In the first embodiment, a process for adjusting the adhesive force of the adhesive insulating layer 40 may be performed. The reason for this is that in the step of FIG. 5B described later, adhesion between the pellet 10 and the film substrate 135 by the adhesive insulating layer 40 is maintained, while in the step of FIG. This is because the layer 40 is easily peeled off from the film substrate 135. The process for adjusting the adhesive force is performed at the timing of wafer mounting or at the timing before and after.

例えば、ウエーハマウントを行う際に、ダイアタッチフィルム140をステージを介して加熱して、粘着性のある絶縁層40の成分の一つであるバインダ樹脂成分の粘着力を高め、半導体ウエーハ160と粘着性のある絶縁層40をより強く粘着する方向に調整してもよい。また、ウエーハマウントを行った後で、ダイアタッチフィルム140の粘着性のある絶縁層40を有する面の反対側から、該ダイアタッチフィルム140に向けてUVを照射して、粘着性のある絶縁層40の成分の一つであるUV硬化型樹脂成分を硬化させ、固くなることによりダイシングが容易になる方向に、またダイボンド時にフィルム基材135と粘着性のある絶縁層40との粘着力を小さくする方向に調整してもよい。上記のように、ステージを介した加熱又はUV照射の少なくとも一方を行うことにより、粘着性のある絶縁層40の粘着力を高めたり、多少硬化させて、その粘着力を小さくする方向に調整することが可能である。   For example, when performing wafer mounting, the die attach film 140 is heated through a stage to increase the adhesive strength of the binder resin component, which is one of the components of the adhesive insulating layer 40, and adheres to the semiconductor wafer 160. You may adjust to the direction which adheres the insulating layer 40 with property more strongly. In addition, after wafer mounting, UV is irradiated toward the die attach film 140 from the side opposite to the surface having the adhesive insulating layer 40 of the die attach film 140 to thereby provide an adhesive insulating layer. The UV curable resin component, which is one of the 40 components, is cured and hardened so that dicing is facilitated, and the adhesive strength between the film base 135 and the adhesive insulating layer 40 is reduced during die bonding. You may adjust to the direction to do. As described above, by performing at least one of heating through the stage and / or UV irradiation, the adhesive strength of the adhesive insulating layer 40 is increased or slightly cured, and the adhesive strength is adjusted to be reduced. It is possible.

次に、図5(b)に示すように、例えばブレード170を用いて半導体ウエーハ160をダイシングして、半導体ウエーハ160に作り込まれた複数のペレット10を個片化する。ここでは、半導体ウエーハ160のみならず粘着性のある絶縁層40も一緒にダイシングする。
次に、図5(c)に示すように、針状の突き上げピン180でペレット10の裏面を押し上げると共に、ペレット10の表面をコレット190で吸着して持ち上げる(即ち、ピックアップする)。なお、ダイアタッチフィルム140の粘着性のある絶縁層40は、上述したように、例えば加熱又はUV照射の少なくとも一方を行うことによってフィルム基材135との粘着力を小さくする方向に予め調整されている。このため、ペレット10をピックアップする工程では、粘着性のある絶縁層40はペレット10の裏面に接着した状態で、フィルム基材135から剥離する。
Next, as shown in FIG. 5B, the semiconductor wafer 160 is diced using, for example, a blade 170, and a plurality of pellets 10 formed in the semiconductor wafer 160 are separated into pieces. Here, not only the semiconductor wafer 160 but also the insulating layer 40 having adhesiveness is diced together.
Next, as shown in FIG. 5C, the back surface of the pellet 10 is pushed up by the needle-like push-up pins 180 and the surface of the pellet 10 is sucked up by the collet 190 (ie, picked up). In addition, as described above, the adhesive insulating layer 40 of the die attach film 140 is adjusted in advance in a direction in which the adhesive strength with the film substrate 135 is reduced by performing at least one of heating and UV irradiation, for example. Yes. For this reason, in the process of picking up the pellet 10, the adhesive insulating layer 40 is peeled off from the film substrate 135 while being adhered to the back surface of the pellet 10.

(3)ペレットの取付け〜ダイシング工程
図6(a)〜(e)は、磁気センサ100の製造工程のうちの、ペレットの取付けからダイシング工程までを示す断面図である。なお、図6(a)〜(e)の各断面は、図3に示したリードフレーム120をX−X´線で切断した断面に対応している。
図6(a)に示すように、まず、銅板121の表面121a上であって、リード端子21〜24で囲まれたペレット載置領域に、ペレット10を載置する(即ち、ダイボンディングを行う。)。ここでは、ペレット10の裏面を粘着性のある絶縁層40を介して、銅板の表面121aのペレット載置領域にコレット190で一定の加重をかけて載せる。この載置後、熱処理(キュア)を実施し、粘着性のある絶縁層40の成分(例えば、エポキシ樹脂系の熱効果型樹脂成分)を硬化させて、ペレット10の裏面と銅板121aとを十分な強度で接着させた絶縁層40を得る。
(3) Pellet Attachment to Dicing Step FIGS. 6A to 6E are cross-sectional views showing the steps from the pellet attachment to the dicing step in the magnetic sensor 100 manufacturing process. 6A to 6E correspond to the cross section obtained by cutting the lead frame 120 shown in FIG. 3 along the line XX ′.
As shown in FIG. 6A, first, the pellet 10 is placed on the pellet placement area surrounded by the lead terminals 21 to 24 on the surface 121a of the copper plate 121 (that is, die bonding is performed). .) Here, the back surface of the pellet 10 is placed on the pellet mounting region on the front surface 121a of the copper plate with a certain weight applied by the collet 190 through the adhesive insulating layer 40. After this placement, a heat treatment (cure) is performed to cure the adhesive insulating layer 40 component (for example, an epoxy resin thermal effect resin component), and the back surface of the pellet 10 and the copper plate 121a are sufficiently bonded. The insulating layer 40 bonded with a sufficient strength is obtained.

次に、図6(b)に示すように、金属細線31〜34の一端をリード端子21〜24にそれぞれ接続し、金属細線31〜34の他端をペレット10表面の電極部13a〜13dにそれぞれ接続する(即ち、ワイヤーボンディングを行う。)。そして、図6(c)に示すように、モールド樹脂50を形成する(即ち、樹脂封止を行う。)。この樹脂封止は、例えばトランスファーモールド技術を用いて行う。   Next, as shown in FIG. 6 (b), one end of the fine metal wires 31 to 34 is connected to the lead terminals 21 to 24, respectively, and the other end of the fine metal wires 31 to 34 is connected to the electrode portions 13a to 13d on the surface of the pellet 10. Each is connected (ie, wire bonding is performed). Then, as shown in FIG. 6C, a mold resin 50 is formed (that is, resin sealing is performed). This resin sealing is performed using, for example, a transfer mold technique.

例えば図6(c)に示すように、リードフレーム120が配置される下金型91とモールド樹脂が充填され磁気センサ本体となる上金型92とを備えるモールド金型90を用意し、このモールド金型90のキャビティ内にワイヤーボンディング後のリードフレーム120を配置する。
一方、銅板121自体をリードフレームにする場合がある。この場合では、下金型、上金型のトータルのキャビティの深さが磁気センサ本体の厚さとなる。モールド樹脂を充填する際、樹脂が注入されるゲートは、上金型に形成されるので、磁気センサ本体の厚さを薄くしたい場合、ゲートの厚さは、下金型の深さ分、薄くなり、支障を来すことになる。例えば、リードフレームの厚さが0.125mmで、磁気センサ本体の厚さに0.2mmを狙った場合、上金型の厚さが0.075mmとなり、ゲートが0.1mm以下となるとモールド樹脂50の注入が困難になり、モールド樹脂の未充填部分が発生する。第一実施形態においては、上金型のキャビティ深さが磁気センサ本体の厚さとなるので、0.1mm以上の厚さのゲートを形成でき、問題は回避できる。
For example, as shown in FIG. 6C, a mold die 90 including a lower die 91 in which the lead frame 120 is disposed and an upper die 92 that is filled with a mold resin and serves as a magnetic sensor body is prepared. The lead frame 120 after wire bonding is placed in the cavity of the mold 90.
On the other hand, the copper plate 121 itself may be used as a lead frame. In this case, the total cavity depth of the lower mold and the upper mold is the thickness of the magnetic sensor body. When filling the mold resin, the gate into which the resin is injected is formed in the upper mold, so if you want to reduce the thickness of the magnetic sensor body, the thickness of the gate is reduced by the depth of the lower mold. It will cause trouble. For example, when the lead frame thickness is 0.125 mm and the thickness of the magnetic sensor main body is 0.2 mm, the upper mold thickness is 0.075 mm, and the mold resin is less than 0.1 mm. 50 injection becomes difficult, and an unfilled portion of the mold resin is generated. In the first embodiment, since the cavity depth of the upper mold is the thickness of the magnetic sensor main body, a gate having a thickness of 0.1 mm or more can be formed, and the problem can be avoided.

次に、キャビティ内であって、銅板121の表面121a上に溶融したモールド樹脂50を注入し、充填する。これにより、ペレット10と、リード端子21〜24及び金属細線31〜34を樹脂封止する。冷却によりモールド樹脂50が硬化したら、該モールド樹脂50が成型されたリードフレーム120をモールド金型90から取り出す。上金型92のキャビティの深さがそのままモールド樹脂50の厚み、即ち、図1(c)に示した磁気センサ100の厚みT1となる。なお、樹脂封止後は任意の工程で、モールド樹脂50の表面に例えば符号等(図示せず)をマーキングしてもよい。   Next, the molten mold resin 50 is injected into the cavity 121 on the surface 121a of the copper plate 121 and filled. Thereby, the pellet 10, the lead terminals 21 to 24, and the fine metal wires 31 to 34 are resin-sealed. When the mold resin 50 is cured by cooling, the lead frame 120 molded with the mold resin 50 is taken out from the mold 90. The depth of the cavity of the upper mold 92 becomes the thickness of the mold resin 50 as it is, that is, the thickness T1 of the magnetic sensor 100 shown in FIG. In addition, you may mark a code | symbol etc. (not shown) on the surface of the mold resin 50 by arbitrary processes after resin sealing.

次に、図6(d)に示すように、モールド樹脂50、リード端子21〜24及び絶縁層40から銅板121を分離する。この銅板121を分離する工程では、例えば、銅板121をその裏面(即ち、表面121aの反対側の面)121b側からエッチングして除去する。これにより、銅板121をモールド樹脂50、リード端子21〜24及び絶縁層40から分離する。銅板121のエッチングには、例えば塩化第2銅を含むエッチング液、又は、塩化第2鉄を含むエッチング液等、リード端子21〜24に対してエッチング耐性のあるエッチング液等を使用する。   Next, as shown in FIG. 6D, the copper plate 121 is separated from the mold resin 50, the lead terminals 21 to 24, and the insulating layer 40. In the step of separating the copper plate 121, for example, the copper plate 121 is removed by etching from the back surface (that is, the surface opposite to the front surface 121a) 121b. Thereby, the copper plate 121 is separated from the mold resin 50, the lead terminals 21 to 24, and the insulating layer 40. For the etching of the copper plate 121, for example, an etching solution having etching resistance to the lead terminals 21 to 24, such as an etching solution containing cupric chloride or an etching solution containing ferric chloride, is used.

次に、図6(e)に示すように、モールド樹脂50のリード端子21〜24を有する面の反対側の面(即ち、表面)にダイシングテープ93を貼付する。そして、ブレードの厚さに応じた図3のカーフ幅と示した幅で、モールド樹脂50に対してブレードを相対的に移動させて、モールド樹脂50を切断する(即ち、ダイシングを行う)。このダイシングでは、モールド樹脂50のカーフ幅に相当する領域をブレードで切削して除去し、磁気センサ本体に個片化する。以上の各工程を経て、図1(a)〜(e)に示した磁気センサ100が完成する。   Next, as shown in FIG. 6E, a dicing tape 93 is attached to the surface (that is, the surface) opposite to the surface having the lead terminals 21 to 24 of the mold resin 50. Then, the mold resin 50 is cut (that is, dicing is performed) by moving the blade relative to the mold resin 50 at a width shown as the kerf width in FIG. 3 corresponding to the thickness of the blade. In this dicing, a region corresponding to the kerf width of the mold resin 50 is removed by cutting with a blade and separated into individual magnetic sensor bodies. Through the above steps, the magnetic sensor 100 shown in FIGS. 1A to 1E is completed.

(4)配線基板への取付工程
図7は、本発明の第1実施形態に係る磁気センサ装置200の構成例を示す断面図である。磁気センサ100が完成した後は、例えば図7に示すように配線基板250を用意し、この配線基板250の一方の面に磁気センサ100を実装する。この実装工程では、例えば、各リード端子21〜24のうち、モールド樹脂50から露出している裏面を、ハンダ70を介して配線基板250の配線パターン251に接続する。このハンダ付けは、例えばリフロー方式で行うことができる。リフロー方式は、配線パターン251上にハンダペーストを塗布(即ち、印刷)し、その上にリード端子21〜24がそれぞれ重なるように配線基板250上に磁気センサ100を載置し、この状態でハンダペーストに熱を加えてハンダを溶かす方法である。実装工程を経て、図7に示すように、磁気センサ100と、磁気センサ100が取り付けられる配線基板250と、磁気センサ100の各リード端子21〜24を配線基板250の配線パターン251に電気的に接続するハンダ70と、を備えた磁気センサ装置200が完成する。
第1実施形態では、金属細線31〜34が本発明の「導線」に対応し、粘着性のある絶縁層40が本発明の「絶縁層」に対応している。また、モールド樹脂50が本発明の「樹脂部材」に対応している。
(4) Mounting Step on Wiring Board FIG. 7 is a cross-sectional view showing a configuration example of the magnetic sensor device 200 according to the first embodiment of the present invention. After the magnetic sensor 100 is completed, a wiring board 250 is prepared as shown in FIG. 7, for example, and the magnetic sensor 100 is mounted on one surface of the wiring board 250. In this mounting process, for example, the back surface exposed from the mold resin 50 among the lead terminals 21 to 24 is connected to the wiring pattern 251 of the wiring board 250 via the solder 70. This soldering can be performed by a reflow method, for example. In the reflow method, a solder paste is applied (that is, printed) on the wiring pattern 251, and the magnetic sensor 100 is placed on the wiring board 250 so that the lead terminals 21 to 24 overlap with each other. This is a method of melting solder by applying heat to the paste. Through the mounting process, as shown in FIG. 7, the magnetic sensor 100, the wiring board 250 to which the magnetic sensor 100 is attached, and the lead terminals 21 to 24 of the magnetic sensor 100 are electrically connected to the wiring pattern 251 of the wiring board 250. The magnetic sensor device 200 including the solder 70 to be connected is completed.
In the first embodiment, the thin metal wires 31 to 34 correspond to the “conductive wire” of the present invention, and the adhesive insulating layer 40 corresponds to the “insulating layer” of the present invention. The mold resin 50 corresponds to the “resin member” of the present invention.

(第1実施形態の効果)
本発明の第1実施形態は、以下の効果を奏する。
(1)各リード端子21〜24は、例えばめっき層のみからなる。これにより、リード端子21〜24の厚みをリードフレームと比べて薄くすることができる。例えば、銅板等からなるリードフレームの厚みは数百μmであるのに対し、めっき層は2〜50μmという極めて薄い厚みに形成することができる。
(Effect of 1st Embodiment)
The first embodiment of the present invention has the following effects.
(1) Each lead terminal 21-24 consists only of a plating layer, for example. Thereby, the thickness of the lead terminals 21-24 can be made thin compared with a lead frame. For example, the lead frame made of a copper plate or the like has a thickness of several hundreds μm, whereas the plating layer can be formed to an extremely thin thickness of 2 to 50 μm.

そして、ペレット10の表面と各リード端子21〜24表面の高低差を大きくすることができる。これにより、金属細線31〜34を低ループ化する(即ち、金属細線31〜34のペレット10表面からの高さを低くする)ことができ、モールド樹脂50の厚みを薄くすることができる。従って、アイランドレス構造の磁気センサについて、さらなる小型化と薄型化(即ち、低背化)が可能となる。   And the height difference of the surface of the pellet 10 and each lead terminal 21-24 can be enlarged. Thereby, the metal thin wires 31 to 34 can be made into a low loop (that is, the height of the metal thin wires 31 to 34 from the surface of the pellet 10) can be reduced, and the thickness of the mold resin 50 can be reduced. Therefore, the islandless structure magnetic sensor can be further reduced in size and thickness (that is, reduced in height).

(2)また、金属細線31〜34を低ループ化できるので、モールド金型90を用いてモールド樹脂50を形成する際に、キャビティの上面と金属細線31〜34との間にマージンを容易に確保することができる。これにより、溶融したモールド樹脂をキャビティへ導入することが容易となる。さらに、リード端子21〜24が薄いため、上金型のキャビティ深さが磁気センサ本体の厚さとなるので、0.1mm以上の厚さのゲートを形成でき、リード端子21〜24で囲まれているペレット10の周囲にモールド樹脂50を未充填無く注入することが容易となる。 (2) Further, since the metal thin wires 31 to 34 can be reduced in the loop, when forming the mold resin 50 using the mold 90, a margin can be easily formed between the upper surface of the cavity and the metal thin wires 31 to 34. Can be secured. Thereby, it becomes easy to introduce the molten mold resin into the cavity. Furthermore, since the lead terminals 21 to 24 are thin, the cavity depth of the upper mold becomes the thickness of the magnetic sensor body, so that a gate having a thickness of 0.1 mm or more can be formed and surrounded by the lead terminals 21 to 24. It becomes easy to inject the mold resin 50 around the pellets 10 without filling.

(3)また、銅板121を分離する工程では、この銅板121をエッチングしてモールド樹脂50、リード端子21〜24及び絶縁層40から分離する。つまり、銅板121に物理的な力を加えて引き剥がすのではなく、化学的に分離する。これにより、銅板121を分離する際に、銅板121と共に絶縁層40がペレット10裏面から剥がれたり、銅板121と共にリード端子21〜24がモールド樹脂50から剥がれたりすることを防ぐことができる。従って、磁気センサの歩留まりの向上に寄与することができる。 (3) In the step of separating the copper plate 121, the copper plate 121 is etched and separated from the mold resin 50, the lead terminals 21 to 24, and the insulating layer 40. That is, the copper plate 121 is not separated by applying a physical force but chemically separated. Thereby, when separating the copper plate 121, it is possible to prevent the insulating layer 40 from being peeled off from the back surface of the pellet 10 together with the copper plate 121, and the lead terminals 21 to 24 from being peeled off from the mold resin 50 together with the copper plate 121. Therefore, it can contribute to the improvement of the yield of the magnetic sensor.

(4)また、アイランドレス構造の磁気センサにおいて、ペレット10の裏面の少なくとも一部(より好ましくは、ペレット10の裏面全体)は絶縁層40で覆われている。これにより、磁気センサ100を配線基板250に取り付ける際に、例えば図8に示すように、電源に接続されるリード端子21下からペレット10の下方までハンダ70がはみ出した場合でも、ペレット10とハンダ70との間には絶縁層40が介在する。このため、ペレット(半導体)とハンダ(金属)との間でショットキー接合が形成されることを防ぐことができ、該ショットキー接合の順方向(即ち、金属から半導体に向かう方向)に電流が流れることを防ぐことができる。従って、アイランドレス構造の磁気センサにおいてペレットを薄型化した場合でも、リーク電流の増大を防止することができる。 (4) In the islandless magnetic sensor, at least a part of the back surface of the pellet 10 (more preferably, the entire back surface of the pellet 10) is covered with the insulating layer 40. Accordingly, when the magnetic sensor 100 is attached to the wiring board 250, as shown in FIG. 8, for example, even when the solder 70 protrudes from below the lead terminal 21 connected to the power source to below the pellet 10, the pellet 10 and the solder Insulating layer 40 is interposed between 70 and 70. For this reason, it is possible to prevent a Schottky junction from being formed between the pellet (semiconductor) and the solder (metal), and a current flows in the forward direction of the Schottky junction (ie, from the metal toward the semiconductor). It can be prevented from flowing. Therefore, even when the pellet is thinned in the islandless structure magnetic sensor, an increase in leakage current can be prevented.

(5)また、ハンダ70等と電気的に接続する第一めっき層26は、金又は銀を含む。さらに、金属細線31〜34と電気的に接続する第四めっき層がパラジウム、金又は銀を含む。これにより、ハンダ70とリード端子21〜24との接合強度、及び、リード端子21〜24と金属細線31〜34との接合強度をそれぞれ高くすることができる。
(6)また、ワイヤーボンディング工程では、金属細線31〜34の一端が接合されるペレット10、及び、金属細線31〜34の他端が接合されるリード端子21〜24は、銅板121の表面121a上にそれぞれ配置されている。銅板121を下地に金属細線31〜34の接合が行われるので、ワイヤーボンディングのフォース(荷重)や超音波パワーが分散することを抑制でき、接合を安定に行うことができる。
(5) The first plating layer 26 electrically connected to the solder 70 or the like contains gold or silver. Furthermore, the 4th plating layer electrically connected with the metal fine wires 31-34 contains palladium, gold | metal | money, or silver. Thereby, the joining strength between the solder 70 and the lead terminals 21 to 24 and the joining strength between the lead terminals 21 to 24 and the metal thin wires 31 to 34 can be increased.
(6) In the wire bonding step, the pellet 10 to which one end of the fine metal wires 31 to 34 is joined and the lead terminals 21 to 24 to which the other ends of the fine metal wires 31 to 34 are joined are the surface 121a of the copper plate 121. Each is arranged above. Since the thin metal wires 31 to 34 are bonded to each other with the copper plate 121 as a base, it is possible to suppress the wire bonding force (load) and ultrasonic power from being dispersed, and to perform bonding stably.

(7)また、モールド樹脂50をカーフ幅に沿って切削するダイシング工程では、モールド樹脂50のみを切断すればよい。即ち、従来技術ではモールド樹脂とリードフレームのタイバーとを一緒に切削する必要があったが、本発明ではダイシングの際に銅板121を既に分離、除去しているため、モールド樹脂50のみを切削すればよい。従って、本発明では、カーフ幅はタイバーの幅(例えば、0.2mm)に依存せず、カーフ幅を従来よりも小さい値(例えば、0.2mm未満)に設定することができる。これにより、ダイシングでの切削面積を減らすことができ、モールド樹脂の無駄を減らすことができるので、磁気センサの生産効率を高めることができる。
また、本発明では、ダイシング工程でモールド樹脂のみを切削すればよい。材質が異なるモールド樹脂とダイバーとを重ねた状態で切削する必要はないので、ダイシング工程の容易化に寄与することができる。
(7) In the dicing process of cutting the mold resin 50 along the kerf width, only the mold resin 50 may be cut. That is, in the prior art, it was necessary to cut the mold resin and the lead frame tie bar together, but in the present invention, since the copper plate 121 has already been separated and removed during dicing, only the mold resin 50 is cut. That's fine. Therefore, in the present invention, the kerf width does not depend on the width of the tie bar (for example, 0.2 mm), and the kerf width can be set to a smaller value (for example, less than 0.2 mm) than before. Thereby, the cutting area in dicing can be reduced and the waste of mold resin can be reduced, so that the production efficiency of the magnetic sensor can be increased.
Moreover, in this invention, what is necessary is just to cut only mold resin at a dicing process. Since it is not necessary to cut the mold resin and the diver made of different materials in an overlapping state, the dicing process can be facilitated.

(変形例)
(1)上記の第1実施形態では、図6(d)に示した銅板の分離工程で、銅板をエッチングして除去する場合について説明した。しかしながら、本発明において、銅板の分離方法はエッチングに限定されるものではない。例えば、銅板の分離はエッチングのような化学的方法ではなく、銅板をモールド樹脂等から引き剥がす等の物理的方法であってもよい。このような方法であっても、図1(a)〜(e)に示した磁気センサ100を形成することができる。また、その場合、銅板以外にも、SUS板等も使用できる。
(Modification)
(1) In the first embodiment, the case where the copper plate is removed by etching in the copper plate separation step shown in FIG. 6D has been described. However, in the present invention, the copper plate separation method is not limited to etching. For example, the separation of the copper plate is not a chemical method such as etching, but may be a physical method such as peeling the copper plate from a mold resin or the like. Even with such a method, the magnetic sensor 100 shown in FIGS. 1A to 1E can be formed. In this case, a SUS plate or the like can be used in addition to the copper plate.

(2)また、上記の第1実施形態では、図1(a)及び(d)に示したように、めっき層のみからなるリード端子21〜24の平面形状が長方形の場合について説明した。しかしながら、本発明において、リード端子の平面形状は長方形に限定されるものではない。本発明において、リード端子の平面形状は、長方形以外の多角形等どのような形状であってもよい。 (2) Moreover, in said 1st Embodiment, as shown to Fig.1 (a) and (d), the case where the planar shape of the lead terminals 21-24 which consist only of a plating layer was a rectangle was demonstrated. However, in the present invention, the planar shape of the lead terminal is not limited to a rectangle. In the present invention, the planar shape of the lead terminal may be any shape such as a polygon other than a rectangle.

図9(a)〜(e)は、第1実施形態の変形例に係る磁気センサ100Aの構成例を示す平面図と、短辺側から見た側面図、長辺側から見た側面図、裏面図及び斜視図である。なお、図9(a)〜(c)では、磁気センサ100Aの内部の構成を分かり易く説明するために、モールド樹脂を透視した状態を仮想して示している。図9(a)及び(d)に示すように、めっき層のみからなるリード端子21〜24の平面形状は、例えば五角形でもよい。   9A to 9E are a plan view showing a configuration example of a magnetic sensor 100A according to a modification of the first embodiment, a side view seen from the short side, a side view seen from the long side, It is a back view and a perspective view. In FIGS. 9A to 9C, in order to easily understand the internal configuration of the magnetic sensor 100A, a state where the mold resin is seen through is virtually shown. As shown in FIGS. 9A and 9D, the planar shape of the lead terminals 21 to 24 made of only the plating layer may be, for example, a pentagon.

また、ペレット10の平面形状が矩形(即ち、正方形又は長方形)の場合、各リード端子21〜24の平面形状は、ペレット10の外周のうち該リード端子21〜24と対向する辺に平行な一辺を有する形状であることが好ましい。例えば図9(a)〜(e)に示す変形例では、ペレット10の平面形状は略正方形であり、リード端子21の平面形状は、ペレット10の外周のうち該リード端子21と対向する辺10aに平行な一辺21aを有する五角形である場合を示している。また、リード端子22〜24についても、リード端子21と同様の五角形である場合を示している。
これにより、ペレット10と各リード端子21〜24との離間距離を大きくすることができるので、リード端子21〜24にニッケル等の安価な磁性体を用いた場合でも、該磁性体がペレット10に与える磁気の影響をさらに低減することができる。
Moreover, when the planar shape of the pellet 10 is rectangular (that is, square or rectangular), the planar shape of each lead terminal 21 to 24 is one side parallel to the side facing the lead terminals 21 to 24 in the outer periphery of the pellet 10. It is preferable that it is a shape which has. For example, in the modification shown in FIGS. 9A to 9E, the planar shape of the pellet 10 is substantially square, and the planar shape of the lead terminal 21 is the side 10a facing the lead terminal 21 in the outer periphery of the pellet 10. The case where it is a pentagon which has the one side 21a parallel to is shown. Also, the lead terminals 22 to 24 are shown as pentagons similar to the lead terminals 21.
Thereby, since the separation distance between the pellet 10 and each of the lead terminals 21 to 24 can be increased, even when an inexpensive magnetic material such as nickel is used for the lead terminals 21 to 24, the magnetic material is formed in the pellet 10. The influence of the applied magnetism can be further reduced.

<第2実施形態>
上記の第1実施形態では、ペレット10の裏面を覆う絶縁層として、ダイアタッチフィルム(即ち、ダイシング・ダイボンディング一体型フィルム)の粘着性のある絶縁層40を用いる場合について説明した。しかしながら、本発明において、絶縁層はダイアタッチフィルムの粘着性のある絶縁層に限定されるものではない。絶縁層として、例えば絶縁ペーストを用いてもよい。第2実施形態では、この点について説明する。
Second Embodiment
In said 1st Embodiment, the case where the insulating layer 40 with the adhesive of a die attach film (namely, dicing die-bonding integrated film) was used as an insulating layer which covers the back surface of the pellet 10 was demonstrated. However, in the present invention, the insulating layer is not limited to the adhesive insulating layer of the die attach film. For example, an insulating paste may be used as the insulating layer. In the second embodiment, this point will be described.

(構成)
図10(a)〜(e)は、本発明の第2実施形態に係る磁気センサ300の構成例を示す平面図と、短辺側から見た側面図、長辺側から見た側面図、裏面図及び斜視図である。なお、図10(a)〜(e)では、磁気センサ300の内部の構成を分かり易く説明するために、モールド樹脂を透視した状態を仮想して示している。
(Constitution)
10A to 10E are a plan view showing a configuration example of a magnetic sensor 300 according to a second embodiment of the present invention, a side view seen from the short side, a side view seen from the long side, It is a back view and a perspective view. In FIGS. 10A to 10E, in order to easily understand the internal configuration of the magnetic sensor 300, a state where the mold resin is seen through is virtually illustrated.

図10(a)〜(e)に示すように、磁気センサ300は、ペレット10と、リードフレーム120と、複数の金属細線31〜34と、ペレット10の電極部13a〜13dを有する面の反対側の面(即ち、表面)の少なくとも一部を覆う絶縁ペーストと、モールド樹脂50とを備える。
これらの中で、絶縁ペースト240は、その成分として例えば、エポキシ系の熱硬化型樹脂と、フィラーとしてシリカ(SiO)を含む。第2実施形態では、この絶縁ペースト240によって、例えば、ペレット10の裏面(即ち、活性層12を有する面の反対側の面)全体が覆われている。絶縁ペースト240のうち、ペレット10の裏面を覆っている部分の厚さは、フィラーサイズで決まり、例えば5μm以上である。なお、磁気センサ300の、絶縁ペースト240以外の構成は、例えば第1実施形態で説明した磁気センサ100と同じである。また、磁気センサ300の動作も、磁気センサ100と同じである。
As shown in FIGS. 10A to 10E, the magnetic sensor 300 has a pellet 10, a lead frame 120, a plurality of fine metal wires 31 to 34, and a surface opposite to the surface having the electrode portions 13 a to 13 d of the pellet 10. An insulating paste covering at least a part of the side surface (that is, the surface) and a mold resin 50 are provided.
Among these, the insulating paste 240 includes, for example, an epoxy thermosetting resin as its components and silica (SiO 2 ) as a filler. In the second embodiment, the insulating paste 240 covers, for example, the entire back surface of the pellet 10 (that is, the surface opposite to the surface having the active layer 12). The thickness of the portion of the insulating paste 240 covering the back surface of the pellet 10 is determined by the filler size, and is, for example, 5 μm or more. The configuration of the magnetic sensor 300 other than the insulating paste 240 is the same as that of the magnetic sensor 100 described in the first embodiment, for example. The operation of the magnetic sensor 300 is the same as that of the magnetic sensor 100.

(製造方法)
次に、磁気センサ300の製造方法について説明する。
図11(a)〜(c)は、磁気センサ300の製造工程を示す平面図である。第2実施形態では、第1実施形態と同様の方法で、図11(a)に示すようなリードフレーム120を準備する。
次に、図11(b)に示すように、銅板121の表面121aのうち、リード端子21〜24で囲まれた領域に絶縁ペースト240を塗布する。ここでは、完成後の磁気センサ300において、例えば、ペレット10の裏面の一部がモールド樹脂50から露出することがないように、絶縁ペースト240の塗布条件(例えば、塗布する範囲、塗布する厚さ等)を調整する。
(Production method)
Next, a method for manufacturing the magnetic sensor 300 will be described.
FIGS. 11A to 11C are plan views showing the manufacturing process of the magnetic sensor 300. FIG. In the second embodiment, a lead frame 120 as shown in FIG. 11A is prepared by the same method as in the first embodiment.
Next, as illustrated in FIG. 11B, an insulating paste 240 is applied to a region surrounded by the lead terminals 21 to 24 on the surface 121 a of the copper plate 121. Here, in the completed magnetic sensor 300, for example, the application conditions of the insulating paste 240 (for example, the application range and the applied thickness are set so that a part of the back surface of the pellet 10 is not exposed from the mold resin 50. Etc.).

次に、第1実施形態と同様の方法で、ペレットのピックアップ工程を行う。そして、図11(c)に示すように、銅板121の表面121aのうち、絶縁ペースト240が塗布された領域にペレット10を載置する(即ち、ダイボンディングを行う。)。さらに、ボンディング後に熱処理(即ち、キュア)を行って、絶縁ペースト240を硬化させる。これ以降の工程は、第1実施形態と同じである。   Next, a pellet pick-up step is performed in the same manner as in the first embodiment. Then, as shown in FIG. 11 (c), the pellet 10 is placed in the region of the surface 121a of the copper plate 121 where the insulating paste 240 is applied (ie, die bonding is performed). Further, a heat treatment (that is, curing) is performed after bonding, and the insulating paste 240 is cured. The subsequent steps are the same as those in the first embodiment.

即ち、図6(b)に示したようにワイヤーボンディングを行い、図6(c)に示したように樹脂封止を行う。次に、図6(d)に示したように、絶縁ペースト240及びモールド樹脂50から銅板121を分離する。そして、図6(e)に示したように、モールド樹脂50を第1実施形態と同様にダイシングする。このような工程を経て、図10(a)〜(e)に示した磁気センサ300が完成する。
第2実施形態では、絶縁ペースト240が本発明の「絶縁層」に対応している。その他の対応関係は第1実施形態と同じである。
That is, wire bonding is performed as shown in FIG. 6B, and resin sealing is performed as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 6D, the copper plate 121 is separated from the insulating paste 240 and the mold resin 50. And as shown in FIG.6 (e), the mold resin 50 is diced similarly to 1st Embodiment. Through these steps, the magnetic sensor 300 shown in FIGS. 10A to 10E is completed.
In the second embodiment, the insulating paste 240 corresponds to the “insulating layer” of the present invention. Other correspondences are the same as those in the first embodiment.

(第2実施形態の効果)
第2実施形態は、第1実施形態の効果(1)〜(7)と同様の効果を奏する。
(変形例)
第1実施形態で説明した変形例(1)(2)は、第2実施形態にも適用してよい。
<その他>
本発明は、以上に記載した各実施形態に限定されるものではない。当業者の知識に基づいて各実施形態に設計の変更等を加えてもよく、また、各実施形態を任意に組み合わせてもよく、そのような変更が加えられた態様も本発明の範囲に含まれる。
(Effect of 2nd Embodiment)
The second embodiment has the same effects as the effects (1) to (7) of the first embodiment.
(Modification)
The modifications (1) and (2) described in the first embodiment may be applied to the second embodiment.
<Others>
The present invention is not limited to the embodiments described above. Based on the knowledge of those skilled in the art, design changes or the like may be added to each embodiment, and the embodiments may be arbitrarily combined, and such changes are also included in the scope of the present invention. It is.

10 ペレット
11 GaAs基板
12 活性層
13a〜13d 電極部
21 リード端子(例えば、電源端子)
22、23 リード端子
24 リード端子(例えば、接地端子)
26 第一めっき層
27 第二めっき層
28 第三めっき層
29 第四めっき層
31〜34 金属細線
40 粘着性のある絶縁層、絶縁層
50 モールド樹脂
70 ハンダ
90 モールド金型
91 下金型
92 上金型
93 ダイシングテープ
100、100A、300 磁気センサ
120 リードフレーム
121 銅板
121a 表面
121b 裏面
123 レジストフィルム
124 レジストパターン
135 フィルム基材
140 ダイアタッチフィルム
150 配線基板
160 半導体ウエーハ
170 ブレード
180 ピン
190 コレット
200 磁気センサ装置
240 絶縁ペースト
250 配線基板
251 配線パターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Pellet 11 GaAs substrate 12 Active layer 13a-13d Electrode part 21 Lead terminal (for example, power supply terminal)
22, 23 Lead terminal 24 Lead terminal (for example, ground terminal)
26 1st plating layer 27 2nd plating layer 28 3rd plating layer 29 4th plating layer 31-34 Metal fine wire 40 Adhesive insulating layer, insulating layer 50 Mold resin 70 Solder 90 Mold die 91 Lower die 92 Upper Mold 93 Dicing tape 100, 100A, 300 Magnetic sensor 120 Lead frame 121 Copper plate 121a Front surface 121b Back surface 123 Resist film 124 Resist pattern 135 Film substrate 140 Die attach film 150 Wiring substrate 160 Semiconductor wafer 170 Blade 180 Pin 190 Collet 200 Magnetic sensor Device 240 Insulating paste 250 Wiring board 251 Wiring pattern

Claims (16)

電極部を有するペレットと、
前記ペレットの周囲に配置された、めっき層で形成されたリード端子と、
前記電極部と前記めっき層とを電気的に接続する導線と、
前記ペレットの前記電極部を有する面の反対側の面の少なくとも一部を覆う絶縁層と、
前記ペレット、前記リード端子及び前記導線を覆う樹脂部材と、を備え、
前記リード端子の前記導線と接続する面の反対側の面の少なくとも一部、及び、前記絶縁層の少なくとも一部は、前記樹脂部材からそれぞれ露出していることを特徴とする磁気センサ。
A pellet having an electrode part;
A lead terminal formed of a plating layer disposed around the pellet;
A conducting wire electrically connecting the electrode part and the plating layer;
An insulating layer covering at least a part of the surface opposite to the surface having the electrode part of the pellet;
A resin member that covers the pellet, the lead terminal, and the conductive wire;
The magnetic sensor according to claim 1, wherein at least a part of a surface of the lead terminal opposite to a surface connected to the conductor and at least a part of the insulating layer are exposed from the resin member.
前記めっき層は、ニッケルを含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 1, wherein the plating layer contains nickel. 前記めっき層は、
金又は銀を含む第一めっき層と、
前記第一めっき層の上方に形成されたニッケルを含む第三めっき層と、を有し、
前記第一めっき層の少なくとも一部が、前記樹脂部材から露出していることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気センサ。
The plating layer is
A first plating layer containing gold or silver;
A third plating layer containing nickel formed above the first plating layer,
The magnetic sensor according to claim 1, wherein at least a part of the first plating layer is exposed from the resin member.
さらに、前記第一めっき層と前記第三めっき層との間に形成された、パラジウムを含む第二めっき層を有することを特徴とする請求項3に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 3, further comprising a second plating layer containing palladium formed between the first plating layer and the third plating layer. さらに、前記第三めっき層上に形成されたパラジウム、金又は銀を含む第四めっき層を有することを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の磁気センサ。   5. The magnetic sensor according to claim 3, further comprising a fourth plating layer containing palladium, gold, or silver formed on the third plating layer. 6. 前記第四めっき層と前記電極部とが前記導線で電気的に接続されていることを特徴とする請求項3から請求項5の何れか一項に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to any one of claims 3 to 5, wherein the fourth plating layer and the electrode portion are electrically connected by the conducting wire. 当該磁気センサの裏面は、前記リード端子の少なくとも一部、及び、前記絶縁層の少なくとも一部が前記樹脂部材からそれぞれ露出している露出面であり、
当該磁気センサの表面及び側面は、該樹脂部材から前記リード端子及び前記絶縁層が露出していない非露出面であることを特徴とする請求項1から請求項6の何れか一項に記載の磁気センサ。
The back surface of the magnetic sensor is an exposed surface in which at least a part of the lead terminal and at least a part of the insulating layer are exposed from the resin member, respectively.
The surface and the side surface of the magnetic sensor are non-exposed surfaces in which the lead terminals and the insulating layer are not exposed from the resin member, according to any one of claims 1 to 6. Magnetic sensor.
前記めっき層の厚さは、2μm以上、50μm以下であることを特徴とする請求項1から請求項7の何れか一項に記載の磁気センサ。   The thickness of the said plating layer is 2 micrometers or more and 50 micrometers or less, The magnetic sensor as described in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 前記ペレットは、磁電変換素子であることを特徴とする請求項1から請求項8の何れか一項に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to any one of claims 1 to 8, wherein the pellet is a magnetoelectric conversion element. 請求項1から請求項9の何れか一項に記載の磁気センサと、
前記磁気センサが取り付けられる配線基板と、
前記磁気センサの前記リード端子を前記配線基板の配線パターンに電気的に接続するハンダと、を備えることを特徴とする磁気センサ装置。
A magnetic sensor according to any one of claims 1 to 9,
A wiring board to which the magnetic sensor is attached;
And a solder for electrically connecting the lead terminals of the magnetic sensor to a wiring pattern of the wiring board.
基材と、
前記基材の一方の面上に形成されためっき層を有するリード端子と、を備えるリードフレームを用意する工程と、
前記基材の一方の面上であって前記リード端子から離れた位置に、絶縁層を介してペレットを載置する工程と、
前記リード端子と前記ペレットが有する電極部とを導線で接続する工程と、
前記基材の一方の面上に樹脂部材を供給して、前記ペレット、前記リード端子及び前記導線を該樹脂部材で覆う工程と、
前記樹脂部材、前記リード端子及び前記絶縁層から前記基材を分離する工程と、を備えることを特徴とする磁気センサの製造方法。
A substrate;
Preparing a lead frame comprising a lead terminal having a plating layer formed on one surface of the substrate;
A step of placing pellets via an insulating layer on one surface of the base material and away from the lead terminal;
Connecting the lead terminal and the electrode part of the pellet with a conductive wire;
Supplying a resin member on one surface of the substrate, and covering the pellet, the lead terminal and the conductive wire with the resin member;
Separating the base material from the resin member, the lead terminal, and the insulating layer.
前記基材を分離する工程の後で、前記樹脂部材をダイシングして個片化する工程、をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載の磁気センサの製造方法。   The method of manufacturing a magnetic sensor according to claim 11, further comprising a step of dicing the resin member into pieces after the step of separating the base material. 前記基材を分離する工程では、前記基材をエッチングして除去することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の磁気センサの製造方法。   The method for manufacturing a magnetic sensor according to claim 11 or 12, wherein, in the step of separating the base material, the base material is removed by etching. 前記基材は銅板であることを特徴とする請求項11から請求項13の何れか一項に記載の磁気センサの製造方法。   The method for manufacturing a magnetic sensor according to any one of claims 11 to 13, wherein the base material is a copper plate. 前記樹脂部材を個片化する工程では、
該樹脂部材のうちの、隣り合う前記リード端子間をダイシングすることを特徴とする請求項11から請求項14の何れか一項に記載の磁気センサの製造方法。
In the step of dividing the resin member into pieces,
The method for manufacturing a magnetic sensor according to claim 11, wherein dicing is performed between the adjacent lead terminals of the resin member.
電極部を有するペレットと、
前記ペレットの周囲に配置された、めっき層のみからなるリード端子と、
前記電極部と前記めっき層とを電気的に接続する導線と、
前記ペレットの前記電極部を有する面の反対側の面の少なくとも一部を覆う絶縁層と、
前記ペレット、前記リード端子及び前記導線を覆う樹脂部材と、を備え、
前記リード端子の前記導線と接続する面の反対側の面の少なくとも一部、及び、前記絶縁層の少なくとも一部は、前記樹脂部材からそれぞれ露出していることを特徴とする磁気センサ。
A pellet having an electrode part;
A lead terminal consisting only of a plating layer, disposed around the pellet;
A conducting wire electrically connecting the electrode part and the plating layer;
An insulating layer covering at least a part of the surface opposite to the surface having the electrode part of the pellet;
A resin member that covers the pellet, the lead terminal, and the conductive wire;
The magnetic sensor according to claim 1, wherein at least a part of a surface of the lead terminal opposite to a surface connected to the conductor and at least a part of the insulating layer are exposed from the resin member.
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